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Gebiet der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung betrifft
allgemein zur Herstellung von retroreflektierenden Würfeleckenfolien
verwendbare Formen bzw. Formwerkzeuge, Verfahren zur Herstellung
derselben und mit solchen Formwerkzeugen hergestellte retroreflektierende
Folien. Insbesondere betrifft die Erfindung aus mehreren dünnen Plättchen hergestellte
Formwerkzeuge und Verfahren zur Herstellung derselben.
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Hintergrund der Erfindung
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Retroreflektierende Materialien sind
durch die Fähigkeit
gekennzeichnet, auf das Material auftreffendes Licht wieder zurück zur ursprünglichen Lichtquelle
zu lenken. Diese Eigenschaft hat zu der weit verbreiteten Verwendung
von retroreflektierenden Folien in verschiedenen auffallenden Anwendungen
geführt.
Eine retroreflektierende Folie wird oft auf flachen starren Gegenständen, wie
beispielsweise Straßenmarkierungen
und Hindernissen, angebracht; sie wird ebenfalls auf unebenen oder
biegsamen Oberflächen
verwendet. Zum Beispiel kann eine retroreflektierende Folie auf
die Seitenwand eines LKW-Anhängers
geklebt werden, wobei die Folie über
Rillen und hervorstehende Nieten hinweg laufen muß, oder
die Folie kann an einen biegsamen Körperabschnitt, wie beispielsweise
an eine Sicherheitsweste eines Straßenarbeiters, oder eine andere
derartige Sicherheitskleidung, geklebt werden. In Situationen, in
welchen die darunter liegende Oberfläche uneben oder biegsam ist,
besitzt die retroreflektierende Folie wünschenswert die Fähigkeit;
sich der darunter liegenden Oberfläche anzupassen, ohne die retroreflektierende
Eigenschaft zu verlieren. Außerdem wird
eine retroreflektierende Folie oft in gerolltem Zustand verpackt
und versandt, was erfordert, daß die Folie
ausreichend biegsam ist, um sich um einen Kern wickeln zulassen.
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Zwei bekannte Typen von retroreflektierenden
Folien sind Folien auf der Basis von Mikrokügelchen und Würfelecken-Folien. Eine Mikrokügelchen-Folie,
manchmal als "Perlenfolie" bezeichnet, verwendet eine große Anzahl
von Mikrokügelchen, die
typisch mindestens teilweise in einer Bindeschicht eingebettet sind
und mit spiegelnden oder diffus reflektierenden Materialien (z.
B. Pigmentpartikel, Metallsplitter oder aufgedampfte Schichten)
verbunden sind, um einfallendes Licht zu retroreflektieren. Anschauungsbeispiele
sind in den US-Patenten
Nr. 3 190 178 (McKenzie), 4 025 159 (McGrath) und 5 066 098 (Kult)
offenbart. Vorteilhafterweise kann die Mikrokügelchen-Folie allgemein auf
geriffelte oder biegsame Oberflächen
geklebt werden. Außerdem
zeigt eine Mikrokügelchen-Folie
aufgrund der Symmetrie der Perlen-Retroreflektoren eine relativ
richtungskonstante totale Lichtreflexion bei einer Drehung um eine Achse
senkrecht zur Oberfläche
der Folie. Somit hat eine solche Mikrokügelchen-Folie eine relativ
geringe Empfindlichkeit in bezug auf die Orientierung, in welcher
sich die Folie auf einer Oberfläche
befindet. Im allgemeinen jedoch hat eine solche Folie einen geringeren
retroreflektierenden Wirkungsgrad als eine Würfeleckenfolie.
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Eine retroreflektierende Würfeleckenfolie weist
einen Körperabschnitt,
typisch mit einer im wesentlichen Planaren Basisoberfläche, und
eine strukturierte Oberfläche
auf, die mehrere Würfeleckenelemente
gegenüber
der Basisfläche
aufweist. Jedes Würfeleckenelement
weist drei im wesentlichen zueinander senkrechte optische Flächen auf,
die sich in einem einzigen Bezugspunkt oder Apex schneiden. Die
Basis des Würfeleckenelements
dient als eine Öffnung,
durch welche Licht in das Würfeleckenelement
durchgelassen wird. In Gebrauch wird auf die Basisfläche der
Folie auftreffendes Licht an der Basisfläche der Folie gebrochen, durch
die Basen der an der Folie angeordneten Würfeleckenelemente hindurch
gelassen, von jeder der drei senkrechten optischen Würfeleckenflächen re flektiert
und zur Lichtquelle zurück
gelenkt. Die Symmetrieachse, auch optische Achse genannt, eines
Würfeleckenelements
ist die Achse, die durch den Würfeleckenapex verläuft und
mit den drei optischen Flächen
des Würfeleckenelements
einen gleichen Winkel bildet. Würfeleckenelemente
zeigen typisch den höchsten
optischen Wirkungsgrad als Antwort auf Licht, das in etwa entlang
der optischen Achse auf der Basis des Elements auftrifft. Die von
einem Würfelecken-Retroreflektor
retroreflektierte Lichtmenge nimmt ab, wenn der Einfallswinkel von
der optischen Achse abweicht.
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Der maximale retroreflektierende
Wirkungsgrad einer retro-reflektierenden Würfeleckenfolie ist eine Funktion
der Geometrie der Würfeleckenelemente
an der strukturierten Oberfläche
der Folie. Die Begriffe "aktives Gebiet" und "effektive Öffnung"
werden auf dem Fachgebiet der Würfelecken
verwendet, um den Anteil des Würfeleckenelements
zu kennzeichnen, der auf der Basis des Elements auftreffendes Licht
retroreflektiert. Eine detaillierte Unterrichtung hinsichtlich der
Bestimmung der aktiven Öffnung für die Gestaltung
eines Würfeleckenelements
geht über
den Bereich der vorliegenden Offenbarung hinaus. Eine Vorgehensweise
zur Bestimmung der effektiven Öffnung
einer Würfeleckengeometrie
ist in Eckardt, Applied Optics, Bd. 10, Nr. 7, Juli 1971, pp 1559–1566 vorgelegt.
Das US-Patent Nr. 835 648 von Straubel diskutiert ebenfalls das
Konzept der effektiven Öffnung.
Bei einem gegebenen Einfallswinkel kann das aktive Gebiet durch
den topologischen Schnitt der Projektion der drei Würfeleckenflächen auf
eine zum gebrochenen auftreffenden Licht senkrechte Ebene mit der
Projektion der Bildflächen
für die
dritten Reflexionen auf die gleiche Ebene bestimmt werden. Der Begriff
"prozentuales aktives Gebiet" wird dann definiert als das aktive
Gebiet dividiert durch das gesamte Gebiet der Projektion der Würfelekkenflächen. Der
retroreflektierende Wirkungsgrad der retroreflektierenden Folie
korreliert direkt mit dem prozentualen aktiven Gebiet der Würfeleckenelemente
an der Folie.
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Eine vorhergesagte totale Lichtreflexion (TLR)
für eine
Anordnung aus aufeinander abgestimmten Würfeleckenpaaren kann aus der
Kenntnis des prozentualen aktiven Gebiets und der Strahlenintensität berechnet
werden. Die Strahlenintensität kann
durch Verluste an der Vorderfläche
und durch Reflexion von jeder der drei Würfeleckenflächen für einen retroreflektierten
Strahl verringert sein. Die totale Lichtreflexion ist definiert
als das Produkt aus dem prozentualen aktiven Gebiet und der Strahlenintensität oder als
der Prozentsatz des auftreffenden Lichts, der retroreflektiert wird.
Eine Diskussion der totalen Lichtreflexion für direkt gearbeitete Würfelekkenanordnungen
ist im US-Patent Nr. 3 712 706 (Stamm) gegeben.
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Außerdem sind die optischen Eigenschaften des
retroreflektierenden Musters der retroreflektierenden Folie zum
Teil eine Funktion der Geometrie der Würfeleckenelemente. So- mit
können
Verzerrungen in der Geometrie der Würfeleckenelemente entsprechende
Verzerrungen in den optischen Eigenschaften der Folie hervorrufen.
Um eine unerwünschte
physikalische Verformung zu verhindern, sind die Würfeleckenelemente
einer retroreflektierenden Folie typisch aus einem Material hergestellt,
das einen relativ hohen Elastizitätsmodul hat, der ausreichend
ist, um die physikalische Verzerrung der Würfeleckenelemente während eines
Biegens oder elastischen Dehnens der Folie zu verhindern. Wie oben diskutiert,
ist es oft er- wünscht,
daß eine
retroreflektierende Folie genügend
biegsam ist, um ein Ankleben der Folie an ein Substrat zu erlauben,
das geriffelt ist oder das selbst biegsam ist, oder um zur Aufbewahrung
oder zum Versenden ein Wickeln der retroreflektierenden Folie in
eine Rolle zu erlauben.
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Eine retroreflektierende Würfeleckenfolie wird
hergestellt, indem zuerst ein Masterformwerkzeug hergestellt wird,
das entweder ein negatives oder positives Bild einer gewünschten
Würfeleckenelementgeometrie
enthält.
Das Formwerkzeug kann unter Verwendung von galvanischer Vernickelung, chemischer
Dampfphasenabscheidung oder physikalischer Dampfphasenabscheidung
repliziert werden, um ein Formwerkzeug für retroreflektierende Würfeleckenfolien
zu erzeugen.
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Das US-Patent Nr. 5 156 863 von Pricone
et al. stellt einen anschaulichen Überblick eines Verfahrens zur
Herstellung von Werkzeug bereit, das bei der Herstellung von retroreflektierenden
Würfeleckenfolien
verwendet wird. Bekannte Verfahren zur Herstellung des Masterformwerkzeugs
umfassen Stiftbündelungstechniken,
direkte Bearbeitungstechniken und Laminierungstechniken. Jede dieser
Techniken hat Vorteile und Grenzen.
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Bei den Stiftbündelungstechniken werden mehrere
Stifte, jeder mit einer geometrischen Gestalt an einem Ende, zusammen
gestellt, um eine retroreflektierende Würfeleckenoberfläche zu bilden.
Die US-Patente Nr. 1 591 572 (Stimson), 3 926 402 (Heenan), 3 541
606 (Heenan et al.) und 3 632 695 von Howell stellen Anschauungsbeispiele
bereit. Stiftbündelungstechniken
bieten die Möglichkeit,
eine große
Vielfalt an Würfeleckengeometrien
in einem einzigen Formwerkzeug zu fertigen. Für die Herstellung kleiner Würfeleckenelemente
(z. B. kleiner als ungefähr
1,0 Millimeter) sind Stiftbündelungstechniken
jedoch wirtschaftlich und technisch unpraktisch.
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Bei den direkten Bearbeitungstechniken
wird eine Reihe von Rillen in einem Einheitssubstrat gebildet, um
eine retroreflektierende Würfeleckenoberfläche zu bilden.
Die US-Patente Nr.
3 712 706 von Stamm und 4 588 258 von Hoopman stellen Anschauungsbeispiele
bereit. Direkte Bearbeitungstechniken bieten die Möglichkeit,
sehr kleine Würfeleckenelemente,
die mit einer biegsamen retroreflektierenden Folie verträglich sind,
präzise
zu arbeiten. Jedoch ist es derzeit nicht möglich, gewisse Würfeleckengeometrien,
die sehr hohe effektive Öffnungen bei
niedrigen Eintrittswinkeln haben, unter Verwendung von direkten
Bearbeitungstechniken zu erzeugen. Beispielsweise ist die maximale
theoretische totale Lichtreflexion der im US-Patent Nr. 3 712 706 dargestellten
Würfeleckenelement-Geometrie
ungefähr
67%.
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Bei den Laminierungstechniken werden mehrere
Plättchen,
jedes Plättchen
mit einer geometrischen Gestalt an einem Ende, zusammengestellt, um
eine retroreflektierende Würfelekkenfläche zu bilden.
Die deutsche Offenlegungsschrift (OS) 19 17 292, die internationalen
Veröffentlichungen
Nr. WO 94/18581 (Bohn et al.), WO 97/04939 (Mimura et al.) und WO
97/04940 (Mimura et al.) offenbaren jeweils einen geformten Reflektor,
in welchem eine gerillte Oberfläche
an mehreren Platten gebildet wird. Die Platten werden dann in einem
gewissen Winkel geneigt und jede zweite Platte wird kreuzweise verschoben.
Dieses Verfahren hat mehrere Würfeleckenelemente
zur Folge, wobei jedes Element aus zwei bearbeiteten Oberflächen an
einer ersten Platte und einer Seitenfläche an einem zweiten Platte
gebildet ist. Das deutsche Patent
DE
42 36 799 von Gubela offenbart ein Verfahren zur Herstellung
eines Formwerkzeugs mit einer kubischen Oberfläche zur Herstellung von Würfelecken.
Eine schräge
Oberfläche wird
in einer ersten Richtung über
die gesamte Länge einer
Kante eines Bandes geschliffen oder geschnitten. Mehrere Kerben
werden dann in einer zweiten Richtung gebildet, um an dem Band Würfeleckenreflektoren
zu bilden. Schließlich
werden mehrere Kerben vertikal in den Seiten des Bandes gebildet.
Das vorläufige
deutsche Patent 44 10 994 C2 von Gubela ist ein verwandtes Patent.
Die im Patent 44 10 994 C2 offenbarten Reflektoren sind durch die
reflektierenden Oberflächen
mit einer konkaven Krümmung gekennzeichnet.
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Kurze Zusammenfassung der
Erfindung
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Die vorliegende Erfindung betrifft
eine Masterform bzw. ein Masterformwerkzeug, das zur Herstellung
einer retroreflektierenden Folie bzw. eines retroreflektierenden
Bahnenmaterials aus mehreren Plättchen
verwendbar ist, und Verfahren zur Herstellung desselben. Vorteilhafterweise
ermöglichen
die gemäß den hierin
offenbarten Verfahren hergestellten Masterformwerkzeuge die Herstellung
einer retroreflektierenden Würfeleckenfolie,
die retroreflektierende Wirkungsgrade von fast 100 hat. Um die Herstellung
einer biegsamen retroreflektierenden Folie zu erleichtern, ermöglichen
die offenbarten Verfahren die Herstellung von retroreflektierenden
Würfeleckenelementen
mit einer so kleinen Breite wie 0,010 Millimeter. Außerdem ermöglicht die
vorliegende Anmeldung die Herstellung einer retroreflektierenden
Würfeleckenfolie,
die ein symmetrisches Retroreflektivitätsvermögen in mindestens zwei un terschiedlichen
Orientierungen zeigt. Leistungsfähige kostensparende
Verfahren zur Herstellung von aus mehreren Plättchen gebildeten Formwerkzeugen werden
ebenfalls offenbart.
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Mehrere Plättchen werden gleichzeitig
bearbeitet, um mehrere Würfeleckenelemente
zu bilden. Die drei zueinander senkrechten optischen Flächen jedes
Würfeleckenelements
werden vorzugsweise an einem der mehreren Plättchen gebildet. Das heißt, einzelne
oder diskrete Würfeleckenelemente
erstrecken sich nicht weiter als über ein einziges Plättchen. Alle
drei optischen Flächen
werden vorzugsweise durch den Bearbeitungsvorgang gebildet, um optische
Qualitätsoberflächen zu
gewährleisten.
Vorzugsweise wird während
der Bearbeitungsphase und anschließend daran eine Planare Grenzfläche zwischen
benachbarten Plättchen
aufrechterhalten, um so Ausrichtungsprobleme und Schäden aufgrund
des Hantierens mit den Plättchen
zu minimieren.
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Mehrere Plättchen werden hergestellt,
um in einem Formwerkzeug verwendet zu werden, das bei der Herstellung
von retroreflektierenden Würfelecken-Gegenständen verwendbar
ist. Jedes Plättchen hat
eine erste und zweite Hauptfläche,
die sich gegenüberliegen
und dazwischen eine erste Bezugsebene definieren. Jedes Plättchen weist
ferner eine Bearbeitungsfläche
auf, die die erste und zweite Hauptfläche verbindet. Die Arbeitsfläche definiert eine
zweite Bezugsebene, die im, wesentlichen parallel zur Bearbeitungsfläche und
senkrecht zur ersten Bezugsebene ist, und eine dritte Bezugsebene,
die senkrecht zur ersten Bezugsebene und zur zweiten Bezugsebene
ist. Das Verfahren umfaßt
Orientieren mehrerer Plättchen,
so daß ihre
jeweiligen ersten Bezugsebenen parallel zueinander sind und in einem ersten
Winkel relativ zu einer festen Bezugsachse angeordnet sind. Mindestens
zwei Rillensätze
werden in der Bearbeitungsfläche
gebildet. Jeder Rillensatz umfaßt
mindestens zwei parallele benachbarte V-förmige Rillen in der Bearbeitungsfläche des
Plättchens.
Die mindestens zwei Rillensätze
bilden erste, zweite und dritte Rillenflächen, die sich im wesentlichen
orthogonal schneiden, um mehrere Würfeleckenelemente zu bilden.
Jedes Würfeleckenelement befindet sich
vorzugsweise im wesentlichen an einem der mehreren Plättchen.
Die mehreren Plättchen
können
vor Bildung mindestens eines der Rillensätze in einem zweiten Winkel
relativ zur festen Bezugsachse orientiert werden.
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In einer Ausführungsform umfaßt der Schritt der
Bildung mindestens zweier Rillensätze die Bildung eines ersten
Rillensatzes, der mindestens zwei parallele benachbarte Vförmige Rillen
umfaßt,
in der Bearbeitungsfläche
jedes Plättchens.
Jede der zwei benachbarten Rillen definiert eine erste Rillenfläche und
eine zweite Rillenfläche,
die sich im wesentlichen orthogonal schneiden, um eine erste Bezugskante
an jedem jeweiligen Plättchen
zu bilden. Ein zweiter Ri1lensatz, der mindestens eine Rille umfaßt, wird
in den Bearbeitungsflächen
der mehreren Plättchen
gebildet. Jede Rille im zweiten Rillensatz definiert eine dritte
Rillenfläche,
die sich im wesentlichen orthogonal mit der ersten und zweiten Rillenfläche schneidet, um
mindestens ein Würfeleckenelement
zu bilden, das sich im wesentlichen an einem einzigen Plättchen befindet.
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Das erste Würfeleckenelement weist vorzugsweise
mehrere Würfeleckenelemente
auf. Jedes der mehreren Würfeleckenelemente
befindet sich im wesentlichen an einem einzigen Plättchen.
Eine Grenzfläche
zwischen benachbarten ersten und zweiten Hauptflächen ist vorzugsweise planar.
Jedes Plättchen
hat eine Dicke zwischen ungefähr
0,025 Millimeter und ungefähr
1,0 Millimeter und stärker
bevorzugt von ungefähr
0,1 bis ungefähr
0,6 Millimeter.
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Das Verfahren umfaßt den Schritt
der Orientierung der mehreren Plättchen,
der die Zusammenstellung der Plättchen
in einer Spannvorrichtung umfaßt,
die eine Basisebene definiert. Der erste Winkel beträgt zwischen
ungefähr
5° und ungefähr 85° relativ
zu einer zur Basisebene senkrechten, festen Bezugsachse und stärker bevorzugt
zwischen ungefähr 10° und ungefähr 65° und am stärksten bevorzugt ungefähr 25° bis ungefähr 45°.
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Der Schritt der Bildung der Rillensätze umfaßt das Bilden
mindestens eines der Rillensätze
parallel zur durch die Spannvorrichtung definierten Basisebene.
Alternativ können
die Rillensätze
in einem spitzen Winkel relativ zur durch die Spannvorrichtung definierten
Basisebene gebildet werden. Die Rillensätze können auch gebildet werden,
um den Abstand zwischen benachbarten Rillen in unterschiedlichen Tiefen
in der Bearbeitungsfläche
der Plättchen
zu variieren.
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Das Verfahren der Bildung der Rillensätze kann
das Abtragen von Abschnitten jedes der mehreren Plättchen unmittelbar
an der Bearbeitungsfläche der
mehreren Plättchen
unter Ver wendung einer Materialabtragungstechnik aufweisen. Die
ersten, zweiten und dritten Rillenflächen werden im wesentlichen mit
der Materialabtragungstechnik gebildet. Die Rillensätze können durch
Hervorrufen einer relativen Bewegung zwischen den mehreren Plättchen und
einem Schneidwerkzeug gebildet werden. Der Schritt der Bildung der
Rillensätze
umfaßt
einen Bearbeitungsvorgang, ausgewählt aus der Gruppe von Bearbeitungsvorgängen bestehend
aus Liniieren, Schlagfräsen,
Schleifen und Fräsen.
Die Rillen haben vorzugsweise einen Einschlußwinkel, der zwischen ungefähr 10° und ungefähr 170° beträgt.
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In einer Ausführungsform können vor
Bildung des zweiten Rillensatzes die mehreren Plättchen orientiert werden, so
daß ihre
jeweiligen ersten Bezugsebenen parallel zueinander und in einem zweiten
Winkel relativ zur festen Bezugsachse sind. Der Schritt der Orientierung
der mehreren Plättchen, so
daß ihre
jeweiligen ersten Bezugsebenen parallel zueinander und in einem
zweiten Winkel relativ zur festen Bezugsachse angeordnet sind, umfaßt neues Zusammenstellen
der mehreren Plättchen
in einer. geeigneten Spannvorrichtung. In einer Ausführungsform
umfaßt
der Schritt der Orientierung der mehreren Plättchen, so daß ihre jeweiligen
ersten Bezugsebenen parallel zueinander und in einem zweiten Winkel
relativ zur festen Bezugsachse angeordnet sind, Drehen der mehreren
Plättchen
um 180° um
eine zur zweiten Bezugsebene senkrechte Achse.
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Die. Würfeleckenelemente sind typisch
in gegengleichen Paaren angeordnet. In einer alternativen Ausführungsform
können
die optischen Achsen der Würfeleckenelemente
allgemein parallel sein, um eine asymmetrische Totallichtreflexion über einen 360°-Bereich
von Orientierungswinkeln bereitzustellen.
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Ebenfalls offenbart ist ein Verfahren
der Replikation (Abdruckherstellung) der Bearbeitungsfläche des
Formwerkzeugs, um eine Negativkopie der mehreren Würfeleckenelemente
herzustellen, die als Formwerkzeug für retroreflektierende Gegenstände verwendbar
ist, und ein daraus erzeugtes Formwerkzeug. Ein retroreflektierender
Gegenstand kann aus dem Formwerkzeug bzw. der Form, das die Negativkopie
bildet, hergestellt werden.
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Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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1 ist
eine Perspektivansicht eines einzelnen Plättchens, das für eine Verwendung
in den offenbarten Verfahren geeignet ist.
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2 ist
eine Perspektivansicht von mehreren solchen Plättchen.
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3 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen,
die in einer ersten Orientierung orientiert sind.
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4 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen
im Anschluß an
einen ersten Bearbeitungsvorgang.
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5 ist
eine Seitenansicht der mehreren Plättchen im Anschluß an einen
ersten Bearbeitungsvorgang.
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6 ist
eine Endansicht der mehreren in 5.
dargestellten Plättchen,
die in einer zweiten Orientierung orientiert sind.
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7 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen,
die in einer zweiten Orientierung orientiert sind, wobei jedes zweite
Plättchen
um 180° gedreht worden
ist.
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8 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen
im Anschluß an
einen zweiten Bearbeitungsvorgang.
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9 ist
eine Ansicht von oben auf die mehreren Plättchen im Anschluß an einen
zweiten Bearbeitungsvorgang.
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10 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen,
die in einer ersten Orientierung orientiert sind.
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11 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen
im Anschluß an
einen ersten Bearbeitungsvorgang.
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12 ist
eine Seitenansicht der mehreren Plättchen im Anschlug an einen
ersten Bearbeitungsvorgang.
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13 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen,
die in einer zweiten Orientierung orientiert sind.
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14 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen
im Anschlug an einen zweiten Bearbeitungsvorgang.
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15 ist
eine Seitenansicht der mehreren Plättchen im Anschlug an einen
zweiten Bearbeitungsvorgang.
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16 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen
im Anschluß an
einen dritten Bearbeitungsvorgang.
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17 ist
eine Ansicht von oben auf die mehreren Plättchen im Anschluß an einen
dritten Bearbeitungsvorgang.
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18 ist
eine Perspektivansicht eines einzelnen Plättchens gemäß dem Verfahren von 10–17.
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19 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen,
die in einer ersten Orientierung orientiert sind.
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20 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen
im Anschlug an einen ersten Bearbeitungsvorgang.
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21 ist
eine Seitenansicht der mehreren Plättchen im Anschlug an einen
ersten Bearbeitungsvorgang.
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22 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen,
die in einer zweiten Orientierung orientiert sind.
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23 ist
eine Endansicht der mehreren Plättchen
im Anschlug an einen zweiten Bearbeitungsvorgang.
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24 ist
eine Seitenansicht der mehreren Plättchen im Anschlug an einen
zweiten Bearbeitungsvorgang.
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25 ist
eine Seitenansicht der mehreren Plättchen im Anschlug an einen
dritten Bearbeitungsvorgang.
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26 ist
eine Ansicht von oben auf die mehreren Plättchen im Anschlug an einen
dritten Bearbeitungsvorgang.
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27 ist
eine Perspektivansicht eines einzelnen Plättchens gemäß dem Verfahren von 19–
26.
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Detaillierte Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsformen
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Mehrere Plättchen werden gleichzeitig
bearbeitet, um mehrere Voll-Würfeleckenelemente
zu bilden. Die drei zueinander senkrechten optischen Flächen jedes
Würfeleckenelements
wer den vorzugsweise an einem einzigen Plättchen gebildet. Alle drei optischen
Flächen
werden vorzugsweise durch den Bearbeitungsvorgang gebildet, um optische
Qualitätsoberflächen zu
gewährleisten.
Vorzugsweise wird während
der Bearbeitungsphase und im Anschluß daran eine planare Grenzfläche zwischen
benachbarten Plättchen
aufrechterhalten, um Ausrichtungsprobleme und Schäden während des
Hantierens mit den Plättchen
zu minimieren.
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Bei der Beschreibung der verschiedenen Ausführungsformen
wird aus Gründen
der Verständlichkeit
eine spezielle Terminologie verwendet. Eine solche Terminologie
beabsichtigt jedoch keine Einschränkung und selbstverständlich umfaßt jeder
so gewählte
Begriff alle technischen Äquivalente,
die ähnlich
funktionieren. Die offenbarten Verfahren können verwendet werden, um retroreflektierende
Elemente in vielfältigen
Größen und
Gestalten zu bilden, wie beispielsweise Vollwürfelekkenelemente und Würfelstumpfeckenelemente.
Die Basiskanten benachbarter Würfelstumpfeckenelemente
in einer Anordnung sind typisch koplanar. Die Basiskanten benachbarter
Vollwürfeleckenelemente
in einer Anordnung sind nicht in der gleichen Ebene. Hiermit eingereichte
verwandte Anmeldungen gleichen Datums umfassen: "Cube Corner Sheeting
Mold and Method Making the Same (US-Seriennr. 08/886074); Retroreflektierende
Cube Corner Sheeting Mold and Sheeting Formed Therefrom (US-Seriennr. 08/886998); Retroreflektierende
Cube Corner Sheeting, Molds Therefore, and Methods of Making the
Same (US-Seriennr.
08/887390); Tiled Retroreflektierende Sheeting Composed of Highly
Canted Cube Corner Elements (US-Seriennr. 08/887389); Dual Orientation Retroreflektierende
Sheeting (US-Serienur. 08/887006).
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Zum Zwecke der Beschreibung kann
ein kartesisches Koordinatensystem über das Plättchen 10 gelegt werden.
Eine erste Bezugsebene 24 liegt mittig zwischen einer ersten
Hauptfläche 12 und
einer zweiten Hauptfläche 14.
Die erste Bezugsebene 24, als x-z-Ebene bezeichnet, hat
die Y-Achse als ihren Normalenvektor. Eine zweite Bezugsebene 26,
als x-y-Ebene bezeichnet, erstreckt sich im wesentlichen koplanar
mit der Be arbeitungsfläche 16 des
Plättchens 10 und
hat die z-Achse als ihren Normalenvektor. Eine dritte Bezugsebene 28,
als y-z-Ebene bezeichnet,
liegt mittig zwischen einer ersten Endfläche 20 und einer zweiten
Endfläche 22 und
hat die x-Achse als ihren Normalenvektor. Obwohl verschiedene geometrische
Merkmale hierin mit Bezug auf, solche kartesische Bezugsebenen beschrieben
werden, ist ersichtlich, daß sie
unter Verwendung anderer Koordinatensysteme oder mit Bezug auf die
Struktur des Plättchens
beschrieben werden können.
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Eine Ausführungsform eines Plättchens
sowie ein Verfahren zum Herstellen desselben wird nun mit Bezug
auf 1-9 beschrieben. In 1 weist ein repräsentatives
Plättchen 10,
das bei der Herstellung eines Formwerkzeugs für retroreflektierende Folien
verwendbar ist, eine erste Hauptfläche 12 und eine gegenüberliegende
zweite Hauptfläche 14 auf. Das
Plättchen 10 weist
ferner eine Bearbeitungsfläche 16 und
eine gegenüberliegende
untere Oberfläche 18 auf,
die sich zwischen der ersten Hauptfläche 12 und der zweiten
Hauptfläche 14 erstrecken.
Das Plättchen 10 weist
ferner eine erste Endfläche 20 und eine
gegenüberliegende
zweite Endfläche 22 auf.
In einer Ausführungsform
kann das Plättchen 10 ein rechtwinkeliger
Polyeder sein, wobei gegenüberliegende
Oberflächen
im wesentlichen parallel sind. Jedoch ist ersichtlich, daß gegenüberliegende
Oberflächen
des Plättchens 10 nicht
parallel sein müssen.
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2– 9 veranschaulichen eine Ausführungsform
der Bildung einer strukturierten Oberfläche, die mehrere optisch gegengleiche
Würfeleckenelemente
in der Bearbeitungsfläche 16 des
Plättchens 10 aufweist.
Kurz gesagt, werden die mehreren Plättchen 10 so orientiert,
daß ihre
jeweiligen ersten Bezugsebenen 24 in einem ersten Winkel θ1 relativ zu einer festen Bezugsachse (3) angeordnet sind. Ein
erster Rillensatz mit mehreren parallelen benachbarten Rillen 30a, 30b, 30c usw.
(zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 30 bezeichnet) wird in der Bearbeitungsfläche 16 der
mehreren Plättchen 10 gebildet
(3–5
). Die Rillen des ersten Rillensatzes 30 definieren
jeweilige erste Rillenflächen 32a, 32b, 32c usw.
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und jeweilige zweite Rillenflächen 34b, 34c, 34d usw.
Wichtig ist, daß die
jeweiligen ersten Rillenflächen 32a, 32b, 32c usw.
die jeweiligen zweiten Rillenflächen 34b, 34c, 34d usw.
im wesentlichen orthogonal schneiden, um jeweilige erste Bezugskanten 36a, 36b, 36c usw.
zu definieren. Wie hierin verwendet, sollen die Begriffe "im wesentlichen
orthogonal" oder "annähernd
orthogonal" bedeuten, daß der zweiflächige Winkel
zwischen den jeweiligen Oberflächen
ungefähr
90° mißt; leichte
Variationen der Orthogonalität,
wie im US-Patent Nr. 4 775 219 von Appeldorn offenbart und beansprucht,
werden durch die vorliegenden Erfindung in Erwägung gezogen. Ein zweiter Rillensatz,
der mehrere parallele benachbarte Rillen 46a, 46b, 46c usw.
aufweist, wird ebenfalls in der Bearbeitungsfläche 16 des Plättchens 10 (6–8) gebildet. Die
Rillen 46 teilen und/oder halbieren die ersten und zweiten
Rillenflächen 32,34. Aus
Gründen
der Verständlichkeit
werden die Rillenflächen
an der einen Seite der Rille 46 als die erste und zweite
Rillenfläche 32, 34 bezeichnet
und die Rillenflächen
an der anderen Seite der Rille 46 werden als die dritte
und vierte Rillenfläche 40,42 bezeichnet.
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Die Rillen des zweiten Rillensatzes
definieren jeweilige fünfte
Rillenflächen 48a, 48b,
48c usw. (zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 48 bezeichnet) und sechste Rillenflächen 50a, 50b, 50c usw.
(zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 50 bezeichnet). Die fünften Rillenfläche 48a, 48b, 48c usw.
schneiden die jeweiligen ersten Rillenflächen 32a, 32b, 32c usw.
und zweiten Rillenflächen 34b, 34c usw.
im wesentlichen orthogonal, um mehrere Würfeleckenelemente 60a, 60b, 60c an
den Bearbeitungsflächen 16 des
jeweiligen Plättchens
zu bilden. Gleichermaßen
schneiden die sechsten Rillenflächen 50a, 50b, 50c die
jeweiligen ersten Rillenflächen 40a, 40b, 40c usw.
und die zweiten Rillenflächen 42b, 42c usw.
im wesentlichen orthogonal, um mehrere Würfeleckenelemente 70a, 70b usw.
an den Bearbeitungsflächen 16 des
jeweiligen Plättchens
zu bilden. Wie hierin verwendet, bezeichnet der Begriff "Rillensatz"
alle in der Bearbeitungsfläche 16 der Plättchen 10 gebildeten
parallelen Rillen.
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Die Ausführungsform wird nun detaillierter erklärt. Mit
Bezug zurück
auf 2 sind mehrere dünne Plättchen 10 so
zusammengestellt, daß die erste
Hauptfläche 12 eines
Plättchens 10 an
der zweiten Hauptfläche 14 eines
benachbarten Plättchens 10 angrenzt.
Vorzugsweise werden die mehreren Plättchen 10 in einer
herkömmlich
konstruierten Spannvorrichtung zusammen-gestellt, die in der Lage
ist, mehrere Plättchen
aneinander liegend festzuhalten. Die Spannvorrichtung definiert
eine Basisebene 80 (3),
die vorzugsweise im wesentlichen parallel zu den unteren Flächen 18 der
Plättchen 10 ist,
wenn die Plättchen
so, wie in 2 gezeigt,
angeordnet sind. Die mehreren Plättchen 10 können durch
ein kartesisches Koordinatensystem, wie vorstehend beschrieben,
gekennzeichnet werden. Vorzugsweise sind die Bearbeitungsflächen 16 der
mehreren Plättchen 10 im
wesentlichen koplanar, wenn die Plättchen mit ihren ersten Bezugsebenen 24 senkrecht
zur Basisebene 80 angeordnet sind.
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In 3 sind
die mehreren Plättchen 10 so orientiert,
daß ihre
ersten Bezugsebenen 24 in einem ersten Winkel Θ1 relativ zu einer zur Basisebene 80 lotrechten,
festen Bezugsachse 82 angeordnet sind. In einer Ausführungsform
beträgt
der erste Winkel θ1 ungefähr
27,8°. Jedoch
kann 81 in der Praxis zwischen ungefähr 1° und ungefähr 85° und stärker bevorzugt zwischen ungefähr 10° und ungefähr 60° und am stärksten bevorzugt
zwischen ungefähr
25° und ungefähr 45° sein.
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Mit Bezug auf 4–5
wird ein erster Rillensatz,
der mehrere parallele benachbarte V-förmige Rillen 30a, 30b, 30c usw.
(zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 30 bezeichnet) aufweist, in den Bearbeitungsflächen 16 der
mehreren Plättchen 10 gebildet,
wobei die Plättchen
in einem Winkel Θ1 angeordnet sind. Mindestens zwei solcher
Rillen 30 werden in der Bearbeitungsfläche 16 der mehreren
Plättchen 10 gebildet.
Die Rillen 30 definieren erste Rillenflächen 32a, 32b, 32c usw.
(zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 32 bezeichnet) und zweite Rillenflächen 34b, 34c, 34d usw.
(zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 34 bezeichnet), die sich, wie gezeigt, in den
Rillenvertices 33b, 33c, 33d usw. (zusammengefaßt mit dem
Bezugszeichen 33 bezeichnet) schneiden. Am Rand der Plättchen kann
der Rillenbildungsvorgang eine einzelne Rillenfläche 32a bilden. Die
Rillenflächen 32a und 34b benachbarter
Rillen 30a, 30b schneiden sich annähernd orthogonal
entlang einer Bezugskante 36a. Gleichermaßen schneiden
sich die benachbarten Rillenflächen 32b und 34c annähernd orthogonal
entlang der Bezugskante 36b. Dies kann dadurch erreicht
werden, daß die
Rillen 30 unter Verwendung eines Schneidwerkzeugs gebildet werden,
das einen Einschlußwinkel
von 90° hat.
Vorzugsweise wiederholt sich dieses Muster über die gesamte Bearbeitungsfläche 16 der
mehreren Plättchen 10.
Die Rillenvertices 33 sind vorzugsweise zwischen ungefähr 0,01
Millimeter und ungefähr
1,0 Millimeter voneinander beabstandet, jedoch sind diese Werte
nicht als Einschränkung
aufzufassen.
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Die Rillen 30 werden durch
Abtragen von Abschnitten der Bearbeitungsflächen 16 der mehreren Plättchen unter
Verwendung von geeigneten Materialabtragungsverfahren einschließlich Präzisionsbearbeitungsverfahren,
wie Fräsen,
Liniieren, Nutenfräsen
und Schlagfräsen,
gebildet. Chemisches Ätzen oder
Laserablationsverfahren können
ebenfalls verwendet werden. In einer Ausfhrungsform werden die Rillen 30 in
einem Hochpräzisionsbearbeitungsvorgang
gebildet, in welchem ein Diamant schneidewerkzeug, das einen Einschlußwinkel
von 90° hat, wiederholt
quer über
die Bearbeitungsflächen 16 der mehreren
Plättchen 10 entlang
einer Achse bewegt wird, die im wesent- 1ichen parallel zur Basisebene 80 ist.
Das Diamantschneidewerkzeug könnte
jedoch entlang einer Achse bewegt werden, die nicht parallel zur
Basisebene 80 ist, so daß das Werkzeug über die mehreren
Plättchen 10 in
unterschiedlicher Tiefe schneidet. Ferner kann das Bearbeitungswerkzeug stationär gehalten
werden, während
die mehreren Plättchen
bewegt werden; jegliche relative Bewegung zwischen den Plättchen 10 und
dem Bearbeitungswerkzeug wird in Erwägung gezogen.
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In der Ausführungsform von 2-5 werden die
Rillen 30 des ersten Rillensatzes in einer solchen Tiefe
gebildet, daß die
jeweiligen ersten Bezugskanten 36 die erste Hauptfläche
12 und
die zweite Hauptfläche 14 jedes
Plättchens
schneiden. Somit bilden in der in 4 dargestellten
Endansicht die Bezugskanten 36 und die Rillenvertices 33 im
wesentlichen kontinuierliche Linien, die sich entlang einer zur
Basisebene 80 parallelen Achse erstrecken. Ferner werden
die Rillen 30 so gebildet, daß die jeweiligen Bezugskanten 36 in
einer Ebene angeordnet sind, die die jeweiligen ersten Bezugsebenen 24 und
die zweite Bezugsebene 26 in rechten Winkeln schneidet. Somit
würden
in einer Draufsicht die jeweiligen ersten Bezugskanten 36 senkrecht
zu den jeweiligen ersten Bezugsebenen 24 der mehreren Plättchen 10 erscheinen.
Jedoch können
die Rillen 30 auch geringere Tiefen haben. Wenn zum Beispiel
die Tiefe des Werkzeugs verringert wird, werden die Rillenvertices 33 näher an der
Bearbeitungsfläche 16 gebildet
und werden flache durchlässige
Bereiche gebildet.
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Um die Bildung von Würfeleckenelementen an
den Bearbeitungsflächen 16 der
Plättchen 10 zu vollenden,
wird durch Einarbeiten einer einzigen Rille in jedes Plättchen 10 entlang
einer zur ersten Bezugsebene 24 im wesentlichen parallelen
Achse ein zweiter Rillensatz gebildet. In der in 6-8 dargestellten
Ausführungsform
werden die mehreren Plättchen 10 aus
der Zusammenstellung herausgenommen und jedes zweite Plättchen (10b, 10d usw.)
wird um 180° um
eine zur zweiten Bezugsebene 26 senkrechte Achse gedreht.
Die mehreren Plättchen
werden dann wieder neu zusammengestellt, wobei ihre jeweiligen ersten
Bezugsebenen 24 vorzugsweise im wesentlichen senkrecht
zur Basisebene 80 angeordnet werden, wie in 7 dargestellt ist.
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Mit Bezug auf 8 und 9 wird
ein zweiter Rillensatz, der vorzugsweise mindestens eine Rille 46 in
jedem Plättchen 10 umfaßt, in der
Bearbeitungsfläche 16 der
mehreren Plättchen 10 gebildet. In
der offenbarten Ausführungsform
definieren die zweiten Rillen 46a, 46b, 46c usw. (zusammengefaßt mit 46 bezeichnet)
jeweilige fünfte
Rillenflächen 48a, 48b, 48c usw.
(zusammengefaßt
mit 48 bezeichnet) und sechste Rillenflächen 50a, 50b, 50c usw.
(zusammengefaßt
mit 50 bezeichnet), die sich an jeweiligen Rillenvertices 52a, 52b, 52c usw.
(zusammengefaßt
mit 52 bezeichnet) entlang Achsen schneiden, die senkrecht
zur dritten Bezugsebene 28 sind.
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Die zweiten Rillen 46 werden
so gebildet, daß die
fünften
Rillenflächen 48 im
wesentlichen orthogonal zu den jeweiligen ersten Rillenflächen (z.
B. 32a, 32b usw.) und zweiten Rillenflächen (z. B. 34a, 34b usw.)
sind. Die Bildung der fünften
Rillenflächen 48,
wie beschrieben, ergibt mehrere Würfelekkenelemente 60a, 60b usw.
(zusammengefaßt
mit 60 bezeichnet) in der Bearbeitungsfläche 16 jedes
zweiten Plättchens 10.
Jedes Würfeleckenelement 60 ist durch
eine erste Rillenfläche
(32a, 32b usw.), eine zweite Rillenfläche (34a, 34b usw.)
und einen Abschnitt einer fünften
Rillenfläche 48 definiert,
die sich an einem Punkt schneiden, um eine Würfeleckenspitze oder einen
Würfeleckenapex 62 zu
definieren. Gleichermaßen
sind die sechsten Rillenflächen 50 im wesentlichen
orthogonal zu den jeweiligen dritten Rillenflächen (z. B. 40a, 40b usw.)
und vierten Rillenflächen
(z. B. 42a, 42b usw.). Wie vorstehend erwähnt, wurden
die dritten und vierten Rillenflächen 40, 42 von
dem ersten Rillensatz 30 gebildet. Die Bildung der sechsten
Rillenfläche 50 erzeugt
auch mehrere Würfeleckenelemente 70a,
70b usw. (zusammengefaßt
mit 70 bezeichnet) in der Bearbeitungsfläche 16 jedes
zweiten Plättchens 10.
Jedes Würfeleckenelement 70 ist
durch eine dritte Rillenfläche
(40a, 40b usw.), eine vierte Rillenfläche (42a, 42b usw.)
und einen Abschnitt der sechsten Rillenfläche 50 definiert, die
sich an einem Punkt schneiden, um eine Würfeleckenspitze oder einen
Würfeleckenapex 72 zu
definieren. Vorzugsweise bilden beide Rillenflächen 48 und 50 mehrere
Würfeleckenelemente
an der Bearbeitungsfläche 16 des
Plättchens 10.
Jedoch ist ersichtlich, daß die
zweite Rille 46 so gebildet werden kann, daß nur die
Rillenfläche 48 oder
die Rillenfläche 50 Würfeleckenelemente
bildet.
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Die Würfeleckenelemente 60, 70 sind
gegengleiche Paare, die gegengleiche, obwohl nicht notwendigerweise
identische, Retroreflexionsmuster erzeugen. Die Würfeleckenelemente 60, 70 erzeugen
vorzugsweise symmetrische oder spiegelbildliche Retroreflexionsmuster,
wie beispielsweise Elemente, die im wesentlichen identisch sind,
aber um 180° relativ
zueinander gedreht sind. In einer alternativen Ausführungsform
kann der zweite Rillensatz 46 so in den in 6 gezeigten Stapel von Plättchen 60 hineingeschnitten
werden, daß die
sich ergebenden Würfeleckenelemente 60, 70 alle
in der gleichen Richtung ausgerichtet sind. Das heißt, die
Symmetrieachsen oder optischen Achsen der Würfeleckenelemente 60, 70 sind
allgemein parallel. Gleichermaßen
können
die Plättchen 10b, 10d usw.
um 180° gedreht
werden, nachdem der zweite Rillensatz 46 hineingeschnitten
worden ist (siehe 8).
Die totale Lichtreflexion für
in die gleiche Richtung ausgerichtete Würfeieckenelemente 60, 70 ist über einen 360°-Bereich
von Orientierungswinkeln asymmetrisch. Ein asymmetrisches Retroreflexionsmuster kann
für gewisse
Anwendungen erwünscht
sein, wie beispielsweise Gehsteigmarkierungen oder andere Dinge,
die aus einem schmalen Bereich von Orientierungswinkeln betrachtet
werden.
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Ein Verfahren der vorliegenden Offenbarung umfaßt gleichzeitiges
Bearbeiten mehrerer Plättchen,
wobei jedes Plättchen
ein oder mehrere einzelne Würfeleckenelemente
aufweist. Die Würfeleckenelemente
erstrecken sich vorzugsweise nicht über mehr als ein Plättchen.
Zum Beispiel sind die drei zueinander senkrechten optischen Flächen 32, 34, 48 der
Würfeleckemelemente 60 an
einem einzigen Plättchen
gearbeitet. Gleichermaßen
sind die drei optischen Flächen 40, 42, 50 der
Würfeleckenelemente 70 an
einem einzigen Plättchen
gearbeitet. Die Würfeleckenelemente 60, 70 können sich
am gleichen oder an unterschiedlichen Plättchen befinden. Die Würfeleckenelemente 60, 70 werden
durch das Bearbeitungsverfahren vorteilhaft mit nur zwei Rillensätzen 30, 46 gebildet,
um eine optische Qualitätsoberfläche zu gewährleisten.
Eine Planare Grenzfläche
zwischen den Hauptflächen 12, 14 wird während der
Bearbeitungsphase und in dem daraus gebildeten anschließenden Formwerkzeug
aufrechterhalten, um Ausrichtungsprobleme und Schäden aufgrund
des Hantierens mit den Plättchen
zu minimieren, um Lücken
zwischen benachbarten Plättchen
zu minimieren, die die Qualität
der Negativkopien beeinträchtigen
würden,
und um das Einfließen von
Material in die Lücken
zwischen den Plättchen
zu minimieren.
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10–18 veranschaulichen ein alternatives Verfahren
zur Herstellung des Formwerkzeugs von 1-9 an mehreren Plättchen,
wie in 2 gezeigt, unter
Verwendung von drei Rillensätzen 130, 138, 146.
Vorzugsweise sind die jeweiligen Bearbeitungsflächen 116 der mehreren
Plättchen 110 im
wesentlichen koplanar, wenn die Plättchen mit ihren jeweiligen
ersten Bezugsebenen 124 senkrecht zur Basisebene 180 angeordnet
sind. Die Bezugsebenen 124, 126, 128 entsprechen
jeweils den vorstehend diskutierten Bezugsebenen 24, 26, 28.
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Mit Bezug auf 10 werden mehrere Plättchen 110 so orientiert,
daß ihre
ersten Bezugsebenen 124 in einem ersten Winkel ß1 relativ zu einer zur Basisebene 180 lotrechten,
festen Bezugsachse 182 angeordnet sind. In einer Ausführungsform
ist ß1 ungefähr
27,8°. Jedoch
kann ß1 alternativ zwischen ungefähr 1° und ungefähr 85° und stärker bevorzugt zwischen
ungefähr
10° und
ungefähr
60° sein.
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Mit Bezug auf 11–12
wird ein erster Rillensatz,
der mehrere parallele benachbarte V-förmige Rillen 130a, 130b, 130c usw.
(zusammengefaßt mit 130 bezeichnet)
umfaßt,
in der Bearbeitungsfläche 116 der
mehreren Plättchen 110 gebildet,
wobei die Plättchen
in einem Winkel ß1 angeordnet sind. Mindestens zwei solcher
Rillen 130 werden in der Bearbeitungsfläche 116 der mehreren
Plättchen 110 gebildet.
Die Rillen 130 definieren erste Rillenflächen 132a, 132b, 132c usw.
(zusammengefaßt
mit 132 bezeichnet) und zweite Rillenflächen 134b, 134c, 134d usw.
(zusammengefaßt
mit 134 bezeichnet), die sich, wie gezeigt, an Rillenvertices 133b, 133c, 133d usw. (zusammengefaßt mit 133 bezeichnet)
schneiden. Am Rand der Plättchen
kann der Rillenbildungsvorgang eine einzelne Rillenfläche 132a bilden.
Die Rillenflächen 132a und 134b zweier
benachbarter Rillen schneiden sich annähernd orthogonal entlang einer
Bezugskante 136a. Gleichermaßen schneiden sich die benachbarten
Rillenflächen 132b und 134c annähernd orthogonal
entlang einer Bezugskante 136b. Vorzugs weise wiederholt
sich dieses Muster über
die gesamten Bearbeitungsflächen 116 der mehreren
Plättchen 110.
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Die Rillen 130 werden durch
Abtragen von Abschnitten der Bearbeitungsfläche 116 der mehreren
Plättchen
unter Verwendung geeigneter Materialabtragungsverfahren, einschließlich Präzisionsbearbeitungsverfahren
wie Fräsen,
Liniieren, Nutenfräsen
und Schlagfräsen,
gebildet. Chemisches Ätzen oder
Laserablationsverfahren können
ebenfalls verwendet werden. In einer Ausführungsform werden die Rillen 130 in
einem Hochpräzisionsbearbeitungsvorgang
gebildet, in welchem ein Diamantschneidewerkzeug, das einen Einschlußwinkel
von 90° hat, wiederholt
quer über
die Bearbeitungsflächen 116 der
mehreren Plättchen 110 entlang
einer Achse bewegt wird, die im wesentlichen parallel zur Basisebene 180 ist.
Das Diamantschneidewerkzeug könnte
jedoch alternativ entlang einer Achse bewegt werden, die nicht parallel
zur Basisebene 180 ist, so daß das Werkzeug über die
mehreren Plättchen 10 in
unterschiedlichen Tiefen schneidet. Ferner könnte das Bearbeitungswerkzeug
stationär
gehalten werden, während
die mehreren Plättchen
bewegt werden; jegliche Bewegung zwischen den Plättchen 110 und dem
Bearbeitungswerkzeug wird in Erwägung
gezogen.
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In der Ausführungsform von 11–12 sind die
Rillen 130 in einer solchen Tiefe gebildet, daß die jeweiligen
ersten Bezugskanten 136 die erste Hauptfläche 112 und
die zweite Hauptfläche 114 jedes Plättchen schneidet.
Somit bilden in der Endansicht von 11 die,
Bezugskanten 136 und die Rillenvertices 133 im
wesentlichen kontinuierliche Linien, die sich entlang einer zur
Basisebene 180 parallelen Achse erstrecken. Ferner sind
die Rillen 130 so gebildet, daß die jeweiligen Bezugskanten 136 in
einer Ebene angeordnet sind, die die jeweiligen ersten Bezugsebenen 124 und
die zweite Bezugsebene 126 im rechten Winkel schneidet.
Somit würden
die jeweiligen ersten Bezugskanten 136 senkrecht zu den
jeweiligen ersten Bezugsebenen 124 der mehreren Plättchen 110 erscheinen.
Jedoch können
die Rillen 130 auch geringere Tiefen haben, um so flache durchlässige Bereiche
zu bilden.
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Mit Bezug auf 13 werden die mehreren Plättchen 110 dann
so orientiert, daß ihre
jeweiligen Bezugsebenen 124 in einem zweiten Winkel ß2 relativ zu einer zur Basisebene 180 lotrechten,
festen Bezugsachse 182 angeordnet sind. In einer Ausführungsform
ist ß2 ungefähr
27,8°. Jedoch
kann in der Praxis ß2 zwischen ungefähr 1° und ungefähr 85° sein, aber vorzugsweise zwischen
ungefähr
10° und ungefähr 60°. Der Winkel ß2 ist unabhängig vom Winkel ß1 und muß nicht
gleich ß1 sein. Um die mehreren Plättchen 110 im
Winkel ß2 zu orientieren, werden die Plättchen 110 vorzugsweise
aus der Spannvorrichtung herausgenommen und neu zusammengestellt, wobei
ihre jeweiligen ersten Bezugsebenen in einem Winkel ß2 angeordnet werden.
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Mit Bezug auf 14-15 wird
ein zweiter Rillensatz, der mehrere parallele benachbarte V-förmige Rillen 138b, 138c (zusammengefaßt mit 138 bezeichnet)
umfaßt,
in den Bearbeitungsflächen 116 der
mehreren Plättchen 110 gebildet,
wobei die Plättchen
in einem Winkel ß2 angeordnet sind. Mindestens zwei benachbarte
Rillen 138 werden in der Bearbeitungsfläche 116 der mehreren
Plättchen 110 gebildet.
Die Rillen 138 definieren dritte Rillenflächen 140a, 140b, 140c usw.
(zusammengefaßt
mit 140 bezeichnet) und vierte Rillenflächen 142b, 142c, 142d usw.
zusammengefaßt
mit 142 bezeichnet), die sich, wie gezeigt, an Rillenvertices 141b, 141c, 141d usw. (zusammengefaßt mit 141 bezeichnet)
schneiden. Am Rand der Plättchen
kann der Rillenbildungsvorgang eine einzelne Rillenfläche 140a bilden.
Die Rillenflächen 140a und 142b benachbarter
Rillen schneiden sich annähernd
orthogonal entlang einer Bezugskante 144a. Gleichermaßen schneiden
sich benachbarte Rillenflächen 140b und 142c annähernd orthogonal
entlang einer Bezugskante 144b. Vorzugsweise wiederholt
sich dieses Muster über
die gesamten Bearbeitungsflächen 116 der
mehreren Plättchen 110.
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Die Rillen 138 des zweiten
Rillensatzes werden ebenfalls vorzugsweise durch einen Hochpräzisionsbearbeitungsvorgang
gebildet, in welchem ein Diamantschneidewerkzeug, das einen Einschlußwinkel
von 90° hat,
wiederholt quer über
die Bear beitungsflächen 116 der
mehreren Plättchen 110 entlang
einer Schneideachse bewegt wird, die im wesentlichen parallel zur
Basisebene 180 ist. Wieder ist zu erwähnen, daß es wichtig ist, daß sich die
Flächen benachbarter
Rillen 138 entlang den Bezugskanten 144 schneiden,
um orthogonale Flächenwinkel
zu bilden. Der E nschlußwinkel
jeder Rille kann von 90° verschieden
sein. Die Rillen 138 werden vorzugsweise in ungefähr der gleichen
Tiefe in der Bearbeitungsfläche 116 der
mehreren Plättchen 110 gebildet
wie die Rillen 130 des ersten Rillensatzes. Außerdem werden
die Rillen 138 im zweiten Rillensatz vorzugsweise so gebildet,
daß die
jeweiligen Rillenvertices (z. B. 141a, 141b usw.) und die
jeweiligen Bezugskanten (z. B. 144a, 144b usw.) mit den
jeweiligen Rillenvertices (z. B. 133a, 133b usw.) und den
jeweiligen Bezugskanten (z. B. 136a, 136b usw.) der Rillen 130 im
ersten Rillensatz im wesentlichen koplanar sind.
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Mit Bezug auf 16–17 wird
ein dritter Rillensatz, der vorzugsweise mindestens eine Rille 146 in
jedem Plättchen 110 umfaßt, in der
Bearbeitungsfläche 116 der
mehreren Plättchen 110 gebildet.
In der offenbarten Ausführungsform
definieren die dritten Rillen 146a, 146b, 146c usw.
(zusammengefaßt mit 146 bezeichnet)
jeweilige fünfte
Rillenflächen 148a, 148b, 148c usw.
(zusammengefaßt
mit 148 bezeichnet) und jeweilige sechste Rillenflächen 150a, 150b, 150c usw.
(zusammengefaßt
mit 150 bezeichnet), die sich an jeweiligen Rillenvertices 152a, 152b, 152c usw.
(zusammengefaßt
mit 152 bezeichnet) entlang Achsen schneiden, die parallel
zu den jeweiligen ersten Bezugsebenen 124 sind. Die dritten
Rillen 146 werden so gebildet, daß die jeweiligen fünften Rillenflächen 148 in
einer Ebene angeordnet sind, die im wesentlichen orthogonal zu den
jeweiligen ersten Rillenflächen
(z. B. 132a, 132b usw.) und den jeweiligen zweiten Rillenflächen (z.
B. 134a, 134b usw.) ist. Die Bildung. der fünften Rillenflächen 148 auf
diese Weise erzeugt mehrere Würfeleckenelemente 160a, 160b usw.
(zusammengefaßt
mit 160 bezeichnet) in der Bearbeitungsfläche 116 der
jeweiligen Plättchen 110.
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Jedes Würfeleckenelement 160 ist
durch eine erste Rillenfläche
(132a, 132b usw.), eine zweite Rillenfläche (134b, 134c usw.)
und einen Abschnitt einer fünften
Rillenfläche 148 definiert,
die sich an einem Punkt schneiden, um eine Würfeleckenspitze oder einen
Würfeleckenapex 162 zu
definieren. Gleichermaßen
ist die sechste Rillenfläche 150 in
einer Ebene angeordnet, die im wesentlichen orthogonal zu den jeweiligen
dritten Rillenflächen
(z. B. 140a, 140b usw.) und den jeweiligen vierten Rillenflächen (z.
B., 142b, 142c usw.) ist. Die Bildung der sechsten Rillenfläche 150 erzeugt
auch mehrere Würfeleckenelemente 170a, 170b usw.
(zusammengefaßt
mit 170 bezeichnet) in der Bearbeitungsfläche 116 der
Plättchen 110.
Jedes Würfeleckenelement 170 ist
durch eine dritte Rillenfläche
(140a, 140b usw.), eine vierte Rillenfläche (142a, 142b usw.)
und einen Abschnitt einer sechsten Rillenfläche 150 definiert,
die sich an einem Punkt schneiden, um eine Würfelekkenspitze oder einen
Würfeleckenapex 172 zu
definieren. Vorzugsweise bilden sowohl die fünfte Rillenfläche 148 als
auch die sechste Rillenfläche 150 mehrere
Würfeleckenelemente
an der Bearbeitungsfläche 116 der Plättchen 110.
Jedoch ist ersichtlich, daß die
dritte Rille 146 so gebildet werden kann, daß nur die
fünfte Rillenfläche 148 oder
sechste Rillenfläche 150 Würfeleckenelemente
bildet.
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In einem bevorzugten Verfahren werden
die Plättchen 110 neu
orientiert, so daß ihre
jeweiligen ersten Bezugsebenen 124 ungefähr parallel
zur Bezugsachse 182 angeordnet sind, bevor die mehreren Rillen 146 gebildet
werden. Jedoch können
die Rillen 146 gebildet werden, wobei die Plättchen so
orientiert sind, daß ihre
jeweiligen ersten Bezugsebenen in einem Winkel relativ zur Bezugsachse 182 angeordnet sind.
Insbesondere kann es in einigen Ausführungsformen vorteilhaft sein,
die jeweiligen dritten Rillen 146 so zu bilden, daß die jeweiligen
Plättchen 110 in einem
Winkel β2 angeordnet sind, um einen zusätzlichen
Orientierungsschritt im Herstellungsverfahren zu vermeiden. Vorzugsweise
werden die Rillen 146 ebenfalls durch einen Hochpräzisionsbearbeitungsvorgang
gebildet. In der offenbarten Ausführungsform wird ein Diamantschneide- werkzeug,
das einen Einschlußwinkel
von ungefähr
55,6° hat, über die
Bearbeitungsfläche 116 jedes
Plättchens 110 entlang einer
Achse bewegt, die im wesentlichen in der ersten Bezugsebene 124 des
Plättchens 110 enthalten ist
und die parallel zur Basisebene 180 ist. Die Rillen 146 werden
vorzugsweise so gebildet, daß die
jeweiligen Rillenvertices 152 etwas tiefer als die Vertices der
Rillen im ersten und zweiten Rillensatz sind. Die Bildung der Rillen 146 ergibt
mehrere Plättchen 110, die
eine strukturierte Oberfläche
im wesentlichen so, wie in 18 dargestellt,
haben.
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Wie in Verbindung mit 1-9 diskutiert, läuft das Verfahren von 10–18
auf eine gleichzeitige Bearbeitung mehrerer
Plättchen
hinaus, wobei jedes Würfeleckenelemente 160 drei
zueinander senkrechte optische Flächen 132, 134, 148 an
einem einzigen Plättchen
hat. Gleichermaßen
sind die optischen Flächen 140; 142, 150 der
Würfeleckenelemente 170 an
einem einzigen Plättchen
gearbeitet. Eine planare Grenzfläche
zwischen den Hauptflächen 112, 114 wird
während
der Bearbeitungsphase und in dem daraus gebildeten anschließenden Formwerkzeug
zwischen benachbarten Plättchen
aufrechterhalten, um so Ausrichtungsprobleme und Schäden aufgrund
des Hantierens mit den Plättchen zu
minimieren.
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19–27 veranschaulichen
eine alternative Ausführungsform
einer gleichzeitigen Bildung von mehreren Würfeleckenelementen an mehreren
Plättchen,
wie beispielsweise in 2 dargestellt.
Vorzugsweise sind die jeweiligen Bearbeitungsflächen 216 der Plättchen 210 im
wesentlichen koplanar, wenn die Plättchen mit ihren jeweiligen
ersten Bezugsebenen 224 senkrecht zur Basisebene 280 angeordnet
sind. Die Bezugsebenen 224, 226, 228 entsprechen
jeweils den vorstehend diskutierten Bezugsebenen 24, 26, 28.
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Mit Bezug auf 19 werden die mehreren Plättchen 210 so
orientiert, daß ihre
ersten Bezugsebenen 224 in einem ersten Winkel Θ1 relativ zu einer zur Basisebene 280 lotrechten,
festen Bezugsachse 282 angeordnet sind. In einer Ausführungsform
ist Θ1 ungefähr
54,74°.
Theoretisch kann Θ1 irgendein Winkel zwischen ungefähr 45° und ungefähr 90° sein, in der
Praxis jedoch ist er typisch zwischen ungefähr 45° und ungefähr 60°. Mit Bezug auf 20–21 wird ein
erster Rillensatz, der mehrere parallele benachbarte V-förmige Rillen 230a, 230b, 230c usw.
(zusammengefaßt
mit 230 bezeichnet) umfaßt, in den Bearbeitungsflächen 216 der
mehreren Plättchen 210 gebildet,
wobei die Plättchen 210 in
einem Winkel 81 angeordnet sind. Die Rillen 230 definieren
erste Rillenflächen 232a, 232b, 232c usw.
(zusammengefaßt
mit 213 bezeichnet) und zweite Rillenflächen 234b, 234c, 234d usw.
(zusammengefaßt
mit 234 bezeichnet), die sich, wie gezeigt, an Rillenvertices 233b, 233c, 233d usw.
(zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 233 bezeichnet) schneiden. Am Rand
der Plättchen
kann der Rillenbildungsvorgang eine einzelne Rillenfläche z. B. 232a,
234d bilden. Vorzugsweise wiederholt sich dieses Muster über die gesamten
Bearbeitungsflächen 216 der
mehreren Plättchen 210.
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Die Rillen 230 werden durch
Abtragen von Abschnitten der Bearbeitungsfläche 216, wie vorstehend
diskutiert, gebildet. In einer Ausführungsform werden die Rillen 230 in
einem Hochpräzisionsbearbeitungsvorgang
gebildet, in welchem ein Diamantschneidewerkzeug, das einen Einschlußwinkel von
120° hat,
wiederholt quer über
die Bearbeitungsflächen 216 der
mehreren Plättchen 210 entlang
einer Achse bewegt wird, die im wesentlichen parallel zur Basisebene 280 ist.
Es ist jedoch ersichtlich, daß das
Diamantschneidewerkzeug entlang einer Achse bewegt werden kann,
die nicht parallel zur Basisebene 280 ist, so daß das Werkzeug über die
mehreren Plättchen 210 in
unterschiedlicher Tiefe schneidet.
-
In der Ausführungsform von 20-21 werden
die Rillen in einer solchen Tiefe gebildet, daß die jeweiligen Rillenvertices 233 die
erste Hauptfläche 212 und
die zweite Hauptfläche 214 jedes
Plättchens schneiden.
Somit bilden in der in 20 dargestellten
Endansicht die Rillenvertices 233 im wesentlichen kontinuierliche
Linien, die sich entlang einer zur Basisebene 280 parallelen
Achse erstrecken. Ferner sind die Rillen 230 so gebildet,
daß die
Rillenvertices 233 und die Kanten 236 in Ebenen
angeordnet sind, die die ersten Bezugsebenen 224 und die
zweiten Bezugsebenen 226 orthogonal zugsebenen 224 und die
zweiten Bezugsebenen 226 orthogonal schneiden. Die jeweiligen
Rillenvertices erscheinen senkrecht zu den jeweiligen ersten Bezugsebenen 224 der
mehreren Plättchen 210.
Jedoch können
die Rillen 230. in geringeren Tiefen oder entlang unterschiedlicher
Achsen gebildet werden.
-
Mit Bezug auf 22–
23 werden die mehreren Plättchen 210 dann
so orientiert, daß ihre
jeweiligen ersten Bezugsebenen 224 in einem zweiten Winkel Θ2 relativ zu einer zur Basisebene 280 lotrechten, festen
Bezugsachse 282 angeordnet sind, und ein zweiter Rillensatz,
der mehrere parallele benachbarte V-förmige Rillen 238a, 238b, 238c usw.
(zusammengefaßt
mit 238 bezeichnet) umfaßt, wird in den Bearbeitungsflächen 216 der
mehreren Plättchen 210 gebildet.
In der offenbarten Ausführungsform
ist Θ2
ungefähr
54,74°.
Wie oben diskutiert, kann θ2 theoretisch irgendein Winkel zwischen ungefähr 45° und ungefähr 90° sein, jedoch
ist er in der Praxis vorzugsweise zwischen ungefähr 45° und ungefähr 60°. Um die mehreren Plättchen 210 in
einem Winkel Θ2 zu orientieren, werden die Plättchen 210 vorzugsweise aus
der Spannvorrichtung herausgenommen und neu zusammengestellt, wobei
ihre ersten Bezugsebenen in einem Winkel Θ2 angeordnet
sind. Die Rillen 238 definieren dritte Rillenflächen 240a, 240b, 240c usw.
(zusammengefaßt
mit 240 bezeichnet) und vierte Rillenflächen 242b, 242c; 242d usw.
(zusammengefaßt
mit 242 bezeichnet), die sich, wie gezeigt, an Rillenvertices 241b, 241c, 241d (zusammengefaßt mit 241 bezeichnet)
und entlang von Kanten 247a, 247b, 247c schneiden.
Am Rand der Plättchen
kann der Rillenbildungsvorgang eine einzelne Rillenfläche bilden.
Vorzugsweise wiederholt sich dieses Muster über die gesamten Bearbeitungsflächen 216 der Plättchen 210.
-
Die Rillen 238 des zweiten
Rillensatzes werden ebenfalls vorzugsweise durch einen Hochpräzisionsbearbeitungsvorgang
gebildet, in welchem ein Diamantschneidewerkzeug, das einen Einschlußwinkel
von ungefähr
120° hat,
wiederholt quer über
die Bearbeitungsflächen 216 der
Plättchen 210 entlang einer
zur Basisebene 280 im wesentlichen parallelen Schneideachse
bewegt wird. Die Rillen 238 werden vorzugsweise in ungefähr der gleichen
Tiefe wie die Rillen 230 gebildet. Außerdem werden die Rillen 238 vorzugsweise
so gebildet, daß die
Rillenvertices (z. B. 241a, 241b usw.) mit den jeweiligen
Rillenvertices (z. B. 233a, 233b usw.) der Rillen 230 im
wesentlichen koplanar sind. Nach Bildung der Rillen 238 im zweiten
Rillensatz erscheint jedes Plättchen 210 vorzugsweise
so, wie in
-
27 gezeigt.
-
Mit Bezug auf 25–26
wird ein dritter Rillensatz,
der mehrere parallele benachbarte V-förmige Rillen 246a, 246b, 246c usw.
(zusammengefaßt mit 246 bezeichnet)
umfaßt,
in den Bearbeitungsflächen 216 der
mehreren Plättchen 210 gebildet.
Die dritten Rillen 246 definieren fünfte Rillenflächen 248a, 248b, 248c usw.
(zusammengefaßt
mit 248 bezeichnet) und jeweilige sechste Rillenflächen 250a, 250b, 250c usw.
(zusammengefaßt
mit 250 bezeichnet), die sich an Rillenvertices 252a, 252b, 252c usw. (zusammengefaßt mit 252 bezeichnet)
schneiden. Die dritten Rillen 246 werden so gebildet, daß die fünften Rillenflächen 248 im
wesentlichen orthogonal zu den jeweiligen ersten Rillenflächen 232 und
den jeweiligen dritten Rillenflächen 240 angeordnet
sind.
-
Die Bildung der fünften Rillenflächen 248, wie
beschrieben, erzeugt mehrere Würfeleckenelemente
(z. B. 260a, 260b, 260c usw., zusammengefaßt mit 260 bezeichnet)
in der Bearbeitungafläche 216 des
jeweiligen Plättchens 210.
Jedes Würfeleckenelement 260 ist
durch eine erste Rillenfläche 232,
eine dritte Rillenfläche 240 und
eine fünfte
Rillenfläche 248 definiert,
die sich in einem Punkt schneiden, um eine Würfelekkenspitze oder einen Würfeleckenapex 262 zu
definieren. Gleichermaßen sind
die sechsten Rillenflächen 250 im
wesentlichen orthogonal zu den jeweiligen zweiten Rillenflächen 234 und
den jeweiligen vierten Rillenflächen 242 angeordnet.
Die Bildung der sechsten Rillenflächen 250 erzeugt auch
mehrere Würfeleckenelemente 270a, 270b usw.
(zusammengefaßt
mit dem Bezugszeichen 270 bezeichnet) in der Bearbeitungsfläche 216 des
Plättchens 210.
Jedes Würfeleckenelement 270 ist
durch eine zweite Rillenfläche 234,
ein vierte Rillenfläche 242 und
eine sechste Rillenfläche 250 definiert,
die sich in einem Punkt schneiden, um eine Würfeleckenspitze oder einen
Würfeleckenapex 272 zu
definieren. Vorzugsweise bilden sowohl die fünfte Rillenfläche 248 als
auch die sechste Rillenfläche 250 mehrere
optisch gegengleiche Würfeleckenelemente
an der Bearbeitungsfläche 216 des
Plättchens 210.
Jedoch ist ersichtlich, daß die
dritte Rille 246 so gebildet werden könnte, daß nur die fünften Rillenflächen 248 oder
sechsten Rillenflächen 250 Würfeleckenelemente
bilden.
-
In einem bevorzugten Verfahren werden
die mehreren Plättchen
neu orientiert, so daß ihre
jeweiligen Hauptflächen 224 ungefähr parallel
zur Bezugsachse 282 angeordnet sind, bevor die mehreren
Rillen 246 gebildet werden. In einer bevorzugten Ausführungsform
wird ein Diamantschneidewerkzeug, das einen Einschlußwinkel
von 90° hat, über die
Bearbeitungsflächen 216 der
mehreren Plättchen 210 entlang
einer Achse bewegt, die im wesentlichen parallel zur Basisebene 280 ist.
Jedoch können
die Rillen 246 gebildet werden, wobei die Plättchen so
orientiert sind, daß ihre
jeweiligen Hauptebenen in einem Winkel relativ zur Bezugsachse 282 angeordnet sind.
Die Rillen 246 werden vorzugsweise so gebildet, daß die jeweiligen
Rillenvertices 252 etwas tiefer als die Vertices der Rillen
des ersten und zweiten Rillensatzes sind. Die Bildung der Rillen 246 ergibt
mehrere Plättchen 210,
die eine strukturierte Oberfläche im
wesentlichen so, wie in 27 dargestellt,
haben.
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Die Bearbeitungsfläche 216 zeigt
verschiedene schenswerte Eigenschaften als retroreflektierender
Gegenstand. Die in der Bearbeitungsfläche 216 des Plättchens 210 gebildete
Würfeleckenelement-Geometrie
kann als "volle" oder "hocheffiziente" Würfeleckenelement-Geometrie
gekennzeichnet werden, da die Geometrie eine maximale effektive Apertur
hat, die fast 100 erreicht. Somit hat ein retroreflektierender Gegenstand,
der als ein Replika (Abdruck) der Bearbeitungsfläche gebildet wird, einen hohen
optischen Wirkungsgrad als Antwort auf Licht, das ungefähr entlang
den Symmetrieachsen der Würfeleckenelemente
auf den retroreflektierenden Gegenstand 216 auftrifft.
Außerdem
können
die Würfeleckenelemente
260 und 270 in
entgegengesetzten Orientierungen angeordnet sein und symmetrisch
zur ersten Bezugsebene 24 sein und als Antwort auf Licht,
das in hohen Eintrittswinkeln auf den retroreflektierenden Gegenstand
auftrifft, ein symmetrisches retroreflektierendes Verhalten zeigen.
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Die Plättchen werden vorzugsweise
aus einem formstabilen Material gebildet, das in der Lage ist, Präzisionstoleranzen
einzuhalten, z. B. maschinell bearbeitbare Kunststoffe (zum Beispiel
Polyethylenterephthalat, Polymethylmethacrylat und Polycarbonat)
oder Metalle (zum Beispiel Messing, Nickel, Kupfer oder Aluminium).
Die physikalischen Abmessungen der Plättchen sind hauptsächlich durch
Bearbeitungsgrenzen eingeschränkt.
Jedes Plättchen
ist vorzugsweise zwischen ungefähr
0,025 Millimeter und ungefähr
1,0 Millimeter und stärker
bevorzugt ungefähr
0,1 bis ungefähr
0,6 Millimeter dick, zwischen ungefähr 5 und ungefähr 100 Millimeter
hoch und zwischen ungefähr
10 und ungefähr
500 Millimeter breit. Diese Maße
sind nur zum Zwecke der Veranschaulichung gegeben und sind nicht
als Einschränkung
gedacht.
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Bei der Herstellung von retroreflektierenden Gegenständen, wie
beispielsweise retroreflektierenden Folien, wird die strukturierte
Oberfläche
der mehreren Plättchen
als Masterformwerkzeug verwendet, von welcher unter Verwendung von
Elektroformungs-verfahren oder anderen herkömmlichen Abdrucktechniken Abdrücke (Repliken)
hergestellt werden können.
Die mehreren Plättchen
können
im wesentlichen identische Würfeleckenelemente
enthalten oder Würfeleckenelemente
verschiedener Größe, Geometrie
oder Orientierung enthalten. Die strukturierte Oberfläche des
Abdrucks (Replika), auf dem Fachgebiet als "Stempel" bezeichnet,
enthält
ein Negativbild der Würfeleckenelemente.
Dieser Abdruck kann als Formwerkzeug zur Herstellung eines retroreflektierenden
Gegenstands verwendet werden. Üblicherweise
wird jedoch eine große
Anzahl von positiven oder negativen Repliken zusammengestellt, um
ein Formwerkzeug zu bilden, das groß genug ist, um bei der Herstellung
retroreflektierender Folien verwendbar zu sein. Retroreflektierende
Folien können
dann als ein integrales Material hergestellt werden, z. B. durch
Prägen
einer vorgeformten Folie mit einer Anordnung von Würfeleckenelementen
wie oben beschrieben oder durch Gießen eines fluiden Materials
in ein Formwerkzeug. Siehe JP 8–309851 und
US-Patent Nr. 4 601 861 (Pricone). Alternativ kann die retroreflektierende
Folie durch Gießen
der Würfeleckenelemente
gegen ein vorgeformte Schicht als ein geschichtetes Produkt hergestellt
werden, wie in der PCT-Anmeldung Nr. WO 95/11464 und dem US-Patent
Nr. 3 648 348 gelehrt, oder durch Laminieren einer vorgeformten
Schicht auf vorgeformte Würfeleckenelemente.
Beispielsweise kann eine solche Folie unter Verwendung eines durch
elektrolytische Ablagerung von Nickel an einem Masterformwerkzeug
hergestellten Nickelformwerkzeugs hergestellt werden. Das durch
Elektroformung hergestellte Formwerkzeug kann als Stempel verwendet
werden, um das Muster des Formwerkzeugs auf eine ungefähr 500 μm dicke Polycarbonatschicht,
die einen Brechungsindex von ungefähr 1,59 hat, zu prägen. Das
Formwerkzeug kann in einer Presse verwendet werden, wobei das Pressen
bei einer Temperatur von ungefähr
175° bis
ungefähr
200°C ausgeführt wird.
-
Nützliche
Materialien zur Herstellung solcher retroreflektierenden Folien
sind vorzugsweise Materialien, die formstabil, haltbar, wetterfest
und leicht in die gewünschte
Struktur formbar sind. Beispiele für geeignete Materialien umfassen
Acryle, die allgemein einen Brechungsindex von etwa 1,5 haben, wie beispielsweise
Plexiglasharz von Rohm and Haas; warmausgehärtete Acrylate und Epoxyacrylate,
vorzugsweise mittels Strahlung ausgehärtet, Polycarbonate, die einen
Brechungsindex von ungefähr
1,6 haben; Ionomere auf Polyethylenbasis (im Handel unter dem Namen
"SURLYN" erhältlich);
Polyester; und Celluloseacetatbutyrate. Allgemein kann jedes optisch
durchlässige
Material, das typisch unter Wärme und
Druck verformbar ist, verwendet werden. Andere geeignete Materialien
zur Herstellung retroreflektierender Folien sind im US-Patent Nr.
5 450 235 von Smith et al. offenbart. Die Folie kann auch Färbemittel,
Farbstoffe, UV-Absorptionsmittel oder andere Additive, wie benötigt, enthalten.
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Es ist unter gewissen Umständen wünschenswert,
eine retroreflektierende Folie mit einer Trägerschicht zu versehen. Eine
Trägerschicht
ist für eine
retroreflektierende Folie, die Licht gemäß den Prinzipien der inneren
Totalreflexion reflektiert, besonders nützlich. Eine geeignete Trägerschicht
kann aus irgendeinem lichtdurchlässigen
oder lichtundurchlässigen
Material, einschließlich
farbiger Materialien, bestehen, das mit der offenbarten retroreflektierenden
Folie effektiv im Eingriff sein kann. Geeignete Trägermaterialien
umfassen Aluminiumfolie, verzinkter Stahl, Polymermaterialien wie
Polymethylmeth-acrylate, Polyester, Polyamide, Polyvinylfluoride,
Poly-carbonate, Polyvinylchloride, Polyurethane, und eine große Vielfalt
an Laminaten, die aus diesen und aus anderen Materialien bestehen.
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Die Trägerschicht oder -folie kann
in einem Gittermuster oder in irgendeinem anderen für die reflektierenden
Elemente geeigneten Muster versiegelt werden. Eine Versiegelung
kann unter Verwendung einer Reihe von Verfahren, einschließlich Ultraschall-Schweißen, Kleben
oder Hitzeversiegelung an einzelnen Stellen der Anordnungen reflektierender Elemente
ausgeführt
werden (siehe z. B. US-Patent Nr. 3 924 928). Eine Versiegelung
ist wünschenswert, um
den Eintritt von Verunreinigungen, wie beispielsweise Schmutz und/oder
Feuchtigkeit, zu verhindern und die Lufträume angrenzend an die reflektierenden Oberflächen der
Würfeleckenelemente
zu schützen.
-
Wenn in dem Komposit zusätzliche
Steifigkeit oder Festigkeit erforderlich ist, können Trägerfolien aus Polycarbonat,
Polybutyrat oder faserverstärktem
Kunststoff verwendet werden. Abhängig vom
Flexibilitätsgrad
des resultierenden retroreflektierenden Materials kann das Material
gerollt oder in Streifen oder in eine andere geeignete Gestalt geschnitten
werden. Das retroreflektierende Material kann an der Rückseite
auch mit einem Klebstoff und einer Trennschichtfolie versehen werden,
so daß es an
irgendeinem Substrat angebracht werden kann, ohne daß zusätzlich Klebstoff
aufgetragen oder ein anderes Befestigungsmittel verwendet werden
muß.
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Die hierin offenbarten Würfeleckenelemente können individuell
maßgeschneidert
werden, um so das von den Gegenständen retroreflektierte Licht
in ein gewünschtes
Muster oder Divergenzprofil zu verteilen, wie im US-Patent Nr. 4
775 219 gelehrt wird. Typisch wird der eingebrachte Rillenhalbwinkelfehler weniger
als ±20
Bogenminuten und oft weniger als ±5 Bogenminuten-betragen.
-
Alle zitierten Patente und Patentanmeldungen
einschließlich
der im Hintergrund der Erfindung offenbarten, sind hiermit durch
Bezugnahme aufgenommen. Die vorliegende Erfindung ist nun mit Bezug
auf mehrere Ausführungsformen
beschrieben worden. Es ist für
Fachleute ersichtlich, daß viele Änderungen
an den beschriebenen Ausführungsformen vorgenommen
werden können,
ohne den Bereich der Erfindung zu verlassen. Somit sollte der Bereich
der vorliegenden Erfindung nicht durch die hierin beschriebenen
bevorzugten Strukturen und Verfahren beschränkt sein, sondern vielmehr
durch den weiten Schutzbereich der nachfolgenden Ansprüche.