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DE68912207T2 - Gas-Laserapparat. - Google Patents

Gas-Laserapparat.

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DE68912207T2
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Germany
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anode
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discharge
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Koichi Hamakawasaki Wo Nishida
Kiyohisa Hamakawasaki Wo Terai
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen Gaslaser-Apparat des Typs, bei dem ein Entladungselektrodenpaar in einer als ein Lasermedium dienenden Gasgemischatmosphäre angeordnet ist, und insbesondere eine Werkstoffverbesserung bei der Anode der Entladungselektroden des Gaslaser-Apparats.
  • Als der Gaslaser des obengenannten Typs ist ein CO&sub2;-Laser zur Werkstoffbearbeitung verwendet worden. Der CO&sub2;-Laser umfaßt im allgemeinen einen mit einem Gasgemisch als ein Lasermedium gefüllten Entladungsabschnitt, eine Vielzahl von im Entladungsabschnitt vorgesehenen Stabanoden, welche in Form eines Reed- bzw. Rohrschirms angeordnet sind, und eine Vielzahl von im allgemeinen L-förmigen Stabkathoden, welche den Stabanoden gegenüberliegend angeordnet sind. Eine Gleichstrom-Hochspannungsquelle ist über Ballastwiderstände zwischen die Entladungselektroden geschaltet. Die Gleichspannung wird über den Entladungselektroden angelegt wodurch sie eine Glimmentladung zwischen den Elektroden verursacht und dadurch das Gasgemisch anregt. Das Gasgemisch wird über einen Wärmetauscher von der Kathodenseite zur Anodenseite zurückgeführt, um zu verhindern, daß seine Temperatur ansteigt. Für die Kathode wird herkömmlicherweise Molybdän und für die Anode Kupfer oder Molybdän verwendet. Ein ähnlicher Laser ist in der EP-A- 0 235 788 beschrieben.
  • Für den in einer Fertigungsstraße eines Unternehmens zum Zwecke der Werkstoffbearbeitung eingesetzten Laserapparat ist es im Gegensatz zu einem im Labormaßstab zu Forschungszwecken dienenden Laser wünschenswert, ein möglichst langes Wartungsintervall des Laserapparats zu erreichen, da das Wartungsintervall die Produktivität der Fertigungsstraße beeinflußt. Beim herkömmlichen CO&sub2;-Laser unterliegen die Entladungselektroden einer Zustandsverschlechterung, und die elektrische Entladung im Entladungsabschnitt des Lasers geht von der Glimm- zur Lichtbogenentladung über, wenn die Elektroden nicht gewartet werden. Unter diesen Bedingungen muß die Wartung der Entladungselektroden in relativ kurzen Intervallen wiederholt ausgeführt. So kann beispielsweise der herkömmliche 5 kW-Transversal-Gaslaser maximal 200 Stunden kontinuierlich arbeiten.
  • Die Erfinder der vorliegenden Erfindung führten Experimente zur Untersuchung des Mechanismus der Zustandsverschlechterung von Entladungselektroden durch. Aus den Experimenten ersahen die Erfinder, dar die aus Molybdän bestehenden Kathoden einer physikalischen Zerstäubungswirkung aufgrund des Aufpralls positiver Ionen während der Glimmentladung unterliegen. Da Molybdän außerdem eine geringe Sublimationstemperatur von unter 700ºC hat, ist es auch wahrscheinlich, dar Molybdän von der chemischen Zerstäubungswirkung beeinträchtigt wird. Demzufolge erfahren die Entladungselektroden aufgrund sowohl physikalischer als auch chemischer Zerstäubungswirkung eine Zustandsverschlechterung.
  • Demgegenüber ergibt die Kontrolle der Molybdänkathode nach einer langen Einsatzzeit, dar sich auf der gesamten Oberfläche der Kupferanode ein dünner Oxidfilm gebildet hat. Es ist anzunehmen, dar die Oxidation der Anodenoberfläche auf eine extrem kleine Menge von Sauerstoff zurückzuführen ist, die im als Lasermedium dienenden Gasgemisch enthalten ist. Es wird außerdem angenommen, dap der Sauerstoff auf Leckage von Dichtelementen eines luftdichten Behälters des Gaslaser- Apparats oder auf die Zerlegung des im Gasgemisch als das Lasermedium enthaltenen CO&sub2; zurückzuführen ist. Weiterhin ergibt die Kontrolle der Kupferanode nach einer langen Einsatzzeit, dar sich eine angehäufte oder aufgeschichtete Substanz mit einer Dicke von etwa 1 oder 2 um auf deren der Kathode gegenüberliegenden Seite befindet, und dar schwarze Vorsprünge, deren Durchmesser etwa 100 um beträgt, auf ihrer Oberfläche festgestellt werden. Da es sich bei der angehäuften Substanz um amorphes, teilweise auf der der Kathode gegenüberliegenden Anodenseite befindliches MoO&sub3; handelt, nimmt man an, daß die obenbeschriebene Kathodenzerstäubung die Streuung von Kathodenmaterialpartikel bewirkt und diese in der Gasgemischströmung zur Anode transportiert werden, was in der auf der Anode angehäuften Substanz resultiert. Des weiteren ergibt eine Analyse, dar die auf der angehäuften Substanz ausgeformten Vorsprünge aus Kohlenstoff bestehen. Daraus wird gefolgert, daß die Vorsprünge Punkte zur Erzeugung von Mikro-Lichtbögen sind. Aufgrund der obenbeschriebenen Analysenergebnisse wird folgender Mechanismus angenommen, der von der Zustandsverschlechterung der Entladungselektroden zur Erzeugung von Mikro-Lichtbögen führt: Wenn die Anodenoberflächentemperatur aufgrund einer elektrischen Entladung zwischen den Entladungselektroden ansteigt oxidiert die Anodenoberfläche ungleichmäßig, da die Anode aus Kupfer gebildet -ist, welches leicht oxidiert. Gleichzeitig erleidet die Molybdänkathode die Zerstäubungswirkung aufgrund der elektrischen Entladung, und die Partikel des Kathodenmaterials werden mit der Strömung des Gasgemischs gestreut, so dar sie auf der Anode haften und auf dieser als Molybdänoxid unter dem Einfluß des ungleichmäßigen, sich auf der Anode gebildeten Oxidfilms angehäuft werden. Die angehäufte Substanz ist ein Oxid und hat deshalb eine isolierende Eigenschaft. Die Konzentration des elektrischen Feldes tritt folglich an manchen Bereichen der Anodenoberfläche auf. Als Ergebnis der Konzentration des elektrischen Feldes werden Mikro-Lichtbögen erzeugt. Mit zunehmender Anzahl der Mikro-Lichtbogenerzeugungspunkte nimmt die Konzentrationsneigung des elektrischen Feldes an den Mikro-Lichtbogenerzeugungpunkten zu, wodurch die Ungleichmäßigkeit der Entladungsleistung zunimmt. Die Entladungsleistung erreicht örtlich den Lichtbogengrenzwert oder übersteigt ihn, und schließlich wechselt die Glimmentladung über den Entladungsabschnitt zur Lichtbogenentladung.
  • Soweit bisher beschrieben, besteht beim herkömmlichen Gaslaser ein Problem darin, dar das aufgrund der ungleichmäßigen Oxidation der Anodenoberfläche produzierte Oxid ungleichmäßig auf der Anode angehäuft wird und die Zustandsverschlechterung der Entladungslektroden den Lichtbogengrenzwert senkt, wodurch ein verkürztes Wartungsintervall notwendig wird.
  • Es ist deshalb eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Gaslaser-Apparat bereitzustellen, bei dem die Zustandsverschlechterung der Anode der Entladungselektroden verhindert und somit deren Wartungsintervall verbessert werden kann.
  • Die Veröffentlichung Review of Scientific Instruments", Bd. 58, Nr. 8, 1987, Seiten 1417-1421, beschreibt einen im geschlossenen Kreis arbeitenden, selbstunterhaltenden, entladungserregten CO&sub2;-Laser, welcher eine Anode in Form eines Blechs aus nichtrostendem Stahl verwendet.
  • Ein Gaslaser-Apparat gemäß der vorliegenden Erfindung ist in Anspruch 1 beschrieben.
  • Der nichtrostende Stahl ist eine hauptsächlich aus Eisen, Nickel und Chrom bestehende Legierung, welche aufgrund ihres Chromgehalts äußerst oxidationsbeständig ist, was in einer bemerkenswert niedrigen Oxidationsrate resultiert. Da sich außerdem ein stabiler, dünner Chromoxidfilm auf der Anodenoberfläche bildet, wird eine ungleichmäßige Oxidation des Kathodenmaterials und damit dessen Anhäufung als isolierende Substanz auf der Anode selbst dann verhindert, wenn Kathodenmaterialpartikel gestreut werden und auf der Anode haften. Des weiteren ist die Anode selbst schwer zu oxidieren, was eine Konzentration des elektrischen Feldes aufgrund der angehäuften isolierenden Substanz verhindert.
  • Wenn das Basismaterial der Anode mit Chrom beschichtet ist, bildet sich wie bei der Anode aus nichtrostendem Stahl ebenfalls ein stabiler dünner Chromoxidfilm auf der Anodenoberfläche. Folglich kann ein Wachstum der isolierenden auf der Anodenoberfläche angehäuften Substanz eingeschränkt werden. Wie dem Fachmann hinreichend bekannt ist, kann die Anodenoberfläche mittels Elektroplattieren, chemischem Plattieren, Aufdampfen, Sputtern, Ionenbeschichten oder Laserplattieren mit Chrom beschichtet werden.
  • Wenn die Anode wie oben beschrieben ausgebildet und die Kathode mit der Titanoxidoberfläche ausgeführt ist, wird die Kathodenzerstäubung verringert und folglich das Anhaften und das Wachstum der isolierenden auf der Anode angehäuften Substanz eingeschränkt. Da insbesondere Titanoxid eine äußerst stabile Verbindung ist, hat es eine kleine Zerstäubungsrate und neigt nicht zur Beeinträchtigbng durch physikalisches Zerstäuben. Da weiterhin der Dampfdruck bei hoher Umgebungstemperatur relativ niedrig ist, neigt Titanoxid nicht zur Beeinträchtigung durch chemisches Zerstäuben. Bei einer Temperatur des TiO&sub2; von ca. 1530ºC nimmt der Dampfdruck den Wert von 10&supmin;&sup6; Torr an, während bei gleichen Dampfdruckbedingungen die Temperatur des MoO&sub3; nur 490ºC erreicht. Folglich wird eine Anhäufung der aufgrund des Zerstäubens resultierenden Substanz auf der Anode verhindert. Außerdem ist der Oberflächenzustand des Titanoxids selbst stabil, was zusätzlich zur Vermeidung von Konzentration des elektrischen Feldes und damit zum Auftreten von Mikro-Lichtbögen beiträgt.
  • Die Kathode mit Titanoxidoberfläche kann nach den folgenden Verfahren erhalten werden. Bei einem ersten Verfahren wird die Kathode aus Titan als einem Basismaterial gebildet. Vor dem Einbau der Kathode in den Gaslaser-Apparat wird sie unter Umgebungsluft gebrannt, so dar ihre Oberfläche oxidiert. Bei einem zweiten Verfahren wird die Kathoden aus Titan als einem Basismaterial gebildet und in den Gaslaser-Apparat eingebaut. Wenn die elektrische Entladung auf die übliche Weise eingeleitet wird, wird das Basismaterial Titan aufgrund der durch die Entladung entstehenden Hitze erwärmt, und eine extrem kleine Sauerstoffmenge, welche in dem als das Lasermedium dienenden Gasgemisch enthalten ist, bewirkt die Oxidation des Basismaterials, wodurch man die Titanoxidoberfläche erhält. Bei einem dritten Verfahren wird die Kathode aus Molybdän als Basismaterial gebildet. Danach wird Titan mittels Sputtern, Ionenbeschichten, Laserplattieren oder dergl. auf die Kathodenoberfläche aufgebracht. Danach wird die Kathode entweder zuvor gebrannt oder unmittelbar in den Gaslaser-Apparat eingebaut, wo durch Einleiten der elektrischen Entladung die Kathodenoberfläche oxidiert.
  • Nunmehr werden Ausführungsformen der Erfindung beispielhaft und unter Bezugnahme auf die bei liegenden Zeichnungen beschrieben; es zeigen:
  • Fig. 1 eine Schnittansicht des Entladungsabschnitts des Gaslaser-Apparats gemäß einer ersten Ausführungsform;
  • Fig. 2 eine Teilschnittansicht der im Gaslaser-Apparat eingesetzten Kathode;
  • Fig. 2 eine perspektivische Ansicht der Kathode;
  • Fig. 3 eine graphische Darstellung des Ergebnisses der Elementaranalyse in Richtung der Kathodentiefe vor Einleiten der Entladung;
  • Fig. 3 eine Schnittansicht des Entladungsabschnitts des Gaslaser-Apparats;
  • Fig. 4 eine graphische Darstellung des Ergebnisses der Elementaranalyse in Richtung der Kathodentiefe nach Ablauf von 200 Stunden ab dem Einleiten der Entladung;
  • Fig. 5 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der Vergrößerung des Anodendurchmessers und der Entladungsdauer;
  • Fig. 6 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen Entladungsleistung und Entladungsdauer in der Praxis;
  • Fig. 7 eine Teilschnittansicht einer in einem Gaslaser eingesetzten Anode gemäß einer zweiten Ausführungsform;
  • Fig. 8 eine perspektivische Darstellung einer gemäß der Erfindung eingesetzten Entladungselektrode im Gaslaser-Apparat der dritten Ausführungsform; und
  • Fig. 9 eine Teilschnittansicht einer im Gaslaser-Apparat eingesetzten Kathode gemäß einer vierten Ausführungsform.
  • Eine erste Ausführungsform, bei der der Gaslaser-Apparat ein CO&sub2;-Laser zur Werkstoffbearbeitung ist, wird nunmehr anhand der Fig. 1 bis 5 der beiliegenden Zeichnungen beschrieben.
  • Wie zunächst aus der Fig. 1 ersichtlich ist, wird ein Gasgemisch veranlapt, von der linken zur rechten Seite eines Innenhohlraums eines Entladungsabschnitts 1 zu strömen. Das Gasgemisch wird von einem Wärmetauscher (nicht dargestellt) gekühlt und durch den Hohlraum des Entladungabschnitts 1 zurückgeführt. Das Gasgemisch besteht aus He, N&sub2; und CO&sub2; im Verhältnis 50:45:5. Es ist zu berücksichtigen, dar eine extrem kleine Menge Sauerstoff oder dergl. im Gasgemisch enthalten ist. Der Druck des Gasgemischs beträgt etwa 4 x 10³ Pascal (30 Torr) , und seine Strömungsgeschwindigkeit im Entladungsabschnitt beträgt in der Mitte des Hohlraums ca. 70 m/s.
  • Jede Stabkathode 2 der Entladungselektroden umfaßt eine im wesentlichen L-förmige schlanke Stabelektrode. Eine Vielzahl solcher Stabkathoden 2 sind so nebeneinander angeordnet, dar ihre jeweils einen Enden in dieselbe Richtung weisen. Wie die Fig. 2 schematisch zeigt, besteht jede Stabkathode 2 aus Titan als ein Basismaterial 3. Ein dünner Titanoxidfilm 4 ist über dem Belichtungsabschnitt jeder Stabkathode 2 ausgebildet, wobei dieser Abschnitt während der Entladung durch ein Glimmen bedeckt ist.
  • Jede Stabanode 5 der Entladungselektroden umfaßt eine schlanke sich senkrecht erstreckende Stabelektrode. Eine Vielzahl solcher Stabanoden 5 sind nebeneinander angeordnet, so daß sie die Form eines Reed- oder Rohrschirms annehmen. Jede Stabanode 5 ist aus nichtrostendem Stahl gebildet.
  • Eine Gleichspannungsquelle 7 ist über Ballastwiderstände 6 mit jeweils einem Widerstand von 20 kX zwischen die Elektroden 2 und 5 eingeschaltet, so daß über die Elektroden 2 und 5 eine hohe Gleichspannung angelegt wird. Wenn die Gleichspannung über den Elektroden 2 und 5 angelegt ist, während das Gasgemisch durch den Hohlraum des Entladungsabschnitts 1 strömt, wird zwischen den Elektroden 2 und 5 eine Glimmentladung eingeleitet. Ein Bereich des Hohlraums, in dem Glimmen vorliegt, ist in der Fig. 1 durch gekreuzte schräge Linien markiert. Ein Belichtungsabschnitt jeder Stabkathode 2, in dem diese mit dem Glimmen abgedeckt ist, unterliegt dem Einfluß des Gasdrucks oder dergl. In der Ausführungsform befindet sich der Belichtungsabschnitt jeder Stabkathode 2 innerhalb von 10 mm bis 20 mm vom distalen Ende der Stabkathode 2 entfernt. Bei Eintritt der Glimmentladung wird das CO&sub2; im als Lasermedium dienenden Gasgemisch erregt, und zwischen herkömmlichen Resonatoren, die jeweils mit einem Reflektor (nicht dargestellt) ausgestattet sind, tritt Laserschwingung ein. In der Fig. 3 ist eine Strahlachse mit Bezugszeichen 8 gekennzeichnet.
  • Jede der obenbeschriebenen Stabkathoden 2 mit einem dünnen Titanoxidfilm 4 wird wie folgt gebildet: Die gesamte Stabkathode 2 wird zunächst aus Titan geformt und in den Entladungsabschnitt 1 des Gaslaser-Apparats eingebaut. Die elektrische Entladung wird dann zwischen den Elektroden 2 und 5 auf die gleiche Weise wie bei der üblichen Verwendung des Apparats eingeleitet. Die Stabkathoden 2 werden durch das Glimmen erwärmt, und die Oberfläche jeder Stabkathode 2 oxidiert aufgrund einer extrem kleinen Menge Sauerstoff, welche im Gasgemisch enthalten ist, wodurch sich ein dünner Titanoxidfilm auf der Oberfläche jeder Stabkathode 2 bildet. Hierzu zeigen die Fig. 3 und 4 die Ergebnisse einer Elementaranalyse entsprechend eines auf dem Auger-Effekt basierenden Analyseverfahrens der Kathode in Richtung ihrer Tiefe vor dem Eintreten der elektrischen Entladung sowie nach 200stündiger Entladung. Die waagrechte Achse repräsentiert die Tiefe von der Kathodenoberfläche aus und die senkrechte Achse das Elementarverhältnis auf Basis der Spektralintensität. Wie die graphischen Darstellungen zeigen, hat sich nach 200stündiger elektrischer Entladung ein dünner Titanoxidfilm mit einer Dicke von etwa 50 nm (500 Å) auf der Oberfläche der aus Titan als Basismaterial geformten Kathode gebildet. Es ist zu berücksichtigen, dar die Dicke des so entstandenen Titanoxidfilms nahezu proportional zur Entladedauer ist.
  • Gemäß dem obenbeschriebenen Aufbau unterliegt jede Stabanode 5 der durch die durch die elektrische Entladung bedingte hohe Umgebungstemperatur und einer extrem kleinen im Gasgemisch enthaltenen Sauerstoffmenge verursachten Oxidationswirkung. Da jede Stabanode 5 aus nichtrostendem Stahl besteht und aufgrund des Chromanteils äußerst oxidationsbeständig ist, ist die Oxidationsrate extrem niedrig, und ihre Oberfläche wird durch einen stabilen, dünnen Chromoxidfilm bedeckt. Daraus folgt, daß selbst dann, wenn die Kathodenmaterialpartikel aufgrund der Zerstäubung in den Kathoden 2 zur Streuung gebracht werden und ein Anhaften auf der Anodenoberfläche einsetzt, verhindert werden kann, dar die auf der Anodenoberfläche haftenden Kathodenmaterialpartikel durch ungleichmäßige Oxidationswirkung eine lokal isolierende Substanz werden, da die Oberfläche jeder Stabanode 5 mit dem stabilen, dünnen Chromoxidfilm bedeckt ist, was die Konzentration des elektrischen Feldes vermeidet.
  • Insbesondere wird in der Ausführungsform Titan als das Basismaterial 3 jeder Stabkathode 2 verwendet, und auf der Kathodenoberfläche wird ein dünner Titanoxidfilm 4 gebildet. Folglich kann die Menge der durch Zerstäuben auf der Anodenoberfläche angehäuften Substanz verringert werden. Da eine Zeitspanne zwischen dem lokalen Auftreten eines Mikro-Lichtbogens und dem Auftreten einer Lichtbogenentladung hinreichend verlängert und eine stabile elektrische Entladung für einen langen Zeitraum gewährleistet werden kann, folgt aus dem obengesagten, dar das Wartungsintervall des Gaslasers hinreichend verlängert und die Produktivität der Fertigungsstraße, in der der Gaslaser eingesetzt ist, in hohem Umfang verbessert werden kann.
  • Die Fig. 5 zeigt das Ergebnis eines Experiments, bei dem das Titanbasismaterial 3 mit einem Durchmesser von 2 mm für jede Stabkathode 2 verwendet ist, und die Stabanoden jeweils aus Kupfer und nichtrostendem Stahl bestehen und einen Durchmesser von jeweils ca. 2 mm haben. Wie aus der Fig. 5 ersichtlich ist, nimmt der Durchmesser der Kupferstabanode während der Betriebsdauer von 20 Stunden um 0,8 um, während der Betriebsdauer von 100 Stunden um 4 um und während der Betriebsdauer von 200 Stunden um 7,5 um, was auf ihre Oxidation sowie auf das zerstäubungsbedingte Anhaften der Kathodenmaterialpartikel zurückzuführen ist. Der Durchmesser der Anode 5 aus nichtrostendem Stahl jedoch nimmt während der 20stündigen Betriebsdauer um nur 0,1 um zu, wobei dieser Wert einem Achtel von demjenigen der Kupferanode entspricht. Die Dauer, bis der Durchmesser der Anode aus nichtrostendem Stahl denjenigen der Kupferanode nach einer Betriebsdauer von 200 Stunden erreicht (Vergrößerung um 7,5 um) beträgt 1.500 Stunden, was dem 7,5- fachen der Kupferanode entspricht. Demnach ermöglicht die Ausführungsform ein Wartungsintervall von 1500 Stunden gegenüber dem auf etwa 200 Stunden begrenzten Wartungsintervall der herkömmlichen Kupferanode.
  • Die Fig. 6 zeigt die Beziehung zwischen der Entladungsleistung und der Entladungsdauer in der Praxis für den Fall eines 5 kW-Transversal-Gaslasers. Die waagrechte Achse in der Fig. 6 kennzeichnet den logarithmischen Maßstab. Wie aus der Fig. 6 ersichtlich ist, nimmt die praktische Entladungsleistung beim herkömmlichen Gaslaser, bei dem beide Entladungselektroden aus Molybdän bestehen, allmählich ab, und die Lebensdauer jeder Elektrode wird mit ca. 100 Stunden veranschlagt. Beim Gaslaser-Apparat gemäß der Ausführungsform dagegen, in dem die Anode 5 aus nichtrostendem Stand und die Titankathode 2 verwendet werden, kann die praktische Entladungsleistung selbst nach 200stündiger Entladung auf einem hohen Niveau gehalten werden. Wie aus der Fig. 6 zu ersehen ist, hat die Titankathode 3 die Tendenz zu einer niedrigen praktischen Entladungsleistung in der Anfangsphase der elektrischen Entladung des Gaslaser-Apparats, die mit anhaltender Entladung zunimmt. Wird jedoch das Einbrennen mit der Kathode 2 länger ausgeführt als im herkömmlichen Apparat bei Testbetrieb des Apparats zur Vorbereitung für die Auslieferung oder den Transport ab Werk, dann kann die praktische Entladungsleistung zunächst auf einem hinreichend hohen Wert gehalten werden.
  • Die Fig. 7 ist eine schematische Darstellung einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. Die Anode 5 ist aus einem metallischen Basismaterial 9 gebildet, auf welchem eine Chromschicht 10 aufgebracht ist. Da ein stabiler, dünner Chromoxidfilm auf der Anodenoberfläche ausgebildet ist, braucht die Anode 5 nicht wie im vorstehenden Ausführungsbeispiel aus nichtrostendem Stahl geformt zu sein.
  • Da die Kathode 2 der ersten Ausführungsform aus Titan geformt ist, kann die Zerstäubung der Kathode 2 verhindert und die Zustandsverschlechterung der Anode 5 wirksam eingedämmt werden. Ist dagegen die Anode aus einem Material ausgeformt, welches das Aufbringen eines Chromoxidfilms auf ihrer Oberfläche zuläßt, kann die Zustandsverschlechterung der Anode selbst dann eingeschränkt werden, wenn die Kathode in herkömmlicher Weise aus Molybdän besteht, wodurch sich das Wartungsintervall des Gaslaser-Apparats verbessert. Dies bedeutet insbesondere, daß selbst dann, wenn die Kathodenzerstäubung ein Streuen der Kathodenmaterialpartikel und deren Anhaften an der Anodenoberfläche verursacht, die an der Anodenoberfläche haftenden Partikel daran gehindert werden können, aufgrund ungleichmäßiger Oxidationswirkung lokal eine isolierende Substanz auf der Anodenoberfläche zu bilden, da die Anodenoberfläche mit einem stabilen, dünnen Chromoxidfilm bedeckt ist, wodurch die Konzentration des elektrischen Feldes aufgrund lokaler Bildung der isolierenden Substanz verhindert wird.
  • Obwohl die vorliegende Erfindung für einen biaxialen Querströmungs-CO&sub2;-Laser mit Gleichspannungsentladung angewandt wird, kann sie auch auf andere Laser-Apparate das Typs, bei dem die Entladungselektroden in der Atmosphäre des als Lasermedium dienenden Gasgemischs ungeachtet der Art des Gasgemischs angeordnet sind, wie z.B. Axialströmungs-Gaslaser, dreiachsige Querströmungs-Gaslaser und dergl. angewandt werden.
  • Die Entladungskathode ist im wesentlichen ε-förmig ausgeführt wie die Kathode 2 in der Fig. 8 als eine dritte erfindungsgemäße Ausführungsform.
  • Wie in der eine vierte Ausführungsform darstellenden Fig. 9 gezeigt, kann die Kathode 2 aus Molybdän als einem Basismaterial 11 gebildet werden. Auf der Kathode 2 kann eine Titanbeschichtung 12 aufgebracht und dann oxidiert werden, so dar sich auf der Oberfläche der Kathode 2 ein Titanoxidfilm bildet. Das Verfahren zum Aufbringen der-Titanbeschichtung 12 umfaßt Sputtern, Ionenbeschichten oder Laserplattieren, die dem Fachmann hinreichend bekannt sind. Von diesen Verfahren gilt Laserplattieren als das geeignetste, da es die größte Schichtdicke von etwa 0,4 mm ermöglicht. Weiterhin kann zur Oxidierung der Titanbeschichtung 12 das gleiche Verfahren wie bei der ersten Ausführungsform angewandt werden. Wahlweise kann die Kathode vor der Montage des Laser-Apparats erwärmt werden, damit die Titanbeschichtung oxidiert.

Claims (6)

1. Gaslaser-Apparat, in dem eine elektrische Entladung zwischen einer Kathode (2) und einer Anode (5) herbeigeführt wird, welche sich in einer Atmosphäre eines als ein Lasermedium dienenden Gasgemisches befinden, wodurch das Gasgemisch angeregt wird, in dem die Anode (5) aus nichtrostendem Stahl gebildet ist und eine Vielzahl von Stabanoden (5) umfaßt und die Kathode (2) eine Vielzahl von an einer stromaufwärtigen Seite einer Gasgemischströmung relativ zu den Stabanoden (5) angeordneten Stabkathoden (2) umfaßt, wobei die Stabkathoden (2) im wesentlichen in Form eines ε gebogen sind, dessen freies Ende von der Anode wegweist, und in entsprechenden, parallel zueinander in einem vorgegebenen Abstand zwischen jeder Stabkathode (2) und den benachbarten Stabkathoden (2) angeordneten Ebenen vertikal übereinanderliegen, wobei sich die Stabanoden (5) in einer Richtung erstrecken, in der die Stabkathoden (2) gestapelt sind und im wesentlichen in Form eines Reed- bzw. Rohrschirms angeordnet sind.
2. Gaslaser-Apparat gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die jeweiligen Oberflächen der Stabanoden (2) mit Chrom beschichtet sind.
3. Gaslaser-Apparat gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode (2) aus Titan als ein Basismaterial (3) gebildet ist und dar die Oberfläche eines Belichtungsabschnitts der Kathode (2) zu Titanoxid oxidiert wird, wobei der Belichtungsabschnitt einem mit einem Glimmen während der elektrischen Entladung abgedeckten Bereich entspricht.
4. Gaslaser-Apparat gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dar die Kathode (2) aus Titan gebildet ist, und in dem die Oberfläche der Kathode (2) während der elektrischen Entladung oxidiert wird.
5. Gaslaser-Apparat gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dar die Kathode (2) aus Molybdän als ein Basismaterial (11) gebildet ist und auf dieser eine Titanbeschichtung (12) aufgebracht ist und daß die Oberfläche eines Belichtungsabschnitts der Kathode (2) zu Titanoxid oxidiert wird, wobei der Belichtungsabschnitt einem mit einem Glimmen während der elektrischen Entladung abgedeckten Bereich entspricht.
6. Gaslaser-Apparat gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dar die Kathode (2) aus Molybdän als ein Basismaterial (11) Titan gebildet ist und auf dieser eine Titanbeschichtung (12) aufgebracht ist, wobei die Titanbeschichtung (12) während der elektrischen Entladung oxidiert wird.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03505804A (ja) * 1989-04-04 1991-12-12 ドドウコ・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニー・ドクトル・オイゲン・デュルベヒテル パルス化されたガスレーザーのための電極と、これを製造する方法
DE4233634C2 (de) * 1992-10-06 1994-09-01 Lambda Physik Gmbh Elektroden für die Entladungseinheit eines Excimerlasers
JP2662925B2 (ja) 1993-04-09 1997-10-15 株式会社フロンテック 高比抵抗液体の静電気除去方法及び装置
JP3874123B2 (ja) * 1996-03-07 2007-01-31 キヤノン株式会社 放電電極並びにエキシマレーザー発振装置及びステッパー
US5771259A (en) * 1996-11-08 1998-06-23 Dvorkin; Lev P. Laser electrode coating
US6810061B2 (en) * 2001-08-27 2004-10-26 Komatsu Ltd. Discharge electrode and discharge electrode manufacturing method

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3962656A (en) * 1974-11-07 1976-06-08 Hughes Aircraft Company High power flowing gas laser with profiled electron beam excitation
US3991385A (en) * 1975-02-03 1976-11-09 Owens-Illinois, Inc. Gas laser with sputter-resistant cathode
US4639926A (en) * 1980-06-09 1987-01-27 Xerox Corporation Efficient cathode assembly for metal vapor laser
US4574380A (en) * 1982-06-24 1986-03-04 Nam Kyong H Self-optimizing electrode and pulse-stabilized super high power C.W. gas lasers
EP0178810B1 (de) * 1984-10-12 1991-02-20 Hiromi Kawase Metallionenlaser vom Hohlkathodentyp

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EP0346695B1 (de) 1994-01-12

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