[go: up one dir, main page]

DE60321241D1 - Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens - Google Patents

Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens

Info

Publication number
DE60321241D1
DE60321241D1 DE60321241T DE60321241T DE60321241D1 DE 60321241 D1 DE60321241 D1 DE 60321241D1 DE 60321241 T DE60321241 T DE 60321241T DE 60321241 T DE60321241 T DE 60321241T DE 60321241 D1 DE60321241 D1 DE 60321241D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
polarization state
exposure
output
carrying
projection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE60321241T
Other languages
English (en)
Inventor
Toralf Gruner
Daniel Kraehmer
Michael Totzeck
Johannes Wangler
Markus Brotsack
Nils Dieckmann
Aksel Goehnermeier
Markus Schwab
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Application granted granted Critical
Publication of DE60321241D1 publication Critical patent/DE60321241D1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70566Polarisation control
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2008Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0892Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70108Off-axis setting using a light-guiding element, e.g. diffractive optical elements [DOEs] or light guides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70308Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
    • H10P76/2041

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Prostheses (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
DE60321241T 2003-09-26 2003-10-29 Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens Expired - Lifetime DE60321241D1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10346203 2003-09-26
PCT/EP2003/011977 WO2005031467A2 (en) 2003-09-26 2003-10-29 Microlithographic projection exposure

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE60321241D1 true DE60321241D1 (de) 2008-07-03

Family

ID=34384356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE60321241T Expired - Lifetime DE60321241D1 (de) 2003-09-26 2003-10-29 Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens

Country Status (8)

Country Link
EP (1) EP1668420B1 (de)
JP (1) JP4588635B2 (de)
KR (3) KR101119796B1 (de)
AT (1) ATE396428T1 (de)
AU (1) AU2003304487A1 (de)
DE (1) DE60321241D1 (de)
TW (3) TWI454854B (de)
WO (1) WO2005031467A2 (de)

Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150036786A (ko) 2003-04-09 2015-04-07 가부시키가이샤 니콘 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
DE60321241D1 (de) * 2003-09-26 2008-07-03 Zeiss Carl Smt Ag Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens
TWI628698B (zh) 2003-10-28 2018-07-01 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
TW201809801A (zh) * 2003-11-20 2018-03-16 日商尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法
CN101726863B (zh) 2004-01-16 2012-08-29 卡尔蔡司Smt有限责任公司 偏振调制光学元件
US20070019179A1 (en) 2004-01-16 2007-01-25 Damian Fiolka Polarization-modulating optical element
TWI395068B (zh) 2004-01-27 2013-05-01 尼康股份有限公司 光學系統、曝光裝置以及曝光方法
TWI366219B (en) 2004-02-06 2012-06-11 Nikon Corp Polarization changing device, optical illumination apparatus, light-exposure apparatus and light-exposure method
US9396212B2 (en) 2004-04-07 2016-07-19 Visible World, Inc. System and method for enhanced video selection
US9087126B2 (en) 2004-04-07 2015-07-21 Visible World, Inc. System and method for enhanced video selection using an on-screen remote
EP1621930A3 (de) * 2004-07-29 2011-07-06 Carl Zeiss SMT GmbH Beleuchtungssystem für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
TWI453796B (zh) * 2005-01-21 2014-09-21 尼康股份有限公司 偏光變更單元以及元件製造方法
US7375799B2 (en) 2005-02-25 2008-05-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP2008533728A (ja) 2005-03-15 2008-08-21 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 投影露光方法及びそのための投影露光システム
JP4691594B2 (ja) * 2005-06-13 2011-06-01 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. パッシブレチクルツール、リソグラフィ装置およびリソグラフィツール内のデバイスをパターニングする方法
DE102005031084A1 (de) * 2005-06-28 2007-01-04 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithografisches Belichtungsverfahren sowie Projektionsbelichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens
JP4701030B2 (ja) * 2005-07-22 2011-06-15 キヤノン株式会社 露光装置、露光パラメータを設定する設定方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム
EP1932061A1 (de) 2005-10-04 2008-06-18 Carl Zeiss SMT AG Vorrichtung und verfahren zur beeinflussung der polarisationsverteilung in einem optischen system, insbesondere in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
EP1953805A4 (de) * 2005-11-10 2010-03-31 Nikon Corp Optisches beleuchtungssystem, belichtungssystem und belichtungsverfahren
JP2007189079A (ja) * 2006-01-13 2007-07-26 Canon Inc 照明光学系、当該照明光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法
US7525642B2 (en) 2006-02-23 2009-04-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP5299937B2 (ja) * 2006-05-18 2013-09-25 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光近接効果を補正する方法
KR101235492B1 (ko) 2006-07-03 2013-02-20 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 리소그래피 투사 대물렌즈 교정/수리 방법
EP2097789B1 (de) 2006-12-01 2012-08-01 Carl Zeiss SMT GmbH Optisches system mit austauschbarer manipulierbarer korrekturanordnung zur verminderung von bildfehlern
DE102007027985A1 (de) 2006-12-21 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System, insbesondere Beleuchtungseinrichtung oder Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP5329520B2 (ja) * 2007-03-27 2013-10-30 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 低角度で入射する補正光を用いる補正光学素子
JP5461387B2 (ja) 2007-04-03 2014-04-02 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイス又は投影対物器械である光学システム
DE102008040218A1 (de) 2007-07-11 2009-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Drehbares optisches Element
US7817250B2 (en) 2007-07-18 2010-10-19 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure apparatus
DE102007055567A1 (de) 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
DE102008003289A1 (de) 2008-01-05 2009-07-09 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102009023166A1 (de) 2008-07-18 2010-01-21 Carl Zeiss Smt Ag Verzögerungsplatteneinheit, Anwendung der Verzögerungsplatteneinheit und Verfahren zu deren Herstellung
DE102009055184B4 (de) * 2009-12-22 2011-11-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102011003035A1 (de) 2010-02-08 2011-08-11 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, sowie optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102010029339A1 (de) 2010-05-27 2011-12-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102010029905A1 (de) 2010-06-10 2011-12-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP2622411B1 (de) 2010-09-28 2015-11-04 Carl Zeiss SMT GmbH Optisches system eines mikrolithografischen projektionsbelichtungsgeräts und verfahren zur minimierung von bildpositionierungsfehlern
DE102011076434A1 (de) 2011-05-25 2012-11-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102011079548A1 (de) 2011-07-21 2012-07-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102011079777A1 (de) 2011-07-26 2013-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102011085334A1 (de) 2011-10-27 2013-05-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System in einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012200371A1 (de) * 2012-01-12 2013-07-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102012200368A1 (de) * 2012-01-12 2013-07-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012200370A1 (de) 2012-01-12 2013-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines polarisationsbeeinflussenden optischen Elements, sowie polarisationsbeeinflussendes optisches Element
DE102012203944A1 (de) 2012-03-14 2013-10-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Justage eines optischen Systems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
CN104220931B (zh) 2012-03-29 2016-10-12 卡尔蔡司Smt有限责任公司 补偿微光刻投射曝光系统的通道缺陷的设备及方法
DE102012205045A1 (de) 2012-03-29 2013-10-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012206154A1 (de) 2012-04-16 2013-06-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102012206159A1 (de) 2012-04-16 2013-06-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung
DE102012206148A1 (de) 2012-04-16 2013-10-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zur Justage eines optischen Systems
DE102012206287A1 (de) * 2012-04-17 2013-10-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
KR102231730B1 (ko) * 2012-06-26 2021-03-24 케이엘에이 코포레이션 각도 분해형 반사율 측정에서의 스캐닝 및 광학 계측으로부터 회절의 알고리즘적 제거
DE102012212864A1 (de) 2012-07-23 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012214052A1 (de) 2012-08-08 2014-02-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographisches Belichtungsverfahren, sowie mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102012214198A1 (de) 2012-08-09 2013-05-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012217769A1 (de) 2012-09-28 2014-04-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102012223217B9 (de) 2012-12-14 2014-07-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102013200137A1 (de) 2013-01-08 2013-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US8922753B2 (en) 2013-03-14 2014-12-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus
DE102013204453B4 (de) 2013-03-14 2019-11-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente
DE102013221365A1 (de) * 2013-10-22 2014-11-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungs-anlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
US10948638B2 (en) 2014-03-04 2021-03-16 Stryker European Operations Limited Spatial and spectral filtering apertures and optical imaging systems including the same
WO2015131278A1 (en) 2014-03-04 2015-09-11 Novadaq Technologies Inc. Relay lens system for broadband imaging
BR112018003903A2 (pt) * 2015-08-31 2018-09-25 Novadaq Tech Ulc sistema, método para filtrar luz polarizada e kit para usar com um sistema que tem lente birrefringente
DE102015223982A1 (de) 2015-12-02 2017-06-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder einer Waferinspektionsanlage
JP7162430B2 (ja) * 2018-02-27 2022-10-28 株式会社オーク製作所 投影露光装置
JP7145620B2 (ja) * 2018-02-27 2022-10-03 株式会社オーク製作所 投影露光装置
WO2020009764A1 (en) * 2018-07-03 2020-01-09 Applied Materials, Inc. Pupil viewing with image projection systems
KR102598586B1 (ko) * 2018-07-17 2023-11-06 칼 짜이스 에스엠에스 엘티디 포토리소그라픽 마스크의 기판에 도입되는 하나 이상의 픽셀의 효과를 결정하기 위한 방법 및 장치
FI20235940A1 (en) * 2023-08-24 2025-02-25 Dispelix Oy DISPLAY STRUCTURE

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3287014B2 (ja) * 1992-07-03 2002-05-27 株式会社ニコン 投影露光装置、及びその露光装置により製造されたデバイス
JP2698521B2 (ja) * 1992-12-14 1998-01-19 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
JPH088177A (ja) * 1994-04-22 1996-01-12 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
DE19637563A1 (de) * 1996-09-14 1998-03-19 Zeiss Carl Fa Doppelbrechende Planplattenanordnung und DUV-Viertelwellenplatte
JP4065923B2 (ja) * 1998-09-29 2008-03-26 株式会社ニコン 照明装置及び該照明装置を備えた投影露光装置、該照明装置による投影露光方法、及び該投影露光装置の調整方法
JP2001185476A (ja) * 1999-12-27 2001-07-06 Mitsubishi Electric Corp 投影露光装置
US6373614B1 (en) * 2000-08-31 2002-04-16 Cambridge Research Instrumentation Inc. High performance polarization controller and polarization sensor
JP2002198281A (ja) * 2000-12-25 2002-07-12 Canon Inc 照明装置及びそれを用いた露光装置
US20020149757A1 (en) * 2001-02-28 2002-10-17 Optical Switch Corporation Polarization vector alignment for interference lithography patterning
DE10124803A1 (de) * 2001-05-22 2002-11-28 Zeiss Carl Polarisator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisator
TW561254B (en) * 2001-09-26 2003-11-11 Nikon Corp Aberration measuring device, aberration measuring method, regulation method for optical system, and exposure system provided with optical system regulated by the regulation method
TW200507055A (en) * 2003-05-21 2005-02-16 Nikon Corp Polarized cancellation element, illumination device, exposure device, and exposure method
WO2005003862A1 (de) * 2003-07-05 2005-01-13 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur polarisationsspezifischen untersuchung eines optischen systems
DE60321241D1 (de) * 2003-09-26 2008-07-03 Zeiss Carl Smt Ag Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens

Also Published As

Publication number Publication date
JP4588635B2 (ja) 2010-12-01
TWI359334B (en) 2012-03-01
WO2005031467A2 (en) 2005-04-07
EP1668420B1 (de) 2008-05-21
AU2003304487A1 (en) 2005-04-14
KR20110053283A (ko) 2011-05-19
KR101119723B1 (ko) 2012-03-23
TWI454854B (zh) 2014-10-01
KR20110053284A (ko) 2011-05-19
AU2003304487A8 (en) 2005-04-14
KR101119796B1 (ko) 2012-03-23
EP1668420A2 (de) 2006-06-14
ATE396428T1 (de) 2008-06-15
TW201222170A (en) 2012-06-01
JP2007515768A (ja) 2007-06-14
KR20060097714A (ko) 2006-09-14
TW200527144A (en) 2005-08-16
KR101119779B1 (ko) 2012-03-23
TW201216015A (en) 2012-04-16
TWI470372B (zh) 2015-01-21
WO2005031467A3 (en) 2005-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60321241D1 (de) Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens
TW200741365A (en) Exposure apparatus, exposing method, and device manufacturing method
EP1130470A3 (de) Mikrolithographie-Projektionsbelichtung mit tangentialer Polarisation
EP1713115A4 (de) Belichtungsvorrichtung, belichtungsverfahren und bauelementeherstellungsverfahren
EP1956431A4 (de) Belichtungsvorrichtung, belichtungsverfahren und bauelemente-herstellungsverfahren
WO2011020599A3 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines dreidimensionalen objektes
DE60311512D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum automatischen einstellen der sendeapertur und apodisierung einer ultraschallwandlergruppe
TW200611082A (en) Exposure system and device production method
TW200508811A (en) Exposure method, exposure device, and device manufacturing method
TW200511145A (en) System and method for examining mask pattern fidelity
TW200732857A (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method and exchangeable optical element
TW200608152A (en) Method for manufacturing a microstructure, exposure device, and electronic apparatus
NO20063544L (no) Behandling av seismiske data som representerer et fysisk system
TW200745739A (en) Method and apparatus for performing dark field double dipole lithography (DDL)
TW200627086A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
TW200741818A (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
TW200632582A (en) Polarized radiation in lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005078522A3 (en) Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
TW200736814A (en) Optical system for transforming numerical aperture
TW200705133A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
TW200731334A (en) Method and arrangement for predicting thermally-induced deformation of a substrate, and a semiconductor device
TW200741373A (en) Exposure apparatus and device production method
DE60233514D1 (de) Optische sensoreinrichtung und verfahren zur steuerung ihrer belichtungszeit
TW200720850A (en) Exposure method
TW200707121A (en) Methods and devices for characterizing polarization of illumination system

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: CARL ZEISS SMT GMBH, 73447 OBERKOCHEN, DE