DE69210113T2 - Hochdrucksglimmentladungslampe - Google Patents
HochdrucksglimmentladungslampeInfo
- Publication number
- DE69210113T2 DE69210113T2 DE69210113T DE69210113T DE69210113T2 DE 69210113 T2 DE69210113 T2 DE 69210113T2 DE 69210113 T DE69210113 T DE 69210113T DE 69210113 T DE69210113 T DE 69210113T DE 69210113 T2 DE69210113 T2 DE 69210113T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- group
- mbar
- noble gas
- pressure
- glow discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 21
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 hydrogen halides Chemical class 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical class [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002508 contact lithography Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- DXNVUKXMTZHOTP-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dimagnesium;barium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[Ba+2].[Ba+2] DXNVUKXMTZHOTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/12—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature
- H01J61/16—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature having helium, argon, neon, krypton, or xenon as the principle constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/82—Lamps with high-pressure unconstricted discharge having a cold pressure > 400 Torr
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Discharge Lamp (AREA)
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf eine Hochdruckglimmentladungslampe mit einem flächenhaften, vakuumdicht abgeschlossenen Entladungsgefäß, das einen Entladungsraum umschließt, wobei dieses Entladungsgefäß mit einem Gasgemisch gefüllt ist, das im Lampenbetrieb Excimere bildet, die aus einem Halogen bestehen, selektiert aus einer Gruppe, und aus einem Edelgas, selektiert aus einer ersten Gruppe, mit parallelen Wänden, die aus einem Dielektrikum gebildet sind, wobei die Außenwandflächen der parallelen Wände, die von dem Entladungsraum abgewandt sind, mit flächenhaften Elektroden versehen sind, wobei mindestens eine dieser Wände mit ihrer zugeordneten Elektrode zumindest teilweise transparent ist für Strahlung, die durch das Entladungs gefäß erzeugt ist, und wobei die Gas-Mischung das genannte Halogen und das genannte Edelgas, selektiert aus der ersten Gruppe, enthält, wobei die erste Gruppe aus einem der Edelgase Xe, Kr und Ar besteht und wobei die Gruppe aus den Halogenen J&sub2;, Br&sub2;, Cl&sub2; und F&sub2; besteht
- In einer Hochdruckglimmentladungslampe wird eine dielektrisch behinderte Glimmentladung (auch "stille Entladung" genannt) bei relativ hohem Gasdruck erzeugt. Bei diesen Entladungen sind, zwischen zwei flächenhaften ganz oder teilweise transparenten Elektroden, eine bei elektrischer Anregung Strahlung emittierende Gasfüllung sowie mindestens ein Dielektrikum vorhanden. Die elektrische Speisung geschieht mit Wechselspannung. Das Entladungsprinzip ist beispielsweise in dem Artikel von B. Eliasson und U. Kogelschatz, Appl. Phys. B46 (1988) 299-303 beschrieben.
- Eine Lampe der eingangs erwähnten Art ist beispielsweise aus der EP-A 324 953 bekannt (siehe auch die EP-A 0 254 111, 0 312 732 und 0 371 304). In dieser Beschreibung und in den Ansprüchen wird unter einem flächenhaften, vakuumdicht abgeschlossenen Entladungsgefaß ein Entladungsgefaß verstanden, das zwei jedenfalls nahezu parallele Wände deren Abmessungen groß sind im Vergleich mit dem Abstand zwischen diesen Wänden und eine vakuumdicht abschließende Seitenwand aufweist, wobei die Wände planparallel oder aber auch koaxial sein können und wobei eine Schlagweite (d) von dem Abstand zwischen den inneren Oberflächen der Wände bestimmt wird.
- Für die Wände des Entladungsgefaßes wird ein dielektrisches, d.h. nicht elektrisch leitendes, Material verwendet. Wenigstens eine der parallele Wände ist transparent für die erzeugte Strahlung und es kommen dazu Materialien in Betracht wie z.B. Glas, Quarz, das auch UV-transparent ist, oder die für sehr kurzwelligen Strahlungen transparenten Fluoride von Magnesium oder Calcium. Die erwähnten Dielektrika sind im Allgemeinen durchschlagfest und chemisch resistent gegen die Gasfüllung. Die flächenhaften Elektroden können aus Metall, z.B. Metallplatten oder Metallschichten gebildet sein. Transparente Elektroden können als Netz- oder Gitterelektroden, z.B. Drahtnetze oder Goldgitterelektroden, oder auch als transparente Goldschichten (5 - 10 nm) oder elektrisch leitende Schichten wie Indium- oder Zinnoxid, ausgebildet sein.
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde eine Hochdruckglimmentladungslampe zu schaffen, die eine hohe Strahlungsausbeute aufweist, und darüber hinaus auch ausgedehnte homogen emittierende Flachstrahlungsquellen mit hoher Strahlungsausbeute zu ermöglichen.
- Diese Aufgabe wird mit einer Hochdruckglimmenfladungslampe der eingangs erwähnten Art dadurch gelöst, daß der Partialdruck des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe, wenigstens 10 und höchstens 600 mbar bei Xe und/oder Kr, beziehungsweise, wenigstens 10 und höchstens 1000 mbar bei Ar beträgt, daß der Partialdruck des Halogens von 0,05 bis 5 % des Partialdrucks des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe, beträgt, und daß die Atommasse des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe, größer als die Atommasse des Halogens ist.
- Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß mit sowohl Edelgas- Excimerbildnern als auch Halogene enthaltenden dielektrisch behinderten Enfiadungen die größten Strahlungsausbeuten erhalten werden bei Partialdrücken des Excimerbildners im Bereich von 10 bis 600 mbar bei Xe und/oder Kr, bzw. von 10 bis 1000 mbar bei Ar, wobei der Halogen-Partialdruck im Bereich von 0,05 bis 5 % des Partialdrucks des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe, (des Excimerbildners) zu wählen ist. Es hat sich herausgestellt daß als weitere Bedingung gilt, daß die Atommasse des Excimerbildners größer als die Atommasse des Halogens ist. Schließlich sind reine Halogene J&sub2;, Br&sub2;, Cl&sub2; und/oder F&sub2; zu verwenden. Außerhalb der erwähnten Bereiche und bei der Verwendung von Halogenverbindungen, beispielsweise Wasserstoffhalogeniden, anstatt reiner Halogenide werden für praktische Anwendungen zu niedrige Strahlungsausbeuten von weit weniger als 5 % erhalten. Wenn erfindungsgemäß die Atommasse des Excimerbildners nur wenig großer als die des Halogens ist werden Strahlungsausbeuten von etwa 5 % erhalten. Dies ist der Fall bei der Kombination Ar-Cl (vorwiegend 175 nm- Emission), Kr-Br (vorwiegend 207 nm-Emission) und Xe-J (vorwiegend 253 nm- Emission).
- Vorzugsweise wird in erfindungsgemäßen Lampen die Gas-Mischung derart gewählt, daß die Atommasse des Excimerbildners großer als das zweifache der Atommasse des Halogens ist. Versuche haben gezeigt, daß Strahlungsausbeuten (gemessen bei Betriebsfrequenz f = 5 kHz und Schlagweite d = 1 cm) über 10 % möglich sind mit folgenden Kombinationen: Ar-F (193 nm-Emission), Kr-F (248 nm- Emission) und Xe-F (351 nm-Emission). Bei der Verwendung von Kr-Cl (222 nm- Emission), Xe-Cl (308 nm-Emission) und Xe-Br (282 nm-Emission) sind Strahlungsausbeuten von, beziehungsweise, 18, 13,5 und 14,5 % gemessen.
