DE906455C - Process for the production of AEthylchlorosilanes - Google Patents
Process for the production of AEthylchlorosilanesInfo
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- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
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Description
Verfahren zur Herstellung von Äthylchlorsilanen Es ist bekannt, Organohalogensilane durch Einwirkung von gasförmigen Alkyl- oder Arylhalogeniden bei erhöhter Temperatur auf Silicium herzustellen. Dabei wird, um diese Umsetzung leichter und bei nicht zu hoher Temperatur durchführen zu können, dem Silicium ein katalytisch wirkendes Metall, wie Kupfer, Eisen, Nickel, Zinn, Antimon, Mangan, Silber oder Titan, zugesetzt, bzw. das Silicium wird in Form einer Legierung mit einem dieser Metalle verwendet. Es ist weiter aus dem Aufsatz von Rochow z>Die Direktsynthese von Organosiliciumverbindungena, Journ. Am. Chem. Soc. 67 (19q.5), S. 963 bis 965, bekannt, Silicium mit etwa 98 °/o Si-Gehalt mittels Kupferchlorür zu aktivieren und die so erhaltene Masse zur Herstellung von Äthylchlorsilanen zu verwenden. Setzt man Äthylchlorid mit solchen Si-Kontaktinassen in technischem Maßstab zu Äthylchlorsilanen um, so treten hierbei oft erhebliche Schwierigkeiten auf, die sich sowohl in unliebsamen Reaktionshemmungen als auch in unerwünschten Reaktionsbeschleunigungen äußern können. Oft ist die Reaktion nicht bei der für sie normalen Anspringtemperatur in Gang zu bringen, so daß eine wesentlich höhere Temperatur eingestellt werden muß, worauf dann oft die Reaktion zu heftig einsetzt. Auch im Verlaufe der Umsetzung treten oft ohne erkennbaren Anlaß Änderungen der Reaktionsgeschwindigkeit im Sinne einer Beschleunigung oder Verzögerung ein, die den glatten Ablauf sehr stören, den Durchsatz vermindern bzw. die Reaktion nach der Seite der Bildung von nicht erwünschten Produkten lenken. Das Auftreten und die Beseitigung solcher Störungen in dem glatten Reaktionsablauf erfordern eine sehr sorgfältige, dauernde Überwachung und die Anwendung technischer Gegenmaßnahmen, welche sich auf die kontinuierliche Herstellung der jeweils erwünschten Produkte sehr ungünstig auswirken.Process for the preparation of ethylchlorosilanes It is known that organohalosilanes by the action of gaseous alkyl or aryl halides at elevated temperature on silicon. It will be easier to implement this and not To be able to carry out too high a temperature, silicon is a catalytically active one Metal, such as copper, iron, nickel, tin, antimony, manganese, silver or titanium, added, or the silicon is used in the form of an alloy with one of these metals. It is further from the article by Rochow z> The direct synthesis of organosilicon compoundsa, Journ. At the. Chem. Soc. 67 (19q.5), pp. 963 to 965, known, silicon with about 98 % To activate the Si content by means of copper chloride and the mass obtained in this way Use in the manufacture of ethylchlorosilanes. If you put ethyl chloride with such Si contact compounds are converted into ethylchlorosilanes on an industrial scale, so this occurs often considerable difficulties, which result in both undesirable inhibitions to react as well as in undesired acceleration of the reaction. Often the reaction is not to start at the light-off temperature that is normal for them, so that a a much higher temperature must be set, whereupon the reaction often occurs starts too violently. Also in the course of the implementation often occur for no apparent reason Changes in reaction speed in terms of acceleration or deceleration a, which disturb the smooth process very much, reduce the throughput or the reaction steer towards the formation of undesirable products. The appearance and the elimination such disturbances in the smooth course of the reaction require very careful, continuous monitoring and the application of technical Countermeasures, which focus on the continuous production of each desired Products have a very adverse effect.
Es wurde nun gefunden, daß man Äthylchlorsilane, insbesondere auch solche mit einem Wasserstoffgehalt am Silicium, in besonders glatter und im wesentlichen reibungslos, stetig und gleichmäßig verlaufender Umsetzung in hoher Ausbeute dann erhält, wenn man Äthylchlorid bei erhöhter Temperatur mit Siliciumlegierungen umsetzt, die mit Metallsalzen, insbesondere mit Kupferchlorür oder Eisenchlorid, deren Abkömmlingen oder insbesondere mit Gemischen solcher Metallsalze aktiviert sind. Die Aktivierung der Siliciumlegierung kann in verschiedenster Weise erfolgen. Sie kann vor oder während der Umsetzung der Siliciumlegierung mit dem Äthylchlorid vorgenommen werden. Die verschiedenen Oxydationsstufen der Metallsalze können vor oder während der Umsetzung eingestellt bzw. aufrechterhalten werden. Im einfachsten Ausführungsfall mischt man eine gepulverte Siliciumlegierung, wie z. B. Ferrosilicium, mit dem aktivierenden Metallsalz oder einem Gemisch solcher Salze, z. B. Eisen- und Kupferchlorür, formt Preßlinge, z, B. Pillen, daraus und verwendet diese für die Umsetzung. Man kann auch so vorgehen, daß man zerkleinerte Siliciumlegierungen mit einer Lösung oder einer Paste des Metallsalzes imprägniert. Außerdem kann man auch durch Einwirkung einer Säure, z. B. Chlorwasserstoffsäure, auf der mit einem Schwermetall, z. B. Eisen oder Kupfer, bedeckten Siliciumlegierung die entsprechenden Salze bilden, gegebenenfalls auch während der Herstellung der Silane. Um den Aktivator mit der Siliciumlegierung in Berührung zu bringen, kann man diesen gleichzeitig fortlaufend oder zeitweise mit dem Äthylchlorid zusammen in flüssiger oder fester Form in das Umsetzungsgefäß, z. B. als Staub, Dampf oder Nebel, einführen. Leitet man Äthylchlorid über derart aktivierte Siliciumlegierungen, so setzt sich das Silicium schnell unter glattem Ablauf der Reaktion mit dem Äthylchlorid in hoher Ausbeute zu Äthylchlorsilanen, insbesondere auch Äthylwasserstoffchlorsilanen, um.It has now been found that ethylchlorosilanes, in particular, can also be used those with a hydrogen content on silicon, in particularly smooth and substantial smoothly, steadily and evenly proceeding implementation in high yield then obtained when ethyl chloride is reacted with silicon alloys at elevated temperature, those with metal salts, especially with copper chloride or iron chloride, their derivatives or, in particular, are activated with mixtures of such metal salts. The activation the silicon alloy can be made in a wide variety of ways. You can before or be made during the reaction of the silicon alloy with the ethyl chloride. The various stages of oxidation of the metal salts can take place before or during the reaction adjusted or maintained. In the simplest embodiment, mixes a powdered silicon alloy, such as. B. ferrosilicon, with the activating Metal salt or a mixture of such salts, e.g. B. iron and copper chloride, forms Pressed pieces, for example pills, from it and used them for the implementation. One can also proceed so that one crushed silicon alloys with a solution or impregnated with a paste of the metal salt. In addition, one can also act by acting an acid, e.g. B. hydrochloric acid, on which with a heavy metal, e.g. B. Iron or copper, covered silicon alloy form the corresponding salts, optionally also during the preparation of the silanes. To use the activator with the To bring silicon alloy into contact, one can do this continuously at the same time or temporarily with the ethyl chloride in liquid or solid form in the Conversion vessel, e.g. B. as dust, vapor or mist, introduce. One conducts ethyl chloride When silicon alloys are activated in this way, the silicon quickly subsides smooth course of the reaction with the ethyl chloride in high yield to ethylchlorosilanes, in particular ethyl hydrogen chlorosilanes to.
Die erhaltenen Produkte stellen wertvolle Hydrophobierungsmittel dar. Auch können aus ihnen siliciumorganische Öle, Harze, Kautschuke u. dgl. gewonnen werden.The products obtained are valuable water repellants. Organosilicon oils, resins, rubbers and the like can also be obtained from them will.
Beispiel Eine gepulverte Legierung von Ferrosilicium (5 °lo Eisen) wird mit einem Gemisch von Kupfer- oder Eisenhalogeniden, z. B. Kupfer- und Eisenchloriden, das als trockenes Pulver bzw. als Lösung oder als Paste verwendet werden kann, aktiviert. Die aktivierte Masse wird getrocknet, zweckmäßig im Vorwärmer des Umsetzungsgefäßes, bei einer Temperatur, die unterhalb der Bildungstemperatur der Silane liegt, im allgemeinen bei 16o bis 2oo°. Über diese Masse wird bei 3q.0° Äthylchlorid geleitet, und man erhält aus 28 g des gesamten vorhandenen Siliciums pro Stunde 32 g eines Gemisches von Äthylchlorsilanen, das bis zu 7o °/o Äthyldichlorsilan enthält. Der Rest stellt Äthyltrichlorsilan und Diäthyldichlorsilan dar.Example A powdered alloy of ferrosilicon (5 ° lo iron) is treated with a mixture of copper or iron halides, e.g. B. copper and iron chlorides, which can be used as a dry powder or as a solution or as a paste is activated. The activated mass is dried, expediently in the preheater of the reaction vessel, at a temperature which is below the formation temperature of the silanes, im generally at 16o to 2oo °. Ethyl chloride is passed over this mass at 3q.0 °, and 32 g of one per hour are obtained from 28 g of the total silicon present Mixture of ethylchlorosilanes containing up to 70% ethyldichlorosilane. Of the The remainder is ethyltrichlorosilane and diethyldichlorosilane.
Claims (4)
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|---|---|---|---|
| DEP34914A DE906455C (en) | 1949-02-24 | 1949-02-24 | Process for the production of AEthylchlorosilanes |
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| DE906455C true DE906455C (en) | 1954-03-15 |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE906455C (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2917529A (en) * | 1956-07-10 | 1959-12-15 | Du Pont | Preparation of alkyl chlorosilanes |
| DE1163977B (en) * | 1962-05-15 | 1964-02-27 | Intermetall | Barrier-free contact on a zone of the semiconductor body of a semiconductor component |
-
1949
- 1949-02-24 DE DEP34914A patent/DE906455C/en not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
| Title |
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| DE1163977B (en) * | 1962-05-15 | 1964-02-27 | Intermetall | Barrier-free contact on a zone of the semiconductor body of a semiconductor component |
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