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DE69713565T2 - Thermally imageable material - Google Patents

Thermally imageable material

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Publication number
DE69713565T2
DE69713565T2 DE69713565T DE69713565T DE69713565T2 DE 69713565 T2 DE69713565 T2 DE 69713565T2 DE 69713565 T DE69713565 T DE 69713565T DE 69713565 T DE69713565 T DE 69713565T DE 69713565 T2 DE69713565 T2 DE 69713565T2
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DE
Germany
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layer
radiation
oxygen
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visible range
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DE69713565T
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German (de)
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DE69713565D1 (en
Inventor
Dr. Eichhorn
Helmuth Habenhauer
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Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
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Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
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Application granted granted Critical
Publication of DE69713565T2 publication Critical patent/DE69713565T2/en
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Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein thermisch bebilderbares Material sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck unter Verwendung des erfindungsgemäßen Materials.The invention relates to a thermally imageable material and a method for producing a printing form for offset printing using the material according to the invention.

Die herkömmliche Druckformherstellung für den Offsetdruck wird vorgenommen, indem ein Text- und Bildinformationen enthaltender Film auf ein lichtempfindlich beschichtetes Trägermaterial aufgelegt wird und anschließend eine Belichtung mit Strahlung, die Anteile im nahen UV und im sichtbaren Bereich enthält, durchgeführt wird. Als lichtempfindliche Beschichtungen finden in positiv arbeitenden Materialien vorwiegend o-Chinondiazide Verwendung, während in negativ arbeitenden Materialien Polykondensate von Diazoniumsalzen oder radikalisch vernetzende Fotopolymersysteme gebräuchlich sind. Verarbeitet werden diese Platten normalerweise unter Gelblicht.The traditional printing plate production for offset printing is carried out by placing a film containing text and image information on a light-sensitive coated carrier material and then exposing it to radiation that contains components in the near UV and visible range. In positive-working materials, o-quinone diazides are mainly used as light-sensitive coatings, while in negative-working materials, polycondensates of diazonium salts or radically cross-linking photopolymer systems are common. These plates are normally processed under yellow light.

Neuere Entwicklungen ermöglichen es, vorbeschichtete Offsetdruckplatten direkt aus digitalen Datenbeständen zu bebildern. Bei diesen sogenannten "Computer-to-Plate"-Verfahren werden höchstlichtempfindliche Materialien mit Lasern, die Strahlung im sichtbaren Bereich (488 nm, 532 nm) emittieren, bildmäßig bestrahlt. Bei der Verarbeitung derartiger Druckplatten auf Fotopolymerbasis, wie sie z. B. in BP 0 537 805 und EP 0 704 764 beschrieben sind, muß auf strengen Ausschluß von Tages- oder Gelblicht geachtet werden. Andere, auf Silberbasis arbeitende Materialien verlangen vom Drucker zudem eine Umstellung seiner gewohnten Arbeitsweise, da diese Platten in der Druckmaschine ein unkonventionelles Verhalten (Farbannahme, Druckauflage) zeigen.Newer developments make it possible to image pre-coated offset printing plates directly from digital data sets. In these so-called "computer-to-plate" processes, highly light-sensitive materials are irradiated image-wise with lasers that emit radiation in the visible range (488 nm, 532 nm). When processing such photopolymer-based printing plates, as described in BP 0 537 805 and EP 0 704 764, care must be taken to ensure that daylight or yellow light is strictly excluded. Other silver-based materials also require the printer to change their usual working methods, as these plates exhibit unconventional behavior in the printing machine (ink acceptance, print run).

In jüngster Zeit eröffnet sich die Möglichkeit, längerwellig emittierende Laser für die digitale Druckplattenbebilderung zu nutzen, wobei speziell Laserdioden im Emissionsbereich von 780 bis 830 nm sowie Festkörperlaser im Emissionsbereich von 1060 bzw. 1064 nm im Blickpunkt des Interesses stehen, da sie mit hohen Leistungen relativ preiswert verfügbar sind. Die für diese Art der Belichtung notwendigen, thermisch bebilderbaren Offsetdruckplatten können bei entsprechender Sensibilisierung prinzipiell unter Tageslicht verarbeitet werden. Anzustreben ist ein konventionelles drucktechnisches Verhalten derartig hergestellter Druckformen in der Druckmaschine, so daß der Drucker altbewährte Arbeitsweisen beibehalten kann.Recently, the possibility of using longer-wave emitting lasers for digital printing plate imaging has opened up, with laser diodes in the emission range of 780 to 830 nm and solid-state lasers in the emission range of 1060 or 1064 nm being the focus of particular interest, as they are available with high performance at relatively low cost. The thermally imageable offset printing plates required for this type of exposure can in principle be processed under daylight if they are appropriately sensitized. The aim is to achieve a conventional printing technology behavior of printing forms produced in this way in the printing machine, so that the printer can retain tried and tested working methods.

Thermisch bebildere Materialien für die Herstellung von Offsetdruckformen sind bekannt.Thermally imaged materials for the production of offset printing plates are known.

Bei dem in EP 0 580 393 beschriebenen Druckplattenmaterial handelt es sich um ein ohne Entwicklungsschritt auskommendes Zweischichtmaterial für den wasserlosen Offsetdruck, bei dem eine Silikon-Deckschicht bei infraroter Bestrahlung von der hydrophilen Unterschicht entfernt (ablatiert) wird.The printing plate material described in EP 0 580 393 is a two-layer material for waterless offset printing that does not require a development step, in which a silicone top layer is removed (ablated) from the hydrophilic base layer by infrared irradiation.

In EP 0 625 728 und EP 0 672 954 wird ein aus einer Schicht bestehendes Druckplattenmaterial, das sowohl im infraroten als auch im UV-Bereich bebildert werden kann und für die Umkehrverarbeitung einsetzbar ist, beschrieben. Durch die aus einem für den IR-Bereich sensibilisierten Photosäurespender bei Belichtung freigesetzte Säure wird die Vernetzung eines Gemisches aus Resolharz und Novolak initiiert und durch einen Nacherwärmungsschritt vervollständigt. Für höhere Auflagen ist es notwendig, dieses Material einzubrennen, so wie es z. B. für Diazoschichten aus der britischen Patentschrift Nr. 1 154 749 bekannt ist.EP 0 625 728 and EP 0 672 954 describe a printing plate material consisting of one layer that can be imaged in both the infrared and UV ranges and can be used for reversal processing. The acid released from a photoacid donor sensitized to the IR range upon exposure initiates the cross-linking of a mixture of resole resin and novolak and is completed by a post-heating step. For longer runs, it is necessary to bake this material, as is known for diazo layers from British patent specification No. 1 154 749.

In EP 0 720 057 wird ein Zweischichtmaterial beansprucht, das aus einem Träger, einer lichtempfindlichen Schicht und einer Deckschicht besteht. Der Träger besteht vorzugsweise aus oberflächlich aufgerauhtem und anodisch oxidiertem Aluminium. Bei der lichtempfindlichen Schicht kann es sich um eine positiv oder negativ arbeitende Schicht handeln. Die negativ arbeitende Schicht umfaßt allgemein ein Diazoniumsalz, eine additionspolymerisierbare, ungesättigte Verbindung und einen Fotopolymerisationsinitiator. Auf dieser lichtempfindlichen Schicht befindet sich eine Deckschicht, die als wesentliche Bestandteile ein in Wasser oder in wäßrigem Alkali lösliches Bindemittel und einen im IR-Bereich absorbierenden Farbstoff sowie noch einen Farbstoff, der in dem Wellenlängenbereich absorbiert, in dem die lichtempfindliche Schicht empfindlich ist, enthält. Durch die Einwirkung von IR-Strahlung wird die Deckschicht entfernt (ablatiert). Die nicht abgetragenen Bereiche der Deckschicht wirken als Belichtungsmaske bei der nachfolgenden Flutbelichtung. In den nicht maskierten Bereichen der lichtempfindlichen Schicht wird dabei eine fotochemische Reaktion ausgelöst, die die Löslichkeit der entsprechenden Schichtbereiche in einer Entwicklerflüssigkeit ändert. In den maskierten Bereichen wird eine fotochemische Reaktion der lichtempfindlichen Schicht verhindert. Beim anschließenden Entwickeln werden die Maske sowie die löslichen Teile der lichtempfindlichen Schicht entfernt.EP 0 720 057 claims a two-layer material which consists of a support, a photosensitive layer and a cover layer. The support preferably consists of surface-roughened and anodically oxidized aluminum. The photosensitive layer can be a positive or negative working layer. The negative working layer generally comprises a diazonium salt, an addition-polymerizable, unsaturated compound and a photopolymerization initiator. On this photosensitive layer there is a cover layer which has as essential components a binder which is soluble in water or in aqueous alkali and an IR-absorbing Dye and another dye that absorbs in the wavelength range in which the light-sensitive layer is sensitive. The cover layer is removed (ablated) by the action of IR radiation. The non-removed areas of the cover layer act as an exposure mask during the subsequent flood exposure. In the non-masked areas of the light-sensitive layer, a photochemical reaction is triggered that changes the solubility of the corresponding layer areas in a developer liquid. In the masked areas, a photochemical reaction of the light-sensitive layer is prevented. During subsequent development, the mask and the soluble parts of the light-sensitive layer are removed.

Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines bilderzeugenden Elements zur Herstellung von Druckplatten für den wasserlosen Offsetdruck auf eine neue und einfache Weise.The object of the invention is to provide an image-forming element for producing printing plates for waterless offset printing in a new and simple manner.

Die vorliegende Erfindung beschreibt ein thermisch bebilderbares Material bestehend aus einem Trägermaterial und zwei darauf in der angegebenen Reihenfolge aufgebauten Schichten (a) und (b):The present invention describes a thermally imageable material consisting of a carrier material and two layers (a) and (b) built up thereon in the order given:

a) einer Fotopolymerschicht (a), die für Strahlung im nahen UV oder im sichtbaren Bereich empfindlich, für Strahlung im infraroten Bereich dagegen wenig empfindlich ist, sowiea) a photopolymer layer (a) which is sensitive to radiation in the near UV or visible range, but is less sensitive to radiation in the infrared range, and

b) einer für Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich durchlässigen, für Sauerstoff nur wenig durchlässigen Schicht (b), die nach infraroter Bestrahlung für Sauerstoff durchlässiger wird.b) a layer (b) that is permeable to radiation in the near UV and visible range, but only slightly permeable to oxygen, which becomes more permeable to oxygen after infrared irradiation.

Als Trägermaterial für Offsetdruckplatten können eingesetzt werden: mechanisch oder elektrochemisch aufgerauhtes und ggf. anodisiertes Aluminium, das zudem noch chemisch, z. B. mit Polyvinylphonphonsäure, Silikaten oder Phosphaten, vorbehandelt sein kann, außerdem Mehrmetallplatten mit Cu/Cr oder Messing/Cr als oberster Schicht. Ebenso geeignet sind Folien aus anderen Materialien, die durch entsprechende Vorbehandlungen hydrophiliert worden sind, wie z. B. Polyesterfolien.The following can be used as carrier materials for offset printing plates: mechanically or electrochemically roughened and, if necessary, anodized aluminum, which can also be chemically pretreated, e.g. with polyvinyl phonic acid, silicates or phosphates, as well as multi-metal plates with Cu/Cr or brass/Cr as the top layer. Films made of other materials that have been hydrophilized by appropriate pretreatment, such as polyester films, are also suitable.

Im nahen UV oder im sichtbaren Spektralbereich absorbierende, radikalisch vernetzbare Fotopolymerschichten für den Einsatz in Offsetdruckplattenschichten sind seit langem bekannt und haben breite Verwendung gefunden (siehe z. B. J. P. Fouassier, J. F. Rabek, Radiation Curing Science and Technology, Plenum, New York, 1993). Gegenüber anderen eingesetzten Technologien zeichnen sich Fotopolymersysteme durch kurze Belichtungszeiten sowie hohen erreichbaren Druckauflagen aus.Radically crosslinkable photopolymer layers that absorb in the near UV or visible spectral range for use in offset printing plate layers have been known for a long time and have been widely used (see, for example, J. P. Fouassier, J. F. Rabek, Radiation Curing Science and Technology, Plenum, New York, 1993). Compared to other technologies used, photopolymer systems are characterized by short exposure times and high achievable print runs.

Als radikalisch vernetzbare Fotopolymerschicht (a) ist im Prinzip jedes Fotopolymersystem, das im nahen UV oder im sichtbaren Spektralbereich absorbiert, geeignet, sofern seine Vernetzungsfähigkeit in Anwesenheit von Luftsauerstoff geringer ist als in Abwesenheit desselben. Geeignete Systeme enthaltenIn principle, any photopolymer system that absorbs in the near UV or visible spectral range is suitable as a radically crosslinkable photopolymer layer (a), provided that its crosslinking ability in the presence of atmospheric oxygen is lower than in its absence. Suitable systems include

- ein polymeres Bindemittel (A),- a polymeric binder (A),

- eine mindestens zwei ethylenisch ungesättigte Einheiten enthaltende polymerisierbare Verbindung (B) und- a polymerizable compound (B) containing at least two ethylenically unsaturated units and

- ein unter dem Einfluß von Strahlung im nahen UV oder im sichtbaren Bereich Radikale erzeugendes Fotoinitiatorsystem (C) als wesentliche Bestandteile.- a photoinitiator system (C) that generates radicals under the influence of radiation in the near UV or visible range as essential components.

Beispiele für verwendbare polymere Bindemittel (A) sind Poly(meth)acrylsäurealkylester, bei denen die Alkylgruppe z. B. Methyl, Ethyl, n-Butyl, Isobutyl, n-Hexyl oder 2-Ethylhexyl ist; Copolymere der genannten (Meth)acrylsäurealkylester mit mindestens einem Monomeren wie Acrylnitril, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Styrol oder Butadien; Polyvinylacetat, Vinylacetat-Copolymere, Polyurethane, Methylcellulose, Ethylcellulose, Polyvinylformal und Polyvinylbutyral.Examples of usable polymeric binders (A) are poly(meth)acrylic acid alkyl esters in which the alkyl group is, for example, methyl, ethyl, n-butyl, isobutyl, n-hexyl or 2-ethylhexyl; copolymers of the above-mentioned (meth)acrylic acid alkyl esters with at least one monomer such as acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene or butadiene; polyvinyl acetate, vinyl acetate copolymers, polyurethanes, methylcellulose, ethylcellulose, polyvinyl formal and polyvinyl butyral.

Besonders geeignet sind Bindemittel, die in Wasser unlöslich, in organischen Lösemitteln löslich und in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich oder zumindest quellbar sind. Besonders erwähnt werden sollen Bindemittel, die saure Gruppen, z. B. Carboxylgruppen oder phenolische OH-Gruppen, enthalten, wie Copolymerisate aus (Meth)acrylsäure und/oder deren ungesättigten Homologen wie Crotonsäure, Copolymerisate des Maleinsäureanhydrids oder seiner Halbester, Umsetzungsprodukte hydroxylgruppenhaltiger Polymere mit Di- oder Tricarbonsäureanhydriden sowie deren Mischungen, Homo- oder Copolymere des Hydroxystyrols.Particularly suitable are binders which are insoluble in water, soluble in organic solvents and soluble or at least swellable in aqueous alkaline solutions. Special mention should be made of binders which contain acidic groups, e.g. carboxyl groups or phenolic OH groups, such as copolymers of (meth)acrylic acid and/or its unsaturated homologues such as Crotonic acid, copolymers of maleic anhydride or its half esters, reaction products of hydroxyl-containing polymers with di- or tricarboxylic anhydrides and their mixtures, homo- or copolymers of hydroxystyrene.

Die vorstehend beschriebenen Polymeren sind insbesondere dann geeignet, wenn sie ein Molekulargewicht zwischen 500 und 200 000 oder darüber, bevorzugt 1000 bis 100 000 aufweisen und entweder Säurezahlen zwischen 10 und 250, bevorzugt von 20 bis 200, oder Hydroxylzahlen zwischen 50 und 750, bevorzugt von 100 bis 500, aufweisen.The polymers described above are particularly suitable if they have a molecular weight between 500 and 200,000 or more, preferably 1,000 to 100,000 and either acid numbers between 10 and 250, preferably 20 to 200, or hydroxyl numbers between 50 and 750, preferably 100 to 500.

Bevorzugte polymere Bindemittel (A) sindPreferred polymeric binders (A) are

- Copolymerisate der (Meth)acrylsäure mit Alkyl(meth)acrylaten, Alkenyl(meth)acrylaten, (Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen;- Copolymers of (meth)acrylic acid with alkyl (meth)acrylates, alkenyl (meth)acrylates, (meth)acrylonitrile or the like;

- Vinylacetat-Copolymerisate;- vinyl acetate copolymers;

- Copolymerisate der Crotonsäure mit Vinylacetat, Alkyl(meth)acrylaten, Alkenyl(meth)acrylaten, (Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen;- Copolymers of crotonic acid with vinyl acetate, alkyl (meth)acrylates, alkenyl (meth)acrylates, (meth)acrylonitrile or the like;

- Copolymerisate der Vinylessigsäure mit Alkyl(meth)acrylaten und/oder Alkenyl(meth)acrylaten;- Copolymers of vinylacetic acid with alkyl (meth)acrylates and/or alkenyl (meth)acrylates;

- Copolymerisate des Maleinsäureanhydrids mit ggf. substituierten Styrolen, ungesättigten Kohlenwasserstoffen, ungesättigten Estern oder Ethern;- Copolymers of maleic anhydride with optionally substituted styrenes, unsaturated hydrocarbons, unsaturated esters or ethers;

- Veresterungsprodukte der Copolymerisate des Maleinsäureanhydrids;- Esterification products of copolymers of maleic anhydride;

- Veresterungsprodukte von Hydroxylgruppen enthaltenden Polymeren mit Anhydriden von Di- oder Polycarbonsäuren, z. B. von Copolymerisaten der Hydroxyalkyl(meth)acrylate mit Alkyl(meth)acrylaten, (Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen, von Polyurethanen mit einer ausreichenden Zahl von OH-Gruppen, von Epoxyharzen, Polyestern, teilverseiften Vinylacetat- Copolymeren, Polyvinylacetalen mit freien OH-Gruppen, Polyhydroxystyrol, Copolymerisaten der Hydroxystyrole mit Alkyl(meth)acrylaten oder dergleichen;- Esterification products of polymers containing hydroxyl groups with anhydrides of di- or polycarboxylic acids, e.g. of copolymers of hydroxyalkyl (meth)acrylates with alkyl (meth)acrylates, (meth)acrylonitrile or the like, of polyurethanes with a sufficient number of OH groups, of epoxy resins, polyesters, partially saponified vinyl acetate copolymers, polyvinyl acetals with free OH groups, polyhydroxystyrene, copolymers of hydroxystyrenes with alkyl (meth)acrylates or the like;

- Phenol-Formaldehyd-Harze, z. B. Novolake;- Phenol-formaldehyde resins, e.g. novolaks;

- sowie Homo- oder Copolymerisate des Hydroxystyrols.- as well as homo- or copolymers of hydroxystyrene.

Die Menge des polymeren Bindemittels (A) in der radikalisch vernetzbaren Fotopolymerschicht (a) beträgt im allgemeinen 5 bis 80, vorzugsweise 25 bis 60 Gew.-%.The amount of the polymeric binder (A) in the radically crosslinkable photopolymer layer (a) is generally 5 to 80, preferably 25 to 60 wt.%.

Geeignete polymerisierbare Verbindungen mit mindestens zwei ethylenisch ungesättigten Einheiten (B) sind bekannt und z. B. in US 2 760 863 und US 3 060 023 beschrieben.Suitable polymerizable compounds having at least two ethylenically unsaturated units (B) are known and are described, for example, in US 2,760,863 and US 3,060,023.

Bevorzugte Beispiele sind Acryl- und Methacrylsäureester von zwei- oder mehrwertigen Alkoholen wie Ethylenglykoldiacrylat, Acrylate oder Methacrylate von Trimethylolethan, Trimethylolpropan, Pentaerythrit und Dipentaerythrit und von mehrwertigen alicyclischen Alkoholen oder N-substituierte Acryl- und Methacrylsäureamide. Vorteilhaft werden auch Umsetzungsprodukte von Mono- oder Diisocyanaten mit Partialestern mehrwertiger Alkohole eingesetzt. Derartige Monomere sind in DE 2064079, DE 2361041 und DE 2822190 beschrieben.Preferred examples are acrylic and methacrylic acid esters of di- or polyhydric alcohols such as ethylene glycol diacrylate, acrylates or methacrylates of trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol and of polyhydric alicyclic alcohols or N-substituted acrylic and methacrylic acid amides. Reaction products of mono- or diisocyanates with partial esters of polyhydric alcohols are also advantageously used. Such monomers are described in DE 2064079, DE 2361041 and DE 2822190.

Ebenfalls eingesetzt werden können Verbindungen, die mindestens eine fotooxidierbare und gegebenenfalls mindestens eine Urethangruppe im Molekül enthalten. Beispiele für solche polymerisierbaren Verbindungen sind in EP 287 818, EP 355 387 und EP 364 735 beschrieben.Compounds which contain at least one photooxidizable and optionally at least one urethane group in the molecule can also be used. Examples of such polymerizable compounds are described in EP 287 818, EP 355 387 and EP 364 735.

Der Mengenanteil der polymerisierbaren Verbindungen (B) an der Fotopolymerschicht (a) beträgt im allgemeinen etwa 20 bis 90, bevorzugt 35 bis 70 Gew.-%.The proportion of the polymerizable compounds (B) in the photopolymer layer (a) is generally about 20 to 90, preferably 35 to 70 wt.%.

Unter dem Einfluß von Strahlung im nahen UV oder im sichtbaren Bereich Radikale erzeugende Fotoinitiatorsysteme (C) sind bekannt und z. B. beschrieben in Chemistry and Technology of UV and EB formulations for coatings, inks and paints, Vol. 3, Sita Technology Ltd., London, 1991. Im erfindungsgemäßen Gemisch eingesetzt werden können z. B. α-Carbonylverbindungen (z. B. beschrieben in US 2 367 660); Hexaarylbisimidazole, auch im Gemisch mit weiteren Fotoinitiatoren (DE 40 09 700); Triazine (US 4 189 323, EP 0 137 452) und Acridine sowie Phenazine (US 3 751 259) auch in Kombination untereinander oder mit anderen Fotoinitiatoren.Photoinitiator systems (C) which generate radicals under the influence of radiation in the near UV or visible range are known and are described, for example, in Chemistry and Technology of UV and EB formulations for coatings, inks and paints, Vol. 3, Sita Technology Ltd., London, 1991. The following can be used in the mixture according to the invention: α-carbonyl compounds (e.g. described in US 2 367 660); hexaarylbisimidazoles, also in a mixture with other photoinitiators (DE 40 09 700); triazines (US 4 189 323, EP 0 137 452) and acridine and phenazines (US 3 751 259) also in combination with each other or with other photoinitiators.

Besonders bevorzugt für den Einsatz in der fotopolymerisierbaren Schicht (a) sind die Vertreter der Klasse der Trihalomethyl-striazine, speziell der Bistrichlormethyl-s- triazine, und der 9-Phenylacridine, auch in Kombination miteinander. Werden besonders hohe Empfindlichkeiten im sichtbaren Spektralbereich gewünscht, empfiehlt sich der Zusatz eines Metallocen-Initiatorsystems, speziell einer Kombination aus Metallocen und einer durch Strahlung spaltbaren Trihalogenmethylverbindung, wie sie in EP 364 735 beschrieben ist.Particularly preferred for use in the photopolymerizable layer (a) are the representatives of the class of trihalomethyl-striazines, especially bistrichloromethyl-striazines, and 9-phenylacridines, also in combination with one another. If particularly high sensitivities in the visible spectral range are desired, the addition of a metallocene initiator system is recommended, especially a combination of metallocene and a trihalomethyl compound that can be split by radiation, as described in EP 364 735.

Der Mengenanteil des Fotoinitiatorsystems (C) an der Fotopolymerschicht (a) beträgt im allgemeinen etwa 2 bis 15, bevorzugt 5 bis 10 Gew.-%.The proportion of the photoinitiator system (C) in the photopolymer layer (a) is generally about 2 to 15, preferably 5 to 10 wt.%.

In geringen Mengen kann die fotopolymerisierbare Schicht (a) für spezielle Erfordernisse wie Flexibilität, Haftung, Glanz etc. noch verschiedenartige Stoffe als Zusätze enthalten. Beispiele sind: Inhibitoren zur Verhinderung der thermischen Polymerisation der Monomeren. Wasserstoffdonatoren, Farbstoffe, gefärbte und ungefärbte Pigmente, Farbbildner, Indikatoren, Weichmacher, Kettenüberträger und Netzmittel.The photopolymerizable layer (a) can contain small amounts of various substances as additives for special requirements such as flexibility, adhesion, gloss, etc. Examples are: inhibitors to prevent thermal polymerization of the monomers, hydrogen donors, dyes, colored and uncolored pigments, color formers, indicators, plasticizers, chain transfer agents and wetting agents.

Schließlich können den lichtempfindlichen Gemischen noch lösliche oder auch feinteilige dispergierbare Farbstoffe sowie je nach Anwendungszweck auch UV-Absorber zugesetzt werden. Als Farbstoffe haben sich die Triphenylmethanfarbstoffe besonders bewährt. Die günstigsten Mengenverhältnisse der Komponenten lassen sich im Einzelfall durch Vorversuche leicht ermitteln.Finally, soluble or finely dispersible dyes and, depending on the application, UV absorbers can be added to the light-sensitive mixtures. Triphenylmethane dyes have proven particularly useful as dyes. The most suitable proportions of the components can easily be determined in individual cases by preliminary tests.

Geeignete Lösemittel für das Aufbringen der fotopolymerisierbaren Schicht (a) sind Ketone wie Methylethylketon, chlorierte Kohlenwasserstoffe wie Trichlorethylen und 1,1,1- Trichlorethan, Alkohole wie n-Propanol, Ether wie Tetrahydrofuran, Alkoholether wie Ethylenglykolmonoethylether und Ester wie Butylacetat. Es können auch Gemische verwendet werden, die zudem noch für spezielle Zwecke Lösemittel wie Acetonitril, Dioxan oder Dimethylformamid enthalten können. Prinzipiell sind alle Lösemittel verwendbar, die mit den Schichtkomponenten nicht irreversibel reagieren.Suitable solvents for applying the photopolymerizable layer (a) are ketones such as methyl ethyl ketone, chlorinated hydrocarbons such as trichloroethylene and 1,1,1-trichloroethane, alcohols such as n-propanol, ethers such as tetrahydrofuran, alcohol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and esters such as Butyl acetate. Mixtures can also be used which may also contain solvents such as acetonitrile, dioxane or dimethylformamide for special purposes. In principle, all solvents can be used which do not react irreversibly with the layer components.

Die Wahl der Lösemittel ist jedoch auf das vorgesehene Beschichtungsverfahren, die Schichtdicke und die Trocknungsvorrichtung abzustimmen. Dünne Schichten bis ca. 5 um werden für Versuchsmengen vorzugsweise auf der Schleuder durch Aufgießen aufgetragen. Mit Lösungen bis zu ca. 40% Feststoffgehalt sind so mit einmaligem Auftrag oder mit einer Streichrakel Schichtdicken von mehr als 60 um erreichbar. Für beidseitige Beschichtung wird Tauchbeschichtung vorgezogen, wobei durch Verwendung von niedrig siedenden Lösemitteln schnelles Antrocknen von Vorteil ist. Bandbeschichtung erfolgt durch Antragen mittels Walzen, Breitschlitzdüsen oder Sprühen; Einzelplatten wie Zink- und Mehrmetallplatten können durch Gießantrag (curtain coater) beschichtet werden.However, the choice of solvent must be tailored to the intended coating process, the layer thickness and the drying device. Thin layers of up to approx. 5 µm are preferably applied for test quantities using a centrifuge by pouring. With solutions with a solids content of up to approx. 40%, layer thicknesses of more than 60 µm can be achieved with a single application or with a doctor blade. Dip coating is preferred for double-sided coating, whereby the use of low-boiling solvents allows for rapid drying. Coil coating is carried out by applying using rollers, slot nozzles or spraying; individual plates such as zinc and multi-metal plates can be coated using a curtain coater.

Für die Trocknung nach der Beschichtung der radikalisch vernetzbaren Fotopolymerschicht (a) können die üblichen Geräte und Bedingungen übernommen werden, Temperaturen um 100ºC und kurzfristig bis 120ºC werden ohne Einbuße an Strahlungsempfindlichkeit vertragen.For drying after coating the radically crosslinkable photopolymer layer (a), the usual equipment and conditions can be used; temperatures around 100ºC and briefly up to 120ºC are tolerated without loss of radiation sensitivity.

Die für Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich durchlässige, für Sauerstoff nur wenig durchlässige Schicht (b), die unter dem Einfluß von Strahlung im infraroten Bereich für Sauerstoff durchlässiger wird als vor der Bestrahlung, besteht vorzugsweise aus einem Material, das sich in der Entwicklerflüssigkeit löst oder sich mindestens an den von infraroter Strahlung getroffenen Teilen bei der Entwicklung ablösen läßt. Hierfür geeignete Materialien sind z. B. Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyphosphate, Zucker usw.The layer (b) which is permeable to radiation in the near UV and visible range, but only slightly permeable to oxygen, and which becomes more permeable to oxygen under the influence of radiation in the infrared range than before irradiation, preferably consists of a material which dissolves in the developer liquid or can be removed at least from the parts affected by infrared radiation during development. Suitable materials for this are, for example, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyphosphates, sugar, etc.

Damit die Deckschicht (b) für infrarote Strahlung empfindlich wird, sind geeignete Sensibilisatoren erforderlich. Denkbar ist z. B. die Verwendung von im infraroten Spektralbereich absorbierenden Farbstoffen, wie sie z. B. in M. Matsuoka, Infrared Absorbing Dyes, Plenum Press, 1990, oder in J. Fabian, Chem. Rev. 1992, 92, 1197 - 1226, beschrieben sind. Bevorzugt verwendet wird Ruß, da auf diese Weise mit derselben Rezeptur eine Sensibilisierung sowohl für den Bereich der Diodenlaser (780-830 nm) als auch der Festkörperlaser (1060 bzw. 1064 nm) erreicht werden kann.Suitable sensitizers are required to make the cover layer (b) sensitive to infrared radiation. One possible option is to use dyes that absorb in the infrared spectral range, such as those described in M. Matsuoka, Infrared Absorbing Dyes, Plenum Press, 1990, or in J. Fabian, Chem. Rev. 1992, 92, 1197 - 1226. Carbon black is preferred because this allows sensitization to be achieved with the same recipe for both the diode laser range (780-830 nm) and the solid-state laser range (1060 or 1064 nm).

Die Deckschicht (b) wird hergestellt, indem ein vorzugsweise wasserlösliches Harz und die infrarote Strahlung absorbierende Komponente in einem geeigneten Lösemittel gelöst oder dispergiert werden und die erhaltene Lösung auf die Fotopolymerschicht (a) beschichtet wird. Geeignet sind solche Lösemittel, die mit der Fotopolymerschicht (a) nicht reagieren bzw. sie nicht anlösen. Ein besonders bevorzugtes Lösemittel ist Wasser, dem Additive, wie z. B. Haftvermittler oder Dispergierhilfsmittel, in kleinen Mengen zugesetzt sein können.The cover layer (b) is produced by dissolving or dispersing a preferably water-soluble resin and the infrared radiation-absorbing component in a suitable solvent and coating the resulting solution onto the photopolymer layer (a). Suitable solvents are those which do not react with the photopolymer layer (a) or do not dissolve it. A particularly preferred solvent is water, to which additives such as adhesion promoters or dispersing agents can be added in small amounts.

Die Wahl der Lösemittel ist jedoch auf das vorgesehene Beschichtungsverfahren, die Schichtdicke und die Trocknungsvorrichtung abzustimmen. Dünne Schichten bis ca. 5 um werden für Versuchsmengen vorzugsweise auf der Schleuder durch Aufgießen aufgetragen. Mit Lösungen bis zu 40% Feststoffgehalt sind so mit einmaligem Auftrag oder mit einer Streichrakel Schichtdicken von mehr als 60 um erreichbar. Für beidseitige Beschichtung wird Tauchbeschichtung vorgezogen, wobei durch Verwendung von niedrig siedenden Lösemitteln schnelles Antrocknen von Vorteil ist. Bandbeschichtung erfolgt durch Antragen mittels Walzen, Breitschlitzdüsen oder Sprühen; Einzelplatten wie Zink- und Mehrmetallplatten können durch Gießantrag (curtain coater) beschichtet werden.However, the choice of solvent must be tailored to the intended coating process, the layer thickness and the drying device. Thin layers of up to approx. 5 μm are preferably applied for test quantities using a centrifuge by pouring. With solutions with a solids content of up to 40%, layer thicknesses of more than 60 μm can be achieved with a single application or with a doctor blade. Dip coating is preferred for double-sided coating, whereby the use of low-boiling solvents allows for rapid drying. Coil coating is carried out by applying it using rollers, slot nozzles or spraying; individual plates such as zinc and multi-metal plates can be coated using a curtain coater.

Für die Deckschicht (b) erscheint grundsätzlich jedes für Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich durchlässige Material, das unter der Einwirkung von infraroter Strahlung seine Sauerstoffdurchlässigkeit verändert, geeignet. Denkbar sind z. B. auch selbsttragende Deckschichten aus geeignet vorbehandelter Polyesterfolie, die vor Entwicklung der radikalisch vernetzbaren Fotopolymerschicht abgezogen werden.For the top layer (b), basically any material that is permeable to radiation in the near UV and visible range and that changes its properties under the influence of infrared radiation appears to be suitable. Oxygen permeability is modified. Self-supporting cover layers made of suitably pretreated polyester film, which are removed before the radically crosslinkable photopolymer layer is developed, are also conceivable.

Bei dem erfindungsgemäßen Material handelt es sich, im Unterschied zum beschriebenen Stand der Technik, um das Konzept einer chemischen Maske. Im Gegensatz zu optischen Maskensystemen, wie z. B. in EP 0 720 057 beschrieben, besitzt die Deckschicht (b) eine Durchlässigkeit für Strahlung des Wellenlängenbereichs, für die die Fotopolymerschicht (a) empfindlich ist. Die erforderliche Differenzierung für die der IR-Belichtung nachfolgende Flutbelichtung wird durch eine chemisch-physikalische Veränderung der Maske - der Durchlässigkeit für Sauerstoff - erreicht. Die Löslichkeitsänderung der Fotopolymerschicht (a) erfolgt in den von der unverändert gebliebenen Deckschicht (b) geschützten Bereichen.The material according to the invention is, in contrast to the described prior art, the concept of a chemical mask. In contrast to optical mask systems, as described in EP 0 720 057, for example, the cover layer (b) has a permeability to radiation in the wavelength range to which the photopolymer layer (a) is sensitive. The required differentiation for the flood exposure following the IR exposure is achieved by a chemical-physical change in the mask - the permeability to oxygen. The change in the solubility of the photopolymer layer (a) takes place in the areas protected by the cover layer (b), which has remained unchanged.

Die Verarbeitung des erfindungsgemäßen Materials geschieht nach folgendem Verfahren, das ebenfalls Bestandteil der Erfindung ist:The processing of the material according to the invention takes place according to the following process, which is also part of the invention:

- Das erfindungdgemäße Material wird mit infraroter Strahlung, z. B. einem Nd:YAG-Laser (Emission bei 1064 nm), der durch programmierte Strich- oder Rasterbewegung gesteuert wird, bildmäßig bestrahlt, um die Sauerstoffdurchlässigkeit der Deckschicht (b) zu erhöhen.- The material according to the invention is irradiated imagewise with infrared radiation, e.g. a Nd:YAG laser (emission at 1064 nm), which is controlled by programmed line or raster movement, in order to increase the oxygen permeability of the cover layer (b).

- Anschließend wird mit Strahlung im nahen UV und/oder im sichtbaren Spektralbereich eine Flutbelichtung vorgenommen, um die radikalisch vernetzbare Fotopolymerschicht (a) an den Stellen, die von der infraroten Strahlung nicht getroffen wurden, zu vernetzen. An den Stellen, wo die Deckschicht (b) von infraroter Strahlung getroffen wurde, ist durch den erhöhten Sauerstoffzutritt zur Fotopolymerschicht (a) keine Vernetzung derselben möglich.- Flood exposure is then carried out using radiation in the near UV and/or visible spectral range in order to crosslink the radically crosslinkable photopolymer layer (a) in the areas that were not hit by the infrared radiation. In the areas where the cover layer (b) was hit by infrared radiation, crosslinking of the photopolymer layer (a) is not possible due to the increased access of oxygen to the same.

- Es schließt sich gegebenenfalls ein Nacherwärmungsschritt an, um die Vernetzung der Fotopolymerschicht (a) zu vervollständigen.- If necessary, a post-heating step follows in order to complete the cross-linking of the photopolymer layer (a).

- Im Entwicklungsschritt werden die Deckschicht (b) sowie die nicht vernetzten Anteile der Fotopolymerschicht (a) entfernt.- In the development step, the cover layer (b) and the non-crosslinked parts of the photopolymer layer (a) are removed.

Dies kann gemeinsam in einer Entwicklerflüssigkeit oder in zwei getrennten Schritten, gegebenenfalls mit zwei unterschiedlichen Entwicklerflüssigkeiten, erfolgen.This can be done together in one developer fluid or in two separate steps, possibly with two different developer fluids.

Für die Bebilderung des erfindungsgemäßen Materials kann z. B. eine Apparatur, wie sie in EP 0 580 394 beschrieben ist, verwendet werden. Handelsübliche Platten- oder Filmbelichter sind ebenso geeignet, soweit sie mit einem Laser oder einer anderen geeigneten Lichtquelle, die im nahen IR-Bereich (780-1100 nm) emittiert, ausgerüstet sind.For imaging the material according to the invention, an apparatus such as that described in EP 0 580 394 can be used. Commercially available plate or film exposure units are also suitable, provided they are equipped with a laser or another suitable light source that emits in the near IR range (780-1100 nm).

Für die nach der bildmäßigen Belichtung mit infraroter Strahlung notwendige Flutbelichtung mit Strahlung im nahen UV und/oder sichtbaren Spektralbereich können die üblichen Kopiergeräte wie Röhrenlampen, Xenonimpulslampen, metallhalogeniddotierte Quecksilberdampf-Hochdrucklampen und Kohlebogenlampen verwendet werden. Darüber hinaus ist Kontaktbelichtung mit gewöhnlichen Glühbirnen möglich. Die Belichtung kann auch im Durchlauf mittels einer der eigentlichen Entwicklungsmaschine vorgeschalteten Flutbelichtungseinheit erfolgen.For the flood exposure with radiation in the near UV and/or visible spectral range required after image exposure with infrared radiation, the usual copying devices such as tube lamps, xenon pulse lamps, metal halide-doped mercury vapor high-pressure lamps and carbon arc lamps can be used. Contact exposure with ordinary light bulbs is also possible. The exposure can also take place in a continuous process using a flood exposure unit installed upstream of the actual developing machine.

Die flutbelichtete Schicht (a) kann - ggf. nach einem thermischen Nachbehandlungsschritt zur Vervollständigung der Vernetzungsreaktion - gemeinsam mit der Deckschicht (b) mit praktisch den gleichen Entwicklern wie für handelsübliche Fotopolymersysteme entfernt werden, bzw. die erfindungsgemäßen Schichten können in ihren Belichtungsbedingungen vorteilhaft auf die bekannten Hilfsmittel wie Entwickler und programmierte Sprüh- oder Tauchbadentwicklungsgeräte abgestimmt werden. Die wäßrigen Entwicklerlösungen können z. B. Alkaliphosphate, -silikate oder -hydroxide und ferner Netzmittel sowie kleinere Anteile organischer Lösemittel enthalten. In bestimmten Fällen sind auch Lösemittel/Wasser-Gemische als Entwickler brauchbar. Der günstigste Entwickler kann durch Versuche mit der jeweils verwendeten Schicht ermittelt werden. Bei Bedarf kann die Entwicklung mechanisch unterstützt werden.The flood-exposed layer (a) can - if necessary after a thermal post-treatment step to complete the cross-linking reaction - be removed together with the top layer (b) with practically the same developers as for commercially available photopolymer systems, or the layers according to the invention can be advantageously adapted in their exposure conditions to the known aids such as developers and programmed spray or immersion bath development devices. The aqueous developer solutions can contain, for example, alkali phosphates, silicates or hydroxides and also wetting agents and small amounts of organic solvents. In certain cases, solvent/water mixtures can also be used as developers. The most favorable developer can be determined by experiments with the layer used in each case. If necessary, development can be mechanically assisted.

Es kann von Vorteil sein, die Deckschicht in einem der eigentlichen Entwicklung vorgeschalteten Schritt zu entfernen. Dies kann im einfachsten Fall durch Abspülen mit Wasser erfolgen, dem gegebenenfalls Additive, wie z. B. Tenside, in kleinen Mengen zugesetzt werden. Bei Bedarf kann die Abspülung mechanisch unterstützt werden.It can be advantageous to remove the top layer in a step prior to the actual development. In the simplest case, this can be done by rinsing with water, to which additives such as surfactants can be added in small quantities if necessary. If necessary, the rinsing can be assisted mechanically.

Die nachfolgenden Beispiele zeigen die bevorzugten Ausführungsformen des erfindungsgemäßen, thermisch bebilderbaren Gemisches, ohne die Erfindung auf diese zu beschränken.The following examples show the preferred embodiments of the thermally imageable mixture according to the invention, without restricting the invention to these.

Beispiel 1example 1

Eine Lösung ausA solution from

5,5 Gt eines Copolymeren aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure (Mengenverhältnis 64 : 36), das im Molverhältnis 3 : 1 mit Glycidylmethacrylat umgesetzt wurde (Säurezahl 85),5.5 pbw of a copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid (ratio 64:36), which was reacted with glycidyl methacrylate in a molar ratio of 3:1 (acid number 85),

6,5 Gt eines aliphatischen Urethanacrylats (Ebecryl 1290 der Fa. UCB Chemicals),6.5 pbw of an aliphatic urethane acrylate (Ebecryl 1290 from UCB Chemicals),

0,2 Gt 2,4-Bistrichlormethyl-6(4-styrylphenyl)-s-triazin0.2 Gt 2,4-bistrichloromethyl-6(4-styrylphenyl)-s-triazine

0,3 Gt 9-Phenylacridin,0.3 Gt 9-phenylacridine,

0,2 Gt Bis(cyclopentadienyl)-bis(2,6-difluor-3-[pyrr-1-yl]- phenyl)titan,0.2 pbw of bis(cyclopentadienyl)-bis(2,6-difluoro-3-[pyrr-1-yl]-phenyl)titanium,

0,1 Gt Leukokristallviolett0.1 Gt Leucocrystal violet

60 Gt Propylenglykolmonomethylether und60 Gt propylene glycol monomethyl ether and

27 Gt Butanon27 Gt butanone

wird auf elektrolytisch aufgerauhte und anodisierte Aluminiumfolie aufgebracht. Die Schicht wird 2 Minuten im Umlufttrockenschrank bei 100ºC getrocknet, so daß ein Schichtgewicht von 2 g/m² resultiert. Anschließend wird eine 7%ige wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol, der 0,1% Ruß in wasserdispergierbarer Form (z. B. Rußpaste Derussol P130 der Degussa) zugesetzt wurde, in solcher Dicke aufgebracht, daß nach dem Trocknen (2 Minuten im Umlufttrockenschrank bei 100ºC) ein Schichtgewicht von 1,5 g/m² erhalten wird.is applied to electrolytically roughened and anodized aluminum foil. The layer is dried for 2 minutes in a circulating air drying cabinet at 100ºC, resulting in a layer weight of 2 g/m². A 7% aqueous solution of polyvinyl alcohol, to which 0.1% carbon black in water-dispersible form (e.g. carbon black paste Derussol P130 from Degussa) has been added, is then applied in such a thickness that after drying (2 minutes in a circulating air drying cabinet at 100ºC) a layer weight of 1.5 g/m² is obtained.

Die so hergestellte, vorbeschichtete Druckplatte wird mit einem Nd:YAG-Laser mit infraroter Strahlung der Wellenlänge 1064 nm in einem Außentrommelbelichtungsgerät mit einer Energie von 1500 mJ/cm² bebildert, in einem Kopierrahmen mittels Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich mit einer Energie von 25 mJ/cm² flutbelichtet und in einem Entwickler der ZusammensetzungThe pre-coated printing plate produced in this way is imaged with an Nd:YAG laser with infrared radiation of wavelength 1064 nm in an external drum exposure device with an energy of 1500 mJ/cm², flood-exposed in a copying frame using radiation in the near UV and in the visible range with an energy of 25 mJ/cm² and in a developer of the composition

1 Gt Trinatriumcitrat·2 H&sub2;O,1 part by weight of trisodium citrate · 2 H2 O,

2 Gt 1-Aminopropan-2-ol,2 parts by weight 1-aminopropan-2-ol,

1,4 Gt Benzylalkohol,1.4 Gt benzyl alcohol,

0,6 Gt Natriumcumolsulfonat,0.6 Gt sodium cumene sulfonate,

0,05 Gt Natriummetasilikat·5 H&sub2;O,0.05 pbw of sodium metasilicate·5H2O,

0,02 Gt Fettalkoholpolyglykolether und0.02 Gt fatty alcohol polyglycol ether and

94 Gt Wasser94 Gt water

entwickelt. Man erhält eine einwandfreie Wiedergabe der Bildteile, während die Nichtbildstellen rückstandsfrei wegentwickelt werden.developed. You get a perfect reproduction of the image parts, while the non-image areas are developed away without leaving any residue.

Beispiel 2Example 2

Eine Lösung ausA solution from

4,5 Gt eines Copolymeren aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure (Gewichtsverhältnis 85 : 15, Säurezahl 115),4.5 pbw of a copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid (weight ratio 85:15, acid number 115),

3,2 Gt des Umzetzungsprodukts von 1 Mol Hydroxyethylpiperidin, 2 Mol Hexamethylendiisocyanat und 2 Mol Hydroxyethylmethacrylat,3.2 pbw of the reaction product of 1 mole of hydroxyethylpiperidine, 2 moles of hexamethylene diisocyanate and 2 moles of hydroxyethyl methacrylate,

2,4 Gt des Umsetzungsprodukts von 1 Mol 2,2,4- Trimethylhexan-1,6-diisocyanat und 2 Mol Hydroxyethylmethacrylat,2.4 pbw of the reaction product of 1 mole of 2,2,4- trimethylhexane-1,6-diisocyanate and 2 moles of hydroxyethyl methacrylate,

0,2 Gt 2,4-Bistrichlormethyl-6-(4-styrylphenyl)-s-triazin,0.2 Gt 2,4-bistrichloromethyl-6-(4-styrylphenyl)-s-triazine,

0,2 Gt 9-Phenylacridin,0.2 Gt 9-phenylacridine,

0,1 Gt Leukokristallviolett,0.1 Gt leuco crystal violet,

60 Gt Propylenglykolmonomethylether und60 Gt propylene glycol monomethyl ether and

27 Gt Butanon27 Gt butanone

wird auf elektrolytisch aufgerauhte und anodisierte Aluminiumfolie aufgebracht. Die Schicht wird 2 Minuten im Umlufttrockenschrank bei 100ºC getrocknet, so daß ein Schichtgewicht von 2,3 g/m² resultiert. Anschließend wird eine 7%ige wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol, der 0,5% Ruß in wasserdispergierbarer Form (z. B. Rußpaste Derussol P130 der Degussa) zugesetzt wurde, in solcher Dicke aufgebracht, daß nach dem Trocknen (2 Minuten im Umlufttrockenschrank bei 100ºC) ein Schichtgewicht von 1,5 g/m² erhalten wird.is applied to electrolytically roughened and anodized aluminum foil. The layer is dried for 2 minutes in a circulating air drying cabinet at 100ºC, resulting in a layer weight of 2.3 g/m². A 7% aqueous solution of polyvinyl alcohol, to which 0.5% carbon black in water-dispersible form (e.g. carbon black paste Derussol P130 from Degussa) has been added, is then applied in such a thickness that after drying (2 minutes in a circulating air drying cabinet at 100ºC) a layer weight of 1.5 g/m² is obtained.

Die erhaltene, vorbeschichtete Druckplatte wird mit einem Nd:YAG-Laser mit infraroter Strahlung der Wellenlänge 1064 nm in einem Außentrommelbelichtungsgerät mit einer Energie von 300 mJ/cm² bebildert, in einem Kopierrahmen mittels Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich mit einer Energie von 50 mJ/cm² flutbelichtet, im Umlufttrockenschrank 1 Minute bei 100ºC nacherwärmt und in einem Entwickler der Zusammensetzung des Beispiels 1 entwickelt. In eine Druckmaschine eingespannt, erhält man mit der so hergestellten Druckform mehr als 50 000 einwandfreie Drucke.The resulting pre-coated printing plate is imaged with an Nd:YAG laser using infrared radiation with a wavelength of 1064 nm in an external drum exposure device with an energy of 300 mJ/cm², flood-exposed in a copying frame using radiation in the near UV and visible range with an energy of 50 mJ/cm², reheated in a circulating air drying cabinet for 1 minute at 100ºC and developed in a developer with the composition of Example 1. When clamped into a printing machine, the printing plate produced in this way produces more than 50,000 perfect prints.

Beispiel 3Example 3

Auf eine analog des ersten Beschichtungsschrittes im Beispiel 2 hergestellte und aufgebrachte Fotopolymerschicht wird eine 7%ige wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol, der 0,5 Gew.-% Ruß in wasserdispergierbarer Form (z. B. Rußpaste Derussol P130 der Degussa) sowie 0,2 Gew.-% Nitrocellulose, gelöst in Propylenglykolmonomethylether, zugesetzt wurden, in solcher Dicke aufgebracht, daß nach dem Trocknen (2 Minuten im Umlufttrockenschrank bei 100ºC) ein Schichtgewicht von 1,5 g/m² erhalten wird.A 7% aqueous solution of polyvinyl alcohol, to which 0.5% by weight of carbon black in water-dispersible form (e.g. carbon black paste Derussol P130 from Degussa) and 0.2% by weight of nitrocellulose dissolved in propylene glycol monomethyl ether have been added, is applied to a photopolymer layer produced and applied analogously to the first coating step in Example 2, in such a thickness that after drying (2 minutes in a circulating air drying cabinet at 100°C) a layer weight of 1.5 g/m² is obtained.

Die erhaltene lichtempfindliche Beschichtung wird mit einem Nd:YAG-Laser mit infraroter Strahlung der Wellenlänge 1064 nm in einem Außentrommelbelichtungsgerät mit einer Energie von 300 mJ/cm² bebildert, in einem Kopierrahmen mittels Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich mit einer Energie von 25 mJ/cm² flutbelichtet, im Umlufttrockenschrank 1 Minute bei 100ºC nacherwärmt und in einem Entwickler der Zusammensetzung des Beispiels 1 entwickelt, wobei eine einwandfreie Wiedergabe der digitalen Bildvorlage erreicht wird.The resulting photosensitive coating is imaged with an Nd:YAG laser using infrared radiation of wavelength 1064 nm in an external drum exposure device with an energy of 300 mJ/cm², flood-exposed in a copying frame using radiation in the near UV and visible range with an energy of 25 mJ/cm², in the The paper is then reheated in a circulating air drying cabinet for 1 minute at 100ºC and developed in a developer having the composition of Example 1, whereby a perfect reproduction of the digital image is achieved.

Beispiel 4Example 4

Die analog Beispiel 2 hergestellte, vorbeschichtete Druckplatte wird mit einer Laserdiode mit infraroter Strahlung der Wellenlänge 830 nm in einem Außentrommelbelichtungsgerät mit einer Energie von 250 mJ/cm² bebildert, in einem Kopierrahmen mittels Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich mit einer Energie von 50 mJ/cm² flutbelichtet, im Umlufttrockenschrank 1 Minute bei 100ºC nacherwärmt und in einem Entwickler der Zusammensetzung des Beispiels 1 entwickelt. In eine Druckmaschine eingespannt, erhält man mit der so hergestellten Druckform mehr als 50 000 einwandfreie Drucke.The pre-coated printing plate produced analogously to Example 2 is imaged with a laser diode with infrared radiation of wavelength 830 nm in an external drum exposure device with an energy of 250 mJ/cm², flood-exposed in a copying frame using radiation in the near UV and visible range with an energy of 50 mJ/cm², reheated in a circulating air drying cabinet for 1 minute at 100ºC and developed in a developer with the composition of Example 1. When clamped into a printing machine, the printing form produced in this way produces more than 50,000 perfect prints.

Beispiel 5Example 5

Die analog Beispiel 2 hergestellte, vorbeschichtete Druckplatte wird mit einem Nd:YAG-laser mit infraroter Strahlung der Wellenlänge 1064 nm in einem Innentrommelbelichtungsgerät mit einer Energie von 360 mJ/cm² bebildert, in einem Kopierrahmen mittels Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich mit einer Energie von 50 mJ/cm² flutbelichtet, im Umlufttrockenschrank 1 Minute bei 100ºC nacherwärmt und in einem Entwickler der Zusammensetzung des Beispiels 1 entwickelt, wobei man eine einwandfreie Druckform erhält.The pre-coated printing plate produced analogously to Example 2 is imaged with an Nd:YAG laser with infrared radiation of wavelength 1064 nm in an internal drum exposure device with an energy of 360 mJ/cm², flood-exposed in a copying frame using radiation in the near UV and visible range with an energy of 50 mJ/cm², reheated in a circulating air drying cabinet for 1 minute at 100ºC and developed in a developer of the composition of Example 1, whereby a perfect printing form is obtained.

Beispiel 6Example 6

Eine Lösung ausA solution from

6 Gt eines Copolymeren aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure (Mengenverhältnis 64 : 36), das im Molverhältnis 3 : 1 mit Glycidylmethacrylat umgesetzt wurde (Säurezahl 85),6 pbw of a copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid (ratio 64:36), which was reacted with glycidyl methacrylate in a molar ratio of 3:1 (acid number 85),

3 Gt des Umsetzungsprodukts von 1 Mol Hydroxyethylpiperidin, 2 Mol Hexamethylendiisocyanat und 2 Mol Hydroxyethylmethacrylat,3 pbw of the reaction product of 1 mole of hydroxyethylpiperidine, 2 moles of hexamethylene diisocyanate and 2 moles of hydroxyethyl methacrylate,

0,04 Gt 2,4-Bistrichlormethyl-6-(4-styrylphenyl)-s-triazin,0.04 Gt 2,4-bistrichloromethyl-6-(4-styrylphenyl)-s-triazine,

0,2 Gt Bis(cyclopentadienyl)-bis(2,6-difluor-3-[pyrr-1-yl]- phenyl)titan,0.2 pbw of bis(cyclopentadienyl)-bis(2,6-difluoro-3-[pyrr-1-yl]-phenyl)titanium,

0,3 Gt Flexoblau,0.3 Gt Flexo Blue,

20 Gt Diethylenglykoldimethylether,20 pbw of diethylene glycol dimethyl ether,

57 Gt Propylenglykolmonomethylether und57 Gt propylene glycol monomethyl ether and

12 Gt Butanon12 Gt butanone

wird auf elektrolytisch aufgerauhte und anodisierte Aluminiumfolie aufgebracht. Die Schicht wird 2 Minuten im Umlufttrockenschrank bei 100ºC getrocknet, so daß ein Schichtgewicht von 2,1 g/m² resultiert. Anschließend wird eine 7%ige wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol, der 0,1% Ruß in wasserdispergierbarer Form (z. B. Rußpaste Derussol P130 der Degussa) zugesetzt wurde, in solcher Dicke aufgebracht, daß nach dem Trocknen (2 Minuten im Umlufttrockenschrank bei 100ºC) ein Schichtgewicht von 1,7 g/m² erhalten wird.is applied to electrolytically roughened and anodized aluminum foil. The layer is dried for 2 minutes in a circulating air drying cabinet at 100ºC, resulting in a layer weight of 2.1 g/m². A 7% aqueous solution of polyvinyl alcohol, to which 0.1% carbon black in water-dispersible form (e.g. carbon black paste Derussol P130 from Degussa) has been added, is then applied in such a thickness that after drying (2 minutes in a circulating air drying cabinet at 100ºC) a layer weight of 1.7 g/m² is obtained.

Die erhaltene lichtempfindliche Beschichtung wird mit einem Nd:YAG-Laser mit infraroter Strahlung der Wellenlänge 1064 nm in einem Außentrommelbelichtungsgerät mit einer Energie von 300 mJ/cm² bebildert, in einem Kopierrahmen mittels Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich mit einer Energie von 50 mJ/cm² flutbelichtet und in einem Entwickler der Zusammensetzung des Beispiels 1 entwickelt, wobei eine einwandfreie Bildwiedergabe erhalten wird.The resulting light-sensitive coating is imaged with an Nd:YAG laser with infrared radiation of wavelength 1064 nm in an external drum exposure device with an energy of 300 mJ/cm², flood-exposed in a copying frame using radiation in the near UV and visible range with an energy of 50 mJ/cm² and developed in a developer of the composition of Example 1, whereby a perfect image reproduction is obtained.

Claims (8)

1. Thermisch bebilderbares Material, bestehend aus einem Trägermaterial und zwei darauf in der angegebenen Reihenfolge aufgebauten Schichten (a) und (b):1. Thermally imageable material consisting of a support material and two layers (a) and (b) built up thereon in the order given: a) einer Fotopolymerschicht, die für Strahlung im nahen UV oder im sichtbaren Bereich empfindlich, für Strahlung im infraroten Bereich dagegen wenig empfindlich ist, sowiea) a photopolymer layer which is sensitive to radiation in the near UV or visible range, but less sensitive to radiation in the infrared range, and b) einer für Strahlung im nahen UV und im sichtbaren Bereich durchlässigen, für Sauerstoff nur wenig durchlässigen Schicht, die nach infraroter Bestrahlung für Sauerstoff durchlässiger wird.b) a layer that is permeable to radiation in the near UV and visible range, but only slightly permeable to oxygen, and that becomes more permeable to oxygen after infrared irradiation. 2. Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Fotopolymerschicht (a) bei Bestrahlung unter Sauerstoffzutritt eine gegenüber der Bestrahlung ohne Sauerstoffzutritt eingeschränkte Vernetzungsfähigkeit aufweist.2. Material according to claim 1, characterized in that the photopolymer layer (a) has a limited crosslinking ability when irradiated with access to oxygen compared to irradiation without access to oxygen. 3. Material gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Fotopolymerschicht (a) als wesentliche Bestandteile3. Material according to one or more of claims 1 and 2, characterized in that the photopolymer layer (a) contains as essential components A) ein polymeres Bindemittel,A) a polymeric binder, B) eine mindestens zwei ethylenisch ungesättigte Einheiten enthaltende polymerisierbare Verbindung undB) a polymerizable compound containing at least two ethylenically unsaturated units and B) ein unter dem Einfluß von Strahlung im nahen UV oder im sichtbaren Bereich Radikale erzeugendes Fotoinitiatorsystem enthält.B) contains a photoinitiator system that generates radicals under the influence of radiation in the near UV or visible range. 4. Material gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die für Sauerstoff nur wenig durchlässige Schicht (b) als wesentliche Bestandteile4. Material according to one or more of claims 1 to 3, characterized in that the layer (b) which is only slightly permeable to oxygen contains as essential components I) ein polymeres Bindemittel undI) a polymeric binder and II) eine infrarote Strahlung absorbierende Substanz enthält.II) contains a substance that absorbs infrared radiation. 5. Material gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die infrarote Strahlung absorbierende Substanz (II) Rußpartikel enthält oder im wesentlichen aus Ruß besteht.5. Material according to claim 4, characterized in that the infrared radiation absorbing substance (II) contains soot particles or consists essentially of soot. 6. Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck, dadurch gekennzeichnet, daß ein Material gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 56. Method for producing a printing form for offset printing, characterized in that a material according to one or more of claims 1 to 5 - mit infraroter Strahlung bildmäßig bestrahlt wird, um an den bestrahlten Stellen die Sauerstoffdurchlässigkeit der oberen Schicht (b) zu erhöhen;- is irradiated image-wise with infrared radiation in order to increase the oxygen permeability of the upper layer (b) at the irradiated areas; - anschließend mit Strahlung im nahen UV und/oder im sichtbaren Bereich flutbelichtet wird, um an den Stellen, wo die Sauerstoffdurchlässigkeit der oberen Schicht (b) unverändert ist, eine Vernetzung der unteren Schicht (a) auszulösen und- is then flood-exposed to radiation in the near UV and/or visible range in order to trigger cross-linking of the lower layer (a) at the points where the oxygen permeability of the upper layer (b) is unchanged and - in einem wäßrig-alkalischen Entwickler entwickelt wird, um die obere Schicht (b) komplett sowie die nicht vernetzten Stellen der unteren Schicht (a) zu entfernen.- is developed in an aqueous alkaline developer to completely remove the upper layer (b) as well as the non-crosslinked areas of the lower layer (a). 7. Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck, dadurch gekennzeichnet, daß ein Material gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 57. A method for producing a printing form for offset printing, characterized in that a material according to one or more of claims 1 to 5 - mit infraroter Strahlung bildmäßig bestrahlt wird, um an den bestrahlten Stellen die Sauerstoffdurchlässigkeit der oberen Schicht (b) zu erhöhen;- is irradiated image-wise with infrared radiation in order to increase the oxygen permeability of the upper layer (b) at the irradiated areas; - anschließend mit Strahlung im nahen UV und/oder im sichtbaren Bereich flutbelichtet wird, um an den Stellen, wo die Sauerstoffdurchlässigkeit der oberen Schicht (b) unverändert ist, eine Vernetzung der unteren Schicht (a) auszulösen;- is subsequently flood-exposed to radiation in the near UV and/or visible range in order to trigger cross-linking of the lower layer (a) at the points where the oxygen permeability of the upper layer (b) is unchanged; - in einer wäßrigen Entwicklerflüssigkeit oder reinem Wasser entwickelt wird, um die obere Schicht (b) komplett zu entfernen- is developed in an aqueous developer liquid or pure water to completely remove the upper layer (b) undand - in einem wäßrig-alkalischen Entwickler entwickelt wird, um die nicht vernetzten Stellen der unteren Schicht (a) zu entfernen.- is developed in an aqueous alkaline developer to remove the non-crosslinked areas of the lower layer (a). 8. Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck, dadurch gekennzeichnet, daß bei dem Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 6 und 7 nach dem Flutbelichtungsschritt ein Nacherwärmungsschritt eingefügt wird, bei dem das Material eine Temperatur von 70ºC bis 150ºC, bevorzugt von 80ºC bis 130ºC, besonders bevorzugt von 90ºC bis 120ºC erreicht.8. A method for producing a printing form for offset printing, characterized in that in the method according to one or more of claims 6 and 7 after the flood exposure step a post-heating step is inserted in which the material reaches a temperature of 70ºC to 150ºC, preferably 80ºC to 130ºC, particularly preferably 90ºC to 120ºC.
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