- Es hat sich herausgestellt, daß die höchsten Werte der Strahlungsausbeute bei Partialdrücken des Excimerbildners von wenigstens 50 und höchstens 400 mbar und auch bei Partialdrücken des Halogens von 0,07 bis 0,2 % des Partialdrucks des Excimerbildners erhalten werden. Diese Bereiche sind dann auch in Lampen nach der Erfindung bevorzugt. Die spezifische Strahlungsleistung [W/cm²] läßt sich weiter über die Betriebsfrequenz, Betriebsspannung, Schlagweite, Dielektrikumdicke und Dielektrizitätskonstante des Dielektrikums einstellen. Die Betriebsfrequenz kann über mehrere Größenordnungen variiert werden (50 Hz - 500 kHz), jedoch mit zunehmender Betriebsfrequenz, insbesondere über 50 kHz, kann eine Kühlung der Lampe notwendig sein um hohe Strahlungsausbeuten zu erreichen.
- Eine sehr vorteilhafte Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Lampe löst das Problem, daß die flächenhafte Ausdehnung der Lampe durch den Gesamtdruck der Gasfüllung (wesentlich unter 1000 mbar) begrenzt ist. Bei Überschreitung einer von der Wandstärke und den maximal tolerierbaren im Material auftretenden mechanischen Spannungen begrenzten Gefäßgröße kann Implosion auftreten. Diese Grenze liegt bei einem Gesamtdruck von etwa 100 mbar und Wandstärken von 2-3 mm bei typisch 10 cm linearen Ausdehnung der Wände. Großflächige Hochdruckglimmentladungslampen werden erfindungsgemäß realisiert, wenn die Gas-Mischung zusätzlich als Puffergas wenigstens eines der Edelgase He, Ne und Ar enthält und die Atommasse des Puffergases kleiner als die Atommasse des Excimerbildners ist.
- Eine besonders vorteilhafte Ausbildung der obige Ausführungsform der Lampe ist erfindungsgemaß dadurch gekennzeichnet, daß der Partialdruck des Excimerbildners kleiner als A/d und der Partialdruck des Puffergases kleiner als B/d ist, wobei d die Schlagweite in cm ist, und
- A = 120 mbar.cm für Xe
- A = 180 mbar.cm für Kr
- A = 1000 mbar.cm für Ar
- B = 2200 mbar.cm für Ne
- B = 1800 mbar.cm für He
- B = 200 mbar.cm für Ar,
- und daß der Gesamtdruck einen Wert zwischen 500 und 1500 mbar hat.
- Es hat sich herausgestellt, daß sich ein flächenhomogener Entladungsmodus mit hoher Strahlungsausbeute einstellt, wenn die einzelnen Partialdrücke entsprechend der Gefaßgeometrie innerhalb der angegebenen Bereiche gewählt werden.
- Außerhalb dieser Bereiche wird nämlich im allgemeinen bei höheren Drucken keine diffuse, flächenhomogene Entladung ausgebildet, sondern die Entladung kontrahiert in eine Vielzahl von eng abgegrenzte, über die Fläche verteilte Filamente. Ein filamentierter Entladungsmodus besitzt eine geringere Strahlungsausbeute, und ist ferner wegen der entstehenden Inhomogenität für lichttechnische Anwendungen unerwünscht. Wenn obige Bedingungen für die Partialdrücke erfüllt werden sind großflächige Hochdruckglimmentladungslampen, beispielsweise DIN A4-große oder sogar größere flache Lampen realisierbar, die sowohl einen flächenhomogenen als auch eine hohe Strahlungsausbeute aufweisen.
- Eine weitere bevorzugte Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Lampe ist dadurch gekennzeichnet, daß das Entladungsgefäß eine innere Leuchtstoffschicht aufweist. Bei Verwendung von Leuchtstoffen (beispielsweise beschrieben von Opstelten, Radielovic und Verstegen in Philips Tech. Rev. 35, 1975, 361-370) können großflächige, homogen strahlende Lichtquellen gefertigt werden, die ihre Anwendung als Hintergrundbeleuchtung von großflächigen LCD's, Leuchtwänden, Anzeigeelementen u.ä. finden.
- Ausführungsbeispiele von Lampen nach der Erfindung werden nachstehend an Hand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt die einzige Figur der Zeichnung schematisch und im Schnitt eine erfindungsgemaße Hochdruckglimmentladungslampe 1. Das vakuumdicht abgeschlossene Entladungsgefäß 2 ist aus Glas und enthält im Entladungsraum (3) eine Excimere bildende Gas-Mischung die wie folgt zusammengesetzt ist:
- 900 mbar Ne als Puffergas
- 100 mbar Xe als Excimerbildner
- J&sub2; im Überschuß (Partialdruck J&sub2; etwa 0,5 mbar bei 30ºC). Die parallelen Wände (4,5) des Glasgefäßes 2 haben eine Wandstärke von 2 mm und sind auf ihren dem Entladungsraum (3) abgewandten Oberflächen (6,7) mit flächenhaften Elektroden (8,9) versehen. Die Elektrode (8) besteht aus einem für die erzeugte Strahlung transparenten Metallgitter (Goldgitterelektrode; Maschenweite 1,5 mm). Die Elektrode (9) ist eine aufgedampfte spiegelnd reflektierende Aluminiumelektrode. Der Abstand zwischen den inneren Oberflächen (10,11) der Wände (4,5) ist 0,5 cm (Schlagweite d). Die linearen Abmessungen der Wände (4,5) betragen 21 x 29,7 cm²(DIN A4) und sind groß im Vergleich zu der Schlagweite d.
- Die von der Glimmentladung erzeugte Excimerstrahlung in der Gas- Mischung ist vorwiegend die Emissionslinie bei etwa 253 nm. Die inneren Oberflächen (10,11) sind mit Leuchtstoffschichten (12,13) versehen. Die Leuchtstoff-Mischung emittiert bei Anregung durch die Excimerstrahlung weißes Licht und enthält mit dreiwertigem Europium aktiviertes Yttriumoxid (rotleuchtend), mit dreiwertigem Terbium aktiviertes Cermagnesiumaluminat (grünleuchtend) und mit zweiwertigem Europium aktiviertes Bariummagnesiumaluminat (1,lauleuchtend). Die Dicke der austrittsseitigen Leuchtstoffschicht (13) ist geringer als die Dicke der rückseitigen Leuchtstoffschicht (12) um den Lichtaustritt des erzeugten Lichts möglichst wenig zu behindern. Bei Betrieb (Frequenz 10 kHz, Amplitude der Betriebsspannung etwa 10 kV) stellt sich ein flächenhomogener Entladungsmodus ein und wird eine flächenhomogene Leuchtdichte der Lampe von etwa 3000 Cd/m² erhalten.
- Ein zweites Ausführungsbeispiel ist ein flacher, flächenhomogen emittierender UV-Strahler, beispielsweise für Zwecke der UV-Kontaktlithographie. Der prinzipielle Aufbau gleicht im wesenflichen dem in der Figur gezeigten. Anstelle eines rechteckigen Glasgefäßes findet jedoch ein rundes Entladungsgefäß aus Quarzglas (Durchmesser 4 cm) unter Wegfall der Leuchtstoffschichten Verwendung. Mit einer Gasfüllung wie im obigen Ausführungsbeispiel angegeben emittiert der Strahler flächenhomogen UV-Strahlung (vorwiegend 253 nm). Bei Frequenzen von etwa 10 kHz und Amplituden der Betriebsspannung von 4 bis 20 kV beträgt der Wirkungsgrad der UV-Bande bei 253 nm 5 % und der Gesamtwirkungsgrad im Bereich 230 - 350 nm etwa 10 %.
