DE69223865T2 - Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung des Betriebs eines Bilderzeugungssystems - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung des Betriebs eines BilderzeugungssystemsInfo
- Publication number
- DE69223865T2 DE69223865T2 DE69223865T DE69223865T DE69223865T2 DE 69223865 T2 DE69223865 T2 DE 69223865T2 DE 69223865 T DE69223865 T DE 69223865T DE 69223865 T DE69223865 T DE 69223865T DE 69223865 T2 DE69223865 T2 DE 69223865T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- logic device
- light
- imaging system
- devices
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 239000005380 borophosphosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/02—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
- H03K19/14—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
- Diese Erfindung bezieht sich auf Abbildungssysteme und dergleichen, und insbesondere auf ein Verfahren und eine Schaltung zum Steuern der Operation eines Abbildungssystems.
- Es ist aus vielen Gründen wünschenswert, steuern zu können, bei welchen Pegeln von Licht optische Systeme arbeiten. Zwei dieser Gründe sind z. B. das Verhindern der illegalen Nutzung von Vorrichtungen und das Verringern der Abnutzung und der Belastung von Systemen.
- Ein Hersteller kann optische Systeme für drei verschiedene Märkte herstellen, was von der Größe des Systems abhängt. Bei Anzeigevorrichtungen z. B. umfassen die drei möglichen Märkte die kommerziellen Projektionssysteme, Großbildschirmfernsehgeräte (größer als 30 Zoll) und Kleinbildschirmfernsehgeräte. In allen können die gleichen Vorrichtungen verwendet werden, nämlich optische Speicher, Raumlichtmodulatoren oder andere lichtempfindliche Vorrichtungen. Es ist möglich, ein kleineres und kostengünstigeres Fernsehgerät herzustellen und ein Großbildschirmfernsehgerät oder ein Projektionssystem herzustellen, in dem nur bestimmte Abschnitte verwendet werden, die üblicherweise in den größeren Systemen verwendet werden.
- Das gemeinsame Element in diesen Systemen ist die Verwendung von Licht, wobei jede Ebene des Systems einen anderen Lichtpegel erfordert. Zum Beispiel kann das große Projektionssystem hohe Beleuchtungspegel erfordern, während das Fernsehgerät sehr viel niedrigere Pegel erfordert. Es wäre somit günstig, die Vorrichtungen in jedem System auf ein bestimmtes "Beleuchtungsfenster" zu beschränken, bei dem nur das betreffende System arbeiten kann.
- Ein weiterer wichtiger Grund zum Steuern der Operation ist, eine Beschädigung von Teilen eines Systems zu verhindern. Wenn z.ºB. ein System bei einem bestimmten Beleuchtungspegel effizient arbeitet, kann das System einer Abnutzung unterliegen, wenn es bei einem ineffizienten Pegel arbeitet.
- Außerdem können durch relativ hohe Beleuchtungspegel einzelne Vorrichtungen beschädigt werden. Wenn auf eine Vorrichtung zu viel Licht fällt, sollte die Vorrichtung im Idealfall fähig sein, abzuschalten, um eine Beschädigung zu verhindern.
- Die US-A-4 960 988 offenbart ein Sicherheitsabschaltschutzsystem für ein lichtempfindliches System wie z. B. einen Bildverstärker. Das System enthält mehrere in Serie geschaltete, normalerweise geschlossene lichtempfindliche photoelektrische Darlington-Sicherheitsschalter, die so angeordnet sind, daß sie zusammen mit dem lichtempfindlichen System Licht empfangen. Wenn Licht, das eine Schwellenintensität überschreitet, auf irgendeinen der Darlington-Sicherheitsschalter fällt, bewirkt dies, daß ein solcher Schalter das lichtempfindliche System abschaltet.
- Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren geschaffen zum Steuern der Operation eines Abbildungssystems, wie es im Anspruch 1 definiert ist.
- Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Schaltung geschaffen zum Steuern der Operation eines Abbildungssystems, wie sie in Anspruch 8 definiert ist.
- Für ein vollständigeres Verständnis der vorliegenden Erfindung und ihrer Vorteile wird im folgenden beispielhaft auf die folgende Beschreibung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, in welchen:
- Fig. 1 eine Struktur zeigt, die ermöglicht, daß Licht in ein Substrat eindringt;
- Fig. 2 eine Vorrichtung zeigt zum Steuern der Operation eines Signals;
- Fig. 3a eine alternative Vorrichtung zum Steuern der Operation eines Signals zeigt; und
- Fig. 3b eine Logiktabelle für die in Fig. 3a gezeigte Vorrichtung zeigt.
- Die Fig. 1 zeigt ein Beispiel einer Möglichkeit zum Steuern der Operation eines optischen Systems. Wenn eine allgemein mit 2 bezeichnete Vorrichtung hergestellt wird, können in der oberen Schicht und in den folgenden tieferen Schichten Zwischenräume 4, 6 und 8 entstehen, um das Durchdringen von Licht in das Substrat zu ermöglichen. Die Vorrichtung ist z. B. eine verformbare Spiegelvorrichtung (DMD), jedoch ist klar, daß das Verfahren auf eine beliebige lichtempfindliche Vorrichtung angewendet werden kann.
- In einer Ausführungsform besitzt die Vorrichtung Transistoren im Substrat 10, von denen einer 11 gezeigt ist. Der Drain-Anschluß 12 und der Source-Anschluß 14 sind im Substrat ausgebildet. Über diesen liegt eine Schicht Gate-Oxid 16. Das Gate 20 ist normalerweise aus Polysilicium hergestellt. Über dem Gate- Oxid ist das Kontaktmetall 18a und 18b ausgebildet. Wenn eine Einebnung gewünscht ist, kann die Schicht 22 abgeschieden und geätzt werden, um eine flache Schicht auszubilden. In die Einebnungsschicht 22, die normalerweise eine Art Glas wie z. B. BPSG ist, wird ein Durchgang 24 geätzt. Anschließend wird eine Metallschicht abgeschieden und geätzt. Das Metall füllt den Durchgang 24 aus. Das Metall wird anschließend gemustert und geätzt, um Elektroden auszubilden, wovon eine 26 gezeigt ist.
- Um in DMDs die Spiegelelemente auszubilden, wird über der Elektrode 26 eine Schicht 28 abgeschieden und als Abstandhalter verwendet. Die Durchgänge 30a und 30b werden anschließend in den Abstandhalter gemustert, um z. B. Stützen aufzunehmen. Eine Schicht von Scharniermetall 32 wird über dem Abstandhalter abgeschieden, wobei die Durchgänge aufgefüllt werden und die Trägerstützen und Scharniere ausgebildet werden. Die Metallschicht 34 wird anschließend abgeschieden und geätzt, mit Ausnahme der Stellen, an denen die Spiegelelemente gewünscht sind. Der Abstandhalter wird anschließend von unterhalb des Spiegels herausgeätzt, um einen Zwischenraum zurückzulassen. Die resultierende Vorrichtung besteht aus einem breiten Spiegelelement, das von dünnen Scharnieren über einem Luftspalt, auf dessen Boden eine Elektrode liegt, getragen wird.
- Wenn diese Vorrichtung während der Herstellung sorgfältig ausgerichtet wird, bleiben in der Vorrichtung die Lichtpfade 36a und 36b zurück. Es kann dann Licht in das Substrat eintreten, indem es an den dünnen Scharnieren vorbei durch den Luftspalt und die Einebnungsschicht in das Substrat gelangt. Wenn das Licht mit dem Substrat in Kontakt kommt, bewirkt es die Erzeugung von Phototrägern, die ihrerseits einen hohen Leckstrom im Transistor hervorrufen, woraufhin die Vorrichtung abschaltet. Die Empfindlichkeit der Vorrichtung gegenüber zu viel Licht kann somit verwendet werden, um bei höheren Beleuchtungspegeln abzuschalten.
- Bei diesem Lösungsansatz ergeben sich Probleme. Ein mögliches Problem besteht darin, daß die Vorrichtung mit einer bestimmten Ausrichtung des optischen Pfades hergestellt werden muß. Es wäre möglich, die Vorrichtung zu entfernen und in einer anderen Geometrie des optischen Pfades zu verwenden, wodurch der Abschalteffekt vermieden wird. Außerdem beschränkt dieses Verfahren nur die Verwendung der Vorrichtung bei hohen Beleuchtungspegeln.
- Ein alternativer Lösungsansatz ist in Fig. 2 gezeigt. Es ist eine Schaltung gezeigt zum Steuern der Vorrichtung, die auf einer Seite der Vorrichtung angeordnet sein kann. Es wird angenommen, daß ein Systemtakt 38 der die Vorrichtung treibende Takt ist, es ist jedoch möglich, diesen durch irgendein Signal zu ersetzen, das für die Operation des Systems oder der Vorrichtung notwendig ist. Eine Spannungsversorgung 40 ist über einen Lasttransistor 42 mit einem Phototransistor 44 verbunden. Wenn das System bei einem geringeren Beleuchtungspegel arbeitet, ist der Phototransistor 44 abgeschaltet und die Leitung 46 des Transistors 42 liegt auf Hochpegel. Wenn die Leitung 46 auf Hochpegel liegt, wird der Transistor 48 durch die Leitung 46 gespeist, der Transistor 48 ist eingeschaltet und das Taktsignal vom Takt 38 kann über die Leitung 50 zum System gelangen. Wenn ein übermäßiger Beleuchtungspegel auftritt, schaltet der Phototransistor 44 ein, wodurch die Leitung 46 auf Niedrigpegel gezogen wird. Wenn die Leitung 46 auf Niedrigpegel liegt, ist der Transistor 48 ausgeschaltet und das Taktsignal 38 wird nicht zur Leitung 50 weitergeleitet. Die Vorrichtung erhält daher keinen Takt und ist abgeschaltet. Dieser Lösungsansatz hat den Vorteil, daß er vom optischen System unabhängig ist, erlaubt jedoch wiederum die Steuerung bei keinem anderen Pegel als bei übermäßigen Beleuchtungspegeln. Ferner ist es möglich, diese Technik zu umgehen. Da der Phototransistor abgeschaltet ist, wenn er nicht beleuchtet ist, und Teil der Vorrichtung ist, durch die das Licht eintritt, ist es möglich, daß das Fenster mit irgendeinem Gegenstand abgedeckt wird, der eine Beleuchtung verhindert.
- Ein weiterer Lösungsansatz ist in Fig. 3a gezeigt. Bei diesem System werden zwei Phototransistoren 44a und 44b verwendet. Irgendwelche anderen lichtempfindlichen Elemente, die die zum Logikgatter führende Signalleitung beeinflussen können, können anstelle der Phototransistoren verwendet werden, wie z. B. Photodioden. Ein Transistor 44a wird bei niedrigen Lichtpegeln aktiv und wird als "weicher" Transistor bezeichnet. Der andere Transistor 44b wird bei höheren Lichtpegeln aktiv und als "starker" Transistor bezeichnet. Beide Transistoren werden über Lasttransistoren 42a und 42b von der Spannungsversorgung 40 gespeist. Wenn das System nicht beleuchtet ist, sind beide Transistoren abgeschaltet. Die Ausgangsleitung 46a vom weichen Transistor wird direkt in eine Logikvorrichtung eingegeben, in dieser Ausführungsform ein NICHT-ODER-Gatter 54. Die Ausgangsleitung 46b vom starken Transistor wird bei 52 invertiert, bevor sie in das NICHT-ODER-Gatter 54 eingegeben wird. Der Ausgang des Gatters wird anschließend über den Transistor 48 mit der Taktleitung 38 verbunden.
- Wie aus der Logiktabelle der Fig. 3b deutlich wird, schalten beide Transistoren ab, wenn das System nicht beleuchtet wird. Die Leitungen 46a und 46b liegen auf Hochpegel. Sobald jedoch die Leitung 46b invertiert wird, nehmen die beiden Eingänge des NICHT-ODER-Gatters Hoch- bzw. Niedrigpegel an. Die Leitung zwischen dem NICHT-ODER-Gatter und dem Transistor 48 liegt dann auf Niedrigpegel und das Taktsignal wird nicht durchgelassen, so daß die Vorrichtung nicht arbeitet.
- Bei niedrigen Beleuchtungspegeln schaltet der "weiche" Transistor ein. Dies zieht die Leitung 46a auf Niedrigpegel. Die Leitung 46b bleibt unbeeinflußt, da das Licht nicht stark genug ist, um den Transistor 44b einzuschalten. Der Eingang des NICHT-ODER-Gatters liegt daher auf Niedrigpegel, was zu einem Hochpegelsignal am Transistor 48 führt. Dies erlaubt dem Taktsignal auf die Leitung 50 und nach außen zum System zu gelangen. Bei hohen Beleuchtungspegeln schalten beide Transistoren ein und beide Leitungen 46a und 46b nehmen Niedrigpegel an. Dies führt zu Hochpegel- und Niedrigpegeleingängen am NICHT- ODER-Gatter 54, was zu einem Niedrigpegelausgangssignal führt. Dies bewirkt, daß der Transistor 48 abgeschaltet bleibt und das Taktsignal nicht zum System gelangt.
- Da der Transistor 48 nur arbeitet, wenn seine Eingangsleitung auf Hochpegel liegt, kann dann, wenn die Eingangsleitung mittels eines Lasers durchgebrannt wird, das Steuersignal niemals über den Transistor zum System gelangen. Statt eines einzelnen Transistors kann ein Logikgatter wie z. B. ein UND-Gatter verwendet werden, das irgendwelche Probleme überwindet, die als Folge einer aufgrund des Abschneidens schwebenden Leitung bestehen können. Dies erfordert, daß die Leitungen von der Schaltung und vom Taktsignal auf Hochpegel liegen, so daß der Takt zum System gelangt. Es wird angenommen, daß dieses System sich auf optisch sichtbare Strahlung bezieht, jedoch zur Verwendung in einem beliebigen geeigneten Frequenzbereich angepaßt werden kann, der z. B. Infrarotstrahlung, UV-Strahlung und dergleichen enthält, wobei der Ausdruck "optisch" entsprechend auszulegen ist.
- Obwohl bisher eine bestimmte Ausführungsform für ein Verfahren zur Steuerung der Operation optischer Systeme beschrieben worden ist, ist somit nicht beabsichtigt, daß solche speziellen Bezeichnungen als Einschränkungen des Umfangs dieser Erfindung betrachtet werden, sofern dies nicht in den folgenden Ansprüchen dargelegt ist.
Claims (8)
1. Verfahren zum Steuern des Betriebs eines Abbildungssystems
unter Verwendung:
wenigstens zweier lichtempfindlicher Vorrichtungen (44a,
44b) für die Erzeugung von Ausgangssignalen (46a, 46b),
wobei wenigstens eine der lichtempfindlichen Vorrichtungen
lichtempfindlicher als die andere der Vorrichtungen ist;
einer Logikvorrichtung (52, 54), die ein Ausgangssignal
erzeugt und als Eingangssignale die Ausgangssignale (46a,
46b) jeder der wenigstens zwei lichtempfindlichen
Vorrichtungen (44a, 44b) empfängt; und
einem Logikgatter (48) mit einem ersten Eingang, der das
Ausgangssignal der Logikvorrichtung (52, 54) empfängt,
einem zweiten Eingang, der ein Betriebssignal (38) zum
Betreiben des Abbildungssystems empfängt, und einem
Ausgang, der an das Abbildungssystem angeschlossen ist,
wobei das Logikgatter (48) das Betriebssignal (38) zum
Betreiben des Abbildungssystems wahlweise in Abhängigkeit
vom vorliegen des Ausgangssignals der Logikvorrichtung (52,
54) freigibt und wobei das Ausgangssignal der
Logikvorrichtung (52, 54) nur erzeugt wird als Antwort auf das
Vorhandensein von auf die lichtempfindlichen Vorrichtungen
(44a, 44b) auftreffendem Licht, dessen Intensität höher als
ein erster Schwellenintensitätswert und niedriger als ein
zweiter, höherer Schwellenintensitätswert ist, wobei der
erste und der zweite Schwellenwert durch die ausgewählten
lichtempfindlichen Vorrichtungen (44a, 44b) bestimmt sind.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Logikvorrichtung
(52, 54) einen Inverter enthält, der wenigstens eines der
wenigstens zwei Ausgangssignale der strahlungsempfindlichen
Vorrichtungen invertiert.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, bei dem das
Logikgatter ein Transistor ist, dessen Gate das
Ausgangssignal der Logikvorrichtung empfängt, wobei dann, wenn das
Ausgangssignal den Transistor auf Durchlaß schaltet, das
Betriebssignal (38) vom Transistor zum Abbildungssystem
durchgelassen wird, dessen Betrieb dann zugelassen wird.
4. Verfahren nach irgendeinem vorangehenden Anspruch, bei dem
die strahlungsempfindlichen Vorrichtungen Phototransistoren
sind.
5. Verfahren nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem
die strahlungsempfindlichen Vorrichtungen Photodioden sind.
6. Verfahren nach irgendeinem vorangehenden Anspruch, bei dem
die Logikvorrichtung ein NOR-Gatter (54) enthält.
7. Verfahren nach irgendeinem vorangehenden Anspruch, bei dem
die Logikvorrichtung einen Inverter (52) enthält.
8. Schaltung zum Steuern des Betriebs eines Abbildungssystems,
mit:
wenigstens zwei lichtempfindlichen Vorrichtungen (44a,
44b), wovon wenigstens eine lichtempfindlicher als andere
der Vorrichtungen ist;
einer Logikvorrichtung (52, 54) mit einem Ausgang und mit
Eingängen, die an jeden der Ausgänge der lichtempfindlichen
Vorrichtungen angeschlossen sind;
einem Logikgatter (48) mit einem ersten Eingang, der an den
Ausgang der Logikvorrichtung (52, 54) angeschlossen ist,
einem zweiten Eingang zum Empfangen eines Betriebssignals
(38) zum Betreiben des Abbildungssystems und einem Ausgang,
der an das Abbildungssystem angeschlossen ist,
wobei das Logikgatter (48) das Betriebssignal (38) zum
Betreiben des Abbildungssystems in Abhängigkeit vom
Vorhandensein eines Ausgangssignals am Ausgang der
Logikvorrichtung
(52, 54) wahlweise freigeben kann und wobei die
Logikvorrichtung (52, 54) ein Ausgangssignal nur erzeugen
kann als Antwort auf das Vorhandensein von auf die
lichtempfindlichen Vorrichtungen (44a, 44b) auftreffendem Licht
mit einer Intensität oberhalb eines ersten
Schwellenintensitätswerts und unterhalb eines zweiten, höheren
Schwellenintensitätswerts, wobei der erste und der zweite
Schwellenwert durch die ausgewählten lichtempfindlichen
Vorrichtungen (44a, 44b) bestimmt sind.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/728,925 US5179274A (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Method for controlling operation of optical systems and devices |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE69223865D1 DE69223865D1 (de) | 1998-02-12 |
| DE69223865T2 true DE69223865T2 (de) | 1998-06-18 |
Family
ID=24928831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69223865T Expired - Fee Related DE69223865T2 (de) | 1991-07-12 | 1992-07-10 | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung des Betriebs eines Bilderzeugungssystems |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5179274A (de) |
| EP (1) | EP0522580B1 (de) |
| JP (1) | JPH05199484A (de) |
| KR (1) | KR100253107B1 (de) |
| DE (1) | DE69223865T2 (de) |
Families Citing this family (220)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU5306494A (en) * | 1993-01-08 | 1994-07-14 | Richard A Vasichek | Magnetic keeper accessory for wrench sockets |
| US6674562B1 (en) * | 1994-05-05 | 2004-01-06 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
| US7123216B1 (en) | 1994-05-05 | 2006-10-17 | Idc, Llc | Photonic MEMS and structures |
| US7138984B1 (en) | 2001-06-05 | 2006-11-21 | Idc, Llc | Directly laminated touch sensitive screen |
| US7550794B2 (en) * | 2002-09-20 | 2009-06-23 | Idc, Llc | Micromechanical systems device comprising a displaceable electrode and a charge-trapping layer |
| US7460291B2 (en) | 1994-05-05 | 2008-12-02 | Idc, Llc | Separable modulator |
| US8014059B2 (en) * | 1994-05-05 | 2011-09-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for charge control in a MEMS device |
| US6680792B2 (en) * | 1994-05-05 | 2004-01-20 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
| US7297471B1 (en) | 2003-04-15 | 2007-11-20 | Idc, Llc | Method for manufacturing an array of interferometric modulators |
| SE509734C3 (sv) * | 1995-02-17 | 1999-06-21 | Foersvarets Forskningsanstalt | Bildsensor med inbyggd oeverexponeringskontroll |
| US5841579A (en) | 1995-06-07 | 1998-11-24 | Silicon Light Machines | Flat diffraction grating light valve |
| US7471444B2 (en) * | 1996-12-19 | 2008-12-30 | Idc, Llc | Interferometric modulation of radiation |
| US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
| US6088102A (en) | 1997-10-31 | 2000-07-11 | Silicon Light Machines | Display apparatus including grating light-valve array and interferometric optical system |
| US8928967B2 (en) | 1998-04-08 | 2015-01-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light |
| KR100703140B1 (ko) * | 1998-04-08 | 2007-04-05 | 이리다임 디스플레이 코포레이션 | 간섭 변조기 및 그 제조 방법 |
| US7532377B2 (en) | 1998-04-08 | 2009-05-12 | Idc, Llc | Movable micro-electromechanical device |
| US6271808B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-08-07 | Silicon Light Machines | Stereo head mounted display using a single display device |
| US6101036A (en) | 1998-06-23 | 2000-08-08 | Silicon Light Machines | Embossed diffraction grating alone and in combination with changeable image display |
| US6130770A (en) | 1998-06-23 | 2000-10-10 | Silicon Light Machines | Electron gun activated grating light valve |
| US6215579B1 (en) | 1998-06-24 | 2001-04-10 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image |
| US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
| US6872984B1 (en) | 1998-07-29 | 2005-03-29 | Silicon Light Machines Corporation | Method of sealing a hermetic lid to a semiconductor die at an angle |
| WO2003007049A1 (en) * | 1999-10-05 | 2003-01-23 | Iridigm Display Corporation | Photonic mems and structures |
| US6956878B1 (en) | 2000-02-07 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging |
| US6962771B1 (en) * | 2000-10-13 | 2005-11-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Dual damascene process |
| DE60107041T2 (de) | 2000-12-28 | 2005-10-20 | Texas Instruments Inc., Dallas | Verfahren und Vorrichtung zum Ausschalten eines räumlichen Lichtmodulators |
| US7177081B2 (en) | 2001-03-08 | 2007-02-13 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast grating light valve type device |
| US6707591B2 (en) | 2001-04-10 | 2004-03-16 | Silicon Light Machines | Angled illumination for a single order light modulator based projection system |
| US6865346B1 (en) | 2001-06-05 | 2005-03-08 | Silicon Light Machines Corporation | Fiber optic transceiver |
| US6747781B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
| US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
| US6589625B1 (en) | 2001-08-01 | 2003-07-08 | Iridigm Display Corporation | Hermetic seal and method to create the same |
| US6829092B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Blazed grating light valve |
| US6785001B2 (en) * | 2001-08-21 | 2004-08-31 | Silicon Light Machines, Inc. | Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal |
| US6930364B2 (en) | 2001-09-13 | 2005-08-16 | Silicon Light Machines Corporation | Microelectronic mechanical system and methods |
| US6956995B1 (en) | 2001-11-09 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Optical communication arrangement |
| US7116459B2 (en) * | 2001-12-27 | 2006-10-03 | Texas Instruments Incorporated | Field diode detection of excess light conditions for spatial light modulator |
| US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
| US6794119B2 (en) * | 2002-02-12 | 2004-09-21 | Iridigm Display Corporation | Method for fabricating a structure for a microelectromechanical systems (MEMS) device |
| US6574033B1 (en) | 2002-02-27 | 2003-06-03 | Iridigm Display Corporation | Microelectromechanical systems device and method for fabricating same |
| US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
| US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
| US7054515B1 (en) | 2002-05-30 | 2006-05-30 | Silicon Light Machines Corporation | Diffractive light modulator-based dynamic equalizer with integrated spectral monitor |
| US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
| US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
| US6908201B2 (en) | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-support structures |
| US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
| US6714337B1 (en) | 2002-06-28 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response |
| US7057795B2 (en) * | 2002-08-20 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-structures with individually addressable ribbon pairs |
| US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
| US7781850B2 (en) * | 2002-09-20 | 2010-08-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Controlling electromechanical behavior of structures within a microelectromechanical systems device |
| US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
| US6928207B1 (en) | 2002-12-12 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Apparatus for selectively blocking WDM channels |
| US7057819B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast tilting ribbon blazed grating |
| US6987600B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-01-17 | Silicon Light Machines Corporation | Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer |
| US6934070B1 (en) | 2002-12-18 | 2005-08-23 | Silicon Light Machines Corporation | Chirped optical MEM device |
| US6927891B1 (en) | 2002-12-23 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Tilt-able grating plane for improved crosstalk in 1×N blaze switches |
| US7068372B1 (en) | 2003-01-28 | 2006-06-27 | Silicon Light Machines Corporation | MEMS interferometer-based reconfigurable optical add-and-drop multiplexor |
| TW200413810A (en) | 2003-01-29 | 2004-08-01 | Prime View Int Co Ltd | Light interference display panel and its manufacturing method |
| US7286764B1 (en) | 2003-02-03 | 2007-10-23 | Silicon Light Machines Corporation | Reconfigurable modulator-based optical add-and-drop multiplexer |
| US6947613B1 (en) | 2003-02-11 | 2005-09-20 | Silicon Light Machines Corporation | Wavelength selective switch and equalizer |
| US6922272B1 (en) | 2003-02-14 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for leveling thermal stress variations in multi-layer MEMS devices |
| US7027202B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-04-11 | Silicon Light Machines Corp | Silicon substrate as a light modulator sacrificial layer |
| US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
| US6922273B1 (en) | 2003-02-28 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | PDL mitigation structure for diffractive MEMS and gratings |
| US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
| US7391973B1 (en) | 2003-02-28 | 2008-06-24 | Silicon Light Machines Corporation | Two-stage gain equalizer |
| US7042611B1 (en) | 2003-03-03 | 2006-05-09 | Silicon Light Machines Corporation | Pre-deflected bias ribbons |
| TW594360B (en) * | 2003-04-21 | 2004-06-21 | Prime View Int Corp Ltd | A method for fabricating an interference display cell |
| TW570896B (en) | 2003-05-26 | 2004-01-11 | Prime View Int Co Ltd | A method for fabricating an interference display cell |
| US7221495B2 (en) * | 2003-06-24 | 2007-05-22 | Idc Llc | Thin film precursor stack for MEMS manufacturing |
| TW200506479A (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-16 | Prime View Int Co Ltd | Color changeable pixel for an interference display |
| TWI231865B (en) * | 2003-08-26 | 2005-05-01 | Prime View Int Co Ltd | An interference display cell and fabrication method thereof |
| TWI232333B (en) * | 2003-09-03 | 2005-05-11 | Prime View Int Co Ltd | Display unit using interferometric modulation and manufacturing method thereof |
| TW593126B (en) | 2003-09-30 | 2004-06-21 | Prime View Int Co Ltd | A structure of a micro electro mechanical system and manufacturing the same |
| US7012726B1 (en) | 2003-11-03 | 2006-03-14 | Idc, Llc | MEMS devices with unreleased thin film components |
| US7142346B2 (en) * | 2003-12-09 | 2006-11-28 | Idc, Llc | System and method for addressing a MEMS display |
| US7161728B2 (en) | 2003-12-09 | 2007-01-09 | Idc, Llc | Area array modulation and lead reduction in interferometric modulators |
| US7532194B2 (en) * | 2004-02-03 | 2009-05-12 | Idc, Llc | Driver voltage adjuster |
| US7119945B2 (en) | 2004-03-03 | 2006-10-10 | Idc, Llc | Altering temporal response of microelectromechanical elements |
| US7706050B2 (en) * | 2004-03-05 | 2010-04-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Integrated modulator illumination |
| US7720148B2 (en) * | 2004-03-26 | 2010-05-18 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Efficient multi-frame motion estimation for video compression |
| US7060895B2 (en) * | 2004-05-04 | 2006-06-13 | Idc, Llc | Modifying the electro-mechanical behavior of devices |
| US7476327B2 (en) * | 2004-05-04 | 2009-01-13 | Idc, Llc | Method of manufacture for microelectromechanical devices |
| US7164520B2 (en) * | 2004-05-12 | 2007-01-16 | Idc, Llc | Packaging for an interferometric modulator |
| US7256922B2 (en) * | 2004-07-02 | 2007-08-14 | Idc, Llc | Interferometric modulators with thin film transistors |
| TWI233916B (en) * | 2004-07-09 | 2005-06-11 | Prime View Int Co Ltd | A structure of a micro electro mechanical system |
| EP1855142A3 (de) * | 2004-07-29 | 2008-07-30 | Idc, Llc | System und Verfahren zum mikroelektromechanischen Betrieb eines interferometrischen Modulators |
| US7499208B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-03-03 | Udc, Llc | Current mode display driver circuit realization feature |
| US7889163B2 (en) * | 2004-08-27 | 2011-02-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Drive method for MEMS devices |
| US7551159B2 (en) | 2004-08-27 | 2009-06-23 | Idc, Llc | System and method of sensing actuation and release voltages of an interferometric modulator |
| US7560299B2 (en) * | 2004-08-27 | 2009-07-14 | Idc, Llc | Systems and methods of actuating MEMS display elements |
| US7515147B2 (en) * | 2004-08-27 | 2009-04-07 | Idc, Llc | Staggered column drive circuit systems and methods |
| US7602375B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-10-13 | Idc, Llc | Method and system for writing data to MEMS display elements |
| US7405924B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-07-29 | Idc, Llc | System and method for protecting microelectromechanical systems array using structurally reinforced back-plate |
| US7684104B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-03-23 | Idc, Llc | MEMS using filler material and method |
| US8008736B2 (en) * | 2004-09-27 | 2011-08-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Analog interferometric modulator device |
| US7893919B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-02-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Display region architectures |
| US7372613B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-13 | Idc, Llc | Method and device for multistate interferometric light modulation |
| US7136213B2 (en) * | 2004-09-27 | 2006-11-14 | Idc, Llc | Interferometric modulators having charge persistence |
| US7936497B2 (en) * | 2004-09-27 | 2011-05-03 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device having deformable membrane characterized by mechanical persistence |
| US7368803B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-06 | Idc, Llc | System and method for protecting microelectromechanical systems array using back-plate with non-flat portion |
| US7460246B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-12-02 | Idc, Llc | Method and system for sensing light using interferometric elements |
| US7675669B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-03-09 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for driving interferometric modulators |
| US7545550B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-06-09 | Idc, Llc | Systems and methods of actuating MEMS display elements |
| US7692839B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-04-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of providing MEMS device with anti-stiction coating |
| US7944599B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-05-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electromechanical device with optical function separated from mechanical and electrical function |
| US7321456B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-01-22 | Idc, Llc | Method and device for corner interferometric modulation |
| US7355780B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-04-08 | Idc, Llc | System and method of illuminating interferometric modulators using backlighting |
| US7343080B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-03-11 | Idc, Llc | System and method of testing humidity in a sealed MEMS device |
| US7527995B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of making prestructure for MEMS systems |
| US7349136B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-03-25 | Idc, Llc | Method and device for a display having transparent components integrated therein |
| US7289256B2 (en) * | 2004-09-27 | 2007-10-30 | Idc, Llc | Electrical characterization of interferometric modulators |
| US7586484B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-09-08 | Idc, Llc | Controller and driver features for bi-stable display |
| US7415186B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-08-19 | Idc, Llc | Methods for visually inspecting interferometric modulators for defects |
| US7429334B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-09-30 | Idc, Llc | Methods of fabricating interferometric modulators by selectively removing a material |
| US7302157B2 (en) * | 2004-09-27 | 2007-11-27 | Idc, Llc | System and method for multi-level brightness in interferometric modulation |
| US7359066B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-04-15 | Idc, Llc | Electro-optical measurement of hysteresis in interferometric modulators |
| US7417783B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-08-26 | Idc, Llc | Mirror and mirror layer for optical modulator and method |
| US7813026B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-10-12 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of reducing color shift in a display |
| US7299681B2 (en) * | 2004-09-27 | 2007-11-27 | Idc, Llc | Method and system for detecting leak in electronic devices |
| US20060176487A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-08-10 | William Cummings | Process control monitors for interferometric modulators |
| US7554714B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-06-30 | Idc, Llc | Device and method for manipulation of thermal response in a modulator |
| US7373026B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-13 | Idc, Llc | MEMS device fabricated on a pre-patterned substrate |
| US7405861B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-07-29 | Idc, Llc | Method and device for protecting interferometric modulators from electrostatic discharge |
| US7710629B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for display device with reinforcing substance |
| US20060077126A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-13 | Manish Kothari | Apparatus and method for arranging devices into an interconnected array |
| US20060066932A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Clarence Chui | Method of selective etching using etch stop layer |
| US7532195B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-05-12 | Idc, Llc | Method and system for reducing power consumption in a display |
| US7369294B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-06 | Idc, Llc | Ornamental display device |
| US7317568B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-01-08 | Idc, Llc | System and method of implementation of interferometric modulators for display mirrors |
| US8124434B2 (en) * | 2004-09-27 | 2012-02-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for packaging a display |
| US7668415B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-02-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for providing electronic circuitry on a backplate |
| US7345805B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-03-18 | Idc, Llc | Interferometric modulator array with integrated MEMS electrical switches |
| US7417735B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-08-26 | Idc, Llc | Systems and methods for measuring color and contrast in specular reflective devices |
| US20060076634A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-13 | Lauren Palmateer | Method and system for packaging MEMS devices with incorporated getter |
| US20060103643A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-05-18 | Mithran Mathew | Measuring and modeling power consumption in displays |
| US7446927B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-11-04 | Idc, Llc | MEMS switch with set and latch electrodes |
| US20060066594A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Karen Tyger | Systems and methods for driving a bi-stable display element |
| US7626581B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-12-01 | Idc, Llc | Device and method for display memory using manipulation of mechanical response |
| US8878825B2 (en) * | 2004-09-27 | 2014-11-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for providing a variable refresh rate of an interferometric modulator display |
| US7701631B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-04-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Device having patterned spacers for backplates and method of making the same |
| US7420725B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-09-02 | Idc, Llc | Device having a conductive light absorbing mask and method for fabricating same |
| US7653371B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-01-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Selectable capacitance circuit |
| US7916103B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-03-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for display device with end-of-life phenomena |
| US7424198B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-09-09 | Idc, Llc | Method and device for packaging a substrate |
| AU2005289445A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Idc, Llc | Method and device for multistate interferometric light modulation |
| US7453579B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-11-18 | Idc, Llc | Measurement of the dynamic characteristics of interferometric modulators |
| US8310441B2 (en) | 2004-09-27 | 2012-11-13 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for writing data to MEMS display elements |
| US20060067650A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Clarence Chui | Method of making a reflective display device using thin film transistor production techniques |
| US7304784B2 (en) * | 2004-09-27 | 2007-12-04 | Idc, Llc | Reflective display device having viewable display on both sides |
| US7327510B2 (en) | 2004-09-27 | 2008-02-05 | Idc, Llc | Process for modifying offset voltage characteristics of an interferometric modulator |
| US7130104B2 (en) * | 2004-09-27 | 2006-10-31 | Idc, Llc | Methods and devices for inhibiting tilting of a mirror in an interferometric modulator |
| US7492502B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-02-17 | Idc, Llc | Method of fabricating a free-standing microstructure |
| US7843410B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-11-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for electrically programmable display |
| US20060066596A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Sampsell Jeffrey B | System and method of transmitting video data |
| US20060065622A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Floyd Philip D | Method and system for xenon fluoride etching with enhanced efficiency |
| US7161730B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-01-09 | Idc, Llc | System and method for providing thermal compensation for an interferometric modulator display |
| US20060065366A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Cummings William J | Portable etch chamber |
| US7369296B2 (en) * | 2004-09-27 | 2008-05-06 | Idc, Llc | Device and method for modifying actuation voltage thresholds of a deformable membrane in an interferometric modulator |
| US7920135B2 (en) * | 2004-09-27 | 2011-04-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and system for driving a bi-stable display |
| US7310179B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-12-18 | Idc, Llc | Method and device for selective adjustment of hysteresis window |
| US7553684B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-06-30 | Idc, Llc | Method of fabricating interferometric devices using lift-off processing techniques |
| US7630119B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-12-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Apparatus and method for reducing slippage between structures in an interferometric modulator |
| US7583429B2 (en) | 2004-09-27 | 2009-09-01 | Idc, Llc | Ornamental display device |
| US7808703B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-10-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for implementation of interferometric modulator displays |
| US7679627B2 (en) | 2004-09-27 | 2010-03-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Controller and driver features for bi-stable display |
| US7724993B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-05-25 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS switches with deforming membranes |
| US7535466B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-05-19 | Idc, Llc | System with server based control of client device display features |
| US7564612B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-07-21 | Idc, Llc | Photonic MEMS and structures |
| US7719500B2 (en) * | 2004-09-27 | 2010-05-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Reflective display pixels arranged in non-rectangular arrays |
| US7259449B2 (en) * | 2004-09-27 | 2007-08-21 | Idc, Llc | Method and system for sealing a substrate |
| US7289259B2 (en) | 2004-09-27 | 2007-10-30 | Idc, Llc | Conductive bus structure for interferometric modulator array |
| TW200628877A (en) * | 2005-02-04 | 2006-08-16 | Prime View Int Co Ltd | Method of manufacturing optical interference type color display |
| US7948457B2 (en) * | 2005-05-05 | 2011-05-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods of actuating MEMS display elements |
| WO2006121784A1 (en) | 2005-05-05 | 2006-11-16 | Qualcomm Incorporated, Inc. | Dynamic driver ic and display panel configuration |
| US7920136B2 (en) * | 2005-05-05 | 2011-04-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method of driving a MEMS display device |
| US20060277486A1 (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-07 | Skinner David N | File or user interface element marking system |
| EP1910216A1 (de) * | 2005-07-22 | 2008-04-16 | QUALCOMM Incorporated | Stützstruktur für eine mikroelektromechanische vorrichtung und verfahren dazu |
| US7355779B2 (en) * | 2005-09-02 | 2008-04-08 | Idc, Llc | Method and system for driving MEMS display elements |
| US7630114B2 (en) * | 2005-10-28 | 2009-12-08 | Idc, Llc | Diffusion barrier layer for MEMS devices |
| US8391630B2 (en) * | 2005-12-22 | 2013-03-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for power reduction when decompressing video streams for interferometric modulator displays |
| US7795061B2 (en) | 2005-12-29 | 2010-09-14 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of creating MEMS device cavities by a non-etching process |
| US7636151B2 (en) * | 2006-01-06 | 2009-12-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | System and method for providing residual stress test structures |
| US7916980B2 (en) | 2006-01-13 | 2011-03-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interconnect structure for MEMS device |
| US7382515B2 (en) * | 2006-01-18 | 2008-06-03 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Silicon-rich silicon nitrides as etch stops in MEMS manufacture |
| US8194056B2 (en) * | 2006-02-09 | 2012-06-05 | Qualcomm Mems Technologies Inc. | Method and system for writing data to MEMS display elements |
| US7582952B2 (en) * | 2006-02-21 | 2009-09-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method for providing and removing discharging interconnect for chip-on-glass output leads and structures thereof |
| US7547568B2 (en) * | 2006-02-22 | 2009-06-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electrical conditioning of MEMS device and insulating layer thereof |
| US7550810B2 (en) * | 2006-02-23 | 2009-06-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS device having a layer movable at asymmetric rates |
| US7450295B2 (en) * | 2006-03-02 | 2008-11-11 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods for producing MEMS with protective coatings using multi-component sacrificial layers |
| US7643203B2 (en) | 2006-04-10 | 2010-01-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric optical display system with broadband characteristics |
| US7903047B2 (en) * | 2006-04-17 | 2011-03-08 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Mode indicator for interferometric modulator displays |
| US7623287B2 (en) * | 2006-04-19 | 2009-11-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Non-planar surface structures and process for microelectromechanical systems |
| US7417784B2 (en) * | 2006-04-19 | 2008-08-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device and method utilizing a porous surface |
| US20070249078A1 (en) * | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Ming-Hau Tung | Non-planar surface structures and process for microelectromechanical systems |
| US7711239B2 (en) | 2006-04-19 | 2010-05-04 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device and method utilizing nanoparticles |
| US7527996B2 (en) * | 2006-04-19 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Non-planar surface structures and process for microelectromechanical systems |
| US8049713B2 (en) * | 2006-04-24 | 2011-11-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Power consumption optimized display update |
| US7369292B2 (en) * | 2006-05-03 | 2008-05-06 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Electrode and interconnect materials for MEMS devices |
| US7405863B2 (en) * | 2006-06-01 | 2008-07-29 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Patterning of mechanical layer in MEMS to reduce stresses at supports |
| US7321457B2 (en) | 2006-06-01 | 2008-01-22 | Qualcomm Incorporated | Process and structure for fabrication of MEMS device having isolated edge posts |
| US7649671B2 (en) * | 2006-06-01 | 2010-01-19 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Analog interferometric modulator device with electrostatic actuation and release |
| US7471442B2 (en) * | 2006-06-15 | 2008-12-30 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and apparatus for low range bit depth enhancements for MEMS display architectures |
| US7702192B2 (en) | 2006-06-21 | 2010-04-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Systems and methods for driving MEMS display |
| US7385744B2 (en) * | 2006-06-28 | 2008-06-10 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Support structure for free-standing MEMS device and methods for forming the same |
| US7835061B2 (en) * | 2006-06-28 | 2010-11-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Support structures for free-standing electromechanical devices |
| US7777715B2 (en) | 2006-06-29 | 2010-08-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Passive circuits for de-multiplexing display inputs |
| US7388704B2 (en) * | 2006-06-30 | 2008-06-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Determination of interferometric modulator mirror curvature and airgap variation using digital photographs |
| US7527998B2 (en) * | 2006-06-30 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of manufacturing MEMS devices providing air gap control |
| US7763546B2 (en) | 2006-08-02 | 2010-07-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods for reducing surface charges during the manufacture of microelectromechanical systems devices |
| US7566664B2 (en) * | 2006-08-02 | 2009-07-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Selective etching of MEMS using gaseous halides and reactive co-etchants |
| US20080043315A1 (en) * | 2006-08-15 | 2008-02-21 | Cummings William J | High profile contacts for microelectromechanical systems |
| US7719752B2 (en) | 2007-05-11 | 2010-05-18 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same |
| CN101971239B (zh) * | 2008-02-11 | 2014-06-25 | 高通Mems科技公司 | 与显示驱动方案集成的显示元件感测、测量或表征的方法及设备以及使用所述方法及设备的系统及应用 |
| US8736590B2 (en) * | 2009-03-27 | 2014-05-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Low voltage driver scheme for interferometric modulators |
| CN102834761A (zh) | 2010-04-09 | 2012-12-19 | 高通Mems科技公司 | 机电装置的机械层及其形成方法 |
| US9134527B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-09-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
| US8963159B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-02-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4663521A (en) * | 1985-02-15 | 1987-05-05 | Rca Corporation | Infrared radiation controlled switch with a visible light detector |
| WO1986007494A1 (en) * | 1985-06-14 | 1986-12-18 | American Telephone & Telegraph Company | Semiconductor device |
| JPH062348Y2 (ja) * | 1988-02-15 | 1994-01-19 | オムロン株式会社 | 反射型光電スイッチ |
| US4960988A (en) * | 1989-03-06 | 1990-10-02 | Murasa International | Safety shut-off protection system |
| JPH02308575A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-21 | Nissan Motor Co Ltd | 光検出セル |
-
1991
- 1991-07-12 US US07/728,925 patent/US5179274A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-07-10 JP JP4184091A patent/JPH05199484A/ja active Pending
- 1992-07-10 DE DE69223865T patent/DE69223865T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-10 EP EP92111772A patent/EP0522580B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-11 KR KR1019920012396A patent/KR100253107B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0522580B1 (de) | 1998-01-07 |
| JPH05199484A (ja) | 1993-08-06 |
| KR930002866A (ko) | 1993-02-23 |
| EP0522580A2 (de) | 1993-01-13 |
| DE69223865D1 (de) | 1998-02-12 |
| US5179274A (en) | 1993-01-12 |
| KR100253107B1 (ko) | 2000-05-01 |
| EP0522580A3 (en) | 1993-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69223865T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung des Betriebs eines Bilderzeugungssystems | |
| DE69020234T2 (de) | Informationsein-/ausgabe-Vorrichtung mit Lichtgriffel. | |
| DE69316957T2 (de) | Flüssigkristall-Vorrichtung vom Transmissionstyp mit aktiver Matrix | |
| DE69323647T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Bildeingabe/-ausgabe | |
| DE3717106C2 (de) | ||
| DE69315258T2 (de) | LCD mit Photosensor | |
| DE69310900T2 (de) | Integrierte lichtemittierende und lichtdetektierende festkoerperanordnung und vorrichtung die eine solche anordnung verwendet. | |
| DE68915947T2 (de) | Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung. | |
| EP0440683B1 (de) | Digitalrechner mit multiprozessoranordnung | |
| DE69720908T2 (de) | Aktiv-Matrix-Substrat für Flüssigkristallanzeige | |
| DE69216340T2 (de) | Flüssigkristallanzeige und damit versehener Projektor | |
| DE69013984T2 (de) | Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung. | |
| EP0550384B1 (de) | Blendschutzvorrichtung | |
| DE19651590B4 (de) | Verfahren zur Ausbildung eines Dünnschichttransistors | |
| DE102018111728A1 (de) | Anzeigebildschirm, elektronische vorrichtung und verfahren zur lichtintensitätserfassung | |
| DE2820965A1 (de) | Fotografisches kopiergeraet | |
| DE112020005892T5 (de) | Elektronische vorrichtung | |
| EP0354382A1 (de) | Optische Überwachungseinrichtung | |
| DE60126876T2 (de) | Flüssigkristallvorrichtung und damit versehenes elektronisches Gerät | |
| DE69433614T2 (de) | Anzeigevorrichtung mit aktiver matrix | |
| DE68914794T2 (de) | Lichtempfindliche Halbleitervorrichtung. | |
| DE69732945T2 (de) | Flüssigkristallanzeigevorrichtung | |
| DE2260229B2 (de) | ||
| DE2647274C2 (de) | Phototransistorfeld als Halbleiter-Bildaufnehmer und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE3734849C2 (de) | Elektrooptische Abblendeinrichtung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |