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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Solarmodul und
insbesondere eine photovoltaische Einrichtung mit einem amorphen
Halbleiter, das heißt ein Solarmodul aus amorphem Halbleiter.
Insbesondere betrifft sie ein Solarmodul für den Außengebrauch
mit verbesserter Passivierung.
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EP-A-0 536 738 gehört gemäß Artikel 54(3) EPÜ zum Stand
der Technik und beschreibt ein Solarzellenmodul mit
verbesserten Witterungseigenschaften und einem amorphen
Silizium-Solarzellenelement, das aus einer Metallelektrodenschicht, einer
amorphen Siliziumhalbleiterschicht, einer transparenten und
leitenden Schicht und einer Gitterelektrode besteht, die in
dieser Reihenfolge auf einem leitenden Substrat angeordnet
sind. Die Gitterelektrode ist von einer dünnen Schicht bedeckt,
die ein Epoxidharz mit einer Feuchtigkeitsdurchlässigkeit von
20 g/m² Tag 0.1 mm oder weniger enthält.
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Die Zusammenfassung AN 90-301915 in der Datenbank WPI,
Woche 9040, Derwent Publications Ltd., London, Großbritannien,
& JP-A-2 214 129 beschreibt ein Abdichtverfahren für
elektronische Bauteile, z.B. Solarzellen, das das Abdecken der
elektronischen Bauteile mit einem Schutzfilm aufweist, der EVA-
Copolymerharz mit einer Feuchtigkeitsdurchlässigkeit von 0.03
g mm/m² Tag enthält.
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Im Gegensatz zu den kristallinen Solarzellen sind
Solarzellen, die aus amorphen Halbleitern, wie etwa amorphem
Silizium, hergestellt sind, dadurch gekennzeichnet, daß sie leicht
auf verschiedenen Substratarten, wie etwa Glas, Metall, Harz,
usw., bei relativ niedrigen Temperaturen hergestellt werden
können. Demgemäß werden ziemlich kleine Solarmodule, wobei ein
Solarmodul zum Beispiel als eine Struktur mit einer
passivierenden Schicht über verbundenen Solarzellen definiert ist,
typischerweise hergestellt, indem ein Solarzellenelement mit
Schichten aus leitendem Metalloxid, amorphem Halbleiter und
einer Metallelektrode auf einem Glassubstrat ausgebildet wird
und dann die Struktur durch Vakuumlaminierung einer dünnen
Harzlage mit einer unterlegten Klebeschicht passiviert wird. Da
zur praktischen Anwendung eine robuste Struktur erforderlich
ist, ist es notwendig, diese Art von Solarmodulen zu verstärken
und folglich sind gewöhnlicherweise größere Solarmodule
hergestellt worden, indem ein Feld aus Solarsubmodulen auf
vorgespanntem Glas oder Schichtglas zusammengesetzt wird, bei dem
jedes Submodul eine leitende Metalloxidschicht, eine amorphe
Halbleiterschicht und eine Metallelektrodenschicht aufweist,
die auf einem Glassubstrat hergestellt sind. Nachdem die
elektrischen Kontakte hergestellt sind, wird das Modul durch
Vakuumlaminierung einer dünnen Harzlage passiviert, die mit einer
Klebeschicht unterlegt ist.
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Ein Hauptproblem bei der Herstellung dieser Art von großem
Solarmodul besteht darin, daß, wie vorstehend beschrieben, das
Herstellungsverfahren komplex ist und zusätzlich zu den
Herstellungsschritten des Submoduls aus verschiedenen Schritten,
wie etwa dem Anordnen der Solarsubmodule auf dem vorgespannten
Glas, dem Herstellen der elektrischen Verbindungen, der
Vakuumlaminierung usw. besteht. Da ferner eine teuere
Vakuumeinrichtung erforderlich ist, gibt es weitere Probleme erhöhter
Herstellungskosten und verringerter Zuverlässigkeit.
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Die vorliegende Erfindung ist in Anbetracht dieser Art von
Problemen, die der vorangehenden Technologie eigen sind,
verwirklicht worden, und demgemäß ist es eine Aufgabe dieser
Erfindung, ein Solarmodul bereitzustellen, das wirksam passiviert
werden kann, indem einfache Schritte und herkömmliche Techniken
verwendet werden.
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Durch Ausführen der vorstehenden und verwandter Aufgaben
stellt die vorliegende Erfindung ein Solarmodul bereit, das:
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(a) eine leitende Metalloxidschicht;
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(b) eine amorphe Halbleiterschicht;
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(c) eine rückseitige Metallelektrode; und
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(d) eine passivierende Harzschicht,
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aufweist, wobei die leitende Metalloxidschicht, die amorphe
Halbleiterschicht, die rückseitige Metallelektrode und die
passivierende Harzschicht in dieser Reihenfolge auf einem
transparenten Substrat ausgebildet sind und die passivierende
Harzschicht eine wasserdampfbeständige Sperrschicht mit einer
Wasserdampfdurchlässigkeit von nicht mehr als 1 g/m² Tag bei
einer Dicke von 100 µm (gemessen gemäß ASTM E 96-53 T)
aufweist.
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Überdies ist bei dem Solarmodul der vorliegenden Erfindung
die Wasserdampfsperrschicht aus einem Polyisobutylenharz
hergestellt.
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Außerdem wird es bei dem Solarmodul der vorliegenden
Erfindung bevorzugt, daß die passivierende Harzschicht ebenfalls
eine Sauerstoffsperrschicht aufweist, die eine
Sauerstoffdurchlässigkeit von nicht mehr als 0.1 cm³ mm/m² Tag atm
(gemessen gemäß ASTM D 1434-58), wie etwa ein Copolymer aus
Ethylen und Vinylalkohol, besitzt.
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Bei dem Solarmodul der vorliegenden Erfindung wird
aufgrund der Anwesenheit der Wasserdampfsperrschicht in der
passivierenden Harzschicht eine Leistungsverschlechterung der
rückseitigen Metallelektrode durch Wasserdampf verhindert. Bei
einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
wird die Leistungsverschlechterung, die von der Oxidation der
rückseitigen Metallelektrode durch Sauerstoff herrührt,
verhindert, da die passivierende Harzschicht auch eine
Sauerstoffsperrschicht enthält.
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Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung ist eine Folge des Ausbildens der
passivierenden Harzschicht durch Beschichten, daß die
Herstellungsschritte und eine Einrichtung einfach und leicht gestaltet
werden können.
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Diese und weitere Aspekte der vorliegenden Erfindung
werden in Hinblick auf die folgende Beschreibung, die beigefügten
Patentansprüche und die zugehörigen Zeichnungen besser
verstanden werden; es zeigen:
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Fig. 1 eine schematische Abbildung eines Beispiels des
Solarmoduls der vorliegenden Erfindung;
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die Fign. 2 - 7 eine Reihe schematischer Zeichnungen, die
die Herstellungsschritte eines Beispiels des Solarmoduls der
vorliegenden Erfindung zeigen;
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Fig. 8 eine schematische Abbildung, die die Randstruktur
eines Beispiels des Solarmoduls der vorliegenden Erfindung
zeigt;
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Fig. 9 eine schematische Abbildung, die die Randstruktur
eines anderen Beispiels des Solarmoduls der vorliegenden
Erfindung zeigt; und
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Fig. 10 eine schematische Abbildung der Randstruktur eines
früheren Solarmodultyps, wie er in dem Vergleichsbeispiel 1
beschrieben wird.
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Fig. 1 ist eine schematische Abbildung eines Solarmoduls
in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung. Das Modul
wird durch das hintereinander erfolgende Aufbringen von
Schichten aus einem transparenten, leitenden Film 30, einer
Halbleiterschicht 40 und einer rückseitigen Metallelektrode 50 in
dieser Reihenfolge auf einem transparenten Substrat 20
hergestellt, wonach die Passivierung der Struktur mit einer
passivierenden Harzschicht 80 erfolgt. Die aktive Fläche dieses
Solarmoduls ist nicht geringer als 0.05 m² und vorzugsweise
nicht weniger als 0.1 m². Da es in zunehmendem Maße schwieriger
wird, Vakuumlaminierungstechniken anzuwenden, wenn die Größe
des Solarmoduls zunimmt, wird es immer vorteilhafter, ein
Polyisobutylenharz für die passivierende Schicht zu verwenden,
insbesondere bei aktiven Flächen, die größer als etwa 0.1 m²
sind.
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Für das transparente Substrat 20 können verschiedene
Materialien, wie etwa Kunststoffolie oder Glassubstrate, verwendet
werden. In dem Fall, daß die aktive Fläche relativ groß ist,
und insbesondere wenn sie nicht kleiner als 0.5 m² ist, wird
vorzugsweise in Hinblick auf seine Spannkraft vorgespanntes
Glas oder Schichtglas verwendet.
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Der transparente, leitende Film 30 kann aus SnO&sub2;,
Indiumzinnoxid, Indiumoxid und dergleichen bestehen, wie er bei
früheren Solarmodulen verwendet wird.
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Die Halbleiterschicht 40 kann wie bei früheren
Solarmodulen zum Beispiel aus einem amorphen Halbleiter bestehen. Bei
der vorliegenden Erfindung stellt ein amorpher Halbleiter einen
Halbleiter dar, der lediglich aus einem amorphen Halbleiter und
einem Halbleiter mit einem ein kristallines Substrat
enthaltenden amorphen Halbleiter besteht. a-Si:H; a-Si:H, das C, Ge, Sn
oder F enthält; oder µcSiH (mikrokristallin) und dergleichen
werden als spezielle Beispiele eines amorphen Halbleiters
aufgezählt.
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Die rückseitige Metallelektrode 50 kann wie bei früheren
Solarmodulen zum Beispiel aus Aluminium bestehen.
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Für die Sauerstoffsperrschicht 60 können Materialien mit
einer Sauerstoffdurchlässigkeit von nicht mehr als 0.1
cm³ mm/m² 24 Std. atm verwendet werden. Es gibt viele Beispiele
dieser Materialart, wie etwa Polyvinylidenchlorid; jedoch wird
ein Harz aus einem Copolymer von Ethylen und Vinylalkohol
besonders bevorzugt. Diese Sauerstoffsperrschicht ist enthalten,
um Korrosion zu verhindern, da Sauerstoff so wirkt, daß bei
hohen Temperaturen die Korrosion der rückseitigen
Metallelektrode 50 beschleunigt wird. Die Filmdicke beträgt
gewöhnlicherweise nicht weniger als 1 µm und beträgt vorzugsweise etwa 20
- 40 µm.
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Für die Wasserdampfsperrschicht 70 wird Polyisobutylenharz
mit kautschukartiger Elastizität und mit einer
Wasserdampfdurchlässigkeit von nicht mehr als 1 g/m² 24 Std. bei 100 µm
Filmdicke verwendet. Diese Art von Polyisobutylenharz wird
typischerweise durch die Reaktion von einem Isobutenpolymer,
das mindestens eine Funktionsgruppe (X) in einem Molekül
besitzt, mit einem Härtungsmittel gebildet, das mindestens zwei
Funktionsgruppen (Y) in einem Molekül besitzt und das mit der
Funktionsgruppe (X) reagieren kann. Unter dem Gesichtspunkt,
daß die Elastizität des gebildeten Harzes aufrechterhalten
werden soll, ist die Funktionsgruppe (X) vorzugsweise am Ende
des Polymers angeordnet. Ein bevorzugtes Beispiel ist ein
Produkt, das durch die Anlagerungsreaktion eines Isobutenpolymers
mit einer am Ende vorliegenden C-C-Doppelbindung mit einer
Verbindung mit nicht mehr als zwei Hydrosilylgruppen gebildet
wird. Diese Beispiele sind in JP-A-3-95266 gezeigt. Zum
Beispiel ist das Härtungsmittel vorzugsweise eine
Polysiloxanverbindung, wie etwa Cyclosiloxan, mit mindestens zwei
Hydrosilylgruppen.
Beispiele, die verwendet werden können, sind
Zusammensetzungen aus (A) einem Polyisobutylenoligomer, das
durch die Reaktion eines tertiären mit Chlor abgeschlossenen
Polyisobutylen mit Trimethylallylsilan oder 1,9-Decadien
gebildet wird, und (B) einem Härtungsmittel, das das
Reaktionsprodukt aus 1,3,5,7-Tetramethylcyclotetrasiloxan mit
1,9-Decadien ist.
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Das bei der vorliegenden Erfindung zu verwendende
Polyisobutylenoligomer besitzt zahlenmäßig ein gemitteltes
Molekulargewicht von gewöhnlicherweise 500 - 100 000 und vorzugsweise
von 2 000 - 20 000. Das Oligomer wird in einer Mischung aus
einem Weichmacher, wie etwa Polybuten, verwendet, wobei die
Mischung eine Viskosität von 1 000 - 20 000 Poise besitzt, die
für die Anwendung bei Solarmodulen gut geeignet ist.
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Die Wasserdampfsperrschicht 70 ist in einer ähnlichen
Weise wie die Sauerstoffsperrschicht 60 enthalten, um einen
Qualitätsverlust der rückseitigen Metallelektrode 50 durch
Wasserdampf zu verhindern. Eine Filmdicke von etwa 0.8 - 1.0 mm
wird verwendet.
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Bei dieser Ausführungsform wird die passivierende
Harzschicht 80 als eine übereinander angeordnete Schicht
ausgebildet, die aus der Sauerstoffsperrschicht 60 und der
Wasserdampfsperrschicht 70 besteht; sie kann jedoch lediglich aus
einer Wasserdampfsperrschicht 70 bestehen. Außerdem kann,
obwohl es nicht in der Figur gezeigt ist, zwischen der
passivierenden Harzschicht 80 und der rückseitigen Metallelektrode
50 eine Sperrschicht, zum Beispiel eine isolierende Schicht,
wie etwa ein Siliziumoxid, enthalten sein. Dies hat die
Funktion, die Diffusion der Atome von Wasserstoff, Alkalimetallen
und Erdalkalimetallen, die in der Sauerstoffsperrschicht 60
oder der Wasserdampfsperrschicht 70 enthalten sind, in das
Solarzellenelement zu verhindern.
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Eine detaillierte Erläuterung der vorliegenden Erfindung
wird auf der Grundlage spezieller Beispiele nachstehend
gegeben.
Beispiel 1
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Unter Verwendung des thermischen CVD-Verfahrens wurde eine
SnO&sub2;-Schicht 30 von etwa 500 nm Dicke auf einem 4 mm dicken,
500 mm mal 600 mm großen Natronglassubstrat 20 hergestellt,
wonach das Glas durch Erhitzen und schnelles Kühlen getempert
wurde, wobei das leitende getemperte Glassubstrat gebildet
wurde, das in Fig. 2 veranschaulicht ist. Die SnO&sub2;-Schicht 30
auf dem leitenden getemperten Glassubstrat wurde unter
Verwendung der Grundfrequenz eines YAG-Lasers der Wellenlänge von
etwa 1.06 µm in 1 cm breite elektrische Streifen unterteilt. Es
wurde herausgefunden, daß die Widerstände zwischen den
benachbarten SnO&sub2;-Schichten jeweils nicht weniger als 1 Megaohm
betrugen. Danach wurde eine Ultraschallreinigung in Reinwasser
durchgeführt, was zu dem eingeritzten leitenden getemperten
Glas führte, das in Fig. 3 gezeigt ist.
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Wie in Fig. 4 veranschaulicht, wurde eine
Halbleiterschicht 40 über der eingeritzten SnO&sub2;-Schicht hergestellt,
indem Schichten aus p-dotiertem amorphem Silizium-Halbleiter,
amorphem i-Silizium-Halbleiter und n-dotiertem
mikrokristallinem Silizium-Halbleiter der jeweiligen Dicke 15 nm, 450 nm bzw.
300 nm ausgebildet wurden. Diese Schichten wurden bei einer
Substrattemperatur von 200ºC und einem Druck von 66.66 - 133.32
Pa (0.5 - 1.0 Torr) in einer kapazitiv gekoppelten
Glimmentladungs-Zersetzungseinrichtung durch Zersetzung einer
Gasmischung aus SiH&sub4;, CH&sub4; und B&sub2;H&sub6;, einer Gasmischung aus SiH&sub4; und
H&sub2; und einer Gasmischung aus SiH&sub4;, PH&sub3; und H&sub2; in dieser
Reihenfolge hergestellt. Nach dem Kühlen wurde die amorphe
Halbleiterschicht 40 an Stellen, die um 50 µm von den eingeritzten
Teilen der SnO&sub2;-Schicht versetzt waren, unterteilt, indem ein
YAG-Laser mit seiner zweiten Harmonischen verwendet wurde, um
eine Beschädigung der SnO&sub2;-Schicht 30 zu verhindern (siehe Fig.
5). Danach wurde für die rückseitige Metallelektrode 50 in
Vakuum bei Raumtemperatur unter Verwendung einer
Elektronenstrahl-Bedampfungseinrichtung ein dünner Aluminiumfilm von 250
nm Dicke hergestellt (siehe Fig. 6). Nachdem das Glassubstrat
20 aus der Bedampfungseinrichtung entnommen war, wurde die
rückseitige Metallelektrode 50 an Stellen, die um 50 µm von den
eingeritzten Teilen der amorphen Haibleiterschicht 40 versetzt
waren, mit einem YAG-Laser unter Verwendung seiner zweiten
Harmonischen eingeritzt, um eine Beschädigung der amorphen
Halbleiterschicht 40 zu verhindern und um ein integriertes
Solarmodul zu bilden, wie in Fig. 7 gezeigt ist. Die teilenden
Zwischenräume, die durch die Lasereinritzung ausgebildet
wurden, betrugen für die SnO&sub2;-Schicht 30, die amorphe
Halbleiterschicht 40 und die rückseitige Metallelektrode 50 jeweils etwa
50 µm, 150 µm bzw.150 µm. Die erhaltene Solarzelle ergab unter
Einstrahlung von 100 mW/cm² AM-1.5 künstlichem Sonnenlicht eine
Abgabeleistung von etwa 15 Watt.
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Eine Lösung eines Copolymers von Ethylen und Vinylalkohol
(zum Beispiel EVAL (Handelsname, hergestellt von Kuraray Co.
Ltd.)) in Dimethylsulfoxidlösung wurde auf die Oberfläche der
rückseitigen Metallelektrode 50 dieses Solarmoduls aufgetragen,
um nach dem Trocknen eine Dicke von etwa 20 µm zu erhalten,
dann etwa 30 min lang bei 130ºC gehalten, und durch Verdampfen
des Lösungsmittels ausgehärtet, um eine Sauerstoffsperrschicht
60 auszubilden. Nach dem Kühlen wurde eine
Wasserdampfsperrschicht 70 mit Polyisobutylen als Hauptbestandteil durch
Beschichten, gefolgt von einem etwa einstündigen thermischen
Aushärten bei 130ºC ausgebildet. Hier wurde die Glaskante mit
dem passivierenden Harz 80 bedeckt, um das Eindringen von
Wasser an der Kantenfläche zu verhindern. Diese Struktur ist in
den Fign. 8 und 9 gezeigt. Die Polyisobutylenharzschicht 70
wurde unter Verwendung der folgenden Zusammensetzung
hergestellt: 100 Gewichtsanteile Polyisobutylenoligomer, 100
Gewichtsanteile Polybuten, 9 Gewichtsanteile DD4H, 120
Gewichtsanteile SiO&sub2;, 5 Gewichtsanteile TiO&sub2;, 5 Gewichtsanteile
Kohlenstoff und 1 Gewichtsanteil eines Alterungsschutzmittels. Das
Polyisobutylenharz besaß ein Molekulargewicht von etwa 5 000
und wurde gemäß Beispiel 11 aus JP-A-3-152164 angefertigt. DD4H
ist
1,3,5,7-Tetramethyl-1-{10-(1,3,5,7-Tetramethylcyclotetracyloxanyl)-1-Decyl}-Cyclotetracyloxan, wie in Beispiel 11 aus
JP-A-3-95266 beschrieben ist.
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An den elektrischen Kontaktstellen wurde das Harz
entfernt, elektrische Zuleitungen wurden durch Löten verbunden und
die Teile, an denen das Harz entfernt worden ist, wurden dann
wieder mit der vorstehend beschriebenen
Polyisobutylen-Zusammensetzung
beschichtet und bei 130 ºC ausgehärtet. Nach dem
Kühlen wurde das Solarmodul vervollständigt, indem die
Kantenfläche zwischen der passivierenden Harzschicht 80 und dem
beschichteten Glassubstrat 20 mit einem Aluminiumrahmen bedeckt
wurde. Ein auf diese Weise hergestelltes Solarmodul mit der in
Fig. 9 gezeigten Struktur ergab unter 100 mW/cm² AM-1.5
künstlichem Sonnenlicht eine Abgabeleistung von 15 Watt.
Beispiel 2
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Ein Solarmodul wurde in der gleichen Weise wie Beispiel 1
angefertigt, außer daß das Glassubstrat 20 eine Größe von 300
mm mal 400 mm und eine Dicke von 3 mm besaß. Um die
Zuverlässigkeit dieses Moduls auszuwerten, wurde die
Zeitabhängigkeit der Moduleigenschaften bei einem Drucktemperaturversuch
(Versuchsbedingungen: Zimmertemperatur 127ºC, relative
Feuchtigkeit 80 % RH, Zimmerdruck 2 Atmosphären) untersucht. Werte
der maximalen Abgabeleistung, die während des Versuchs gemessen
wurden, sind in Tabelle 1 normalisiert auf die Anfangswerte
gezeigt.
Beispiel 3
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Auf der rückseitigen Metallelektrodenfläche 50 eines
Solarzellenelements, das auf einem 3 mm dicken, 300 mm mal 400 mm
großen Glassubstrat 20 in einer zu Beispiel 1 ähnlichen Weise
hergestellt wurde, wurde eine wie in Beispiel 1 angefertigte
Polyisobutylenharzschicht direkt aufgetragen und 1 Std. lang
bei 130ºC thermisch ausgehärtet, um eine
Wasserdampfsperrschicht 70 auszubilden. An den elektrischen Kontaktstellen
wurde das Harz entfernt, wurden die elektrischen Zuleitungen
durch Löten verbunden und die Teile, an denen das Harz entfernt
worden ist, wurden wieder mit der
Polyisobutylen-Zusammensetzung wie in Beispiel 1 vergossen und 1 Std. lang bei 130 ºC
thermisch ausgehärtet. Nach dem Kühlen wurde die Kantenfläche
des Moduls mit einem Aluminiumrahmen bedeckt, der einen
thermoplastischen Butylenkautschuk enthielt, um das Solarmodul zu
vervollständigen. Die Zeitabhängigkeit der Eigenschaften dieses
Solarmoduls wurden dann untersucht, indem ein
Drucktemperaturversuch unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 2
durchgeführt
wurde. Die Ergebnisse sind ebenfalls in Tabelle 1
gezeigt.
Vergleichsbeispiel 1
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Ein Solarmodul wurde auf einem 3 mm dicken, 300 mm mal 400
mm großen Glassubstrat 120 mit einem herkömmlichen
Vakuumlaminierungsverfahren hergestellt. Die in Fig. 10 gezeigte
Struktur wies ein Glassubstrat 120, einen transparenten,
leitenden Film 130, eine Halbleiterschicht 140, eine rückseitige
Metallelektrode 150 und eine passivierende Harzschicht 180 auf,
die aus einem Ethylenvinylacetatcopolymer-Harzfilm 160 und
einem Film aus Aluminiumfolie bestand, die zwischen
Polyvinylfluoridharz (PVF-Harz) 170 schichtenweise angeordnet war. Diese
passivierende Harzschicht 180 wurde wie folgt hergestellt. Eine
Klebeschicht aus Ethylenvinylacetatcopolymer-Harzfilm 160 der
Dicke 600 µm wurde ein bißchen größer als das Glassubstrat 120
geschnitten und so angeordnet, daß das Substrat 120 bedeckt
war. Darauf wurde ein Film aus zwischen Polyvinylfluoridharz
schichtenweise angeordneter Aluminiumfolie (PVF 38 µm / Al-
Folie 30 µm / PVF 38 µm) 170 in ähnlicher Weise ein bißchen
größer als das Substrat 120 geschnitten, auf dem Substrat 120
angeordnet und unter Verwendung eines
Vakuumlaminierungsverfahrens thermokompressionskontaktiert. Die Zeitabhängigkeit
der Eigenschaften dieses Solarmoduls wurde dann untersucht,
indem ein Drucktemperaturversuch unter den gleichen Bedingungen
wie in Beispiel 2 durchgeführt wurde. Die Ergebnisse sind
ebenfalls in Tabelle 1 gezeigt.
Vergleichsbeispiel 2
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Ein Solarmodul wurde auf eine ähnliche Weise wie in
Vergleichsbeispiel 1 hergestellt, außer daß anstelle des
Aluminiumfolien-Polyvinylfluoridharzlaminats
170 aus Vergleichsbeispiel 1 ein 100 µm dicker Polyethylenfilm
bei der Herstellung der passivierenden Harzschicht 180
verwendet wurde. Die Wasserdampfdurchlässigkeit der
Polyethylenschicht war 2 - 3 g/m² Tag. Die Zeitabhängigkeit der
Eigenschaften dieses Solarmoduls wurde dann untersucht, indem ein
Drucktemperaturversuch unter den gleichen Bedingungen wie in
Beispiel 2 durchgeführt wurde. Die Ergebnisse sind ebenfalls in
Tabelle 1 gezeigt.
Vergleichsbeispiel 3
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Ein Solarmodul wurde auf eine ähnliche Weise wie in
Vergleichsbeispiel 1 hergestellt, außer daß anstelle des
Aluminiumfolien-Polyvinylfluoridharzlaminats
170 aus Vergleichsbeispiel 1 ein 100 µm dicker Polypropylenfilm
mit einer Wasserdampfdurchlässigkeit von etwa 1.5 g/m² Tag bei
der Herstellung der passivierenden Harzschicht 180 verwendet
wurde. Die Zeitabhängigkeit der Eigenschaften dieses
Solarmoduls wurde dann untersucht, indem ein Drucktemperaturversuch
unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 2 durchgeführt
wurde. Die Ergebnisse sind ebenfalls in Tabelle 1 gezeigt.
Tabelle 1
Normalisierte maximale Abgabeleistung
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Aus Tabelle 1 ist es ersichtlich, daß im Gegensatz zu den
Vergleichsbeispielen 1 - 3 die Solarmodule der vorliegenden
Erfindung meist keine Verschlechterung der maximalen
Solarzellenabgabeleistung nach einem Drucktemperaturversuch von 500
Std. zeigen, der einen harten Test für elektrische Komponenten
darstellt.
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Wie vorstehend erläutert, besitzt das Solarmodul der
vorliegenden Erfindung trotz seiner großen Fläche einen
ausgezeichneten Widerstand gegen Wasserdampf und Sauerstoff.
Deshalb besitzen die Solarmodule ausgezeichnete Zuverlässigkeit,
da sogar nach langen Zeitspannen im Außengebrauch meist keine
Leistungsverschlechterung auftritt.