Claims (7)
1. Hochdruckglimmentladungslampe mit einem flächenhaften, vakuumdicht
abgeschlossenen Entladungsgefaß, das einen Entladungsraum umschließt, wobei dieses
Entladungsgefaß mit einem Gasgemisch gefüllt ist, das im Lampenbetrieb Excimere
bildet, die aus einem Halogen bestehen, selektiert aus einer Gruppe, und aus einem
Edelgas, selektiert aus einer ersten Gruppe, mit parallelen Wänden, die aus einem
Dielektrikum gebildet sind, wobei die Außenwandflächen der parallelen Wände, die von
dem Entladungsraum abgewandt sind, mit flächenhaften Elektroden versehen sind,
wobei mindestens eine dieser Wände mit ihrer zugeordneten Elektrode zumindest
teilweise transparent ist für Strahlung, die durch das Entladungsgefaß erzeugt ist, und
wobei die Gas-Mischung das genannte Halogen und das genannte Edelgas, selektiert aus
der ersten Gruppe, enthält, wobei die erste Gruppe aus einem der Edelgase Xe, Kr und
Ar besteht und wobei die Gruppe aus den Halogenen J&sub2;, Br&sub2;, Cl&sub2; und F&sub2; besteht,
dadurch gekennzeichnet, daß der Partialdruck des Edelgases, selektiert aus der ersten
Gruppe, wenigstens 10 und höchstens 600 mbar bei Xe und/oder Kr, beziehungsweise,
wenigstens 10 und höchstens 1000 mbar bei Ar beträgt, daß der Partialdruck des
Halogens von 0,05 bis 5 % des Partialdrucks des Edelgases, selektiert aus der ersten
Gruppe, beträgt, und daß die Atommasse des Edelgases, selektiert aus der ersten
Gruppe, größer als die Atommasse des Halogens ist.
2. Hochdruckglimmentladungslampe nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet daß die Atommasse des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe, größer als das
zweifache der Atommasse des Halogens ist.
3. Hochdruckglimmentladungslampe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der Partialdruck des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe,
wenigstens 150 und höchstens 400 mbar beträgt.
4. Hochdruckglimmentladungslampe nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der Partialdruck des Halogens von 0,07 bis 0,2 % des
Partialdrucks des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe, beträgt.
5. Hochdruckglimmentladungslampe nach Anspruch 1, 2, oder 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Gas-Mischung zusätzlich als Puffergas ein Edelgas enthält,
selektiert aus einer zweiten Gruppe, die aus He, Ne und Ar besteht und daß die
Atommasse des Puffergases kleiner als die Atommasse des Edelgases, selektiert aus der
ersten Gruppe, ist.
6. Hochdruckglimmentladungslampe nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß der Partialdruck des Edelgases, selektiert aus der ersten Gruppe, kleiner als
A/d und der Partialdruck des Puffergases kleiner als B/d ist, wobei d die Schlagweite in
cm ist, und
A = 120 mbar.cm für Xe
A = 180 mbar.cm für Kr
A = 1000 mbar.cm für Ar
B = 2200 mbar.cm für Ne
B = 1800 mbar.cm für He
B = 200 mbar.cm für Ar,
und daß der Gesamtdruck einen Wert zwischen 500 und 1500 mbar hat.
7. Hochdruckglimmentladungslampe nach einem oder mehrere der
Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Entladungsgefaß eine innere
Leuchtstoffschicht aufweist.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP91201680 | 1991-07-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE69210113D1 DE69210113D1 (de) | 1996-05-30 |
| DE69210113T2 true DE69210113T2 (de) | 1996-11-21 |
Family
ID=8207749
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69210113T Expired - Fee Related DE69210113T2 (de) | 1991-07-01 | 1992-06-25 | Hochdrucksglimmentladungslampe |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5343114A (de) |
| EP (1) | EP0521553B1 (de) |
| JP (1) | JP3152505B2 (de) |
| DE (1) | DE69210113T2 (de) |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4430300C1 (de) * | 1994-08-26 | 1995-12-21 | Abb Research Ltd | Excimerstrahler und dessen Verwendung |
| KR100322057B1 (ko) * | 1994-10-11 | 2002-05-13 | 김순택 | 면광원장치 |
| KR200171939Y1 (ko) * | 1994-10-25 | 2000-03-02 | 손욱 | 면광원장치 |
| ATE214844T1 (de) * | 1995-01-04 | 2002-04-15 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Entladungslampe |
| DE19526211A1 (de) * | 1995-07-18 | 1997-01-23 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Verfahren zum Betreiben von Entladungslampen bzw. -strahler |
| DE19543342A1 (de) * | 1995-11-22 | 1997-05-28 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren und Strahlungsanordnung zur Erzeugung von UV-Strahlen zur Körperbestrahlung sowie Verwendung |
| US5626768A (en) * | 1995-12-07 | 1997-05-06 | Triton Thalassic Technologies, Inc. | Sterilization of opaque liquids with ultraviolet radiation |
| DE19613502C2 (de) * | 1996-04-04 | 1998-07-09 | Heraeus Noblelight Gmbh | Langlebiger Excimerstrahler und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US5891530A (en) | 1996-04-19 | 1999-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for producing a coating |
| JPH09283092A (ja) * | 1996-04-19 | 1997-10-31 | Stanley Electric Co Ltd | 蛍光ランプ |
| EP0836220B1 (de) * | 1996-04-30 | 2002-07-17 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Leuchtstofflampe mit äusserer elektrode und beleuchtungseinheit |
| JP3635850B2 (ja) * | 1997-04-07 | 2005-04-06 | ウシオ電機株式会社 | 希ガス放電灯 |
| JP3635849B2 (ja) * | 1997-04-07 | 2005-04-06 | ウシオ電機株式会社 | 希ガス放電灯 |
| US5834784A (en) * | 1997-05-02 | 1998-11-10 | Triton Thalassic Technologies, Inc. | Lamp for generating high power ultraviolet radiation |
| DE19817480B4 (de) * | 1998-03-20 | 2004-03-25 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Flachstrahlerlampe für dielektrisch behinderte Entladungen mit Abstandshaltern |
| US6121730A (en) * | 1998-06-05 | 2000-09-19 | Matsushita Electric Works R&D Laboratory, Inc. | Metal hydrides lamp and fill for the same |
| WO2000058998A1 (en) | 1999-03-25 | 2000-10-05 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Lighting arrangement |
| US6133694A (en) * | 1999-05-07 | 2000-10-17 | Fusion Uv Systems, Inc. | High-pressure lamp bulb having fill containing multiple excimer combinations |
| US6130512A (en) * | 1999-08-25 | 2000-10-10 | College Of William & Mary | Rf capacitively-coupled electrodeless light source |
| US6201355B1 (en) | 1999-11-08 | 2001-03-13 | Triton Thalassic Technologies, Inc. | Lamp for generating high power ultraviolet radiation |
| DE10023504A1 (de) * | 2000-05-13 | 2001-11-15 | Philips Corp Intellectual Pty | Edelgas-Niederdruck-Entladungslampe, Verfahren zum Herstellen einer Edelgas-Niederdruck-Entladungslampe Lampe sowie Verwendung einer Gasentladungslampe |
| US6614181B1 (en) * | 2000-08-23 | 2003-09-02 | Applied Materials, Inc. | UV radiation source for densification of CVD carbon-doped silicon oxide films |
| US6566278B1 (en) | 2000-08-24 | 2003-05-20 | Applied Materials Inc. | Method for densification of CVD carbon-doped silicon oxide films through UV irradiation |
| JP4190734B2 (ja) * | 2001-01-15 | 2008-12-03 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ光源装置 |
| US6762556B2 (en) | 2001-02-27 | 2004-07-13 | Winsor Corporation | Open chamber photoluminescent lamp |
| TW558732B (en) | 2001-09-19 | 2003-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Light source apparatus and liquid crystal display apparatus using the same |
| US6891334B2 (en) * | 2001-09-19 | 2005-05-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light source device and liquid crystal display employing the same |
| US6806648B2 (en) | 2001-11-22 | 2004-10-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light source device and liquid crystal display device |
| KR100438831B1 (ko) * | 2001-11-22 | 2004-07-05 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 평판 램프 |
| US6906461B2 (en) * | 2001-12-28 | 2005-06-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light source device with inner and outer electrodes and liquid crystal display device |
| KR100459448B1 (ko) * | 2002-04-10 | 2004-12-03 | 엘지전자 주식회사 | 무전극 조명기기의 무전극 전구 |
| JP3889987B2 (ja) * | 2002-04-19 | 2007-03-07 | パナソニック フォト・ライティング 株式会社 | 放電灯装置及びバックライト |
| FR2843483B1 (fr) * | 2002-08-06 | 2005-07-08 | Saint Gobain | Lampe plane, procede de fabrication et application |
| TW574721B (en) | 2002-12-24 | 2004-02-01 | Delta Optoelectronics Inc | Flat lamp structure |
| JP5148803B2 (ja) * | 2003-05-21 | 2013-02-20 | 株式会社Ｇｓユアサ | 無声放電ランプ |
| US6971939B2 (en) * | 2003-05-29 | 2005-12-06 | Ushio America, Inc. | Non-oxidizing electrode arrangement for excimer lamps |
| EP1519406A1 (de) * | 2003-07-31 | 2005-03-30 | Delta Optoelectronics, Inc. | Flache Lampenstruktur |
| US20050199484A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-09-15 | Franek Olstowski | Ozone generator with dual dielectric barrier discharge and methods for using same |
| JP2006040867A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-02-09 | Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 | エキシマランプ装置 |
| KR20060003164A (ko) * | 2004-07-05 | 2006-01-10 | 삼성전자주식회사 | 평판형 형광램프 |
| CN1811267A (zh) * | 2005-01-28 | 2006-08-02 | 明辉光源科技(深圳)有限公司 | 具有空气净化功能的护眼座台电灯 |
| BRPI0604090A (pt) * | 2006-09-21 | 2008-05-13 | Alaide Pellegrini Mammana | lámpada fluorescente com eletrodos externos transparentes (teefl) |
| JP2008146906A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Toshiba Corp | 紫外線発生装置 |
| JP5302637B2 (ja) * | 2008-11-17 | 2013-10-02 | 株式会社オーク製作所 | 放電ランプ |
| JP5239954B2 (ja) * | 2009-03-10 | 2013-07-17 | ウシオ電機株式会社 | ランプ |
| JP5304354B2 (ja) * | 2009-03-16 | 2013-10-02 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
| JP5407452B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2014-02-05 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線照射装置 |
| JP4752944B2 (ja) * | 2009-04-10 | 2011-08-17 | ウシオ電機株式会社 | エキシマ放電ランプ |
| JP5293430B2 (ja) * | 2009-06-11 | 2013-09-18 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
| GB2472293A (en) * | 2009-07-30 | 2011-02-02 | Osram Gmbh | Electrodeless high pressure discharge lamp |
| US9493366B2 (en) | 2010-06-04 | 2016-11-15 | Access Business Group International Llc | Inductively coupled dielectric barrier discharge lamp |
| JP2011009238A (ja) * | 2010-09-22 | 2011-01-13 | Gs Yuasa Corp | 無声放電ランプおよび照射装置 |
| US20140178681A1 (en) | 2011-09-14 | 2014-06-26 | 3M Innovative Properties Company | Methods of modulating tackiness |
| KR20140069117A (ko) | 2011-09-14 | 2014-06-09 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 점착성이 제거된 접착 용품의 제조 방법 |
| US20220059338A1 (en) * | 2020-08-24 | 2022-02-24 | Sportsbeams Lighting, Inc. | Cartridge based uv c sterilization system |
| JP6948606B1 (ja) * | 2020-08-28 | 2021-10-13 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ及び光照射装置 |
| CN116419840A (zh) | 2020-10-14 | 2023-07-11 | 3M创新有限公司 | 包括吸收层和紫外反射镜的多层制品、系统、装置和消毒方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5173638A (en) * | 1986-07-22 | 1992-12-22 | Bbc Brown, Boveri Ag | High-power radiator |
| CH670171A5 (de) * | 1986-07-22 | 1989-05-12 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
| CH675178A5 (de) * | 1987-10-23 | 1990-08-31 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
| CH675504A5 (de) * | 1988-01-15 | 1990-09-28 | Asea Brown Boveri | |
| GB8821672D0 (en) * | 1988-09-02 | 1988-10-19 | Emi Plc Thorn | Discharge tube arrangement |
| CH676168A5 (de) * | 1988-10-10 | 1990-12-14 | Asea Brown Boveri | |
| CH677292A5 (de) * | 1989-02-27 | 1991-04-30 | Asea Brown Boveri | |
| CH677557A5 (de) * | 1989-03-29 | 1991-05-31 | Asea Brown Boveri | |
| US5117160C1 (en) * | 1989-06-23 | 2001-07-31 | Nec Corp | Rare gas discharge lamp |
-
1992
- 1992-06-25 EP EP92201876A patent/EP0521553B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-06-25 DE DE69210113T patent/DE69210113T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-30 JP JP17280192A patent/JP3152505B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-30 US US07/906,932 patent/US5343114A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0521553A2 (de) | 1993-01-07 |
| JPH05205704A (ja) | 1993-08-13 |
| JP3152505B2 (ja) | 2001-04-03 |
| DE69210113D1 (de) | 1996-05-30 |
| US5343114A (en) | 1994-08-30 |
| EP0521553B1 (de) | 1996-04-24 |
| EP0521553A3 (en) | 1993-02-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69210113T2 (de) | Hochdrucksglimmentladungslampe | |
| EP0839436B1 (de) | Verfahren zum betreiben eines beleuchtungssystems und dafür geeignetes beleuchtungssystem | |
| EP0324953B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| EP0733266B1 (de) | Verfahren zum betreiben einer inkohärent emittierenden strahlungsquelle | |
| EP0912990B1 (de) | Gasentladungslampe mit dielektrisch behinderten elektroden | |
| DE69431331T2 (de) | Lumineszentes Material für Quecksilberentladungslampe | |
| DE2816069C2 (de) | Entladungslampe mit einer Leuchtstoffschicht und Verwendung dieser Lampe | |
| DE3813421A1 (de) | Hochdruck-quecksilberdampfentladungslampe | |
| DE2624897A1 (de) | Aluminiumoxyd-ueberzuege fuer quecksilberdampf-lampen | |
| DE60020476T2 (de) | Hochfrequenzangeregte Punktlichtquellelampenvorrichtung | |
| EP0714551B1 (de) | Metallhalogenidentladungslampe für fotooptische zwecke | |
| DE3917792C2 (de) | Elektrodenlose Metallhalogenid-Entladungslampe hoher Intensität | |
| DE3850738T2 (de) | Mit Edelgas von niedrigem Druck gefüllte Glühkathodenleuchtstoffentladungslampe. | |
| DE69010425T2 (de) | Elektrodenlose Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe. | |
| DE69527326T2 (de) | Lampe mit einem Phosphorüberzug und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE69811974T2 (de) | Edelgasentladungslampe | |
| DD138387B5 (de) | Leuchtstoff zur Verwendung in einer Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe | |
| DE69019597T2 (de) | Niederdruckedelgasentladungslampe. | |
| DE69926706T2 (de) | Niederdruckquecksilberdampfeentladungslampe | |
| DE3109538A1 (de) | Leuchtstofflampe mit leuchtstoffkombination | |
| DE3855685T2 (de) | Grünlichtausstrahlende entladungsbirne mit seltenem gas | |
| DE69012460T2 (de) | Entladungsröhrensystem. | |
| DE3922865A1 (de) | Quecksilber-niederdruckentladungslampe mit einer festkoerper-rekombinationsstruktur | |
| EP1187173A2 (de) | Niederdruckgasentladungslampe mit kupferhaltiger Gasfüllung | |
| EP0990262B1 (de) | Entladungslampe mit dielektrisch behinderten elektroden |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: PHILIPS CORPORATE INTELLECTUAL PROPERTY GMBH, 2233 |
|
| 8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH, 20 |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |