DE69721309T9 - REDUCING THE FORMATION OF CAVITIES IN HARDENABLE ADHESIVE COMPOSITIONS - Google Patents
REDUCING THE FORMATION OF CAVITIES IN HARDENABLE ADHESIVE COMPOSITIONS Download PDFInfo
- Publication number
- DE69721309T9 DE69721309T9 DE69721309T DE69721309T DE69721309T9 DE 69721309 T9 DE69721309 T9 DE 69721309T9 DE 69721309 T DE69721309 T DE 69721309T DE 69721309 T DE69721309 T DE 69721309T DE 69721309 T9 DE69721309 T9 DE 69721309T9
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- catalyst
- preparation
- tert
- curing
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims abstract description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 74
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 48
- -1 cumene peroxyneoheptanoate Chemical compound 0.000 claims description 23
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 claims description 19
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 claims description 6
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 6
- HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-ynoxyprop-1-yne Chemical compound C#CCOCC#C HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000004643 cyanate ester Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 5
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- JUIBLDFFVYKUAC-UHFFFAOYSA-N [5-(2-ethylhexanoylperoxy)-2,5-dimethylhexan-2-yl] 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C(CC)CCCC JUIBLDFFVYKUAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 4
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylcyclohexyl) (4-tert-butylcyclohexyl)oxycarbonyloxy carbonate Chemical compound C1CC(C(C)(C)C)CCC1OC(=O)OOC(=O)OC1CCC(C(C)(C)C)CC1 NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZACVGCNKGYYQHA-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexoxycarbonyloxy 2-ethylhexyl carbonate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)OOC(=O)OCC(CC)CCCC ZACVGCNKGYYQHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RAWISQFSQWIXCW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 2,2-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CCCCCCC(C)(C)C(=O)OOC(C)(C)CC RAWISQFSQWIXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AQKYLAIZOGOPAW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CCC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C AQKYLAIZOGOPAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYXLCWVDCCGUPA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 4,4-dimethylpentaneperoxoate Chemical compound CCC(C)(C)OOC(=O)CCC(C)(C)C RYXLCWVDCCGUPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KFGFVPMRLOQXNB-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethylhexanoyl 3,5,5-trimethylhexaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CC(=O)OOC(=O)CC(C)CC(C)(C)C KFGFVPMRLOQXNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XKXGWYAQJRXDPI-UHFFFAOYSA-N 7-methyloctanoyl 7-methyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)CCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCC(C)C XKXGWYAQJRXDPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NSGQRLUGQNBHLD-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl butan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CCC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)CC NSGQRLUGQNBHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- DTOJBTUWYBSXIZ-UHFFFAOYSA-N cumene;7,7-dimethyloctaneperoxoic acid Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1.CC(C)(C)CCCCCC(=O)OO DTOJBTUWYBSXIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940057404 di-(4-tert-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate Drugs 0.000 claims description 3
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 claims description 3
- YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N propoxycarbonyloxy propyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OOC(=O)OCCC YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VNJISVYSDHJQFR-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4,4-dimethylpentaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCC(=O)OOC(C)(C)C VNJISVYSDHJQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CSKKAINPUYTTRW-UHFFFAOYSA-N tetradecoxycarbonyloxy tetradecyl carbonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)OOC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC CSKKAINPUYTTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 claims description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011953 free-radical catalyst Substances 0.000 claims description 2
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 abstract 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 abstract 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 abstract 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N icosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- IMYCVFRTNVMHAD-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-methylbutan-2-ylperoxy)cyclohexane Chemical compound CCC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)CC)CCCCC1 IMYCVFRTNVMHAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFVNYPYVXWSEBA-UHFFFAOYSA-N 1-[20-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)-10,11-dioctylicosyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CCCCCCCCCC(CCCCCCCC)C(CCCCCCCC)CCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O WFVNYPYVXWSEBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAYHVMBQBLYQMT-UHFFFAOYSA-N 2-decyltetradecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(CO)CCCCCCCCCC CAYHVMBQBLYQMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYVBNEJDHFJJEM-UHFFFAOYSA-N 22-methyltricosan-1-amine Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCN IYVBNEJDHFJJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- NAPSCFZYZVSQHF-UHFFFAOYSA-N dimantine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(C)C NAPSCFZYZVSQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950010007 dimantine Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- NHVAOQDNTIYRSX-UHFFFAOYSA-N n'-hexadecyl-n,n,n'-trimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN(C)CCN(C)C NHVAOQDNTIYRSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCDURTXVSVSUDY-UHFFFAOYSA-N n'-icosyl-n,n,n'-trimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCN(C)CCN(C)C JCDURTXVSVSUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYDRZIVVHNHENB-UHFFFAOYSA-N n,n,n'-trimethyl-n'-octadecylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(C)CCN(C)C SYDRZIVVHNHENB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMAMSEALKTTC-UHFFFAOYSA-N n,n,n'-trimethyl-n'-phenylethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C1=CC=CC=C1 RELMAMSEALKTTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCMTVIZYKDBFFS-UHFFFAOYSA-N n-hexadecyl-n-methylhexadecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCCCCCCCC KCMTVIZYKDBFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFLWKHBYVIUAMP-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-octadecyloctadecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC VFLWKHBYVIUAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004978 peroxycarbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
- C09J5/02—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving pretreatment of the surfaces to be joined
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
- C09J5/06—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving heating of the applied adhesive
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/303—Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft Zusammensetzungen, die sich zum Verbinden von elektronischen Vorrichtungen mit Trägern dafür eignen, sowie Verfahren, um die erwünschte Verbindung zu erhalten, und im wesentlichen hohlraumfreie Gegenstände, die dabei erzeugt werden.The The present invention relates to compositions which are useful for bonding of electronic devices with supports, as well as methods the desired To obtain connection, and substantially void-free objects, the thereby generated.
HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION
Die Mikroelektronikindustrie verwendet verschiedene Substrate, um daran mikroelektronische Vorrichtungen zu befestigen. Die meisten dieser Vorrichtungen werden durch Verwendung irgendeiner Art von Klebstoff an geeignete Substrate befestigt. Unglücklicherweise neigen viele der üblicherweise in der Mikroelektronikindustrie verwendeten Substrate und/oder Vorrichtungen dazu, Feuchtigkeit zu absorbieren. Wenn sie den erhöhten Temperaturen ausgesetzt werden, die zum Härten solcher Klebstoffe erforderlich sind, kann es als Folge der Freisetzung von absorbierter Feuchtigkeit und/oder anderen flüchtigen Stoffen, die von der Vorrichtung und/oder dem Substrat bei erhöhten Temperaturen freigesetzt werden können, zur Bildung von Hohlräumen in verschiedenerlei Mengen kommen.The Microelectronics industry uses different substrates to keep it to attach microelectronic devices. Most of these Devices are made by using some type of glue attached to suitable substrates. Unfortunately, many are inclined the usual Substrates and / or devices used in the microelectronics industry to absorb moisture. If you like the elevated temperatures be exposed to the hardening Such adhesives may be required as a result of the release absorbed moisture and / or other volatile Substances coming from the device and / or the substrate at elevated temperatures can be released for the formation of cavities come in different amounts.
Die Bildung von Hohlräumen kann zu einer starken Verringerung der Verläßlichkeit des resultierenden Gegenstandes führen, da die Klebstoffverbindungsstelle zwischen der Vorrichtung und dem Substrat unterbrochen wird. Es wäre deshalb wünschenswert, Zusammensetzungen und Verfahren für deren Verwendung zu entwickeln, welche den Zusammenbau und die Verbindung der Vorrichtung mit dem Substrat ermöglichen, ohne in dem fertigen Gegenstand eine bedeutende Menge an Hohlräumen zu erzeugen.The Formation of cavities can greatly reduce the reliability of the resulting article to lead, because the glue joint between the device and the Substrate is interrupted. It would be therefore desirable To develop compositions and methods for their use which the assembly and the connection of the device with the Substrate enable, without a significant amount of voids in the finished article produce.
KURZE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNGBRIEF DESCRIPTION OF THE INVENTION
Gemäß der vorliegenden Erfindung sind Klebstoff-Zubereitungen entwickelt worden, welche das Härten von mittels Klebstoff verbundenen Aufbauten (d. h. Aufbauten, die Vorrichtungen umfassen, welche mittels Klebstoff auf Substrate geklebt wurden) bei dra stisch vermindertem Auftreten von Hohlraumbildung beim Härten ermöglichen. In vielen Fällen kann durch Einsatz der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen die Hohlraumbildung ausgeschlossen werden.According to the present Invention adhesive compositions have been developed, which the hardening of adhesively bonded structures (i.e. Include devices which glued to substrates by means of adhesive were) at dra cally reduced occurrence of cavitation while hardening enable. In many cases can by using the compositions of the invention, the cavitation be excluded.
Gemäß eines weiteren Aspekts der vorliegenden Erfindung werden auch Verfahren, welche die oben beschriebenen Klebstoff-Zubereitungen verwenden, sowie im wesentlichen hohlraumfreie Gegenstände, die dabei erzeugt werden, zur Verfügung gestellt.According to one Another aspect of the present invention also provides methods, which use the adhesive formulations described above, as well as substantially void-free objects, which are generated thereby provided.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNGDETAILED DESCRIPTION THE INVENTION
Gemäß der vorliegenden Erfindung werden Verfahren zur Verminderung der Hohlraumbildung beim Härten einer Klebstoff-Zubereitung, die zum Verbinden einer Vorrichtung mit einem Substrat verwendet wird, zur Verfügung gestellt, wobei die Vorrichtung und/oder das Substrat dazu neigt/neigen, bei erhöhten Temperaturen flüchtige Stoffe freizusetzen. Die erfindungsgemäßen Verfahren umfassen die Verwendung eines Katalysators, welcher das Härten der Zubereitung bei einer Temperatur von weniger als etwa 100°C initiiert, als Härtungskatalysator für solche Klebstoff-Zubereitungen.According to the present The invention provides methods for reducing cavitation while hardening an adhesive preparation, used to connect a device to a substrate will be available with the device and / or substrate tending to at elevated Temperatures volatile Release substances. The methods of the invention include the Use of a catalyst which comprises curing the preparation in a Temperature of less than about 100 ° C initiated as a curing catalyst for such Adhesive formulations.
Die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehenen Klebstoff-Zubereitungen sind u. a. Cyanatester-basierende Zubereitungen, Maleinimid-basierende Zubereitungen, Epoxy-basierende Zubereitungen, (Meth-)Acrylat-basierende Zubereitungen, Vinylether-basierende Zubereitungen, Vinylester-basierende Zubereitungen, Allylester-basierende Zubereitungen, Diallylamid-basierende Zubereitungen, Propargylether-basierende Zubereitungen, Zubereitungen auf Basis einer Polysiloxan-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende, Zubereitungen auf Basis einer vorimidisierten Polyimid-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehenden beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.The intended for use in the practice of the present invention Adhesive preparations are u. a. Cyanate ester based preparations, Maleimide-based preparations, epoxy-based preparations, (meth) acrylate-based Preparations, vinyl ether-based preparations, vinyl ester-based Preparations, allyl ester-based preparations, diallylamide-based preparations, propargyl ether-based Preparations, preparations based on a polysiloxane backbone with one or more of the functional ones described above Groups at the end, preparations based on a pre-imidized polyimide backbone with a or more of the above-described functional groups at the end and the like, as well as mixtures of any two or several of them.
Eine breite Vielfalt an Cyanatester-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 447 988, US-Patent Nr. 5 358 992, US-Patent Nr. 5 489 641, wobei jedes davon hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.A wide variety of cyanate ester based formulations for the use in the practice of the present invention. numerous examples for such preparations have been described in the prior art. See, for example, the US patent No. 5,447,988, U.S. Patent No. 5,358,992, U.S. Patent No. 5,489,641, each of which is hereby incorporated by reference in its entirety.
Eine breite Vielfalt an Maleinimid-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel die US-Anmeldungsnummer 08/300 721, eingereicht am 2. September 1994, die US-Anmeldungsnummer 08/460 495, eingereicht am 2. Juni 1995, die US-Anmeldungsnummer 08/711 982, eingereicht am 10. September 1996, das US-Patent Nr. 4 806 608 und das US-Patent Nr. 4 581 461, wobei jede(s) davon hier durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit mitumfaßt ist.A wide variety of maleimide-based formulations are suitable for use in the practice of the present invention. Numerous examples of such preparations are in the art been described. See, for example, US Application Serial No. 08 / 300,721, filed September 2, 1994, US Application Serial No. 08 / 460,495, filed June 2, 1995, US Application Serial No. 08 / 711,982, filed September 10, 1996 U.S. Patent No. 4,806,608 and U.S. Patent No. 4,581,461, each of which is incorporated herein by reference in its entirety.
Eine breite Vielfalt an durch Wärme härtbaren (d. h. wärmehärtbaren) Epoxy-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 158 780 und das US-Patent Nr. 5 043 102, wobei jedes davon hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.A wide variety of through heat curable (i.e., thermosetting) Epoxy-based preparations are suitable for use in practice of the present invention. Numerous examples of such preparations have been described in the prior art. See for example U.S. Patent No. 5,158,780 and U.S. Patent No. 5,043,102, wherein each of which is hereby incorporated by reference in its entirety.
Eine breite Vielfalt an (Meth-)Acrylat-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 043 102, das hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.A wide variety of (meth) acrylate-based preparations for the use in the practice of the present invention. numerous examples for such preparations have been described in the prior art. See, for example, U.S. Patent No. 5,043,102, which is incorporated herein by reference in its entirety is.
Eine breite Vielfalt an Vinylether-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel die US-Anmeldungsnummer 08/460 495, eingereicht am 2. Juni 1995, die hier durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit mitumfaßt ist.A Wide variety of vinyl ether-based preparations is suitable for the Use in the practice of the present invention. numerous examples for such preparations have been described in the prior art. For example, see the US application number 08 / 460,495, filed June 2, 1995, incorporated herein by reference in its entirety is.
Eine breite Vielfalt an Vinylester-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 475 048, das hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.A Wide variety of vinyl ester based formulations is suitable for the Use in the practice of the present invention. numerous examples for such preparations have been described in the prior art. See, for example, the US patent No. 5,475,048, which is incorporated herein by reference in its entirety.
Eine breite Vielfalt an Allylester-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel das US-Patent Nr. 5 475 048, das hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.A wide variety of allyl ester-based preparations is suitable for the Use in the practice of the present invention. numerous examples for such preparations have been described in the prior art. See, for example, the US patent No. 5,475,048, which is incorporated herein by reference in its entirety.
Eine breite Vielfalt an Diallylamid-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel, wobei jedes davon hier durch Bezugnahme in seiner Gesamtheit mitumfaßt ist.A wide variety of diallylamide-based preparations for the use in the practice of the present invention. numerous examples for such preparations have been described in the prior art. See, for example, each of which is hereby incorporated by reference in its Entity included is.
Eine breite Vielfalt an Propargylether-basierenden Zubereitungen eignet sich für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung. Zahlreiche Beispiele für solche Zubereitungen sind im Stand der Technik beschrieben worden. Siehe zum Beispiel die US-Anmeldungsnummer 08/684 148, eingereicht am 19. Juli 1996, die hier durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit mitumfaßt ist.A wide variety of propargyl ether based preparations for the use in the practice of the present invention. numerous examples for such preparations have been described in the prior art. See, for example, US Application No. 08 / 684,148 filed on July 19, 1996, hereby incorporated by reference in their entirety incorporated is.
Derzeit bevorzugte Klebstoff-Zubereitungen, die für die Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, umfassen eine Mischung aus Maleinimid und Vinylether.Currently preferred adhesive preparations suitable for use in practice of the present invention comprise a mixture from maleimide and vinyl ether.
Gegebenenfalls umfassen die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehenen Klebstoff-Zubereitungen ferner wenigstens ein Streckmittel. Für die Verwendung hierin vorgesehene Streckmittel sind u. a. elektrisch leitfähige und wärmeleitfähige Materialien sowie nichtleitfähige Materialien, die der resultierenden Zubereitung Isoliereigenschaften verleihen.Possibly include those for use in the practice of the present invention adhesive preparations also provided at least one extender. For the Useful diluents herein are known in the art. a. electrical conductive and thermally conductive materials as well as non-conductive Materials that the resulting preparation insulating properties to lend.
Beispiele für elektrisch leitfähige Streckmittel, die für die Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. Silber, Nickel, Cobalt, Kupfer, Aluminium, metallbeschichtete Graphitfasern (wobei z. B. Metalle wie Nickel, Silber, Kupfer und dergleichen als Metallbeschichtung eingesetzt werden) und dergleichen sowie Mischungen davon. Das derzeit bevorzugte elektrisch leitfähige Streckmittel, das zur Verwendung hierin vorgesehen ist, ist Silber. In den Befestigungspastenzusammensetzungen der vorliegenden Erfindung können sowohl Pulver als auch Flockenformen des Streckmittels verwendet werden. Die bevorzugte Dicke der Flocken beträgt weniger als 2 Mikron bei einer Dimension von etwa 20 bis etwa 25 Mikron. Die für die Verwendung hierin vorgesehenen Flocken haben einen Oberflächenbereich von etwa 0,15 bis 5,0 m2/g und eine Packdichte von 0,4 bis 5,5 g/cm3. Das zur Verwendung hierin vorgesehene Pulver hat vorzugsweise einen Durchmesser von etwa 0,5 bis 15 Mikron.Examples of electrically conductive diluents contemplated for use herein include silver, nickel, cobalt, copper, aluminum, metal-coated graphite fibers (using, for example, metals such as nickel, silver, copper, and the like as a metal coating), and the like and mixtures thereof. The currently preferred electrically conductive diluent contemplated for use herein is silver. In the mounting paste compositions of the present invention, both powder and flake forms of the extender may be used. The preferred thickness of the flakes is less than 2 microns with a dimension of about 20 to about 25 microns. The flakes contemplated for use herein have a surface area of about 0.15 to 5.0 m 2 / g and a packing density of 0.4 to 5.5 g / cm 3 . The powder intended for use herein preferably has a diameter of about 0.5 to 15 microns.
Wärmeleitfähige Streckmittel, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Diamant, Bornitrid, Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid, Siliciumcarbid, Magnesiumoxid und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.Thermally conductive extenders, those intended for use in the practice of the present invention are u. a. Diamond, boron nitride, alumina, aluminum nitride, Silicon carbide, magnesium oxide and the like, and mixtures of any two or more of them.
Katalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind diejenigen, welche das Härten der Klebstoff-Zubereitung bei einer wünschenswert niedrigen Temperatur initiieren und welche auch das Härten der Klebstoff-Zubereitungen mit einer ausreichend schnellen Geschwindigkeit fördern, so daß das Aushärtungsspitzenmaximum gleichermaßen bei einer wünschenswert niedrigen Temperatur, z. B. bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 100°C, stattfindet. Derzeit bevorzugte Katalysatoren, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind diejenigen, welche das Härten der Klebstoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 90°C auftritt. Besonders bevorzugte Katalysatoren, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind diejenigen, welche das Härten der Klebstoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 80°C auftritt.catalysts those intended for use in the practice of the present invention are those which are curing the adhesive preparation at a desirable initiate low temperature and which is also the hardening of the Adhesive formulations promote with a sufficiently fast speed, so that this cure peak equally at a desirable low temperature, z. B. at a temperature of not higher than about 100 ° C, takes place. Currently preferred catalysts for use provided herein are those which cure the To promote adhesive formulations at such a rate that the cure peak maximum at a temperature of not higher as about 90 ° C occurs. Particularly preferred catalysts for use provided herein are those which cure the To promote adhesive formulations at such a rate that the cure peak maximum at a temperature of not higher as about 80 ° C occurs.
Zur Verwendung hierin besonders bevorzugt sind Katalysatoren, welche das Härten von Klebstoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 70°C auftritt, wobei Katalysatoren, welche das Härten der Klebestoff-Zubereitungen mit einer derartigen Geschwindigkeit fördern, daß das Aushärtungsspitzenmaximum bei einer Temperatur von nicht höher als etwa 60°C auftritt, bei bestimmten Klebstoff-Zubereitungen ganz besonders bevorzugt sind.to Particularly preferred herein are catalysts which the hardening of adhesive formulations at such a speed promote, that this cure peak at a temperature of not higher as about 70 ° C occurs, wherein catalysts which curing the adhesive compositions promote at such a rate that the Aushärtungsspitzenmaximum at a temperature from no higher as about 60 ° C occurs in certain adhesive preparations especially are preferred.
Zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehene Katalysatoren sind u. a. radikalische Katalysatoren, anionische Härtungskatalysatoren, kationische Härtungskatalysatoren, Übergangsmetall-Katalysatoren und dergleichen sowie Kombinationen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.to Use provided in the practice of the present invention Catalysts are u. a. radical catalysts, anionic curing catalysts, cationic curing catalysts, transition metal catalysts and the like, and combinations of any two or more from that.
Beispielhafte radikalische Katalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Peroxyester, Peroxycarbonate, Hydroperoxide, Alkylperoxide, Arylperoxide und dergleichen. Spezielle radikalische Initiatoren, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. Cumolperoxyneodecanoat, Cumolperoxyneoheptanoat, tert.-Amylperoxyneodecanoat, tert.-Butylperoxyneodecanoat, tert.-Amylperoxyneoheptanoat, tert.-Butylperoxyneoheptanoat, ein Peroxydicarbonat, 2,4,4-Trimethylpentyl-2-peroxyneodecanoat, Di(n-propyl)peroxydicarbonat, Di(sek.-butyl)peroxydicarbonat, Di(4-tert.-butylcyclohexyl)peroxydicarbonat, Di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonat, Dimyristylperoxydicarbonat, tert.-Amylperoxypivalat, tert.-Butylperoxypivalat, Di([3,5,5-trimethylhexanoyl]peroxid, Decanoylperoxid, Lauroylperoxid, Dilauroylperoxid, Diisononanoylperoxid, 2,5-Dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexan, 1-Amylperoxy-2-ethylhexanoat und dergleichen sowie Kombinationen von beliebigen zwei oder mehreren davon.exemplary free radical catalysts for use in the practice of Present invention are provided, u. a. peroxyesters Peroxycarbonates, hydroperoxides, alkyl peroxides, aryl peroxides and the like. Specific radical initiators intended for use herein are u. a. Cumene peroxyneodecanoate, cumene peroxyneoheptanoate, tert-amyl peroxyneodecanoate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert-amyl peroxyneoheptanoate, tert-butyl peroxyneoheptanoate, a peroxydicarbonate, 2,4,4-trimethylpentyl-2-peroxyneodecanoate, Di (n-propyl) peroxydicarbonate, di (sec-butyl) peroxydicarbonate, di (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, Di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, dimyristyl peroxydicarbonate, tert-amyl peroxypivalate, tert-butyl peroxypivalate, di ([3,5,5-trimethylhexanoyl] peroxide, decanoyl peroxide, Lauroyl peroxide, dilauroyl peroxide, diisononanoyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-Amylperoxy-2-ethylhexanoate and the like, and combinations any two or more of them.
Beispielhafte
anionische Härtungskatalysatoren,
die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen
sind, sind u. a. Imidazole, tertiäre Amine und dergleichen. Die
zur Verwendung hierin vorgesehenen Imidazole sind diejenigen mit
der allgemeinen Struktur: wobei:
R1 ausgewählt ist
aus der Gruppe, bestehend aus Alkyl-, Aryl- und Cyanoresten,
R2 ausgewählt
ist aus der Gruppe, bestehend aus Alkyl-, Aryl- und Cyanoresten,
und
R3 ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend
aus Alkyl, substituierten Alkyl-, Alkylaryl- und substituierten
Alkyl arylresten.Exemplary anionic curing catalysts contemplated for use in the practice of the present invention include imidazoles, tertiary amines, and the like. The imidazoles contemplated for use herein are those having the general structure: in which:
R 1 is selected from the group consisting of alkyl, aryl and cyano radicals,
R 2 is selected from the group consisting of alkyl, aryl and cyano radicals, and
R 3 is selected from the group consisting of alkyl, substituted alkyl, alkylaryl and substituted alkylaryl radicals.
So wie hier verwendet, bedeutet "Alkyl" gerad- oder verzweigtkettige Alkylreste mit etwa 1 bis 12 Kohlenstoffatomen; "substituiertes Alkyl" bedeutet Alkylreste, die ferner ein oder mehrere Substituenten tragen, wie z. B. Hydroxy, Alkoxy (mit einer Niedrigalkylgruppe), Mercapto (mit einer Niedrigalkylgruppe), Aryl, Heterocyclus, Halogen, Trifluormethyl, Cyano, Nitro, Amino, Carboxyl, Carbamat, Sulfonyl, Sulfonamid und dergleichen.So As used herein, "alkyl" means straight or branched chain Alkyl radicals having from about 1 to 12 carbon atoms; "Substituted alkyl" means alkyl radicals which further include or carry a plurality of substituents, such as. As hydroxy, alkoxy (with a lower alkyl group), Mercapto (with a lower alkyl group), Aryl, heterocycle, halogen, trifluoromethyl, cyano, nitro, amino, Carboxyl, carbamate, sulfonyl, sulfonamide and the like.
So wie hier verwendet, bedeutet "Aryl" aromatische Reste mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen, und "substituiertes Aryl" bedeutet Arylreste, die ferner ein oder mehrere wie oben genannte Substituenten tragen.So As used herein, "aryl" means aromatic radicals having 6 to 14 carbon atoms, and "substituted aryl" means aryl radicals further including or more than the above substituents carry.
So wie hier verwendet, bedeutet "Alkylaryl" alkylsubstituierte Arylreste, und "substituiertes Alkylaryl" bedeutet Alkylarylreste, die ferner ein oder mehrere wie oben genannte Substituenten tragen.So As used herein, "alkylaryl" means alkyl-substituted Aryl radicals, and "substituted Alkylaryl "means Alkylaryl radicals, which also have one or more substituents as mentioned above wear.
Beispielhafte Imidazole, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. 2-Ethyl-4-methylimidazol, 1-Methylimidazol, 2-Methylimidazol, 2-Undecylimidazol, 2-Phenylimidazol und dergleichen.exemplary Imidazoles contemplated for use herein are, among others, a. 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenylimidazole and the like.
Tertiäre Amine, die zur Verwendung hierin vorgesehen sind, sind u. a. Hexadecyldimethylamin, Dihexadecylmethylamin, Octadecyldimethylamin, Dioctadecylmethylamin, Dimethylbehenylamin, Dimethyleicosylamin, N,N,N'-Trimethyl-N'-hexadecyl-1,2-diaminoethan, N,N,N'-Trimethyl-N'-octadecyl-1,2-diaminoethan, N,N,N'-Trimethyl-N'-eicosyl-1,2-diaminoethan, N,N,N'-Trimethyl-N'-behenyl-1,2-diaminoethan, N,N,N',N'-Tetramethyl-1,20-diamino(10,11-dioctyl)eicosan und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon.Tertiary amines, which are intended for use herein are u. a. hexadecyl, Dihexadecylmethylamine, octadecyldimethylamine, dioctadecylmethylamine, Dimethylbehenylamine, dimethylecosylamine, N, N, N'-trimethyl-N'-hexadecyl-1,2-diaminoethane, N, N, N'-trimethyl-N'-octadecyl-1,2-diaminoethane, N, N, N ' Trimethyl-N'-eicosyl-1,2-diaminoethane, N, N, N'-trimethyl-N'-phenyl-1,2-diaminoethane, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,20- diamino (10,11-dioctyl) eicosane and the like, and mixtures of any two or more from that.
Beispielhafte kationische Härtungskatalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Oniumsalze, Iodoniumsalze, Sulfoniumsalze und dergleichen.exemplary cationic curing catalysts, those intended for use in the practice of the present invention are u. a. Onium salts, iodonium salts, sulfonium salts and the like.
Beispielhafte Übergangsmetall-Katalysatoren, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Nickel, Kupfer, Cobalt und dergleichen in Form eines Chelats, einer Seife oder dergleichen.Exemplary transition metal catalysts, those intended for use in the practice of the present invention are u. a. Nickel, copper, cobalt and the like in the form a chelate, soap or the like.
Im allgemeinen werden im Bereich von etwa 0,005 bis 10 Gew.-% von wenigstens einem der oben beschriebenen Katalysatoren (bezogen auf das Gesamtgewicht der organischen Phase, d. h. ohne jegliches Streckmittel) eingesetzt, wobei der Bereich von etwa 0,01 bis 5 Gew.-% derzeit bevorzugt ist.in the general are in the range of about 0.005 to 10 wt .-% of at least one of the catalysts described above (based on the total weight the organic phase, d. H. without any extender), the range of about 0.01 to 5 wt% is currently preferred.
Wie die Fachleute leicht erkennen werden, kann eine breite Vielfalt an Vorrichtungen gemäß der vorliegenden Erfindung geklebt werden. Beispiele für solche Vorrichtungen sind u. a. mikroelektronische Vorrichtungen auf Siliciumbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Galliumarsenidbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Quarzbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Saphirbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Indiumphosphidbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Cadmiumsulfidbasis, mikroelektronische Vorrichtungen auf Lithiumniobatbasis und dergleichen.As The professionals will easily recognize a wide variety to devices according to the present invention Be glued invention. Examples of such devices are u. a. Silicon-based microelectronic devices, microelectronic Gallium arsenide based devices, microelectronic devices quartz-based, sapphire-based microelectronic devices, Indium phosphide based microelectronic devices, microelectronic Cadmium sulfide based devices, microelectronic devices lithium niobate-based and the like.
Ebenso werden die Fachleute leicht erkennen, daß vielerlei Substrate gemäß der vorliegenden Erfindung geklebt werden können. Beispiele für solche Substrate sind Platinen, die aus Materialien hergestellt sind, welche dazu neigen, bei der Einwirkung von erhöhten Temperaturen flüchtige Stoffe freizusetzen, z. B. Platinen, die aus Materialien hergestellt sind, welche zur Absorption von Wasser neigen. Beispiele für solche Platinen sind u. a. Bismaleinimidtriazin-Platinen, Epoxyplatinen, Platinen mit einem Polyimidfilm darauf, Platinen mit einem Polycarbonatfilm darauf, Platinen mit einer Lötmaskenbeschichtung darauf und dergleichen.As well Those skilled in the art will readily recognize that many substrates according to the present invention Invention can be glued. examples for such substrates are circuit boards made from materials which tend to be at elevated temperatures volatile Release substances, eg. B. boards made of materials are, which tend to absorb water. Examples of such Boards are u. a. Bismaleimide triazine boards, epoxy boards, Circuit boards with a polyimide film on top, boards with a polycarbonate film on it, boards with a solder mask coating on it and the like.
Gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung werden Klebstoff-Zusammensetzungen zur
Verfügung
gestellt, die zum Befestigen einer Vorrichtung an einem Substrat
geeignet sind, wobei die Vorrichtung und/oder das Substrat dazu
neigt/neigen, bei erhöhten
Temperaturen flüchtige
Stoffe freizusetzen, und wobei im wesentlichen keine Hohlraumbildung
bei der Härtung
der Zusammensetzung auftritt. Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen umfassen:
Bindemittel
und
einen Katalysator, der das Härten des Bindemittels bei einer
Temperatur von nicht höher
als 100°C
initiiert.According to another embodiment of the present invention, adhesive compositions are provided which are suitable for attaching a device to a substrate, wherein the device and / or the substrate tend to release volatiles at elevated temperatures, and wherein substantially no cavitation occurs during curing of the composition. The compositions according to the invention comprise:
Binders and
a catalyst which initiates the curing of the binder at a temperature of not higher than 100 ° C.
Bindemittel, die zur Verwendung in der Praxis der vorliegenden Erfindung vorgesehen sind, sind u. a. Cyanatester-basierende Zubereitungen, Maleinimid-basierende Zubereitungen, Epoxy-basierende Zubereitungen, (Meth-)Acrylat-basierende Zubereitungen, Vinylether-basierende Zubereitungen, Vinylester-basierende Zubereitungen, Allylester-basierende Zubereitungen, Diallylamid-basierende Zubereitungen, Propargylether-basierende Zubereitungen, Zubereitungen auf Basis einer Polysiloxan-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehend beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende, Zubereitungen auf Basis einer vorimidisierten Polyimid-Hauptkette mit einer oder mehreren der vorstehenden beschriebenen funktionellen Gruppen am Ende und dergleichen sowie Mischungen aus beliebigen zwei oder mehreren davon, wie es hierin oben beschrieben ist.Binder, those intended for use in the practice of the present invention are u. a. Cyanate ester-based preparations, maleimide-based Preparations, epoxy-based preparations, (meth) acrylate-based Preparations, vinyl ether-based preparations, vinyl ester-based Preparations, allyl ester-based preparations, diallylamide-based preparations, Propargyl ether-based preparations, preparations based on a polysiloxane backbone having one or more of the above described functional groups at the end, preparations based on a pre-imidized polyimide backbone with one or more of the functional functionalities described above Groups at the end and the like, as well as mixtures of any two or more thereof as described hereinabove.
Ähnlich sind die zur Verwendung bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen vorgesehenen Katalysatoren wie oben beschrieben, und solche Katalysatoren können in Mengen, wie sie oben beschrieben sind, zu der erfindungsgemäßen Zusammensetzung hinzugegeben werden.Similar are those for use in preparing the compositions of the invention provided catalysts such as described above, and such catalysts may be added in amounts, as described above, to the composition according to the invention.
So wie hier verwendet, bedeutet "im wesentlichen hohlraumfrei" eine im wesentlichen kontinuierliche Klebstoffbindung zwischen der Vorrichtung und dem Substrat, welche miteinander verbunden sind. Hohlräume äußern sich als Unterbrechung dieser ansonsten kontinuierlichen Bindung und beeinträchtigen sowohl die Stärke der resultierenden Bindung als auch die Fähigkeit einer solchen Bindung, den Einflüssen von äußeren Kräften, wie z. B. hohen Feuchtigkeitsgehalten, hohen Scherkräften und dergleichen, zu widerstehen.So as used here means "im essentially void-free "one essentially continuous adhesive bonding between the device and the substrate, which are interconnected. Cavities are expressed as an interruption of this otherwise continuous bond and impair both the strength the resulting bond as well as the ability of such a bond, the influences from outside forces, like z. High moisture contents, high shear forces and the like.
Die Erfindung wird nun durch Bezugnahme auf die folgenden nichtlimitierenden Beispiele in größerem Detail beschrieben.The Invention will now be made by reference to the following non-limiting Examples in greater detail described.
Beispiel 1example 1
Zum
Testen wurde ein Harzsystem hergestellt, wobei folgende Basiszubereitung
und verschiedenerlei Katalysatoren verwendet wurden, um die Auswirkung
der Katalysatorwahl auf das Auftreten von Hohlräumen während des Härtens zu ermitteln. Die verwendete
Basisharzzusammensetzung umfaßt:
60
Gewichtsteile des Bismaleinimids 1,20-Bismaleinimido-10,11-dioctyleicosan,
30
Gewichtsteile maleiniertes Polybutadien R130 MA20 von Ricon Resins,
Grand Junction, CO,
22 Gewichtsteile eines verzweigten C24-Monovinylethers (d. h. des Monovinylethers
von 2-Decyltetradecanol),
4 Gewichtsteile eines Kupplungsreagenzes
(z. B. 3 Teile A-186 (d. h. β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilan)
und ein Teil A-174 (d. h. γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan),
die beide von OSi Specialities, Endicott, NY, erhältlich sind)
und
1, 3 oder 5 Gewichtsteile eines Katalysators.For testing, a resin system was prepared using the following base formulation and various catalysts to determine the effect of catalyst choice on the occurrence of voids during curing. The base resin composition used comprises:
60 parts by weight of the bismaleimide 1,20-bismaleimido-10,11-dioctyleicosane,
30 parts by weight maleated polybutadiene R130 MA20 from Ricon Resins, Grand Junction, CO,
22 parts by weight of a branched C 24 -monovinyl ether (ie the monovinyl ether of 2-decyltetradecanol),
4 parts by weight of a coupling reagent (e.g., 3 parts of A-186 (ie, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane) and part A-174 (ie, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane), both from OSi Specialties, Endicott, NY, available) and
1, 3 or 5 parts by weight of a catalyst.
Die hier verwendeten Katalysatoren sind u. a. Perkadox 16S (Di(4-tert.-butylcyclohexyl)peroxydicarbonat, erhältlich von Akzo Nobel), Trigonox 141 (2,5-Dimethyl-2,5-di-(2-ethylhexanoylperoxy)hexan, erhältlich von Akzo Nobel) und Witco USP90MD (1,1-Bis(tert.-Amylperoxy)cyclohexan, erhältlich von Witco Chemical). Jeder dieser Katalysatoren hat eine 10-Stunden-Zersetzungshalbwertszeit bei 70°C oder weniger und wurde in Mengen von 1, 3 oder 5 Gewichtsteilen zu der oben beschriebenen Basiszubereitung hinzugegeben. Somit wurden neun Pasten zum Testen hergestellt, jede mit 77 Gew.-% Silberflocken gestreckt. Eine Differentialscanninkalorimetrie (DSC) und ein Hohlraumtest wurden mit jeder Paste durchgeführt.The Catalysts used here are u. a. Perkadox 16S (di (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, available Akzo Nobel), Trigonox 141 (2,5-dimethyl-2,5-di- (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, available from Akzo Nobel) and Witco USP90MD (1,1-bis (tert-amylperoxy) cyclohexane available from Witco Chemical). Each of these catalysts has a 10 hour decomposition half life at 70 ° C or less and was in quantities of 1, 3 or 5 parts by weight added to the base preparation described above. Thus were nine pastes made for testing, each with 77% by weight silver flakes stretched. Differential scanning calorimetry (DSC) and a cavity test were done with each paste.
Der Hohlraumtest wurde unter Verwendung eines kupferplattierten BT(Bismaleinamidtriazin)-Harzes mit einer Taiyo-PSR-4000-Version-AUS5-Lötmaske durchgeführt. Das Substrat wurde 15–16 Stunden lang in eine 85/85-Kammer gegeben, um sicherzustellen, daß eine Feuchtigkeitsabsorption auftritt. Die neun Pasten wurden an dem Substrat angebracht, wobei ein 300 × 300-Mil-Deckglas verwendet wurde. Die Pasten wurden 60 Sekunden lang bei 150°C auf einer Heizplattenvorrichtung gehärtet.Of the Cavity test was carried out using a copper-plated BT (bismaleinamide triazine) resin a Taiyo PSR 4000 version AUS5 solder mask. The Substrate was 15-16 For hours, place in an 85/85 chamber to ensure that there is moisture absorption occurs. The nine pastes were attached to the substrate, with a 300 x 300 mil glass coverslip has been used. The pastes were held at 150 ° C for 60 seconds Hot plate device hardened.
Die DSC wurde mit einer Anstiegsgeschwindigkeit von 10°C/Minute durchgeführt. Die verwendete Probengröße betrug etwa 20–30 mg. Die Analyse des DSC zeigt den Beginn der Härtung, das Aushärtungsspitzenmaximum und die freigesetzte Gesamtenergie. Die Temperatur beim Härtungsbeginn und die Temperatur beim Aushärtungsspitzenmaximum sind in der Tabelle für jede der Pasten angegeben.The DSC was at a ramp rate of 10 ° C / minute carried out. The sample size used was about 20-30 mg. Analysis of the DSC shows the onset of cure, the cure peak maximum and the total energy released. The temperature at the beginning of the cure and the temperature at the cure tip maximum are in the table for each of the pastes indicated.
Tabelle table
Die oben dargestellten Ergebnisse zeigen, daß bei feuchtigkeitsempfindlichen Polymeren keine Hohlraumbildung unter dem Plättchen stattfindet, solange die Temperaturen des Härtungsbeginns und des Aushärtungsspitzenmaximums beide unterhalb 100°C liegen.The The results presented above show that when sensitive to moisture Polymer no cavitation takes place under the platelets, as long as the temperatures of the onset of cure and the cure tip maximum both below 100 ° C lie.
Obwohl die Erfindung im Detail mit Bezug auf bestimmte bevorzugte Ausführungsformen davon beschrieben worden ist, ist es selbstverständlich, daß Modifikationen und Variationen vom Sinn und Umfang des Beschriebenen und Beanspruchten umfaßt sind.Even though the invention in detail with reference to certain preferred embodiments It has been understood that modifications and variations of the meaning and scope of what is described and claimed are included.
Claims (26)
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US78199597A | 1997-01-06 | 1997-01-06 | |
| US781995 | 1997-01-06 | ||
| PCT/US1997/024188 WO1998030647A1 (en) | 1997-01-06 | 1997-12-29 | Reducing void formation in curable adhesive formulations |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE69721309D1 DE69721309D1 (en) | 2003-05-28 |
| DE69721309T2 DE69721309T2 (en) | 2004-01-29 |
| DE69721309T9 true DE69721309T9 (en) | 2005-03-10 |
Family
ID=25124596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69721309T Expired - Fee Related DE69721309T9 (en) | 1997-01-06 | 1997-12-29 | REDUCING THE FORMATION OF CAVITIES IN HARDENABLE ADHESIVE COMPOSITIONS |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020062923A1 (en) |
| EP (1) | EP0950082B1 (en) |
| JP (1) | JP2001508483A (en) |
| KR (1) | KR20000069904A (en) |
| CN (1) | CN1105160C (en) |
| AT (1) | ATE238397T1 (en) |
| AU (1) | AU5623798A (en) |
| CA (1) | CA2276737A1 (en) |
| DE (1) | DE69721309T9 (en) |
| MY (1) | MY132841A (en) |
| TW (1) | TW565601B (en) |
| WO (1) | WO1998030647A1 (en) |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6784024B2 (en) * | 2000-01-18 | 2004-08-31 | Micron Technology, Inc. | Die attach curing method for semiconductor device |
| CA2402504A1 (en) | 2000-03-10 | 2001-09-20 | Paracor Surgical, Inc. | Expandable cardiac harness for treating congestive heart failure |
| WO2004037878A2 (en) * | 2002-10-22 | 2004-05-06 | Henkel Corporation | Co-curable compositions |
| WO2010019832A2 (en) | 2008-08-13 | 2010-02-18 | Designer Molecules, Inc. | Amide-extended crosslinking compounds and methods for use thereof |
| US7884174B2 (en) * | 2003-05-05 | 2011-02-08 | Designer Molecules, Inc. | Imide-linked maleimide and polymaleimide compounds |
| US8513375B2 (en) * | 2003-05-05 | 2013-08-20 | Designer Molecules, Inc. | Imide-linked maleimide and polymaleimide compounds |
| US7875688B2 (en) * | 2004-06-04 | 2011-01-25 | Designer Molecules, Inc. | Free-radical curable polyesters and methods for use thereof |
| US7795362B2 (en) * | 2004-07-16 | 2010-09-14 | Designer Molecules, Inc. | Olefin oligomers containing pendant maleimide groups |
| US8043534B2 (en) * | 2005-10-21 | 2011-10-25 | Designer Molecules, Inc. | Maleimide compositions and methods for use thereof |
| US8378017B2 (en) * | 2005-12-29 | 2013-02-19 | Designer Molecules, Inc. | Thermosetting adhesive compositions |
| US8530573B2 (en) | 2006-05-10 | 2013-09-10 | Designer Molecules, Inc. | Modified calcium carbonate-filled adhesive compositions and methods for use thereof |
| US8287686B2 (en) * | 2006-07-24 | 2012-10-16 | Designer Molecules, Inc. | Derivatives of poly(styrene-co-allyl alcohol) and methods for use thereof |
| WO2008077140A2 (en) * | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Designer Molecules, Inc. | Hydrolytically resistant thermoset monomers |
| US7825188B2 (en) * | 2006-12-19 | 2010-11-02 | Designer Molecules, Inc. | Thermoplastic elastomer with acyloxyphenyl hard block segment |
| WO2008092168A2 (en) * | 2007-01-26 | 2008-07-31 | Designer Molecules, Inc. | Methods for the preparation of imides, maleimides and maleimide-terminated polyimide compounds |
| US8039663B2 (en) * | 2007-04-09 | 2011-10-18 | Designer Molecules, Inc. | Monomers derived from pentacyclopentadecane dimethanol |
| US8431655B2 (en) * | 2007-04-09 | 2013-04-30 | Designer Molecules, Inc. | Curatives for epoxy compositions |
| US20100113643A1 (en) * | 2007-04-09 | 2010-05-06 | Designer Molecules, Inc. | Curatives for epoxy adhesive compositions |
| US7868113B2 (en) | 2007-04-11 | 2011-01-11 | Designer Molecules, Inc. | Low shrinkage polyester thermosetting resins |
| WO2008128209A1 (en) * | 2007-04-12 | 2008-10-23 | Designer Molecules, Inc. | Polyfunctional epoxy oligomers |
| WO2008130894A1 (en) * | 2007-04-16 | 2008-10-30 | Designer Molecules, Inc. | Low temperature curing acrylate and maleimide based formulations and methods for use thereof |
| US7928153B2 (en) | 2007-08-14 | 2011-04-19 | Designer Molecules, Inc. | Thermosetting polyether oligomers, compositions and methods for use thereof |
| US8398898B2 (en) * | 2008-02-23 | 2013-03-19 | Designer Molecules, Inc. | Soluble metal salts for use as conductivity promoters |
| US8541531B2 (en) * | 2008-03-21 | 2013-09-24 | Designer Molecules, Inc. | Anti-bleed compounds, compositions and methods for use thereof |
| US8308892B2 (en) | 2008-04-09 | 2012-11-13 | Designer Molecules, Inc. | Di-cinnamyl compounds and methods for use thereof |
| US8158748B2 (en) * | 2008-08-13 | 2012-04-17 | Designer Molecules, Inc. | Hetero-functional compounds and methods for use thereof |
| US8008419B2 (en) * | 2008-08-13 | 2011-08-30 | Designer Molecules, Inc. | Siloxane monomers and methods for use thereof |
| US8217120B2 (en) * | 2008-08-13 | 2012-07-10 | Designer Molecules, Inc. | Functionalized styrene oligomers and polymers |
| US8013104B2 (en) * | 2008-08-13 | 2011-09-06 | Designer Molecules, Inc. | Thermosetting hyperbranched compositions and methods for use thereof |
| US8288591B2 (en) * | 2008-11-20 | 2012-10-16 | Designer Molecules, Inc. | Curing agents for epoxy resins |
| US8415812B2 (en) * | 2009-09-03 | 2013-04-09 | Designer Molecules, Inc. | Materials and methods for stress reduction in semiconductor wafer passivation layers |
| US8686162B2 (en) | 2010-08-25 | 2014-04-01 | Designer Molecules Inc, Inc. | Maleimide-functional monomers in amorphous form |
| US8816021B2 (en) | 2010-09-10 | 2014-08-26 | Designer Molecules, Inc. | Curable composition with rubber-like properties |
| TWI509631B (en) * | 2011-02-25 | 2015-11-21 | 漢高智慧財產控股公司 | Sinterable silver flake adhesive for electronic devices |
| US10000670B2 (en) | 2012-07-30 | 2018-06-19 | Henkel IP & Holding GmbH | Silver sintering compositions with fluxing or reducing agents for metal adhesion |
| KR102008354B1 (en) * | 2013-02-01 | 2019-08-07 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | Pressure-sensitive adhesive compositions and adhesive articles including the same |
| KR102360575B1 (en) | 2015-05-08 | 2022-02-09 | 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 | Sinterable films and pastes, and methods of use thereof |
| JP2018104653A (en) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 日立化成株式会社 | Selection method of adhesive composition, connection method of circuit member, connection structure, adhesive composition, and film adhesive |
| GB202018616D0 (en) * | 2020-11-26 | 2021-01-13 | Element Six Tech Ltd | A diamond assembly |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1155973A (en) * | 1965-06-26 | 1969-06-25 | Ajinomoto Kk | Spiroacetal Diamine Derivatives and their use as Curing Agents for Epoxy Resins |
| JPS55127098A (en) * | 1979-03-09 | 1980-10-01 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Method of mounting electronic part |
| GB2179001A (en) * | 1985-08-16 | 1987-02-25 | Burr Brown Corp | Method of bonding using paste or non-dry film adhesives |
| US4714726A (en) * | 1986-06-04 | 1987-12-22 | W. R. Grace & Co. | Low temperature single step curing polyimide adhesive |
| DE3806738C1 (en) * | 1988-03-02 | 1989-09-07 | Espe Stiftung & Co Produktions- Und Vertriebs Kg, 8031 Seefeld, De | |
| DK0508951T3 (en) * | 1991-04-08 | 1996-09-09 | Ciba Geigy Ag | Heat curable mixtures |
| US5391604A (en) * | 1993-07-30 | 1995-02-21 | Diemat, Inc. | Adhesive paste containing polymeric resin |
| GB9318872D0 (en) * | 1993-09-11 | 1993-10-27 | Unisersity Fo Leeds The | Polymer resin |
| US5644837A (en) * | 1995-06-30 | 1997-07-08 | Lambda Technologies, Inc. | Process for assembling electronics using microwave irradiation |
-
1997
- 1997-12-29 EP EP97952684A patent/EP0950082B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-29 CA CA002276737A patent/CA2276737A1/en not_active Abandoned
- 1997-12-29 AU AU56237/98A patent/AU5623798A/en not_active Abandoned
- 1997-12-29 DE DE69721309T patent/DE69721309T9/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-29 KR KR1019997006116A patent/KR20000069904A/en not_active Ceased
- 1997-12-29 CN CN97181724A patent/CN1105160C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-29 AT AT97952684T patent/ATE238397T1/en not_active IP Right Cessation
- 1997-12-29 JP JP53094998A patent/JP2001508483A/en active Pending
- 1997-12-29 WO PCT/US1997/024188 patent/WO1998030647A1/en not_active Ceased
-
1998
- 1998-01-02 TW TW087100019A patent/TW565601B/en active
- 1998-01-05 MY MYPI98000037A patent/MY132841A/en unknown
-
1999
- 1999-05-24 US US09/317,493 patent/US20020062923A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2276737A1 (en) | 1998-07-16 |
| EP0950082A4 (en) | 2000-07-12 |
| KR20000069904A (en) | 2000-11-25 |
| ATE238397T1 (en) | 2003-05-15 |
| EP0950082B1 (en) | 2003-04-23 |
| EP0950082A1 (en) | 1999-10-20 |
| US20020062923A1 (en) | 2002-05-30 |
| TW565601B (en) | 2003-12-11 |
| AU5623798A (en) | 1998-08-03 |
| DE69721309D1 (en) | 2003-05-28 |
| DE69721309T2 (en) | 2004-01-29 |
| CN1105160C (en) | 2003-04-09 |
| MY132841A (en) | 2007-10-31 |
| JP2001508483A (en) | 2001-06-26 |
| CN1245520A (en) | 2000-02-23 |
| WO1998030647A1 (en) | 1998-07-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69721309T9 (en) | REDUCING THE FORMATION OF CAVITIES IN HARDENABLE ADHESIVE COMPOSITIONS | |
| DE69908417T2 (en) | HEAT RESINSTICKABLE ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE STRUCTURE | |
| DE69821350T2 (en) | ADHESIVE, METHOD FOR CONNECTING AND ARRANGEMENT OF MOUNTED PCB | |
| DE3852311T2 (en) | BISBENZOCYCLOBUTEN MONOMER, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND BENZOCYCLOBUTEN ADHESIVE COMPOSITIONS. | |
| DE60109366T2 (en) | Adhesive based on epoxy resins with allyl or vinyl groups for attachment of semiconductors | |
| DE60109356T2 (en) | Vinyl ethers and carbamate or urea functionality containing pressure sensitive adhesives for semiconductor devices | |
| DE69218207T2 (en) | ANISOTROPICALLY CONDUCTIVE ADHESIVE FILM | |
| DE60015456T2 (en) | Low temperature curable adhesive film and anisotropic electrically conductive blackout adhesive film using the same | |
| DE10228484B4 (en) | Electrically conductive paste, and use of the paste to make a semiconductor product | |
| DE602005000085T2 (en) | An epoxy resin composition for encapsulating semiconductors, semiconductors thereof, and semiconductor fabrication processes | |
| DE69410393T2 (en) | Adhesive tape for electronic components and liquid adhesive | |
| DE3872552T2 (en) | EPOXY RESIN ADHESIVE USE IN ELECTRONICS. | |
| KR20000000510A (en) | Perfluorinated Hydrocarbon Polymer-filled Adhesive Formulations and Uses Therefor | |
| US20120279781A1 (en) | Conductive particle, and anisotropic conductive film, bonded structure, and bonding method | |
| JPH05501783A (en) | Conductive adhesive useful for bonding semiconductor die to a conductive support base | |
| DE68928583T2 (en) | Epoxy resin composition for the sealing of semiconductors | |
| DE69407538T2 (en) | Liquid adhesive for electronic parts and their application to form an insulating adhesive layer | |
| DE69427037T2 (en) | ANISOTROPICAL ELECTRO-CONDUCTIVE ADHESIVE FILM | |
| DE102008045424A1 (en) | A curable synthetic resin composition containing an inorganic filler and an organic filler, a printed circuit board coated with a resist layer, and a process for producing the same | |
| DE3625587A1 (en) | METHOD FOR IMPROVING THE ADHESIVITY OF ELECTRICALLY DEPOSED METAL LAYERS ON PLASTIC SURFACES | |
| WO2001059007A1 (en) | Resin composition, adhesives prepared therewith for bonding circuit members, and circuit boards | |
| DE60102457T2 (en) | Paste for fixing a semiconductor chip and semiconductor device | |
| DE68911641T2 (en) | EPOXYAMINE COMPOSITIONS USING UNSATURATED IMIDES. | |
| DE69023504T2 (en) | Thermoplastic adhesive layer for semiconductor mounting. | |
| DE19511553C2 (en) | Method for producing electrically conductive structures, an electrically conductive structure obtained according to the method and combination for producing electrically conductive structures |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |