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DE69831197T2 - Herstellungsverfahren für einen räumlichen Lichtmodulator - Google Patents

Herstellungsverfahren für einen räumlichen Lichtmodulator Download PDF

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DE69831197T2
DE69831197T2 DE69831197T DE69831197T DE69831197T2 DE 69831197 T2 DE69831197 T2 DE 69831197T2 DE 69831197 T DE69831197 T DE 69831197T DE 69831197 T DE69831197 T DE 69831197T DE 69831197 T2 DE69831197 T2 DE 69831197T2
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DE
Germany
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polarizer
alignment
alignment layer
cell wall
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DE69831197T
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DE69831197D1 (de
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Adrian Marc Simon Headington Jacobs
Jonathan Stanford-on-Thames Harrold
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Priority claimed from GBGB9714649.2A external-priority patent/GB9714649D0/en
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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bilden einer Zellenwand eines räumlichen Flüssigkristall-Lichtmodulators und eine Zellenwand, die durch ein solches Verfahren gebildet wird. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines räumlichen Lichtmodulators und auf einen räumlichen Lichtmodulator, der durch ein solches Verfahren hergestellt wird.
  • US 5 264 965 offenbart ein stereoskopisches Display, das einen gepixelten Polarisator verwendet, d.h. einen Polarisator mit Bereichen unterschiedlicher Polarisationsrichtungen. Insbesondere gibt es zwei Mengen von Bereiche, von denen einer eine Polarisationsrichtung senkrecht zu der des anderen besitzt. Eine Menge ist mit Bildabschnitten für eine Betrachtung mit dem rechten Auge verknüpft, während die andere Menge mit Bildabschnitten für die Betrachtung mit dem linken Auge verknüpft ist. Der Polarisator ist jedoch in beträchtlicher Entfernung vom zu betrachtenden Bild angeordnet, und die daraus resultierende Parallaxe führt zu einer eingeschränkten Bewegungsfreiheit des Betrachters, um ein dreidimensionales (3D) Bild noch korrekt wahrzunehmen. Wenn der Betrachter sich aus dem Betrachtungsbereich bewegt, treten ungewünschte visuelle Artefakte auf, wie z.B. die pseudoskopische Betrachtung, bei der das linke Auge des Betrachters Teile oder die Gesamtheit der rechten Ansicht sieht und umgekehrt.
  • JP 63-158525A offenbart eine flache stereoskopische Flüssigkristallvorrichtung mit internen Polarisationsfilmen, bei denen in einem verstreckten Polyvinylalkohol (PVA)-Film Jod absorbiert ist. Ein Nachteil solcher mit Jod dotierten Filme liegt jedoch darin, dass die ausgerichtete Polyjodidstruktur, die die dichroitische Eigenschaft liefert, leicht durch die hohen Temperaturen zerstört werden kann, die bei der Herstellung von Flüssigkristallvorrichtungen (LCDs) angewendet werden und typischerweise im Bereich von 180°C liegen. Farbbasierte dichroitische Systeme besitzen eine geringere Tendenz, ihre Ausrichtung beim Erhitzen zu verlieren, aber sie sind wie Jod ungeeig net für einen Einsatz innerhalb eines LCDs, da sie leicht in Flüssigkristallmaterialien lösbar sind. Somit würde das Jod im Polarisator nicht in den Strukturen angeordnet bleiben, die in dieser Patentbeschreibung offenbart sind, sondern würde stattdessen das Flüssigkristallmaterial verunreinigen. Solche Strukturen sind deshalb nicht für die Verwendung als interne Polarisatoren innerhalb von LCDs geeignet.
  • EP 0 397 263 offenbart ein Verfahren zum Aufnehmen eines dichroitischen Farbstoffs in der Polymernetzstruktur eines Flüssigkristallpolymers (LCP). Solche LCP-Netze sind jedoch nicht geeignet, eine ausreichende Ausrichtung des dichroitischen Farbstoffs zu liefern, um gleichzeitig eine gute Transmission und ein hohes Kontrastverhältnis gemäß der minimalen Anforderung für Polarisatoren bei der Verwendung in Dünnfilmtransistor (TFT)-LCDs zu liefern. Für solche Anwendungen werden ein Kontrastverhältnis (Verhältnis der Transmission des Lichts, das in Richtung des Polarisators polarisiert ist, zur Transmission von senkrecht polarisiertem Licht) von größer als 100:1 und eine Transmission (von Licht, das in Richtung des Polarisators polarisiert ist) von größer als 80% benötigt. Dichroitische Farbstoffmoleküle können, selbst wenn sie perfekt dichroitisch sind, nicht genau die intrinsische Ausrichtung des sie aufnehmenden Flüssigkristallpolymers übernehmen. Außerdem besitzen LCP-Materialien einen eingeschränkten Grad an Ausrichtung, der als "Ordnungsparameter" bekannt ist. Die kleine Veränderung in der Farbstoffausrichtung reduziert die Transmission, und es ist nicht möglich, eine hohe Transmission ohne eine Extinktion der senkrechten Polarisation zu erhalten.
  • US 5 049 427 offenbart einen Polarisator, der aus ausgerichteten dichroitischen verstreckten Polymerfilmen erhalten wird, die typischerweise konjugierte Doppelbindungen enthalten, wie beispielsweise die, die Polyacetylen enthalten. Der Polarisator selbst ist sehr dünn und ist mit einem transparenten Polymersubstrat verbunden, beispielsweise Zellulose-Triacetat (CTA) mit einem Klebstoff auf Polyurethanbasis. Die optischen Eigenschaften eines solchen Polarisators werden geringfügig verschlechtert, nachdem er eintausend Stunden lang 100°C ausgesetzt ist, was vorkommen kann, wenn ein solcher Polarisator als ein externer Polarisator eines LCDs in einem Videoprojektor verwendet wird.
  • Verfahren zum Herstellen gemusterter optischer Wellenplatten sind bekannt. Beispielsweise offenbart "Molekulare Architekturen in dünnen Plastikfilmen durch in-situ Photopolymerisation von reaktiven Flüssigkristallen", Phillips, SID 95 Digest, eine Technik auf der Basis selektiver Photopolymerisation von reaktiven Flüssigkristallen, während "Oberflächeninduzierte parallele Ausrichtung von Flüssigkristallen durch linear polymerisierte Photopolymere" von Schadt et al., Japanisches Journal der angewandten Physik, Vol. 31, 1992, Seite 2155, eine Technik auf der Basis der Photopolymerisation von Flüssigkristallausrichtungsschichten einschließlich der berührungslosen Ausrichtung von Flüssigkristallen durch Erzeugen von Querverbindungen in Polyvinylmetoxycinnamat unter Verwendung polarisierten Lichts offenbart. EP 0 689 084 offenbart die Verwendung von reaktiven Mesogenschichten als optische Elemente und Ausrichtungsflächen.
  • Pancharatnam, Proc. Ind. Acad. Sci., 1955, 41A, Seiten 130 und 137, offenbart achromatische Verzögerer, die Kombinationen von Verzögerern mit unterschiedlichen azimuthalen Ausrichtungen ihrer optischen Achsen aufweisen.
  • EP 0 800 105 offenbart ein PALC-Display mit einem internen Polarisator. Der Polarisator wird als PVA beschrieben. Ein solches Material liefert jedoch eine Verzögerungsfunktion im Gegensatz zu einer Polarisationsfunktion und muss verwendet werden, um einen Farbstoff oder ein anderes absorbierendes Material wie Jod auszurichten, um eine Polarisationsfunktion zu liefern. Um zu verhindern, dass das Jod oder der Farbstoff aus dem PVA austritt, werden zusätzliche Schichten benötigt, die die Begrenzung liefern. Solche zusätzlichen Schichten würden wesentlich die Dicke des Polarisators erhöhen und die Betriebsspannungsprobleme verschärfen.
  • Um ein funktionelles Display bereitzustellen, werden Ausrichtungsschichten benötigt, die eine geeignete Ausrichtungsrichtung und Vorneigungsbedingungen (pre-tilt) liefern. Die Bearbeitungstemperaturen von üblichen Flüssigkristallausrichtungsschichten übersteigen jedoch 200°C, und das Polarisatormaterial, das in EP 0 800 105 offenbart ist, kann solche Temperaturen nicht bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung einer adäquaten oder effektiven Polarisationsfunktion überleben.
  • Gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zum Bilden einer Zellenwand eines räumlichen Flüssigkristall-Lichtmodulators vorgesehen, das folgende Schritte aufweist: Ausbilden eines Polarisators, der aus einem verstreckten Polymer mit konjugierten Doppelbindungen hergestellt wird, über einem Substrat; Ausbilden einer ersten Ausrichtungsschicht bezüglich des Substrats über dem Polarisator; und Aushärten der ersten Ausrichtungsschicht bei im wesentlichen 180°C oder bis hin zu im wesentlichen 180°C über zwei Stunden oder bis hin zu im wesentlichen 2 Stunden.
  • Die erste Ausrichtungsschicht kann bei im wesentlichen 120°C oder bis hin zu im wesentlichen 120°C über im wesentlichen eine Stunde oder bis hin zu im wesentlichen einer Stunde ausgehärtet werden. Die erste Ausrichtungsschicht kann Polyimid aufweisen. Nach der Fertigstellung der Zellenwand einschließlich wenigstens eines Bearbeitungsschritts bei erhöhter Temperatur kann der Polarisator ein Kontrastverhältnis von wenigstens 10:1 bei wenigstens einer Betriebswellenlänge des räumlichen Lichtmodulators besitzen. Das Kontrastverhältnis kann 100:1 sein. Die wenigstens eine Betriebswellenlänge kann ein Wellenband aufweisen, das eine obere Grenze von größer oder gleich 600 nm und eine untere Grenze von kleiner oder gleich 510 nm besitzt. Die obere Grenze kann größer oder gleich 700 nm und die untere Grenze kleiner oder gleich 400 nm sein.
  • Das Polymer kann Polyacetylen enthalten.
  • Nach Fertigstellung der Zellenwand einschließlich wenigstens eines Bearbeitungsschritts mit erhöhter Temperatur kann der Polarisator eine Transmission polarisierten Lichts von wenigstens 50% besitzen. Die Transmission kann auch wenigstens 80% sein.
  • Der Polarisator kann auf einer Haftschicht ausgebildet sein. Die Haftschicht kann Polyimid aufweisen. Nach dem Ausbilden des Polarisators wird die Haftschicht bei im wesentlichen 140°C oder bis hin zu im wesentlichen 140°C über im wesentlichen 30 Minuten oder bis hin zu im wesentlichen 30 Minuten ausgehärtet.
  • In einer Ausführungsform ist die Haftschicht auf dem Substrat ausgebildet. In einer anderen Ausführungsform ist die Haftschicht auf einer Farbfilteranordnung ausgebildet, die vom Substrat getragen wird. In einer weiteren Ausführungsform ist die Haftschicht auf einer Elektrode ausgebildet, die vom Substrat getragen wird.
  • Die Elektrode kann auf dem Polarisator ausgebildet sein. In einer weiteren Ausführungsform ist die Haftschicht auf einer Elektrode ausgebildet, die vom Substrat getragen wird.
  • Die Elektrode kann auf dem Polarisator ausgebildet werden.
  • Wenigstens ein gemusterter Verzögerer kann zwischen dem Substrat und der ersten Ausrichtungsschicht ausgebildet werden, bevor die erste Ausrichtungsschicht ausgebildet wird.
  • Der oder jeder gemusterte Verzögerer kann durch folgende Schritte ausgebildet werden: Ausbilden einer zweiten Ausrichtungsschicht; Ausbilden einer Verzögerungssicht auf der zweiten Ausrichtungsschicht; und selektives Entfernen eines Teils der Verzögerungsschicht.
  • Der gemusterte Verzögerer oder einer der gemusterten Verzögerer kann durch folgende Schritte ausgebildet werden: Ausbilden einer zweiten Ausrichtungsschicht; Ausbilden einer Verzögerungsschicht auf der zweiten Ausrichtungsschicht; Aushärten eines Teils der Verzögerungsschicht durch Belichten mit Ultraviolett-Strahlung; Ausbilden des Polarisators auf der Verzögerungsschicht; Erhitzen der Verzögerungsschicht über ihren isotropen Übergangspunkt hinaus; und Belichten der Verzögerungsschicht mit Ultraviolett-Strahlung. Die Verzögerungsschicht kann eine optisch aktive Verzögerungsschicht aufweisen, und der Polarisator kann auf der Verzögerungsschicht ausgebildet werden, für die er als weitere Ausrichtungsschicht dient. Die Absorptionsrichtung des Polarisators kann im wesentlichen senkrecht zur Ausrichtungsrichtung der zweiten Ausrichtungsschicht sein.
  • Eine Mehrzahl von gemusterten Verzögerern kann ausgebildet werden, wobei sich die Ausrichtungsrichtung der zweiten Ausrichtungsschicht eines jeden der gemusterten Verzögerer von der Ausrichtungsrichtung der zweiten Ausrichtungsschicht eines jeden anderen der gemusterten Verzögerer unterscheidet.
  • Der oder jeder gemusterte Verzögerer kann durch folgende Schritte gebildet werden: Ausbilden einer Schicht photopolymerisierbaren Materials; Bestrahlen von ersten Teilen der Materialschicht mit Strahlung einer ersten Polarisation; und Bestrahlen von zweiten Teilen der Materialschicht mit Strahlung einer zweiten Polarisation.
  • Der oder jeder gemusterte Verzögerer kann durch folgende Schritte gebildet werden: Ausbilden einer zweiten Ausrichtungsschicht; Reiben der zweiten Ausrichtungsschicht in einer ersten Ausrichtungsrichtung; Ausbilden einer Maske auf der zweiten Ausrichtungsschicht, die vorbestimmte Bereiche der zweiten Ausrichtungsschicht enthüllt; Reiben der vorbestimmten Bereiche durch die Maske in einer zweiten Ausrichtungsrichtung, die sich von der ersten Ausrichtungsrichtung unterscheidet; Entfernen der Maske; und Ausbilden einer Verzögerungsschicht auf der zweiten Ausrichtungsschicht.
  • Für einen plasmabezogenen, räumlichen Flüssigkristall-Lichtmodulator kann das Substrat eine Plasma-Schaltanordnung aufweisen.
  • Die Plasma-Schaltanordnung kann eine Mehrzahl von Kanälen aufweisen, von denen jeder ein Gas und eine erste und eine zweite Elektrode enthält.
  • In einer Ausführungsform ist der Polarisator zwischen einem Flüssigkristallmaterial und der Plasma-Schaltanordnung angeordnet. In einer anderen Ausführungsform wird der Polarisator innerhalb der Kanäle angeordnet.
  • Das Substrat kann zwischen dem Polarisator und einem externen Polarisator angeordnet werden, dessen Polarisationsrichtung parallel zu der des Polarisators ist.
  • Gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zum Herstellen eines räumlichen Flüssigkristall-Lichtmodulators geliefert, das die Schritte aufweist, eine erste Zellenwand durch ein Verfahren gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung herzustellen, die erste Zellenwand beabstandet von einer zweiten Zellenwand anzuordnen, um eine Lücke zu bilden, und die Lücke mit einem Flüssigkristallmaterial zu füllen.
  • Die zweite Zellenwand kann über ein Verfahren gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung hergestellt werden.
  • Die Ausrichtungsrichtungen der ersten Ausrichtungsschichten der ersten und zweiten Zellenwand können im wesentlichen senkrecht zueinander sein. Das Flüssigkristallmaterial kann einen nematischen Flüssigkristall und eine optisch aktive Dotiersubstanz aufweisen.
  • Es ist somit möglich, eine Technik vorzusehen, die es erlaubt, dass interne Polarisatoren, die gemustert oder gepixelt sein können oder nicht, innerhalb von LCDs ausgebildet werden können. Es wurde unerwarteterweise herausgefunden, dass interne Polarisationselemente aus einem Polymer mit konjugierten Doppelbindungen die Herstellungsbedingungen von solchen Vorrichtungen aushalten.
  • Insbesondere reduziert die Hitzebehandlung, die während der Herstellung angewendet wird, um verschiedene Schichten auszubilden, beispielsweise Ausrichtungsschichten und Elektroden, unerwarteterweise die Polarisatorleistung nicht auf ein unannehmbares Niveau. Außerdem verursachen solche Polarisatoren keine Verunreinigung anderer Teile der Vorrichtungen, wie z.B. der Flüssigkristallschichten. Die Bildung von Zellenwänden kann bei Temperaturen von bis zu 200°C stattfinden, aber es wurde herausgefunden, dass mit der vorliegenden Erfindung interne Polarisatoren kompatibel zu den Hochtemperaturzuständen der LCD-Herstellung integriert werden können, insbesondere kompatibel zum Aushärten der Ausrichtungsschichten und dem Ablagern von Elektroden, wie beispielsweise Indiumzinnoxid (ITO)-Elektroden.
  • Der Polarisator kann lediglich aus der aktiven Schicht gebildet werden und erfordert kein Substrat, wenn er als Teil einer Zellenwand eines LCDs ausgebildet wird.
  • Somit ermöglicht die vorliegende Erfindung die Aufnahme eines Polarisators innerhalb eines LCDs auf eine Weise, die kompatibel zur Standardbearbeitung einer Ausrichtungsschicht und anderen Bearbeitungsschritten ist. Die Anordnung des Polarisators zwischen dem Substrat und der Flüssigkristallschicht liefert den Vorteil, dass das Substrat keine sehr geringe Doppelbrechung haben oder aufrechterhalten muss, wie es für externe Polarisatoren notwendig ist. Somit kann das Substrat aus einem Glas geringerer Qualität oder sogar aus billigen transparenten Kunststoffen hergestellt sein, die eine beträchtliche Doppelbrechung aufweisen. Da die Effekte einer solchen Doppelbrechung optisch außerhalb des LCDs auftreten, sind sie für Betrachter nicht sichtbar, da deren Augen keine Polarisation wahrnehmen können.
  • Außerdem vermeidet die Verwendung eines internen Polarisators mit oder ohne gemusterten Verzögerer die Probleme der ungewollten Parallaxe. Räumliche Lichtmodulatoren (SLMs) dieses Typs sind daher geeignet für die Ver wendung bei 3D-Displays, beispielsweise bei derartigen Displays, wie sie in EP 0 721 132 offenbart sind, deren Inhalte hierin durch Bezugnahme integriert sind.
  • Es ist auch möglich, ein PALC-Display zu schaffen, bei dem die den Kontrast verringernden Effekte interner Reflektionen von Säulenstrukturen einer Plasma-Schaltanordnung reduziert oder im wesentlichen eliminiert werden können. Außerdem können alle möglichen Entpolarisierungseffekte des PALC-Gases im wesentlichen vermieden werden. Der Aufwand und die Schwierigkeiten zum Bereitstellen von Licht absorbierenden Säulen können vermieden werden, so dass die Helligkeit eines Displays ohne Verschlechterung des Kontrasts erhöht werden kann. Ein interner Polarisator kann in Verbindung mit einem externern Polarisator verwendet werden, so dass der interne Polarisator eine reduzierte Spezifikation aufweisen kann, ohne dass dies eine beträchtliche nachteilige Wirkung auf die Leistung des Displays besitzt. Jede Wechselwirkung zwischen einer Säulenschwarzmaske und dem Plasma kann vermieden werden, und der interne Polarisator kann als Schutzschicht für ein dünnes dielektrisches Glas der Plasma-Schaltanordung dienen.
  • Die Erfindung wird beispielhaft unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen näher beschrieben.
  • 1 ist eine schematische Querschnittsansicht eines SLMs gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 2 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet;
  • 3 ist eine schematische Querschnittsansicht eines SLMs gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 4 ist eine schematische Querschnittsansicht eines SLMs des Typs aus 1 mit einem TFT-Array;
  • 5 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Zellenwand zeigt, bei der eine Ausrichtungsschicht optional weggelassen wurde;
  • 6 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, bei der eine transparente leitende Elektrode optional weggelassen wurde.
  • 7 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand mit einer Hitzestabilisierungsschicht;
  • 8 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet;
  • 9, die die 9a bis 9h umfasst, zeigt ein Verfahren zum Herstellen der Zellenwand aus 8;
  • 10 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet;
  • 11, die die 11a bis 11i umfasst, zeigt ein Verfahren zum Herstellen der Zellenwand aus 10;
  • 12 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet;
  • 13, die die 13a bis 13g umfasst, zeigt ein Verfahren zum Herstellen der Zellenwand aus 12;
  • 14 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet;
  • 15, die die 15a bis 15g umfasst, zeigt ein Verfahren zum Herstellen der Zellenwand aus 14;
  • 16 ist eine schematische Querschnittsansicht eines SLMs gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 17 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet;
  • 18, die die 18a bis 18n umfasst, zeigt ein Verfahren zum Herstellen der Zellenwand aus 17;
  • 19a ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet:
  • 19b ist eine diagrammähnliche Draufsicht auf eine der Schichten der Zellenwand aus 19a;
  • 20, die die 20a bis 20i umfasst, zeigt ein Verfahren zum Herstellen der Zellenwand, die in 19a und 19b dargestellt ist;
  • 21a ist eine schematische Querschnittsansicht einer Zellenwand, die eine Ausführungsform der Erfindung bildet;
  • 21b ist eine diagrammartige Draufsicht auf eine der Schichten der Zellenwand aus 21a;
  • 22, die die 22a bis 22m umfasst, zeigt ein Verfahren zum Herstellen der Zellenwand, die in 21a und 21b dargestellt ist;
  • 23 umfasst die 23a und 23b, die Querschnittsansichten von bekannten Arten von PALC-Displays sind;
  • 24 ist eine Ansicht ähnlich zu 23b, die interne Reflektionen zeigt, welche den Kontrast verringern;
  • 25 ist eine Ansicht ähnlich zu 24, die eine bekannte Technik zum Reduzieren des Kontrastverlusts zeigt;
  • 26 umfasst die 26a und 26b, die Querschnittsansichten von PALC-Displays gemäß der Erfindung sind;
  • 27 umfasst die 27a und 27b, die Querschnittsansichten von PALC-Displays gemäß der Erfindung sind;
  • 28 ist eine Querschnittsansicht eines PALC-Displays gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 29 umfasst die 29a und 29b, die Querschnittsansichten von PALC-Displays gemäß einer Ausführungsform der Erfindung sind;
  • 30 umfasst die 30a und 30b, die Querschnittsansichten von PALC-Displays gemäß der Erfindung sind;
  • 31 umfasst die 31a und 31b, die Querschnittsansichten von PALC-Displays gemäß der Erfindung sind;
  • 32 ist eine Querschnittsansicht eines PALC-Displays gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 33 ist eine Querschnittsansicht eines PALC-Displays gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
  • 34 zeigt ein Verfahren zum Befestigen eines internen Polarisators auf einem dünnen Dielektrikum;
  • 35 zeigt die Entfernung eines Trägers des Polarisators aus 34;
  • 36 ist eine Querschnittsansicht eines bekannten Displays; und
  • 37 ist eine Querschnittsansicht eines Displays gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
  • Gleiche Bezugsziffern beziehen sich in allen Zeichnungen auf gleiche Teile.
  • Der räumliche Flüssigkristall-Lichtmodulator (SLM), der in 1 dargestellt ist, weist eine erste und eine zweite Zellenwand auf, zwischen denen der Flüssigkristall angeordnet ist. Die erste Zellenwand weist ein Substrat 1 auf, beispielsweise aus poliertem Natronkalkglas, das mit einer transparenten Elektrode 4, beispielsweise aus ITO (Indiumzinnoxid), mit einem spezifischen elektrischen Widerstand von weniger als 20 Ohm pro 100 Quadratfuß überzogen ist. Eine Haftschicht 2 ist auf der Elektrode 1 ausgebildet und kann ein auf einem Epoxidharz basierendes System aufweisen. Beispielsweise kann die Haftschicht aus dem käuflich erhältlichen Epoxidharzkleber Epotek 301 gebildet sein, der im Gewichtsverhältnis 1:3 in Butoxyethanol gelöst ist und in einem Wirbelbeschichter mit einer offenen Schüssel bei 4000 Umdrehungen pro Minute 30 Sekunden lang gekreiselt wird.
  • Ein Polarisator 3 wird auf der Haftschicht 2 ausgebildet und weist ein verstrecktes Polyacethylen/Polyvinil-Alkohol-Copolymer auf, beispielsweise von der Art, die in US 5 049 427 offenbart ist. Nach dem Ausbilden des Polarisators 3 auf der Haftschicht 2 wird die Haftschicht bei 20°C über 6 Stunden ausgehärtet.
  • Eine Flüssigkristall-Ausrichtungsschicht 5 aus Polyimid ist auf dem Polarisator 2 ausgebildet. Beispielsweise kann das Polyimid ein Polyimid aufweisen, das von Du Pont unter der Bezeichnung PI 2555 verkauft wird, das im Verhältnis 1:20 in einem Lösungsmittel aus einer Mischung von N-Methyl-2-Pyrrolidon und 1-Methoxypropan-2-ol, verkauft von Du Pont unter der Bezeichnung T 9039 gelöst wird, und das in einem Wirbelbeschichter mit einer offenen Schüssel bei 4000 Umdrehungen pro Minute 30 Sekunden lang gekreiselt wird. Die Polyimid-Ausrichtungsschicht 5 wird dann durch Erhitzen bei 170°C über 2 Stunden ausgehärtet. Die Ausrichtungsschicht 5 wird anschließend mit einem weichen Tuch gerieben, um eine bevorzugte Richtung und eine Vorneigung (pre-tilt) auf der Ausrichtungsschicht auszubilden.
  • Die zweite Zellenwand, die ein Substrat 11, eine transparente Elektrode 10, eine Haftschicht 9, einen Polarisator 8 und eine Ausrichtungsschicht 7 aufweist, wird auf die selbe Weise wie die erste Zellenwand hergestellt. Kunststoffabstandshalter in Form von Tropfen, beispielsweise mit 10 Mikrometer Durchmesser, werden auf die Ausrichtungsschicht 5 gesprüht, und die Flüssigkristallzelle wird zusammengebaut, wobei sich die Abstandstropfen zwischen den Ausrichtungsschichten 5 und 7 befinden, und wobei die Ausrichtungsrichtungen der Ausrichtungsschichten 5 und 7 im wesentlichen senkrecht zueinander sind. Das Innere der Zelle zwischen den Ausrichtungsschichten 5 und 7 wird abgedichtet, beispielsweise unter Verwendung eines unter Ultraviolett-Strahlung aushärtenden Klebstoffs, und wird mit einem Flüssigkristallmaterial 6 gefüllt, beispielsweise mit einem nematischen Flüssigkristall, der ein optisch aktives Dotiermittel enthält, um eine um 90° gedrehte nematische Zelle herzustellen.
  • Bei dem in 1 dargestellten räumlichen Lichtmodulator sind die Elektroden 4 und 10 aufgrund der dazwischen liegenden Anordnung der Haftschichten 2 und 9 und der Polarisatoren 3 und 8 weiter von der Flüssigkristallschicht 6 beabstandet als üblich. Die Versorgungsspannungen für den SLM werden daher angepasst, um den elektrischen Effekt dieser zusätzlichen Schichten auszugleichen.
  • Es wurde herausgefunden, dass die Bearbeitungsschritte zum Ausbilden der ersten und zweiten Zellenwand die Leistungsfähigkeit der Polarisatoren 3 und 8 nicht auf inakzeptable Weise verschlechtern. Trotz des Einsatzes erhöhter Temperaturen über längere Zeiträume beim Aushärten der Ausrichtungsschichten 5 und 7 behielten insbesondere die Polarisatoren 3 und 8 eine ausreichende Transmission und ein Kontrastverhältnis für die gewerbliche Anwendung des SLMs.
  • Das Verfahren zum Herstellen der ersten und zweiten Zellenwand kann auf verschiedene Arten modifiziert werden. Beispielsweise können die Ausrichtungsschichten 5 und 7 aus einem Polyimid wie das, das von Du Pont unter der Bezeichnung AM 4276 verkauft wird, bei Aushärtung bei 120°C über eine Stunde hergestellt werden. Die Verwendung solcher bei niedrigeren Temperaturen aushärtenden Ausrichtungsschichten reduziert die Verschlechterung der Polarisatoren 3 und 8 weiter.
  • Die Haftschichten 2 und 9 können aus anderen Materialien hergestellt sein, wie beispielsweise kommerziell erhältlichen Klebstoffen auf der Basis von Polyurethan. Ein Beispiel eines solchen Klebstoffs ist Dymax ligth weld 401, der auf die Elektroden 4 und 10 aufgebracht werden kann, indem er in einem Wirbelbeschichter mit einer offenen Schüssel mit 5000 Umdrehungen pro Minute 30 Sekunden lang gekreiselt wird. Die Polarisatoren 3 und 8 werden auf die Haftschichten 2 und 9 aufgebracht, die anschließend mit ultraviolettem Licht bestrahlt werden, beispielsweise Licht einer Wellenlänge von 365 Nanometer und beispielsweise mit einer Leistung von 50 Milliwatt pro cm2 über 60 Sekunden.
  • Die Haftschichten 2 und 9 können auch aus einem Polyimid hergestellt sein, beispielsweise aus PI 2555, das im Verhältnis 1:20 in T 9039 gelöst ist, und das in einem Wirbelbeschichter mit einer offenen Schüssel bei 5000 Umdrehungen pro Minute 10 Sekunden lang gekreiselt wird. Nach der Ausbildung der Polarisatoren 3 und 8 werden die Polyimidhaftschichten 2 und 9 bei 140°C über 30 Minuten ausgehärtet. Ein Vorteil der Verwendung eines solchen Polyimids liegt darin, dass es bekanntermaßen kompatibel mit der Herstellung und dem Betrieb von LCDs ist.
  • Die Bearbeitungsbedingungen während der Herstellung der ersten und zweiten Zellenwand müssen derart sein, dass die Verschlechterung der Leistung der Polarisatoren 3 und 8 ausreichend gering ist, um Vorrichtungen von ak zeptabler Leistungsfähigkeit zu erhalten. Insbesondere sollten die Polarisatoren vorzugsweise im wesentlichen eine achromatische Transmission von wenigstens 80% und achromatische Kontrastverhältnisse von wenigstens 100:1 beibehalten. Die Wahl von Materialien und von Herstellungstechniken für diejenigen Schichten, die nach den Polarisatoren 3 und 8 ausgebildet werden, müssen daher derart sein, dass sie die Polarisatorleistungsfähigkeit nicht unter akzeptable Grenzen für die spezielle Anwendung sinken lassen. Dies beeinflusst die Wahl des Materials und der Herstellungstechnik der Ausrichtungsschichten 5 und 7 und aller beliebigen anderen Schichten (wie im Folgenden beschrieben), die nach den Polarisatoren ausgebildet werden. Im Fall der Ausrichtungsschichten sollte beispielsweise die Aushärtungstemperatur und -dauer derart sein, dass sie keinen unangemessenen Schaden bei den Polarisatoren erzeugt. Das Aushärten sollte vorzugsweise bei weniger als 180°C über 2 Stunden stattfinden, und mehr bevorzugt bei weniger als 150°C über 2 Stunden.
  • Die Substrate 1 und 11 können aus einem Niedrigalkaliglas, beispielsweise Corning 7059, typischerweise mit einer Dicke von 1.1 mm, hergestellt werden. Ein Vorteil der Möglichkeit, die Polarisatoren 3 und 8 zwischen den Substraten 1 und 11 auszubilden, liegt darin, dass jede Doppelbrechung, die in den Substraten auftritt, die Leistung des SLMs nicht wesentlich beeinflusst. Dies erlaubt eine größere Freiheit bei der Wahl von Materialien für die Substrate 1 und 11. Beispielsweise können die Substrate aus Kunststoffen hergestellt sein, einschließlich Polyethylenterephthalat, Polyethersulfon, Polymethylmethacrylat, Polyester oder Polycarbonate. Materialien, die von Hause aus oder durch Beanspruchung induzierte Doppelbrechung aufweisen, können daher verwendet werden, während solche Materialien bei der Verwendung in SLMs des konventionellen Typs mit externen Polarisatoren ungeeignet wären.
  • Die Haftschichten 2 und 9 können aus einem beliebigen klebenden oder haftenden Material sein, das die Anforderungen einer hohen Transparenz, der Achromatizität, der thermischen Stabilität und vorzugsweise einer thermischen Ausdehnung ähnlich zu der der Polarisatoren 3 und 8 erfüllt. Beispiele derartiger Materialien für die Haftschichten sind organische Klebstoffe wie Epoxidharze, Acrylpolymere oder solche, die auf Polyurethanderivaten basieren. Diese können auf die darunter liegende Oberfläche durch jede beliebige geeignete Technik wie Drucken, Abrollen, Gießen oder Wirbelbeschichten aufgebracht werden, um eine einheitliche dünne Schicht zu erzielen. Nach der Ausbildung der Polarisatoren 3 und 8 können solche Klebstoffe durch Mittel ausgehärtet werden, die mit thermischen Prozessen, Prozessen mit freien Radikalen oder photochemischen Prozessen arbeiten. Zusätzlich zu herkömmlich erhältlichen Klebstoffen kann es vorteilhaft sein, Materialien zu finden, die bereits für andere Zwecke bei der Herstellung von LCDs verwendet wurden, da deren Kompatibilität mit solchen Vorrichtungen bereits ermittelt wurde. Geeignete Materialien sind solche, die bei der Anwendung haftend sind und somit eine gewisse Haftfunktion liefern, beispielsweise Polyimide, Polyamide und eine Polyvinyl-Alkohol-Lösung.
  • Die Polarisatoren 3 und 8 können aus jedem beliebigen geeigneten verstreckten Polymer hergestellt werden, das konjugierte Doppelbindungen enthält und thermisch stabil ist. Nach der Fertigstellung des SLMs besitzen die Polarisatoren vorzugsweise ein Kontrastverhältnis von wenigstens 100:1 vorzugsweise über einen Bandbreitenbereich von 510 bis 600 Nanometer, und mehr bevorzugt über einen Bereich von 400 bis 700 Nanometer. Die Polarisatoren besitzen vorzugsweise eine Transmission für linear polarisiertes Licht von wenigstens 50%, und mehr bevorzugt wenigstens 80%. Die Polarisatoren behalten vorzugsweise diese Eigenschaften bei oder steigern diese Eigenschaften nach einer Anwendung von wenigstens 100°C über wenigstens 30 Minuten, und vorzugsweise von wenigstens 180°C über wenigstens 2 Stunden. Außerdem sollte das Polarisatormaterial vorzugsweise resistent gegenüber allgemeinen Bearbeitungslösungsmitteln wie Isopropylalkohol, Aceton, N-Methyl-Pyrrolidinon, Natriumhydroxid und Toluen sein. Die Polarisatoren 3 und 8 besitzen vorzugsweise eine einheitliche Dicke, damit keine Veränderungen der Dicke in der Flüssigkristallschicht vorherrschen. Die Polarisatoren sind vorzugsweise dünn, um das Abscheiden von stabilen transparenten leitenden Elektroden zu ermöglichen (wenn diese auf oder über den Polarisatoren ausgebildet werden), vorzugsweise dünner als 30 Mikrometer, und mehr bevorzugt dünner als 10 Mikrometer.
  • Die transparenten leitenden Elektroden 4 und 10 sind vorzugsweise aus ITO (Indiumzinnoxid) hergestellt, das durch einen beliebigen Prozess aufgebracht wurde, der mit den Temperaturanforderungen der Polarisatoren kompatibel ist, wenn die Elektroden auf oder über den Polarisatoren ausgebildet werden. Beispielsweise ist die Abscheidung solcher Elektroden vorzugsweise derart, dass die Polarisatoren Temperaturen von weniger als 200°C unterworfen werden. Beispielsweise kann ein Elektronenstrahl geringer Temperatur oder ein Bedampfungsprozess verwendet werden, um die Elektroden 4 und 10 auszubilden. Die Elektroden besitzen vorzugsweise eine Transmission von wenigstens 90% und einen spezifischen Widerstand von weniger als 100 Ohm pro 100 Quadratfuß. Eine oder beide Elektroden 4 und 10 können geätzt werden, um eine Mehrzahl von segmentierten Elektroden zu liefern, wenn dies notwendig ist, beispielsweise um Bildelemente (Pixel) des SLMs zu definieren.
  • Die in 2 dargestellte Zellenwand unterscheidet sich von der in 1 dargestellten dadurch, dass die Elektrode 4 zwischen der Ausrichtungsschicht 5 und dem Polarisator 3 ausgebildet ist, anstatt zwischen der Ausrichtungsschicht 2 und dem Substrat 1. Die Schichten 2, 3 und 5 werden wie unter Bezugnahme auf 1 beschrieben ausgebildet, während die Elektrode 4 durch Bedampfung auf den Polarisator 3 ausgebildet wird, beispielsweise durch Verdampfung eines ITO-Targets in einer Argon/Sauerstoffatmosphäre mit geringem Druck. Eine oder beide Zellenwände können auf diese Weise ausgebildet werden. Wie zuvor beschrieben muss dann, wenn die Elektrode 4 auf oder über dem Polarisator 3 ausgebildet wird, das Verfahren zum Ausbilden der Elektrode derart sein, dass die Leistungsfähigkeit des Polarisators 3 nicht unter akzeptable Grenzen abfällt. Ein Vorteil der in 2 dargestellten Anordnung gegenüber der in 1 dargestellten Anordnung liegt jedoch darin, dass es weniger dielektrische Schichten zwischen der Elektrode 4 und dem Flüssigkristall 6 gibt. Dementsprechend können konventionelle Versorgungsspannungen verwendet werden, ohne dass zusätzliche dielektrische Schichten berücksichtigt werden müssen.
  • 3 zeigt einen SLM mit einer Farbfilteranordnung. Eine Schwarzmaske 1b zum Verdecken von Bereichen des SLMs, die nicht sichtbar sein sollen, ist auf dem Substrat 1 ausgebildet, und eine Ebnungsschicht 1c ist über der Schwarzmaske 1b ausgebildet, um eine ebene Oberfläche zur weiteren Bearbeitung zu schaffen. Farbfilter 1a, beispielsweise Rot-, Grün- und Blau-Pixelfarbfilter sind in einer geeigneten Anordnung auf der Ebnungsschicht 1c ausgebildet, und eine weitere Ebnungsschicht 1d ist auf den Farbfiltern 1a ausgebildet. Die Farbfilteranordnung kann beispielsweise ausgebildet sein wie beschrieben in "Fortschritte bei Farbfiltern für LCDs", Toppan Printing Company, SID 94 Digest, Seite 103.
  • Anschließend wird die erste und die zweite Zellenwand wie zuvor beschrieben ausgebildet. 3 zeigt jedoch eine zusätzliche Barrierenschicht 4a, die auf der Elektrode 4 ausgebildet werden kann, um ein Verhindern von Kurzschlüssen über die Flüssigkristallschicht 6 hinweg zu unterstützen.
  • Der in 4 dargestellte räumliche Lichtmodulator (SLM) besitzt eine erste Zellenwand des in 2 dargestellten Typs und eine zweite Zellenwand, die sich von den in 1 bis 3 dargestellten Zellenwänden dadurch unterscheidet, dass der interne Polarisator 8 weggelassen wird und ein externer Polarisator 13 vorgesehen ist. Außerdem ist ein Dünnfilmtransistor (TFT)-Array 12 zwischen dem Substrat 11 und der Ausrichtungsschicht 7 ausgebildet und bildet anstelle der Elektrode 10 die Elektroden. Das TFT-Array 12 kann von einem bekannten Typ zum Bereitstellen eines aktiven LCDs sein. Diese Anordnung besitzt den Vorteil, dass es nicht notwendig ist, zusätzliche Bearbeitungsschritte des TFT-Arrays 12 einzuführen, die ansonsten den Ertrag reduzieren könnten. Da der Polarisator 13 außerhalb der Zelle angeordnet ist, kann diese außerdem von einem konventionellen Typ sein, wie aus einem mit Jod dotierten verstreckten Polyvinylalkohol. Die in 4 dargestellte zweite Zellenwand kann mit anderen Anordnungen von ersten Zellenwänden verwendet werden, beispielsweise wie in 1 und 3 dargestellt oder wie in den folgenden Ausführungsformen beschrieben.
  • Die in 5 dargestellte Zellenwand unterscheidet sich von den zuvor beschriebenen darin, dass die Ausrichtungsschicht 5 weggelassen wurde. Eine solche Anordnung kann bei elektrooptischen Effekten verwendet werden, die keine spezifischen Ausrichtungsschichten benötigen, wie beispielsweise der axialsymmetrische Modus. Alternativ kann der Polarisator 3 einen Ausrichtungseffekt liefern, beispielsweise wenn er Polyacetylen enthält, das als eine Ausrichtungsoberfläche mit geringer Vorneigung dienen kann. Eine solche Anordnung kann vorteilhaft sein, wenn die gegenüberliegende Ausrichtungsschicht 7 eine große Vorneigung liefert.
  • Die in 6 dargestellte Zellenwand unterscheidet sich von der in 5 dargestellten dadurch, dass die Elektrode 4 weggelassen wurde. In dieser Anordnung wird die Elektrodenfunktion von der intrinsischen Leitfähigkeit des Materials, beispielsweise Polyacetylen, das den Polarisator 3 bildet, geliefert. Die Leitfähigkeit kann beispielsweise durch Dotieren mit Arsenpentafluorid erhöht werden.
  • Wie in 7 dargestellt kann eine Abdichtschicht 14 auf dem Polarisator 3 ausgebildet werden, um den Schutz des Polarisators während der Hitzebe handlungen bei der Herstellung der Zellenwand zu verstärken. Die Schicht 14 kann auch verwendet werden, um die optische Leistung zu verbessern, insbesondere bei kurzen Wellenlängen.
  • Die Ausrichtungsschichten 5 und 7 können aus jedem beliebigem Material sein, das geeignet ist, die gewünschte Ausrichtung des Flüssigkristalls 6 zu liefern. Beispielsweise können geriebenes Polyimid wie zuvor beschrieben oder Siliziumoxid abhängig von den Anforderungen des Flüssigkristalleffekts für Vorneigung, homöotrope oder planare Ausrichtung verwendet werden. Weil die Ausrichtungsschichten sich in direktem Kontakt mit der Flüssigkristallschicht befinden, werden geeignete Materialien ausgewählt, um eine Verunreinigung zu verhindern, insbesondere eine leitende Verunreinigung des Flüssigkristalls. Eine solche Verunreinigung ist insbesondere nachteilig bei TFT-Displays, bei denen der daraus resultierende Leckstrom ein ungewünschtes Flimmern erzeugen kann. Wie zuvor beschrieben können die Ausrichtungsschichten 5 und 7 unterschiedliche Ausrichtungsrichtungen besitzen, um eine Verdrehung des Flüssigkristalldirektors zu bewirken. Solche Anordnungen können verwendet werden, um verdrehte nematische (TN) oder besonderes verdrehte nematische (FTN) Vorrichtungen zu schaffen. Andere Ausrichtungen und Arten von Vorrichtungen können jedoch ebenfalls bei Anwendung der hier beschriebenen Techniken ausgebildet werden. Auch die Trennung der ersten und zweiten Zellenwand kann als geeignet für die Art der Vorrichtung ausgewählt werden, und der Abstand liegt typischerweise zwischen 1 und 10 Mikrometern. Die Kunststoffabstandshalter in Form von Kunststofftropfen zum Definieren und Aufrechterhalten des Abstands der Ausrichtungsschichten können durch jedes beliebige andere geeignete Mittel ersetzt werden, wie zum Beispiel Zwischenpixel-Polymerwände.
  • 8 zeigt eine Zellenwand eines SLMs, die besonders nützlich für 3D-Displays des Typs sind, wie er in EP 0 721 132 und GB 2 296 099 offenbart ist. Die Zellenwand beinhaltet einen gemusterten optischen Verzögerer, der deshalb in die Substrate integriert ist. Der gemusterte Verzögerer kann aus jedem beliebigen Material hergestellt sein, das für eine Anordnung innerhalb der Zelle geeignet ist und den Bearbeitungsschritten während der Herstellung widerstehen kann. Die in 8 dargestellte Anordnung weist eine Ausrichtungsschicht 15 auf, die auf dem Substrat 1 angeordnet ist, und ein doppelbrechendes Material, das den Verzögerer 18 bildet, wobei die Achse des Verzögerers durch die Ausrichtungsschicht definiert ist.
  • 9 zeigt die Herstellung der Zellenwand aus 8. In 9a wird die Ausrichtungsschicht 15 auf das Substrat 1 aufgebracht. Die Ausrichtungsschicht 15 kann vom selben Typ sein, wie zuvor beschrieben wurde, und kann auf dieselbe Weise ausgebildet werden. 9b zeigt das Aufbringen einer optischen Verzögerungsschicht 16, deren Ausrichtungsrichtung durch die Ausrichtungsschicht 15 bestimmt ist. Die Verzögerungsschicht 16 besteht aus einem beliebigen geeigneten doppelbrechenden Material, das ausgerichtet werden kann und anschließend in einer vorbestimmten Richtung fixiert werden kann. Ein geeignetes Material weist ein Flüssigkristallpolymer oder ein reaktives Mesogen auf. Ein Beispiel eines geeigneten reaktiven Mesogens ist bekannt unter RM 257 von Merck, Großbritannien, und besitzt eine hohe Doppelbrechung, die die Verwendung von relativ dünnen Schichten ermöglicht.
  • Wie in 9c dargestellt werden Bereiche der Verzögerungsschicht 16 mit Ultraviolettstrahlung durch eine Maske 19 bestrahlt, um photopolymerisiert zu werden. Wie in 9d dargestellt werden die nicht polymerisierten Bereiche anschließend entfernt, beispielsweise durch einen Ätzprozess, um die gewünschte gemusterte Anordnung des optischen Verzögerers zu liefern. 9e bis 9h zeigen schließlich das Aufbringen der Haftschicht 2, des Polarisators 3, der Elektrode 4 und der Ausrichtungsschicht 5, was anschließend beschrieben wird.
  • Die in 10 dargestellte Zellenwand unterscheidet sich von der in 8 dargestellten dadurch, dass der gemusterte Verzögerer mittels einer Ebnungsschicht 19 geebnet wird, bevor die Haftschicht 2 aufgebracht wird. Die Ebnungsschicht 19 füllt die Lücke, die vom entfernten, nicht polymerisierten Verzögerermaterial zurückgelassen wird, und der zusätzliche Schritt während der Herstellung der Zellenwand ist in 11e dargestellt. Die anderen Teile aus 11 sind bereits unter Bezugnahme auf 9 beschrieben worden. Das Material der Ebnungsschicht ist vorzugsweise isotrop, transparent und im wesentlichen bezüglich der Dicke ähnlich zu den Verzögerern 18. Geeignete Materialien umfassen Acrylharze und Epoxidharze.
  • Die in 12 dargestellte Zellenwand und das Verfahren zu deren Herstellung, das in 13 dargestellt ist, unterscheiden sich von der in 8 und 9 dargestellten Zellenwand bzw. dem Verfahren zur Herstellung dadurch, dass nach der in 9c dargestellten selektiven Photopolymerisation das nicht polymerisierte Verzögerermaterial 16 nicht entfernt wird. Außerdem wird die Haftschicht 2 weggelassen und stattdessen wird der Polarisator 3 auf der Verzögerungsschicht 16 ausgebildet. Das nicht polymerisierte Verzögerermaterial ist immer noch haftend, so dass der Polarisator daran klebt. Das Werkstück wird anschließend auf eine Temperatur über dem isotropen Übergangspunkt des nicht polymerisierten Verzögerermaterials erhitzt, das durch Bestrahlung mit einer Ultraviolettstrahlung großer Wellenlänge in einen isotropen Zustand ausgehärtet wird. Dies führt zu einer Schicht mit Bereichen isotropen Materials 20 und doppelbrechender Materialien 18, wie in 13e dargestellt ist. Es ist auch möglich, eine zusätzliche Menge nicht polymerisierten Materials nach der selektiven Polymerisation hinzuzufügen. Eine solche Schicht bedeckt die zuvor polymerisierten Bereiche ebenso wie die nicht polymerisierten Bereiche und befestigt den Polarisator somit stärker. Das zusätzliche Material wird in den isotropen Zustand polymerisiert, wie zuvor beschrieben wurde, und besitzt keinen optischen Effekt auf die zuvor selektiv polymerisierten Bereiche. Davon abgesehen ist das Verfahren zum Herstellen der Zellenwand identisch zu dem, was unter Bezugnahme auf 9 beschrieben wurde.
  • Die Zellenwand und das Verfahren zu ihrer Herstellung gemäß den 14 und 15 unterscheiden sich von der Zellenwand und dem Verfahren zur Herstellung aus den 12 und 13 darin, dass ein optisch aktives Dotiermittel der reaktiven Mesogenmischung vor der Aufbringung als Verzögerungsschicht 21 beigefügt wird. Das optisch aktive Dotiermittel führt eine kontinuierliche Rotation der Verzögererrichtung beim Hindurchtreten durch die Schicht ein, um einen richtungsweisenden verdrehten Verzögerer zu schaffen. Der Polarisator 3 wird auf die nicht polymerisierte dotierte Verzögerungsschicht 21 aufgebracht, bevor die selektive Photopolymerisation durchgeführt wird, wie in 15d gezeigt ist. Die Absorptionsrichtung des Polarisators 3 ist im wesentlichen senkrecht zur Ausrichtungsrichtung der Ausrichtungsschicht 15, wie in 15a bis 15g durch den Pfeil bzw. den Punkt dargestellt ist. Der Polaristator 3 richtet die obere Oberfläche des dotierten Verzögerers 21 aus, um sicherzustellen, dass ein gewünschter Verdrehungswinkel erzielt wird, ohne eine extrem präzise Schichtdickensteuerung zu benötigen, die ansonsten notwendig wäre. Die Herstellungsschritte, die in 15e, f und g dargestellt sind, sind dieselben wie die unter Bezugnahme auf 13e, f und g beschriebenen.
  • 16 zeigt einen SLM, bei dem die erste und zweite Zellenwand von dem Typ sind, der in 14 dargestellt ist. Somit weisen beide Zellenwände ge musterte optische Verzögerer auf, und die Zellenwände sind so angeordnet, dass die Polarisationsrichtungen der Polarisatoren 3 senkrecht sind. Ein solcher räumlicher Lichtmodulator ist besonders geeignet zur Verwendung bei einem 3D-Display des Typs, wie es in EP 0 721 132 und GB 2 296 099 offenbart ist.
  • 17 und 18 zeigen eine Zellenwand und ein Verfahren zu deren Herstellung, die sich von der Zellenwand und dem Verfahren zur Herstellung aus den 10 und 11 darin unterscheiden, dass ein weiterer gemusterter Verzögerer 26 innerhalb der Zelle ausgebildet ist. Nachdem die Ebnungsschicht 19 wie in 18 dargestellt aufgebracht wurde, wird eine weitere Ausrichtungsschicht 24, beispielsweise desselben Typs wie die Ausrichtungsschicht 15, aufgebracht, beispielsweise auf dieselbe Weise. Die Ausrichtungsschicht 27 wird mit einer Ausrichtungsrichtung aufgebracht, die sich von der der Ausrichtungsschicht 15 unterscheidet. Eine weitere Verzögerungsschicht 25, beispielsweise von demselben Typ wie die Verzögerungsschicht 16, wird auf der Ausrichtungsschicht 24, beispielsweise auf dieselbe Art, ausgebildet. Die Schicht 25 wird selektiv mit einer Ultraviolettstrahlung durch eine Maske 19' bestrahlt, so dass die Bereiche 26, die den weiteren gemusterten optischen Verzögerer bilden, photopolymerisiert werden. Die nicht polymerisierten Bereiche werden dann wie in 18i dargestellt entfernt, und eine weitere Ebnungsschicht 19' wird ausgebildet. Die nachfolgenden Schritte des Ausbildens der Schichten 2, 3, 4 und 5 sind schließlich wie oben beschrieben.
  • Durch Verwendung dieser Technik ist es möglich, abwechselnde Bereiche von Verzögerern bereitzustellen, die in unterschiedliche Richtungen ausgerichtet sind. Beispielsweise können die Verzögerer 18 und 26 so ausgerichtet sein, dass sie als +/4 und –/4 Wellenplatten oder als +/2 und –/2 Wellenplatten dienen. Räumliche Lichtmodulatoren, die Zellenwände dieser Art verwenden, sind geeignet zur Verwendung bei 3D-Displays, wie sie beispielsweise in EP 0 721 132 und GB 2 296 099 offenbart sind.
  • Durch Wiederholung der Bearbeitungsschritte, die in den 18b bis 18e dargestellt sind, können mehrere gestapelte Schichten von gemusterten Verzögerern hergestellt werden.
  • 19a und 19b zeigen eine weitere Zellenwand, und 20 zeigt ein weiteres Verfahren für deren Herstellung, die sich wiederum von der Zellenwand und dem Verfahren zur Herstellung aus 10 und 11 darin unterscheiden, dass die Standard-Ausrichtungsschicht 15 durch eine Schicht von linear photopolymerisierbarem Material 27 ersetzt wird, beispielsweise des Typs, der in "Oberflächeninduzierte parallele Ausrichtung von Flüssigkristallen durch linear polymerisierte Photopolymere", Schadt et al., Japanisches Journal der angewandten Physik, Vol. 31 (1992), Seite 2155 und in EP 0 689 084 beschrieben ist. Die Schicht wird selektiv einer Strahlung einer ersten linearen Polarisation durch eine Maske 19, wie in 20b dargestellt, ausgesetzt, um bestrahlte Bereiche A zu bilden. Die nicht bestrahlten Bereiche B werden dann über eine Maske 19' einer Strahlung ausgesetzt, die eine andere lineare Polarisation besitzt. Somit liefern abwechselnde Bereiche der Ausrichtungsschicht 28 verschiedene Ausrichtungsrichtungen, die sich beispielsweise um 45 oder 90° unterscheiden. 19b zeigt dies durch eine Draufsicht auf die Schicht 28. Die Verzögerungsschicht 16 wird anschließend wie in 20d gezeigt und wie zuvor beschrieben aufgebracht. Der Verzögerer übernimmt jedoch die abwechselnden Richtungen, die durch den darunter liegenden Teil der Ausrichtungsschicht 28 vorgegeben werden, und somit ist keine selektive Photopolymerisation erforderlich. Stattdessen kann die Verzögerungsschicht 16 durch Bestrahlung mit einer einheitlichen Ultraviolettstrahlungsquelle ausgehärtet werden. Die Verzögerungsbereiche können somit derart angeordnet werden, dass sie als +/4 und –/4 Wellenplatten oder als +/2 und –/2 Wellenplatten dienen, und ein SLM, der solche Zellenwände besitzt, ist geeignet für eine Verwendung bei 3D-Displays, wie sie beispielsweise in EP 0 721 132 und GB 2 296 099 offenbart sind.
  • 21a und 21b zeigen eine weitere Zellenwand, und 22 zeigt ein weiteres Verfahren für deren Herstellung, die sich von der Zellenwand und dem Verfahren zur Herstellung aus den 10 und 11 darin unterscheiden, dass die Ausrichtungsschicht 15 zweimal gerieben wird. Zuerst wird sie in Richtung A gerieben. Ein Photolackmaterial 29 wird aufgebracht und wie in 22d dargestellt durch eine Maske 19 selektiv polymerisiert. Dies kann unter Verwendung bekannter photolithographischer Technik geschehen. Das nicht polymerisierte Material wird entfernt, wodurch das polymerisierte Photolackmaterial 30 zurückbleibt, und Bereiche der darunter liegenden Ausrichtungsschicht 15 werden bestrahlt. Die Anordnung wird anschließend in einer zweiten Richtung B gerieben, um eine Ausrichtungsschicht mit einer räumlich variierenden Ausrichtungsrichtung 31 zu produzieren. Anschließend wird das polymerisierte Photolackmaterial entfernt. Die Verzögerungsschicht 16 wird anschließend wie in 22h dargestellt und wie zuvor be schrieben aufgebracht. Der Verzögerer übernimmt jedoch die abwechselnden Richtungen, die durch den darunter liegenden Teil der Ausrichtungsschicht 31 vorgegeben werden, und so ist keine selektive Photopolymerisation notwendig. Stattdessen kann die Verzögerungsschicht 16 durch Bestrahlung mit einer einheitlichen Ultraviolettstrahlungswelle ausgehärtet werden. Die Verzögerungsbereiche können somit derart angeordnet werden, dass sie beispielsweise als +/4 und –/4 Wellenplatten oder als +/2 und –/2 Wellenplatten dienen, und ein SLM mit solchen Zellenwänden ist für eine Verwendung bei 3D-Displays geeignet, wie sie beispielsweise in EP 0 721 132 und GB 2 296 099 offenbart sind.
  • 23a zeigt ein bekanntes PALC-Display mit einem Substrat 1, das eine Plasma-Schaltanordnung trägt, in der Plasma-Adresselektroden 40 und 41 durch eine Technik hergestellt wurden, die als "Pulver-Strahlen in einer Fritte" (PBF) bekannt ist. Die Elektroden 40 und 41 werden auf dem Substrat 1 ausgebildet, das mit einem externen Polarisator 3 ausgestattet ist. Jede der Elektroden 41 wird mit einer gemeinsamen Leitung oder mit einer Erdungsleitung verbunden, während jede der Elektroden 40 über einen Zwischenspeicher 42 verbunden ist, um ein Adresssignal zu empfangen. Ein Displayhintergrundlicht 43 ist diagrammartig dargestellt und beleuchtet das Display von einer Position hinter Substrat 1 und Polarisator 3.
  • Die Plasma-Adressanordnung weist desweiteren längliche Rippen oder Säulen 44 auf, an denen eine Mikroschicht oder eine dünne dielektrische Schicht 45 befestigt ist. Die Säulen 44 teilen den Bereich zwischen dem Substrat 1 und der dielektrischen Schicht 45 in mit Gas gefüllte Kanäle 46. Eine Ausrichtungsschicht 5 ist auf der dielektrischen Schicht 45 angeordnet.
  • Das Display weist weiterhin ein Substrat 11 auf, das Elektroden 10 trägt (typischerweise Streifenelektroden, die im wesentlichen senkrecht zu den Kanälen 46 ausgerichtet sind), beispielsweise aus Indiumzinnoxid (ITO), sowie eine Ausrichtungsschicht 7. Die Ausrichtungsschichten 5 und 7 werden beispielsweise durch eine dielektrische Abstandshalteranordnung getrennt, die Abstandskugeln (nicht dargestellt) aufweisen kann, um eine Lücke zu bilden, die eine Flüssigkristallschicht 6 enthält. Ein Polarisator 88 ist auf dem Substrat 11 angeordnet.
  • 23b zeigt eine weitere bekannte Sorte eines PALC-Displays, das sich von dem in 23a dargestellten dadurch unterscheidet, dass die Säulen 44 oder Rippen, die die dielektrische Schicht 45 tragen, auf den Elektroden 47 in einer Anordnung ausgebildet sind, die bekannt ist als "Rippen auf Elektrode" (ROE).
  • Die Herstellung und der Betrieb der in 23a und 23b dargestellten Displays ist bekannt und beispielsweise in EP 0 742 570 beschrieben, so dass eine nähere Beschreibung hier weggelassen wird.
  • 24 zeigt typische repräsentative optische Pfade a, b und c von Hintergrundlicht 43, das allgemein nicht kollimiert ist. Obwohl ein großer Anteil des Hintergrundlichts 43 direkt durch den Polarisator 3 und die Kanäle 46 hindurchtritt, ohne reflektiert zu werden, wie durch den Pfad a dargestellt ist, werden beträchtliche Lichtmengen im Display von den Säulen 44 reflektiert, wie durch die Lichtpfade b und c dargestellt ist. Auf dem Lichtpfad a kann eine teilweise Entpolarisierung durch das Gas im Kanal 46 stattfinden oder auch nicht. Eine Reflektion von den Säulen 44 jedoch führt zu beträchtlichen Änderungen in der Polarisation. Jede solche Änderung in der Polarisation führt zu einem Extinktionsverlust durch den Polarisator 88 und somit zu einem Verlust von Displaykontrast, der besonders deutlich wird, wenn das Display oder ein Bildelement (Pixel) davon auf Schwarz geschaltet wird.
  • 25 zeigt eine Technik zum Verringern des Kontrastverlusts beim Mechanismus, der in 24 dargestellt ist. Das PALC-Display, das in 25 dargestellt ist, besitzt Säulen 44, die mit einem Licht absorbierenden Material beschichtet sind, so dass Licht, das sich auf den Lichtpfaden b und c bewegt, im wesentlichen absorbiert wird, anstatt von den Säulen 44 reflektiert zu werden. Obwohl eine solche Anordnung den Kontrastverlust, der durch interne Reflektionen hervorgerufen wird, beträchtlich reduziert, wird der Lichtdurchsatz des Displays beträchtlich reduziert, so dass der Stromverbrauch erhöht werden muss, um ein vorgegebenes Helligkeitsniveau aufrecht zu erhalten. Außerdem ist diese Art von Display schwierig und teuer herzustellen. Die Beschichtung der Säulen 44 muss auch die relativ raue ionische Umgebung des Gasplasmas in den Kanälen 46 aushalten, ohne das Gas zu verunreinigen, von den Säulen 44 entfernt zu werden oder von Material von den Elektroden 47 bedampft zu werden.
  • 26a und 26b zeigen PALC-Displays des ROE und PBF Typs, die in 23b und 23a dargestellt sind, bilden aber Ausführungsformen der Erfindung. Insbesondere unterscheiden sich die Displays aus den 26a und 26b von denen aus 23a und 23b darin, dass der Polarisator 3 innen zwischen der Ausrichtungsschicht 5 und der dielektrischen Schicht 45 angeordnet ist. Der Polarisator 3 besteht aus den zuvor offenbarten Materialien. Die Zellenwand mit dem Substrat 11 und den damit verbundenen Schichten kann durch bekannte Verfahren hergestellt werden. Das Substrat 1 und die Plasma-Schaltanordnung 41 bis 47 können unter Verwendung bekannter Techniken ausgebildet werden. Der Polarisator kann, wie hier beschrieben und in 34 dargestellt, auf der dielektrischen Schicht 45 ausgebildet werden, und die Ausrichtungsschicht 5 kann auf dem Polarisator 3 unter Verwendung konventioneller Techniken wie Wirbelbeschichten und Aushärten, beispielsweise bei erhöhten Temperaturen, ausgebildet werden.
  • Die Position des Polarisators 3 im Inneren des Displays beseitigt jede mögliche Entpolarisierung und alle Auswirkungen hinsichtlich des Kontrastverlusts, die hier beschrieben wurden. Insbesondere liegt der Polarisator 3 optisch angrenzend an die Flüssigkristallschicht 6, so dass keine wesentliche Entpolarisierung stattfindet. Das Kontrastverhältnis wird daher nicht beträchtlich beeinflusst, und insbesondere kann ein guter schwarzer Zustand mit einem konventionellen (d.h. nicht kollimierten) Hintergrundlicht erzielt werden. Die Kosten und die Schwierigkeiten beim Beschichten der Säulen 44 mit Licht absorbierendem Material werden vermieden und eine Entpolarisierung (falls sie vorhanden sein sollte) durch die Kanäle 46 hat nicht länger Auswirkungen auf den Betrieb des Displays. Der Polarisator 3 analysiert Licht, das von den (nicht absorbierenden) Säulen 44 reflektiert wird, so dass die Lichtleistung ebenfalls verbessert wird. Die Ausbildung der Ausrichtungsschicht 5 verschlechtert die Polarisationseigenschaften des Polarisators 3 nicht in einem solchen Maße, dass es zu einer nicht akzeptablen optischen Leistungscharakteristik führt.
  • Bekanntlich befindet sich die dielektrische Schicht 45 in Reihe mit der Flüssigkristall-Pixelkapazität. Um den Verlust an Versorgungsspannung zu minimieren, besteht die Schicht 45 typischer Weise aus Glas mit einer Dicke von annähernd 30 Mikrometer. Der interne Polarisator 3 fügt eine weitere Reihenkapazität hinzu, die den Spannungsabfall über der Pixelkapazität verringert. Dementsprechend sollte die Dicke des Polarisators 3 minimal sein und vorzugsweise weniger als 25 Mikrometer, mehr bevorzugt gleich oder kleiner als 7 Mikrometer. Aus demselben Grund wird es bevorzugt, die Dielektrizitätskonstante des Polarisators 3 zu erhöhen, aber dies wird durch das Streckungsverhältnis des Polarisatormaterials beeinflusst, das ebenfalls dessen optische Eigenschaften beeinträchtigt.
  • 27a und 27b zeigen Displays, die sich von denen aus 26a und 26b darin unterscheiden, dass der interne Polarisator 3 durch einen externen Polarisator 33, der an der Außenoberfläche des Substrats 1 angeordnet ist, ergänzt wird. Bei dieser Anordnung dient der interne Polarisator als "Aufräum"-Polarisator. Die Extinktionseigenschaften des Polarisators 3 können geringer sein als für die Displays aus 26a und 26b, und trotzdem wird dieselbe Kontrastgüte geliefert, da ein beträchtlicher Anteil des Lichts, das auf den internen Polarisator 3 trifft, bereits vom externen Polarisator 33 polarisiert wurde. Die Eigenschaften des internen Polarisators 3 in dieser Konfiguration können für eine hohe Transmission optimiert werden.
  • 28 zeigt den Aufbau eines PALC-Displays detaillierter. Zusätzlich zu den zuvor beschriebenen Elementen trägt das obere Substrat 11 eine Schwarzmatrix (BM)-Schicht 34, auf der eine Farbfilter (CF)-Schicht 35 ausgebildet ist. Die Schicht 35 trägt die ITO-Schicht oder Elektrode 10, die wiederum die Ausrichtungsschicht 7 trägt. Eine optische Ebnungsschicht kann vorgesehen sein, beispielsweise als Teil der Farbfilterschicht 35. Die Ausrichtungsschicht 7 und die Ausrichtungsschicht 5 können beispielsweise geriebenes Polyimid aufweisen. Die Eigenschaften des Polarisators 33 können von der Lichtquelle geliefert werden, die vom vorpolarisierten Typ oder vom Polarisationsumlauftyp sein kann.
  • In Fällen, bei denen der Flüssigkristall sich im positiven axial symmetrischen Modus (ASM) befindet, müssen die Ausrichtungsschichten 5 und 7 nicht benötigt werden. Wenn der negative ASM verwendet wird, können die Schichten 5 und 7 derart sein, dass sie eine im wesentlichen homöotrope Ausrichtung liefern.
  • Es ist auch möglich, gefärbte Flüssigkristallpolymere als internen Polarisator 3 zu verwenden, beispielsweise wie in EP 0 397 263 beschrieben. Solche Materialien besitzen im Allgemeinen eine schwächere Polarisationseffizienz als Polyacethylenmaterialien und sind eher für Displays des Typs aus 27a und 27b in Verbindung mit einem externen Polarisator 33 geeignet.
  • Es ist möglich, die Displays der 26 und 27 zu betreiben, wobei das Hintergrundlicht auf das Susbtrat 11 fällt.
  • 29a und 29b zeigen Displays, die sich von denen aus 26a bzw. 26b darin unterscheiden, dass die Polarisatoren 3 mit Wellenplattenanordnungen 18 verbunden sind. Solche Wellenplattenanordnungen 18 und die Verfahren zu deren Herstellung wurden zuvor beschrieben. Derartige Displays können als stereoskopische oder autostereoskopische Displays verwendet werden, wie in GB 2 296 151 und EP 0 721 132 offenbart ist. Für die stereoskopische Betrachtung werden die Displays von oben beleuchtet, wie diagrammartig bei 48 gezeigt ist, und von unten betrachtet, wie in 29 dargestellt ist.
  • 30a zeigt ein Display, das sich von dem aus 29a darin unterscheidet, dass die Wellenplattenanordnung 18 innerhalb der Kanäle 46 angeordnet ist. 30b zeigt ein Display, das sich von dem aus 30a darin unterscheidet, dass der Polarisator 3 auch innerhalb der Kanäle 46 angeordnet ist. Die Wellenplattenanordnung besteht aus einem Material, das das Gas innerhalb der Kanäle 46 nicht verunreinigt und das von diesem nicht beschädigt wird.
  • Die Wellenplattenanordnung 18 in den Displays aus 30 kann mit einer weiteren Wellenplatte oder einer Wellenplattenanordnung zusammenwirken, um eine verbesserte Achromatizität und/oder einen verbesserten Betrachtungswinkel zu liefern. Eine solche weitere Wellenplatte oder Wellenplattenanordnung kann außerhalb des Displays angeordnet sein und kann von einem bekannten Typ sein.
  • 31a zeigt ein PALC-Display des in 26a dargestellten Typs, bei dem der Polarisator 3 weggelassen ist und ein interner Polarisator 8 auf dem Substrat 11 zwischen der Elektrode 10 und der Ausrichtungsschicht 7 angeordnet ist. 31a zeigt auch eine Wellenplattenanordnung 18, die zwischen dem Polarisator 8 und der Elektrode 10 angeordnet ist.
  • Das in 31b dargestellte Display unterscheidet sich von dem aus 31a darin, dass die Wellenplattenanordnung 18 zwischen dem Substrat 11 und dem Polarisator 8 angeordnet ist, und die Elektrode 10 zwischen der Ausrichtungsschicht 7 und dem Polarisator 8 angeordnet ist. Die Zellenwände mit den Substraten 11 und den damit verbundenen Schichten können hergestellt werden, wie zuvor beschrieben wurde. Diese Elektrodenanordnung besitzt den Vorteil, dass die Reihenkapazität des Polarisators und der Wellenplatte von der Flüssigkristallschaltung beseitigt werden, so dass die Betriebsspannung reduziert wird.
  • 32 zeigt ein PALC-Display, das sich von dem aus 26a darin unterscheidet, dass das Substrat 11 einen Polarisator 8 trägt, der zwischen dem Substrat 11 und der Elektrode 10 angeordnet ist.
  • Das in 33 dargestellte Display unterscheidet sich von dem aus 32 darin, dass das untere Substrat 1 einen externen Polarisator 33 des in 27a und 27b dargestellten Typs trägt, und dass das Substrat 11 einen externen Polarisator 88 trägt. Die Polarisationstransmissionsrichtung der Polarisatoren 3 und 33 sind ausgerichtet, ebenso wie die Polarisationstransmissionsrichtungen der Polarisatoren 8 und 88. Somit dient jeder der Polarisatoren 3 und 8 als "Aufräum"-Polarisator in Verbindung mit den externen Polarisatoren 33 bzw. 88. Die Leistung der Aufräum-Polaristoren kann wie zuvor beschrieben sein.
  • Die Displays aus 30 bis 33 können alternativ die in 23 dargestellte Elektrodenanordnung oder jede beliebige andere bekannte Elektrodenanordnung verwenden.
  • 34 und 35 zeigen eine Technik zum Befestigen des Polarisators 3 an der dielektrischen Schicht 45. Eine Sandwichstruktur mit einer Substratträgerschicht 50, einer Löseschicht 51, dem Polarisator 3 und einer Klebstoffschicht 52 wird auf die dielektrische Schicht 45 aufgerollt. Der Klebstoff 52 kann auf Kontakt oder auf Druck reagieren oder er kann ein Aushärten benötigen. Wenn der Polarisator 33 an der dielektrischen Schicht 45 befestigt ist, ermöglicht die Löseschicht 51, dass die Schichten 50 und 51 abgezogen werden können, um den Polarisator 3 auf der dielektrischen Schicht 45 zurück zu lassen. Es ist somit möglich, einen relativ dünnen Polarisator 3 mittels einer relativ dicken und robusten Substratträgerschicht 50 zu stützen, woraufhin die Schicht 50 entfernt wird, damit sie die optische Leistung des Displays nicht beeinträchtigt. Nach der Befestigung können der Polarisator und das Substrat autoklaviert werden, um alle auftretenden Luftblasen zu beseitigen. Der Polarisator 3 ist während der Herstellung geschützt und kann deshalb relativ dünn sein, um die Auswirkung des Spannungsabfalls über den Flüssigkristallpixeln zu verringern. Die Schicht 50 verhindert auch eine Oberflächenbeschädigung des Polarisators 3 durch die Handhabung oder durch Verunreinigung mit Partikeln.
  • 36 zeigt ein Display, das in "Ein erster photolumineszenter LCD-Demonstrator", Electronic Information Displays Konferenz 1997, offenbart ist. Das Display weist ein Hintergrundlicht 56 im nahen Ultraviolettbereich auf, das mit einem Kollimator 57 versehen ist, um die ausgegebene Ultraviolettstrahlung zu bündeln. Das Hintergrundlicht 56 und der Kollimator 57 sind hinter einem LCD angeordnet, das Substrate 1 und 11 sowie eine Flüssigkristallschicht 6 aufweist. Das LCD besitzt externe Polarisatoren 33 und 88 und einen Phosphorschirm 55 mit einer Mehrzahl von roten, grünen und blauen Phosphorbereichen oder -punkten, die mit entsprechenden Pixeln des LCDs ausgerichtet sind.
  • Im Betrieb wird die Ultraviolettstrahlung vom Hintergrundlicht durch den Kollimator 57 gesammelt und durch den Polarisator 88 polarisiert. Die Polarisierung der Strahlung wird durch Pixel gesteuert, die in der Flüssigkristallschicht 6 ausgebildet sind, und die daraus resultierende Strahlung wird durch den Polarisator 33 analysiert. Insbesondere wird die Menge an Ultraviolettstrahlung, die von jedem Pixel durchgelassen wird, von dem elektrischen Feld gesteuert, das am Pixel anliegt. Die durchgelassene Ultraviolettstrahlung wird anschließend durch den Phosphorschirm 55 in sichtbares Licht umgewandelt.
  • Aufgrund der Trennung zwischen dem Phosphorschirm 55 und der Flüssigkristallschicht 6 ist es notwendig, ein kollimiertes Hintergrundlicht zu verwenden, um ein Übersprechen zwischen den Pixeln aufgrund von Parallaxe zu vermeiden oder zu reduzieren.
  • Das in 37 dargestellte Display unterscheidet sich von dem aus 36 darin, dass der externe Polarisator 33 durch einen internen Polarisator 3 ersetzt wird, der zwischen der Flüssigkristallschicht 6 und dem Substrat 1 angeordnet ist, und dass der Phosphorschirm 55 zwischen dem Polarisator 3 und dem Substrat 1 angeordnet ist. Durch Anordnung der Flüssigkristallschicht 6, des Polarisators 3 und des Phosphorschirms 55 angrenzend aneinander und zwischen den Substraten 1 und 11 wird die Parallaxe beseitigt oder deutlich reduziert. Dies lässt die Notwendigkeit für einen Kollimator 57 entfallen, so dass das LCD mit einem nicht kollimierten Hintergrundlicht 56 verwendet werden kann.
  • Der Polarisator 3 wird wie zuvor beschrieben hergestellt und weist einen Polarisator aus einem Polymer mit konjugierten Doppelbindungen auf. Die Kettenlänge eines solchen Polarisators kann leicht auf Ultraviolettbetrieb optimiert werden, und dieselbe Art von Polarisator kann auch als externer Polarisator 88 verwendet werden.

Claims (34)

  1. Verfahren zum Bilden einer Zellenwand eines räumlichen Flüssigkristall-Lichtmodulators mit folgenden Schritten: Ausbilden eines Polarisators (3, 8), der aus einem verstreckten Polymer mit konjugierten Doppelbindungen hergestellt wird, über einem Substrat (1, 11); Ausbilden einer ersten Ausrichtungsschicht (4, 5, 7, 10) bezüglich des Substrats über dem Polarisator (3, 8); und Aushärten der ersten Ausrichtungsschicht (5, 7) bei im wesentlichen 180°C oder bis hin zu im wesentlichen 180°C über zwei Stunden oder bis hin zu im wesentlichen zwei Stunden.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Ausrichtungsschicht (5, 7) bei im wesentlichen 120°C oder bis hin zu im wesentlichen 120°C über eine Stunde oder bis hin zu im wesentlichen einer Stunde ausgehärtet wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Ausrichtungsschicht (5, 7) Polyimid aufweist.
  4. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach Fertigstellung der Zellwand einschließlich wenigstens eines Bearbeitungsschritts mit erhöhter Temperatur der Polarisator (3, 8) ein Kontrastverhältnis von wenigstens 10:1 bei wenigstens einer Betriebswellenlänge des räumlichen Lichtmodulators besitzt.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Kontrastverhältnis wenigstens 100:1 ist.
  6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Betriebswellenlänge ein Wellenband aufweist, das eine obere Grenze von größer oder gleich 600 Nanometer und eine untere Grenze von kleiner oder gleich 510 Nanometer besitzt.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die obere Grenze größer oder gleich 700 Nanometer und die untere Grenze kleiner oder gleich 400 Nanometer ist.
  8. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Polymer Polyacetylen enthält.
  9. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach Fertigstellung der Zellenwand einschließlich wenigstens eines Bearbeitungsschritts mit erhöhter Temperatur der Polarisator (3, 8) eine Transmission polarisierten Lichts von wenigstens 50% besitzt.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Transmission wenigstens 80% beträgt.
  11. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Polarisator (3, 8) auf einer Haftschicht (2, 9) ausgebildet wird.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht (2, 9) Polyimid aufweist.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Ausbilden des Polarisators (3, 8) die Haftschicht (2, 9) bei im wesentlichen 140°C oder bis hin zu im wesentlichen 140°C über im wesentlichen dreißig Minuten oder bis hin zu im wesentlichen dreißig Minuten ausgehärtet wird.
  14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht (2, 9) auf dem Substrat (1, 11) ausgebildet wird.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht (2) auf einer Farbfilteranordnung (1a) ausgebildet wird, die vom Substrat (1) getragen wird.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht (2, 9) auf einer Elektrode (4, 10) ausgebildet wird, die vom Substrat (1, 11) getragen wird.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass eine Elektrode (4, 10) auf dem Polarisator (3, 8) ausgebildet wird.
  18. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens ein gemusterter Verzögerer (18, 22, 26) zwischen dem Substrat (1) und der ersten Ausrichtungsschicht (5) ausgebildet wird, bevor die erste Ausrichtungsschicht (5) ausgebildet wird.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der oder jeder gemusterte Verzögerer (18) durch folgende Schritte gebildet wird: Ausbilden einer zweiten Ausrichtungsschicht (15); Ausbilden einer Verzögerungsschicht (16) auf der zweiten Ausrichtungsschicht (15); und selektives Entfernen eines Teils der Verzögerungsschicht.
  20. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der gemusterte Verzögerer (18) oder einer der gemusterten Verzögerer durch folgende Schritte gebildet wird: Ausbilden einer zweiten Ausrichtungsschicht (15); Ausbilden einer Verzögerungsschicht (16) auf der zweiten Ausrichtungsschicht (15); Aushärten eines Teils der Verzögerungsschicht (16) durch Belichten mit Ultraviolett-Strahlung; Ausbilden des Polarisators (3) auf der Verzögerungsschicht (16); Erhitzen der Verzögerungsschicht (16) über ihren isotropen Übergangspunkt hinaus; und Belichten der Verzögerungsschicht (16) mit Ultraviolett-Strahlung.
  21. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Verzögerungsschicht eine optisch aktive Schicht (21) aufweist und der Polarisator (3) auf der Verzögerungsschicht (21) ausgebildet wird, für die er als weitere Ausrichtungsschicht dient.
  22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Absorptionsrichtung des Polarisators (3) im wesentlichen senkrecht zur Ausrichtungsrichtung der zweiten Ausrichtungsschicht (15) ist.
  23. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mehrzahl von gemusterten Verzögerern (18, 26) ausgebildet wird, wobei sich die Ausrichtungsrichtung der zweiten Ausrichtungsschicht (15, 24) eines jeden der gemusterten Verzögerer (18, 26) von der Ausrichtungsrichtung der zweiten Ausrichtungsschicht (24, 15) eines jeden anderen der gemusterten Verzögerer (26, 18) unterscheidet.
  24. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der oder jeder gemusterte Verzögerer (18) durch folgende Schritte gebildet wird: Ausbilden einer Schicht linear photopolymerisierbaren Materials (28); Bestrahlen von ersten Teilen (A) der Materialschicht (28) mit Strahlung einer ersten Polarisation; und Bestrahlen von zweiten Teilen (B) der Materialschicht (28) mit Strahlung einer zweiten Polarisation.
  25. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der oder jeder gemusterte Verzögerer (18) durch folgende Schritte gebildet wird: Ausbilden einer zweiten Ausrichtungsschicht (15); Reiben der zweiten Ausrichtungsschicht (15) in einer ersten Ausrichtungsrichtung; Ausbilden einer Maske (30) auf der zweiten Ausrichtungsschicht (15), die vorbestimmte Bereiche (B) der zweiten Ausrichtungsschicht (15) enthüllt; Reiben der vorbestimmten Bereiche (B) durch die Maske (30) in einer zweiten Ausrichtungsrichtung, die sich von der ersten Ausrichtungsrichtung unterscheidet; Entfernen der Maske; und Ausbilden einer Verzögerungsschicht (16) auf der zweiten Ausrichtungsschicht (15).
  26. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 16 und 18 bis 25 für einen plasmabezogenen, räumlichen Flüssigkristall-Lichtmodulator, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (1) eine Plasma-Schaltanordnung (40, 41, 4447) aufweist.
  27. Verfahren nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasma-Schaltanordnung (40, 41, 4447) eine Mehrzahl von Kanälen (46) aufweist, von denen jeder ein Gas und eine erste und eine zweite Elektrode (40, 41, 4447) enthält.
  28. Verfahren nach Anspruch 26 oder 27, dadurch gekennzeichnet, dass der Polarisator (3) zwischen einem Flüssigkristallmaterial (6) und der Plasma-Schaltanordnung (40, 41, 4447) angeordnet wird.
  29. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass der Polarisator (3) innerhalb der Kanäle (46) angeordnet wird.
  30. Verfahren nach einem der Ansprüche 26 bis 29, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (1) zwischen dem Polarisator (3) und einem externen Polarisator (33) angeordnet wird, dessen Polarisationsrichtung parallel zu der des Polarisators (3) ist.
  31. Verfahren zum Herstellen eines räumlichen Flüssigkristall-Lichtmodulators, gekennzeichnet durch die Schritte, eine erste Zellenwand durch ein Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche herzustellen, die erste Zellenwand beabstandet von einer zweiten Zellenwand anzuordnen, um eine Lücke zu bilden, und die Lücke mit einem Flüssigkristallmaterial (6) zu füllen.
  32. Verfahren nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Zellenwand über ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 25 hergestellt wird.
  33. Verfahren nach Anspruch 32, sofern bezogen auf einen der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausrichtungsrichtungen der ersten Ausrichtungsschichten (5, 7) der ersten und zweiten Zellenwand im wesentlichen senkrecht zueinander sind.
  34. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, dass das Flüssigkristallmaterial einen nematischen Flüssigkristall und eine optisch aktive Dotiersubstanz aufweist.
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