DE69805863T2

DE69805863T2 - Träger aus Aluminiumlegierung für Flachdruckplatte

Info

Publication number: DE69805863T2
Application number: DE69805863T
Authority: DE
Inventors: Takahiro Mori; Kazuyuki Nishio
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-01-10
Filing date: 1998-01-08
Publication date: 2002-11-28
Anticipated expiration: 2018-01-09
Also published as: EP0853132A1; JPH10195568A; US6010816A; EP0853132B1; ES2178106T3; DE69805863D1

Description

Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung eines Trägers aus einer Aluminiumlegierung für eine Flachdruckplatte und eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte, die den Träger umfasst.

Hintergrund der Erfindung

Als Träger für eine Flachdruckplatte wurde bisher eine aus reinem Aluminium oder einer Aluminiumlegierung hergestellte Platte verwendet. Als Aluminiumlegierung werden verschiedene Aluminiumlegierungen, die Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Bismut, Nickel, Titan, Natrium oder Eisen enthalten, verwendet. Im allgemeinen wird eine gewalzte Platte aus einer Aluminiumlegierung mit einer Dicke von 0,1-0,5 mm gemäß dem JIS-Standard A1050 oder A1100 verwendet. Diese gewalzte Platte aus einer Aluminiumlegierung wird durch ein mechanisches Verfahren, ein elektrochemisches Verfahren, ein chemisches Verfahren oder eine Kombination derselben oberflächenaufgerauht und anschließend eloxiert, wobei ein Träger für eine Druckplatte erhalten wird.
Der auf diese Weise erhaltene Träger aus einer Aluminiumlegierung, der oberflächenaufgerauht wurde, muss eine gleichförmig aufgerauhte Oberfläche ohne Ungleichförmigkeit, Defekte oder Streifen in der Walzrichtung aufweisen. Die Ungleichförmigkeit oder Defekte verursachen auf der Trägeroberfläche aufgrund von Druckfarbenaufnahme beim Drucken wahrscheinlich Flecken. Um diese Ungleichförmigkeit oder Defekte zu entfernen, wurden ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem spezifischen Gehalt von Fe, Sn, In, Ga und Zn, einer spezifischen Oberflächenrauhheit und einer spezifischen Grübchengröße gemäß der Offenbarung in JP-A- 58-209597, ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem spezifischen Gehalt von Mn und Si gemäß der Offenbarung in JP-A-60-230951, ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem spezifischen Gehalt von Mn und Si, der einer spezifischen Wärmebehandlung unterzogen wurde, gemäß der Offenbarung in JP-A-62-80255, ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem spezifischen Gehalt von Mg und Mn und mit einer spezifischen Kristallteilchenbreite gemäß der Offenbarung in JP-A-62-86143, ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem spezifischen Gehalt von Si, Fe, Mn und Cu gemäß der Offenbarung in JP-A-1-306288, ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem spezifischen Gehalt von Mg, Si und Cu gemäß der Offenbarung in JP-A-1-61293 und ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem spezifischen Gehalt von Si, Fe, Cu, Ga, Ni und Ti gemäß der Offenbarung in JP-A-3-177528 vorgeschlagen. Jedoch kann kein Vorschlag das Auftreten von durch Druckfarbenaufnahme verursachten Flecken auf dem Träger verhindern.
Die JP-A-6 041 667 offenbart einen Aluminiumträger für eine Leiterplatine, die eine Vielzahl weiterer Metalle einschließlich von Natrium enthalten kann.

Zusammenfassung der Erfindung

Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um die im vorhergehenden beschriebenen Probleme zu lösen. Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung einer Flachdruckplatte, die einen Träger aus einer Aluminiumlegierung umfasst, der Flecken, die auf dem Träger aufgrund von Ungleichförmigkeit oder Defekten (oder in Nichtbildbereichen von Drucken) auftreten, oder winzige Punkte (Haltverschmutzung), die auf dem Träger (oder in Nichtbildbereichen von Drucken) beider Wiederaufnahme eines Druckdurchgangs auftreten, verhindert.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung

Die obigen Aufgaben der Erfindung können durch folgendes gelöst werden:
1. Verwendung eines Trägers aus einer Aluminiumlegierung für eine Flachdruckplatte, wobei der Natriumgehalt des Trägers 0,005-0,040 Gew.-% beträgt.
2. Verwendung des Trägers aus einer Aluminiumlegierung nach obigem Punkt 1, wobei der Gesamtgehalt von Natrium und Zink im Träger 0,01-0,040 Gew.-% beträgt.
3. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte, die einen Träger und eine darauf befindliche lichtempfindliche Schicht umfasst, wobei der Träger ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem Natriumgehalt von 0,005-0,040 Gew.-% ist.
4. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Punkt 3, wobei der Träger ein Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem Gesamtgehalt von Natrium und Zink von 0,01-0,040 Gew.-% ist.
5. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Punkt 3, wobei die lichtempfindliche Schicht ein alkalilösliches Harz und eine o-Chinondiazidverbindung umfasst.
6. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Punkt 5, wobei die lichtempfindliche Schicht das alkalilösliche Harz in einer Menge von 5-90 Gew.-% und die o-Chinondiazidverbindung in einer Menge von 6-60 Gew.-% umfasst.
7. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Punkt 5, wobei die o-Chinondiazidverbindung eine Esterverbindung von o- Naphthochinondiazidsulfonsäure und einem Polykondensatharz von Phenolen mit Aldehyden oder Ketonen ist.
8. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Punkt 5, wobei die Trockenbeschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht 0,2-10 g/m² beträgt.
9. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Punkt 3, wobei der Träger eine Dicke von 0,1-0,50 mm aufweist, oder
10. vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Punkt 5, wobei der Träger einer Aufrauhbehandlung oder Eloxierbehandlung unterzogen wurde.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung führten intensive Untersuchungen an einem Träger aus einer Aluminiumlegierung für eine Flachdruckplatte durch. Infolgedessen ermittelten die Erfinder der vorliegenden Erfindung, dass der Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einem Natriumgehalt von 0,005-0,040 Gew.-% das Auftreten von Flecken auf dem Träger verhindern kann und sie gelangten so zu der vorliegenden Erfindung. Die vorliegende Erfindung zeigt ferner den überraschenden Effekt, dass das Auftreten von Haltverschmutzung, nachdem ein Druck gestartet, zum zeitweiligen Ruhen oder Registrieren gestoppt und anschließend neu gestartet wurde, minimiert ist.
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden erklärt.
Der für die Flachdruckplatte verwendbare Träger aus einer Aluminiumlegierung gemäß der Erfindung umfasst Natrium in einer Menge von 0,005-0,040 Gew.-%.
Der für die Flachdruckplatte verwendbare Träger aus einer Aluminiumlegierung gemäß der Erfindung kann unvermeidlicherweise von Natrium verschiedene Fremdatome enthalten. Der Gehalt dieser Fremdatome ist beispielsweise der Gehalt nach den Angaben in JIS-Standard A1050 (nicht mehr als 0,25 Gew.-% Si, nicht mehr als 0,40 Gew.-% Fe, nicht mehr als 0,05 Gew.-% Cu, nicht mehr als 0,05 Gew.-% Mn, nicht mehr als 0,05 Gew.-% Mg, nicht mehr als 0,05 Gew.-% Zn, nicht mehr als 0,03 Gew.-% Ti). Fremdatome mit diesen Gehalten können dennoch die erfindungsgemäße Aufgabe lösen.
Der Grund, weshalb der im vorhergehenden angegebene Natriumgehalt das Auftreten von Flecken oder Haltverschmutzung auf dem Druckplattenträger verhindert, ist nicht klar, wird jedoch wie im folgenden gesehen:
Die meisten anderen Metalle, die in dem Träger aus einer Aluminiumlegierung in winzigen Mengen enthalten sein können, sind im Vergleich zu Aluminium chemisch stabil und daher wird wahrscheinlich das relativ instabile Aluminium korrodiert. Aluminium ist das Hauptelement in dem Träger aus einer Aluminiumlegierung, und sobald eine Korrosion kontinuierlich fortschreitet, treten wahrscheinlich eine Ungleichförmigkeit oder Defekte auf der Oberfläche auf. Diese Defekte besitzen ein größeres Verhältnis Grübchentiefe/Grübchengröße im Vergleich zu halbkugeligen Grübchen, die durch elektrolytisches Aufrauhen der Oberfläche erhalten werden, und sie nehmen daher leicht eine Verunreinigung auf.
Wenn ein stärker als Aluminium chemisch instabiles Metall zugesetzt wird, geht die Korrosion des Metalls vor. Wenn der Gehalt dieses Metalls auf eine infinitesimale Menge verringert wird, kann die Korrosion der Aluminiumlegierung minimiert werden. Daher ist eine winzige Natriummenge in dem Träger aus einer Aluminiumlegierung mit einer winzigen Menge in dem Träger verteilt und die vorrangige Korrosion des Natriums erzeugt nur eine minimale Größe von Ungleichförmigkeit oder Defekten, was keine nachteilige Wirkung auf die Druckeigenschaften, beispielsweise die Eigenschaften, die das Auftreten von Flecken oder das Auftreten von Haltverschmutzung verhindern, hat. Es wird angenommen, dass die winzige Menge Natrium in dem Träger aus einer Aluminiumlegierung in der Erfindung die Ungleichförmigkeit oder Defekte auf der Trägeroberfläche minimiert und die vorteilhaften Wirkungen der Erfindung, das Verhindern des Auftretens von Flecken oder des Auftretens von Haltverschmutzung zeigt.
Der Mechanismus, der winzige Flecken (Haltverschmutzung) verhindert, ist nicht klar, wird jedoch wie folgt gesehen:
Wenn ein Druck gestoppt wird, trocknet die Flachdruckplatte, da dieser kein Befeuchtungswasser zugeführt wird. Die getrocknete Platte, die eine Trägeroberfläche mit Ungleichförmigkeit oder Defekten oder eine Oberfläche mit einer nicht-gleichförmigen Benetzbarkeit aufweist, führt zu einer Druckfarbenaggregation und sie bringt bei einer Wiederaufnahme eines Druckdurchgangs das Auftreten von winzigen Flecken (Haltverschmutzung) mit sich.
Erfindungsgemäß beträgt der Natriumgehalt des Trägers aus einer Aluminiumlegierung 0,005-0,040 Gew.-% und vorzugsweise 0,010-0,020 Gew.-%.
Der bei der Flachdruckplatte verwendbare Träger aus einer Aluminiumlegierung gemäß der Erfindung und ein Herstellungsverfahren für eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte, die den Träger verwendet, werden im folgenden erklärt.
Eine Aluminiumlegierung mit einer Zusammensetzung wie im vorhergehenden beschrieben wird nach herkömmlichen Verfahren aufgeschmolzen und geformt. Als Formverfahren wird im allgemeinen ein halbkontinuierliches Formverfahren (DC- Formverfahren) verwendet, doch kann ein kontinuierliches Dünnblechformverfahren (ein kontinuierliches Formwalzverfahren) im Hinblick auf Energieeinsparung oder die Verbesserung der mechanischen Festigkeit verwendet werden. Die entstandene Bramme wird gleichförmig gemacht, warmgewalzt, kaltgewalzt und optional angelassen, wobei eine Platte mit einer Dicke von zweckmäßigerweise 0,10-0,50 mm und vorzugsweise 0,20-0,3 mm erhalten wird.
Das nach dem Formen durchgeführte Gleichförmigmachen ist notwendig, um die Größe von winzigen Rekristallisationsteilchen, die während des Anlassens erzeugt werden, zu verringern, und bei dem Gleichförmigmachen wird die geformte Bramme günstigerweise 1-48 h bei 450-610ºC gehalten. Die Wärme zum Gleichförmigmachen und die Wärme zum Warmwalzen muss nicht getrennt appliziert werden, doch kann Wärme zum Gleichförmigmachen und zum Warmwalzen mit der gleichen Temperatur appliziert werden, worauf unmittelbar ein Warmwalzen folgt. In jedem Fall beträgt die Temperatur der Wärmeapplikation zum Warmwalzen im Anfangsstadium 400-550ºC.
Nach dem Warmwalzen wird die Bramme kaltgewalzt, um eine Platte mit einer vorgegebenen Dicke zu erhalten, jedoch wird die Bramme üblicherweise einmal oder zweimal unmittelbar nach dem Warmwalzen oder während des Kaltwalzens angelassen. Die Anlasstemperatur beträgt günstigerweise 300-600 ºC. Wenn die Anlasstemperatur weniger als 300ºC beträgt, wird die Bramme nicht vollständig rekristallisiert, und wenn die Anlasstemperatur 600ºC übersteigt ist, die Oberflächenoxidation schwerwiegend, was zu einer nachteiligen erhöhten Größe der Rekristallisationsteilchen führt.
Die auf diese Weise erhaltene Platte aus einer Aluminiumlegierung wird vorzugsweise einer Entfettungsbehandlung zur Entfernung von Walzöl auf der Oberfläche vor der Aufrauhbehandlung unterzogen. Die zu verwendende Entfettungsbehandlung umfasst eine Behandlung unter Verwendung eines Lösemittels, wie Trichlorethylen oder ein Verdünnungamittel, und eine Emulsionsentfettungsbehandlung unter Verwendung einer Emulsion, wie Kerosin und Triethanol. Es ist auch möglich, eine wässrige Lösung, die ein Alkali, wie Ätznatron, enthält, zur Entfettungsbehandlung zu verwenden. Wenn eine wässrige Alkalilösung, wie Ätznatron, zur Entfettungsbehandlung verwendet wird, ist sogar die Entfernung eines Flecken- und Oxidfilms, der durch die genannte Entfettungsbehandlung allein nicht entfernt werden kann, möglich. Wenn eine wässrige Lösung, die Alkali, wie Ätznatron, enthält, zur Entfettungsbehandlung verwendet wird, wird auf der Oberfläche eines Trägers flockiger Schmutz verursacht. In diesem Fall wird vorzugsweise eine Schmutzflockenentfernungsbehandlung durch Eintauchen in eine Säure, wie Phosphorsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure und Chromsäure, oder in ein Säuregemisch derselben durchgeführt.
Die Platte aus einer Aluminiumlegierung wird zur Bildung einer gleichförmig aufgerauhten Oberfläche aufgerauht. Das Aufrauhverfahren umfasst ein mechanisches Aufrauhverfahren, wie ein Drahtkörnungs- oder Bürstenkörnungsverfahren unter Verwendung eines rotierenden Metalldrahts in Walzenform oder einer rotierenden Nylonbürste, oder ein Blaskörnungsverfahren unter Strahlen eines Schleifmittels auf die Plattenoberfläche, ein elektrolytisches Aufrauhverfahren, sogenanntes elektrolytisches Körnen, eine Kombination derselben oder ein Aufrauhverfahren mit Dazwischenschalten einer relativ starken chemischen Aufrauhung.
In der vorliegenden Erfindung ist elektrolytisches Aufrauhen bevorzugt. Elektrolytisches Aufrauhen wird beispielsweise in einer 1.- bis 10gew.-%igen Salzsäurelösung bei 5-50 ºC mit einer Stromdichte von 20-100 A/dm² und einer Elektrizitätsmenge von 100-800 C/dm² durchgeführt. Die elektrolytisch aufgerauhte Platte wird mit einer Säure oder einem Alkali chemisch behandelt, um während der elektrolytischen Aufrauhung erzeugte Schmutzflocken zu entfernen. Die Säure umfasst Schwefelsäure, Perschwefelsäure, Flusssäure, Phosphorsäure, Salpetersäure und Salzsäure und das Alkali umfasst, Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid. Wenn das obige Aufrauhen unter Verwendung einer wässrigen Alkalilösung durchgeführt wird, werden Schmutzflocken auf der Oberfläche des Trägers verursacht. In diesem Fall wird vorzugsweise eine Schmutzflockenentfernungsbehandlung durch Eintauchen in eine Säure, wie Phosphorsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure und Chromsäure oder in ein Säuregemisch derselben durchgeführt.
Nach der Aufrauhbehandlung wird eine herkömmliche Eloxierbehandlung durchgeführt. Gleichstrom wird an die erhaltene Aluminiumplatte in einer wässrigen Lösung, die Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfamsäure oder eine Kombination derselben enthält, zur Bildung eines eloxierten Oxidfilms auf der Oberfläche der Platte angelegt. Die Eloxierbedingungen variieren in Abhängigkeit von der verwendeten Elektrolytlösung, doch wird die Platte im allgemeinen in einer Elektrolytlösung von 1-50 Gew.-% bei 5-50ºC während 1-100 s mit einer Stromdichte von 2-10 A/m² und einer Spannung von 5-50 V unter Bildung eines Oxidfilms von 0,5-5 g/m² eloxiert. Bei der Eloxierbehandlung wird eine Schwefelsäure oder Phosphorsäure enthaltende Elektrolytlösung im allgemeinen verwendet.
Der eloxierte Träger aus einer Aluminiumlegierung kann ferner mit einer hydrophilen Eigenschaft ausgestattet werden.
Ein Verfahren der Ausstattung mit einer hydrophilen Eigenschaft umfasst ein Verfahren der Verwendung eines Alkalimetallsilicats (beispielsweise eine wässrige Natriumsilicatlösung) gemäß der Offenbarung im US-Patent Nr. 2 714 066, 3 181 461, 3 280 734 und 3 902 734, ein Verfahren der Verwendung von Kaliumzirconiumfluorid gemäß der Offenbarung in JP-B-36-22063, ein Verfahren der Verwendung von Polyvinylsulfonsäure gemäß der Offenbarung im US-Patent Nr. 3 276 868, 4 153 416 und 4 689 272, ein Verfahren der Ausstattung mit einer Haftgrundschicht, die aus einem hydrophilen Harz und einem wasserlöslichen Salz besteht, auf dem Träger gemäß der Offenbarung in JP-A-56-21126, ein Verfahren der Ausstattung mit einer Haftgrundschicht, die aus einem hydrophilen Harz und einem Carbonsäuresalz besteht, auf dem Träger gemäß der Offenbarung in JP-A-64-14090, ein Verfahren der Ausstattung auf dem Schichtträger mit einer hydrophilen Schicht, die mindestens eine Verbindung, die aus Verbindungen mit einer Aminogruppe und einer Carbonsäuregruppe und/oder einer Sulfonsäuregruppe und Salzen derselben ausgewählt ist, enthält, gemäß der Offenbarung in JP-A- 63-130391 und ein Verfahren der Ausstattung auf dem Schichtträger mit einer hydrophilen Schicht, die mindestens eine Verbindung, die aus Verbindungen mit einer Aminogruppe und einer Phosphongruppe und deren Salzen ausgewählt ist, enthält, gemäß der Offenbarung in JP-A-63-165183.
Auf dem Träger aus einer Aluminiumlegierung für eine Flachdruckplatte ist eine herkömmliche lichtempfindliche Zusammensetzung zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht angebracht. Auf diese Weise wird eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte erhalten. Die aus dieser vorsensibilisierten Flachdruckplatte erhaltene Flachdruckplatte besitzt hervorragende Eigenschaften.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht ist beispielsweise die folgende:

(o-Chinondiazidverbindung)

Die o-Chinondiazidverbindung umfasst eine Esterverbindung von o-Naphthochinondiazidsulfonsäure und einem Polykondensatharz von Phenolen mit Aldehyden oder Ketonen.
Beispiele für die Phenole umfassen ein einwertiges Phenol, wie Phenol, o-Kresol, m-Kresol, p-Kresol, 3,5-Xylenol, Carvacrol und Thymol, ein zweiwertiges Phenol, wie Catechol, Resorcin oder Hydrochinon, und ein dreiwertiges Phenol, wie Pyrogallol oder Phloroglucin. Beispiele für die Aldehyde umfassen Formaldehyd, Benzaldehyd, Acetaldehyd, Crotonaldehyd und Furfural. Bevorzugt sind Formaldehyd und Benzaldehyd. Beispiele für die Ketone umfassen Aceton und Methylethylketon.
Das Polykondensatharz umfasst ein Phenol-Formaldehyd-Harz, ein m-Kresol-Formaldehydharz, ein m- und p-Kresolgemisch- Formaldehyd-Harz, ein Resorcin-Benzaldehyd-Harz und ein Pyrogallol-Aceton-Harz.
In der o-Naphthochinondiazidverbindung beträgt das Kondensationsverhältnis der o-Naphthochinondiazidsulfonsäure zur Hydroxylgruppe der Phenolkomponente 15-80 Mol-% und vorzugsweise 20-45 Mol-%.
Die erfindungsgemäß verwendete o-Chinondiazidverbindung umfasst die in der japanischen Patentveröffentlichung O.P.I. Nr. 58-43451 offenbarten Verbindungen. Beispiele hierfür umfassen übliche 1,2-Chinondiazidverbindungen, wie 1,2- Benzochinondiazidsulfonat, 1,2-Benzochinondiazidsulfonamid, 1,2-Naphthochinondiazidsulfonat und 1,2- Naphthochinondiazidsulfonamid, und sie umfassen ferner 1,2- Chinondiazidverbnldungen, wie 1,2-Benzochinondiazid-4- sulfonsäurephenylester, 1,2,1',2'-Di-(benzochinondiazid-4- sulfonyl)dihydroxybiphenyl, 1,2-Benzochinondiazid-4-(N- ethyl-N-β-naphthyl)sulfonamid, 1,2-Naphthochinondiazid-5- sulfonsäurecyclohexylester, 1-(1,2-Naphthochinondiazid-5- sulfonyl)-3,5-dimethylpyrazol, 1,2-Naphthochinondiazid-5- sulfonsäure-4'-hydroxydiphenyl-4'-azo-β-naphtholester, N,N-Di-(1,2-naphthochinondiazid-5-sulfonyl)-anilin, 2'- (1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonyloxy)-1-hydroxyanthrachinon, 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäure-2,4- dihydroxybenzophenonester, 1,2-Naphthochinondiazid-5- sulfonsäure-2,3,4-trihydroxybenzophenonester, ein Kondensationsprodukt von 2 mol 1,2-Naphthochinondiazid-5- sulfonsäurechlorid mit 1 mol 4,4'-Diaminobenzophenon, ein Kondensationsprodukt von 2 mol 1,2-Naphthochinondiazid-5- sulfonsäurechlorid mit 1 mol 4,4'-Dihydroxy-1,1'- diphenylsulfon, ein Kondensationsprodukt zwischen 1 mol 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäurechlorid und 1 mol von Purpurogallin und 1,2-Naphthochinondiazid-5-(N- dihydroxyabiethyl)-sulfonamid gemäß der Beschreibung in J. Kosar, Light-Sensitive Systems, John Wiley & Sons, New York, S. 339-352 (1965) und WS. De Forest, Photoresist, Band 50, McGraw-Hill, New York (1975). Andere Beispiele sind 1,2-Naphthochinondiazidverbindungen gemäß der Beschreibung in der geprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. 37-1953, 37-3627, 37/13109, 40/26126, 40/3801, 45/5604, 45/27345 und 51/13013 und der japanischen Patentveröffentlichung O.P.I. Nr. 48/96575, 48/63802 und 48/63803.
Von den oben beschriebenen o-Chinondiazidverbindungen ist eine o-Chinondiazidesterverbindung, die durch Reaktion von 1,2-Benzochinondiazidsulfonylchlorid oder 1,2- Naphthochinondiazidsulfonylchlorid mit einem Pyrogallol- Aceton-Harz oder 2,3,4-Trihydroxybenzophenon erhalten wird, besonders bevorzugt.
Erfindungsgemäß kann die o-Chinondiazidverbindung allein oder in Kombination verwendet werden.
Die eine o-Chinondiazidverbindung enthaltende lichtempfindliche Schicht enthält vorzugsweise ein alkalilösliches Harz. Das alkalilösliche Harz umfasst ein Novolakharz, ein Vinylpolymer mit einer phenolischen Hydroxygruppe und ein Polykondensat eines mehrwertigen Phenols mit Aldehyd oder Keton gemäß der Offenbarung in der japanischen Patentveröffentlichung O.P.I. Nr. 55-57841. Das alkalilösliche Harz ist in der lichtempfindlichen Schicht in einer Menge von vorzugsweise 5-90 Gew.-% enthalten.
Das obige Novolakharz umfasst ein Phenol-Formaldehyd-Harz, ein Kresol-Formaldehyd-Harz, ein Phenol-Kresol-Formaldehyd- Harz gemäß der Offenbarung in der japanischen Patentveröffentlichung O.P.I. Nr. 55-57841 und ein Copolykondensat von einem p-substituierten Phenol und Phenol oder Kresol mit Formaldehyd gemäß der Offenbarung in der japanischen Patentveröffentlichung O.P.I. Nr. 55-127553.
Das Novolakharz weist ein anzahlgemitteltes Molekulargewicht (Mn) von zweckmäßigerweise 3,00 · 10² bis 7,50 · 10³, vorzugsweise 5,00 · 10² bis 4,00 · 10³ und ein massegemitteltes Molekulargewicht (Mw) von zweckmäßigerweise 1,00 · 10³ bis 3,00 · 10&sup4;, vorzugsweise 3,00 · 10³ bis 2,00 · 10&sup4; in Form des Polystyrolstandards auf. Das obige Novolakharz kann allein oder in Kombination verwendet werden. Der Gehalt der lichtempfindlichen Schicht an dem Novolakharz beträgt vorzugsweise 5-85 Gew.-%.
Der Gehalt der lichtempfindlichen Schicht an der o- Chinondiazidverbindung beträgt zweckmäßigerweise 6-60 Gew.- % und vorzugsweise 10-50 Gew.-%. Die o- Chinondiazidverbindungen enthaltende lichtempfindliche Schicht enthält optional ein Plastifizierungsmittel, ein Netzmittel, eine organische Säure oder ein Säureanhydrid. Die lichtempfindliche Schicht kann ferner ein lipophiles Mittel, wie ein p-tert.-Butylphenol-Formaldehyd-Harz, ein p-n-Octylphenol-Formaldehyd-Harz oder ein Esterharz derselben, das partiell mit einer o-Chinondiazidverbindung verestert ist, enthalten, um die Lipophilie der lichtempfindlichen Schicht zu erhöhen.
Die lichtempfindliche Schicht kann ferner von den im vorhergehenden beschriebenen verschiedene verschiedenste Zusatzstoffe enthalten, beispielsweise Alkylether (wie Ethylcellulose oder Methylcellulose), ein fluorhaltiges Netzmittel, ein nichtionisches Netzmittel (wie Pluronic L- 64, hergestellt von Asahidenka Co., Ltd.), ein Plastifizierungsmittel, um der aufgetragenen Schicht Flexibilität oder Antiabriebeigenschaften zu verleihen (wie Butylphthalat, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, ein Oligomer oder Polymer von Acrylsäure oder Methacrylsäure), ein lipophiles Mittel zur Verbesserung der Lipophilie von Bildbereichen (wie ein Alkoholhalbester von Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymer gemäß der Offenbarung in der japanischen Patentveröffentlichung O.P.I. Nr. 55-527/1980), ein Stabilisierungsmittel (wie Phosphorsäure, phosphorige Säure, eine organische Säure, beispielsweise Citronensäure, Oxalsäure, Benzolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 4-Methoxy-2-hydroxybenzophenon-5- sulfonsäure, Glutarsäure), einen Entwicklungsbeschleuniger (wie höhere Alkohole oder Säureanhydride). Der Gehalt an diesen Zusatzstoffen beträgt im allgemeinen 0,01 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der festen Komponenten der lichtempfindlichen Schicht, obwohl er in Abhängigkeit von den Verwendungszwecken variiert.
Die erfindungsgemäße vorsensibilisierte Lithographiedruckplatte wird durch Auflösen der im vorhergehenden beschriebenen Komponenten in einem Lösemittel zur Bildung einer Beschichtungslösung, Auftragen der Lösung auf den Träger aus einer Aluminiumlegierung gemäß der Erfindung und anschließend Trocknen des beschichteten Trägers zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht auf dem Träger hergestellt.
Das Lösemittel umfasst Methylcellosolve, Methylcellosolveacetat, Ethylcellosolve, Ethylcellosolveacetat, Diethylenglykolmonomethylether, Diethylenglykolmonoethylether, Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykolmethylethylether, Diethylenglykoldiethylether, Diethylenglykolmonoisopropylether, Propylenglykol, Propylenglykolmonoethyletheracetat, Propylenglykolmonobutylether, Dipropylenglykolmonomethylether, Dipropylenglykoldimethylether, Dipropylenlgykolmethylethylether, Ethylformiat, Propylformiat, Butylformiat, Amylformiat, Methylacetat, Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Methylpropionat, Ethylpropionat, Methylbutyrat, Ethylbutyrat, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Dioxan, Aceton, Methylethylketon, Cyclohexanon, Methylcyclohexanon, Diacetonalkohol, Acetylaceton, γ-Butyrolacton. Diese Lösemittel können allein oder in Kombination verwendet werden.
Das Beschichtungsverfahren zum Auftragen der lichtempfindlichen Schicht auf einen Schichtträger umfasst ein übliches Beschichtungsverfahren, wie Wirbelbeschichtung, Rakelbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftrakelbeschichtung, Walzenbeschichtung, Klingenbeschichtung oder Vorhangbeschichtung. Die Konzentration der festen Komponente der Beschichtungslösung für die lichtempfindliche Schicht beträgt vorzugsweise 1-50 Gew.-%. Die Auftragmenge der lichtempfindlichen Schicht beträgt zweckmäßigerweise 0,2-10,0 g/m² und vorzugsweise 1,0-3,0 g/m² als Feststoff.
Eine Rückschicht (die auch als Rückdeckschicht bezeichnet wird), die Metalloxide enthält, die durch Hydrolyse oder Polykondensation von organischen oder anorganischen Metallverbindungen erhalten wurden, wird vorzugsweise auf der der lichtempfindlichen Schicht entgegengesetzten Oberfläche des Trägers aus einer Aluminiumlegierung angebracht, wodurch das Auflösen von eloxiertem Aluminiumoxid im Entwickler minimiert wird.
Die Beschichtungsmenge der Rückschicht kann beliebig sein, sofern sie ein Auflösen des Aluminiums im Entwickler verhindert. Die Beschichtungsmenge der Rückschicht beträgt üblicherweise 0,001-10 g/m², zweckmäßigerweise 0,01-1 g/m² und vorzugsweise 0,02-0,1 g/m².
Die Rückschicht kann auf der der lichtempfindlichen Schicht entgegengesetzten Oberfläche des Trägers nach verschiedenen Beschichtungsverfahren aufgetragen werden. Um die oben beschriebene Beschichtungsmenge zu erhalten, ist das bevorzugte Beschichtungsverfahren ein Verfahren, das das Herstellen einer Beschichtungslösung für die Rückschicht, das Auftragen der Lösung auf einen Träger und Trocknen umfasst.
Die vorsensibilisierte Flachdruckplatte wird bildgerecht mit Licht durch ein durchsichtiges Original mit einem Zeilenbild oder einem Punktbild belichtet. Die Lichtquelle für die Belichtung umfasst eine Kohlenbogenlampe, eine Quecksilberlampe, eine Xenonlampe, eine Metallhalogenidlampe und ein Stroboskop.
Die belichtete Platte wird mit einem Entwickler entwickelt, mit Wasser oder einer Spüllösung gewaschen, optional mit einer Gummierlösung gummiert und getrocknet, wobei eine Flachdruckplatte zum Drucken erhalten wird. Die Flachdruckplatte wird auf einer Druckmaschine montiert und ein Druck wird durchgeführt.
Der in der Erfindung verwendete Entwickler ist vorzugsweise eine wässrige alkalische Lösung. Das Alkali des Entwicklers umfasst ein Alkalimetallsilicat, wie Kaliumsilicat, Natriumsilicat, Natriummetasilicat, Kaliummetasilicat oder Ammoniumsilicat, ein anorganisches Alkali, wie Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat oder Ammoniumcarbonat, und ein organisches Alkali, wie Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin oder ein Tetraalkylammoniumhydroxid. Bevorzugt ist von diesen Alkalis das Alkalimetallsilicat. Der Entwickler enthält das Alkali in einer Menge von vorzugsweise 0,3-10 Gew.-% und Wasser in einer Menge von vorzugsweise nicht weniger als 50 Gew.-%. Der Entwickler ist vorzugsweise eine wässrige Lösung mit einem Alkalisilicatgehalt von 0,3-10 Gew.-%, in der der Siliciumdioxid(SiO&sub2;)-Gehalt des Silicats 0,1-7,0 Gew.-% beträgt.
Der Entwickler in der Erfindung enthält optional andere Zusatzstoffe, wie eine organische Säure, ein anionisches, nichtionisches oder kationisches Netzmittel, ein organisches Lösemittel und ein Reduktionsmittel.
Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen detailliert angegeben, ohne darauf beschränkt zu sein.

Beispiel 1

(Herstellung der vorsensibilisierten Flachdruckplatte 1)

Die Aluminiumlegierung mit der in Tabelle 1 angegebenen Zusammensetzung wurde aufgeschmolzen und gemäß einem halbkontinuierlichen Formverfahren geformt, wobei ein Barren mit einer Größe von 400 mm · 1000 mm · 3000 mm gebildet wurde. 10 mm wurden von jeder Oberfläche des Barrens entfernt. Der entstandene Barren wurde 6 h bei 550ºC gleichförmig gemacht, zur Bildung einer 5 mm dicken Platte warmgewalzt und zur Bildung einer 1,5 mm dicken Platte kaltgewalzt. Die entstandene Platte würde 2 h bei 400ºC in einer Partie angelassen und schließlich kaltgewalzt, wobei ein Plattenträger aus einer Aluminiumlegierung mit einer Dicke von 0,3 mm erhalten wurde.
Der entstandene Träger wurde zum Entfetten 30 s in eine bei 85ºC gehaltene 10%ige wässrige Natriumhydroxidlösung getaucht und anschließend mit Wasser gewaschen. Die entstandene Aluminiumplatte wurde zur Schmutzflockenentfernung 1 min in eine bei 25ºC gehaltene 10%ige wässrige Schwefelsäurelösung getaucht und anschließend mit Wasser gewaschen. Die entstandene Aluminiumplatte wurde 30 s bei 30ºC mit einer Stromdichte von 60 A/dm² in einer 1,5%igen wässrigen Salpetersäurelösung elektrolytisch geätzt, wobei ein sinusförmiger Wechselstrom von 50 Hz verwendet wurde. Die geätzte Platte wurde zur Schmutzflockenentfernung 10 s in eine 10%ige wässrige Natriumhydroxidlösung von 60ºC, anschließend 20 s in eine bei 25ºC gehaltene 10%ige wässrige Schwefelsäurelösung getaucht und anschließend mit Wasser gewaschen. Die entstandene Platte wurde 60 s in einer 20%igen wässrigen Schwefelsäurelösung von 35ºC mit einer Stromdichte von 3 A/dm² eloxiert und anschließend mit Wasser gewaschen. Auf diese Weise wurde Träger 1 erhalten.
Die im folgenden angegebene Beschichtungslösung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche des Trägers 1 mittels einer Rakel aufgetragen und anschließend 2 min bei 80ºC getrocknet, wobei eine lichtempfindliche Schicht mit einer Trockendicke von 2,0 g/m² erhalten wurde. Auf diese Weise wurde eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte 1 erhalten. Die vorsensibilisierten Flachdruckplatten 2 bis 4 wurden gemäß der vorsensibilisierten Flachdruckplatte 1 hergestellt, wobei jedoch die in Tabelle 1 angegebenen Träger aus einer Aluminiumlegierung 2 bis 4 verwendet wurden.

(Beschichtungslösung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung)

Novolakharz (Phenol/m-Kresol/p-Kresol, Molverhältnis 10/54/36), Mw: 4000) 6,70 g
Kondensationsprodukt (Veresterungsrate 30%) von einem Pyrogallol- Aceton-Harz (Mw: 3 000) mit o- Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid 1,50 g
Polyethylenglykol 2000 0,20 g
Vicoria Pure Blue BOH (hergestellt von Hodogaya Kagaku Co., Ltd.) 0,08 g
2,4-Bis(trichlormethyl)-6-(p-methoxystyryl)-s- triazin 0,15 g
FC-430 (hergestellt von Sumitomo 3M Co., Ltd.) 0,03 g
cis-1,2-Cyclohexandicarbonsäure 0,02 g
Methylcellosolve 100 ml Tabelle 1
Jede der im vorhergehenden erhaltenen vorsensibilisierten Flachdruckplatten wurde zu 80 · 60 cm zerschnitten und unter Verwendung einer 4-kW-Metallhalogenidlampe 60 s mit 8 mw/cm² belichtet. Die belichtete Platte wurde dann unter Verwendung eines Entwicklers, der durch Verdünnen eines handelsüblichen Entwicklers SDR-1 (hergestellt von Konica Corporation) mit Wasser um einen Faktor 6 erhalten wurde, 40 s bei 30ºC entwickelt, wobei eine positiv arbeitende Druckplatte für einen Druckdurchgang erhalten wurde. Die entstandene Druckplatte wurde gemäß dem folgenden Bewertungsverfahren bewertet.

(Bewertung)

(Flecken)

Die positiv arbeitende Druckplatte wurde ferner für eine Brennbehandlung 60 s auf 250ºC erhitzt, auf Raumtemperatur gekühlt, mit Wasser gewaschen und anschließend gummiert. Unter Verwendung der im vorhergehenden erhaltenen Druckplatte wurde ein Druck auf einer Druckmaschine (DAIYAIF-1, hergestellt von Mitsubishi Jukogyo Co., Ltd.) durchgeführt, wobei ein gestrichenes Papier, Befeuchtungswasser (Etch Solution SG-51 (Konzentration 1,5%), hergestellt von Tokyo Ink Co., Ltd.) und Druckfarbe (Hyplus M magenta, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) verwendet wurden.. Auf diese Weise wurden einhundert Drucke erhalten und die Nichtbildbereiche des einhundertsten Drucks wurden nach den folgenden Kriterien bewertet:
A: Es traten keine Flecken in Nichtbildbereichen auf.
B: Mehrere Flecken traten in Nichtbildbereichen auf.
C: Flecken traten auf einem Teil der Nichtbildbereiche oder in den gesamten Nichtbildbereichen auf.
(Haltverschmutzung, die auf dem Träger nach einem Starten des Drucks, Anhalten während eines vorgegebenen Zeitraums und anschließender Wiederaufnahme auftrat)
Ein Druck wurde gemäß oben durchgeführt, wobei jedoch die positiv arbeitende Druckplatte keiner Brennbehandlung und Gummierung unterzogen wurde und reines Wasser als Befeuchtungswasser verwendet wurde. Nachdem fünftausend Bögen von gestrichenem Papier bedruckt waren, wurde der Druck für 1 h gestoppt und anschließend wurde der Druck wieder auf genommen, um einhundert Drucke zu erhalten. Die Zahl der Haltverschmutzungen, die auf 100-cm²-Nichtbildbereichen des einhundertsten Drucks bei der Wiederaufnahme eines Druckdurchgangs auftraten, wurde zur Bewertung gezählt.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 angegeben. Tabelle 2
Aus Tabelle 2 ist ersichtlich, dass die Flachdruckplattenprüflinge 1 und 2, die den erfindungsgemäßen Träger aus einer Aluminiumlegierung verwenden, keine Flecken ergaben und eine überraschend verringerte Haltverschmutzung im Vergleich zu den Vergleichsprüflingen ergaben. Der erfindungsgemäße Träger aus einer Aluminiumlegierung bietet äußerst hervorragende Druckeigenschaften.

Claims

1. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte, die einen Schichtträger und eine darauf befindliche lichtempfindliche Schicht umfasst, wobei der Schichtträger eine Schicht aus einer Aluminiumlegierung mit einem Natriumgehalt von 0,005 bis 0,040 Gew.-% ist.

2. Druckplatte gemäß Anspruch 1, wobei der Schichtträger ein Schichtträger aus einer Aluminiumlegierung mit einem Gesamtgehalt von Natrium und Zink von 0,01 bis 0,040 Gew.-% ist.

3. Druckplatte gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei die lichtempfindliche Schicht ein alkalilösliches Harz und eine o-Chinondiazidverbindung umfasst.

4. Druckplatte gemäß Anspruch 3, wobei die lichtempfindliche Schicht das alkalilösliche Harz in einer Menge von 5 bis 90 Gew.-% und die o-Chinondiazidverbindung in einer Menge von 6 bis 60 Gew.-% umfasst.

5. Druckplatte gemäß Anspruch 3 oder 4, wobei die o-Chinondiazidverbindung eine Esterverbindung aus o-Naphthochinondiazidsulfonsäure und einem Polykondensatharz von Phenolen mit Aldehyden oder Ketonen ist.

6. Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Trockenbeschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht 0,2 bis 10 g/m² beträgt.

7. Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei der Träger eine Dicke von 0110 bis 0,50 mm aufweist.

8. Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Träger einer Aufrauhbehandlung und Eloxierbehandlung unterzogen worden ist.

9. Verwendung eines Trägers aus einer Aluminiumlegierung für eine Flachdruckplatte, wobei der Natriumgehalt des Trägers 0,005 bis 0,040 Gew.-% beträgt.

10. Verwendung gemäß Anspruch 9, wobei der Gesamtgehalt von Natrium und Zink in dem Träger 0,01 bis 0,040 Gew.-% beträgt.