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TECHNISCHES GEBIET
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Untersuchungsverfahren und eine
Untersuchungsvorrichtung zum Untersuchen der elektrischen Eigenschaften
eines Untersuchungsobjekts. Insbesondere betrifft die Erfindung
ein Untersuchungsverfahren und eine Untersuchungsvorrichtung, die
in der Lage sind, die elektrischen Eigenschaften eines Untersuchungsobjekts,
wie zum Beispiel eines Bauelements (zum Beispiel eines Leistungstransistors),
oder jedes Untersuchungsobjekts von mehreren Bauelementen, die auf
einem einzelnen Substrat ausgebildet sind, zu untersuchen.
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ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
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Bei
der Untersuchung der elektrischen Eigenschaften eines Bauelements,
wie zum Beispiel eines Leistungstransistors, werden ein hoher Strom und
eine hohe Spannung angelegt. Für
diesen Zweck ist es erforderlich, Sonden auf sichere Weise in Kontakt
mit Elektroden des Bauelements zu bringen. Im Fall eines Bauelements,
wie zum Beispiel eines Leistungstransistors, wird ein Tisch, auf
dem ein Untersuchungsobjekt montiert werden soll, elektrisch mit
einer Elektrode (zum Beispiel einer Kollektorelektrode) verbunden,
die auf der Rückseite
des Untersuchungsobjekts ausgebildet ist. Wenn in diesem Zustand
die elektrischen Eigenschaften des Untersuchungsobjekts untersucht
werden, so muss die Oberfläche
des Tisches in einen sicheren Kontakt mit der Kollektorelektrode,
die auf der Rückseite
des Untersuchungsobjekts ausgebildet ist, gebracht werden.
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Patentdokument
1 und Patentdokument 2 offenbaren eine Technik, mit der die Oberfläche eines Tisches
in elektrischen Kontakt mit einer Kollektorelektrode, die auf der
Rückseite
eines Untersuchungsobjekts ausgebildet ist, gebracht wird.
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Gemäß der Technik,
die im Patentdokument 1 (
japanische
Patentanmeldungsschrift KOKAI Nr. 63-258036 ) (Anspruch
und Seite 2, obere rechte Spalte, Zeile 2, bis untere linke Spalte,
Zeile 7) beschrieben ist, sind Spannungszufuhrelektroden zum Anlegen
einer Spannung an einen Halbleiterwafer und Spannungsmesselektroden
zum Messen einer Spannung des Halbleiterwafers auf der Montagefläche des
Tisches vorhanden. In diesem Tisch sind außerdem wenigstens einige der
Spannungszufuhrelektroden und der Spannungsmesselektroden in Form
eines Gürtels
ausgebildet. Diese Elektroden sind abwechselnd auf der Montagefläche des
Tisches angeordnet. Eine solche Konfiguration verhindert das Eintreten
von Unterschieden in den Messergebnissen infolge von Unterschieden
in der Position auf dem Halbleiterwafer, bei der mehrere Halbleiterchips
ausgebildet wurden.
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Das
Patentdokument 2 (
japanische
Patentanmeldungsschrift KOKAI Nr. 2-166746 , Anspruch und
Seite 2, obere rechte Spalte, Zeile 17 bis Seite 3, obere linke
Spalte, Zeile 3) offenbart die gleiche Art eines Tisches wie der,
der im Patentdokument 1 offenbart ist. Die Montagefläche des
Tisches ist in 2 N (N ist eine ganze Zahl von 2 oder mehr) unterteilt, und
Spannungszufuhrelektroden und Spannungsmesselektroden sind abwechselnd
auf jeder Unterteilung ausgebildet. Der Tisch kann die gleiche Funktion und
Wirkung ausüben
wie im Fall des Patentdokuments 1.
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Das
Patentdokument 3 (
japanische
Patentanmeldungsschrift KOKAI Nr. 11-64385 (Anspruch und
Absätze
[0006] bis [0007]) offenbart eine Technik bezüglich einer Sonde. Mittels
dieser Technik werden Anschlussstellen eines Bauelements und Sonden Kelvin-verbunden.
Zwei Sonden werden dergestalt in der Nähe zueinander angeordnet, dass
jede von ihnen elektrisch mit einer einzelnen Anschlussstelle verbunden
werden kann. Wenn die Sonden so durch die Anschlussstelle zusammengedrückt werden, dass
beide einen Kontakt zueinander herstellen, so werden die Sonden
elastisch verformt und stellen einen Kontakt mit den Anschlussstellen
her, wobei sich die Spitzen der zwei Sonden einander um ein winziges
Intervall annähern.
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Die
in den Patentdokumenten 1 und 2 beschrieben Erfindungen können den
negativen Einfluss des inneren Widerstands der Kollektorelektrode auf
ein Messergebnis verringern, wenn die Kollektorelektroden, die auf
der Rückseite
mehrerer Leistungsbauelemente ausgebildet sind, und die zwei Arten
von Elektroden, die auf der Montagefläche des Tisches ausgebildet
sind, elektrisch verbunden sind. Es werden jedoch keine Maßnahmen
bezüglich
der Sonden und der Elektroden des Bauelements ergriffen. Indem also
die Sonden in der gleichen Weise wie im Stand der Technik gegen
die Elektroden gedrückt werden,
wird ein Oxidfilm auf der Elektrode abgekratzt, und die Sonden werden
in elektrischen Kontakt mit den Elektroden gebracht. Somit besteht
die Befürchtung,
dass die Sonden und die Elektroden beschädigt werden können. Wenn
die Größe und die Tiefe
einer Sondenspur begrenzt sind, um ein Misslingen eines Bondungsprozesses
im Fall eines Leistungsbauelements zu vermeiden, so wird der Kontakt zwischen
den Sonden und den Elektroden instabil. Folglich kommt es bei Anlegen
eines hohen Stroms zur Funkenbildung, wodurch möglicherweise die Sonden beschädigt werden.
Ein Verlust, der in dem elektrischen Pfad zwischen den Sonden und
der Elektrode eintritt, verursacht eine Fehlfunktion oder ähnliches,
wodurch eine genaue Untersuchung unmöglich wird.
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Obgleich
die Sonden, die im Patentdokument 3 beschrieben sind, den Einfluss
von Fremdstoffen, die an den Sonden anhaften, verhindern können, werden
die Sonden in herkömmlicher
Weise gegen die Anschlussstelle gedrückt, um die Anschlussstellen
und die Sonden in Kontakt miteinander zu bringen. Infolge dessen
besteht das gleiche Problem wie bei der Technik des Patentdokuments
1.
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EP 1 182 460 A2 offenbart
ein Frittuntersuchungsverfahren und eine Frittuntersuchungsvorrichtung,
wobei eine Untersuchungssonde in elektrischen Kontakt mit einer
Untersuchungselektrode eines Untersuchungsobjekts gebracht wird.
Die Untersuchungssonde ist auf einer Sondenkarte angeordnet, die über der
Oberseite eines Wafers angeordnet ist. Ein Isolierfilm, der auf
der Oberfläche
der Untersuchungselektrode ausgebildet ist, wird unter Ausnutzung
eines Frittphänomens
aufgebrochen, um die Untersuchungssonde in elektrischen Kontakt
mit der Untersuchungselektrode zu bringen.
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OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
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Gemäß einem
ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Untersuchungsverfahren
zum Untersuchen der elektrischen Eigenschaften eines Untersuchungsobjekts
W' bereitgestellt.
Das Untersuchungsverfahren umfasst:
- (a) Anbringen
des Untersuchungsobjekts auf einer Montagefläche eines Tisches, wobei die
Montagefläche
des Tisches wenigstens ein drittes Paar Elektroden aufweist, wobei
das dritte Paar Elektroden eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode
umfasst, wobei das Untersuchungsobjekt eine erste Fläche und
eine zweite Fläche
aufweist, wobei die erste Fläche
wenigstens eine leitfähige
Schicht Q aufweist, wobei das Untersuchungsobjekt auf der Montagefläche derart
angebracht wird, dass die leitende Schicht in Kontakt mit dem dritten
Paar Elektroden ist; und
- (b) Anlegen einer Spannung zwischen wenigstens einem dritten
Paar Elektroden auf dem Tisch, um ein Frittphänomen zu erzeugen, und Ausbilden
eines elektrischen Pfades zwischen dem dritten Paar Elektroden und
der leitfähigen
Schicht unter Ausnutzung des Frittphänomens.
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Das
Untersuchungsverfahren umfasst vorzugsweise einen der folgenden
Schritte (1) bis (4) oder eine Kombination von einigen der Schritte
(1) bis (4):
- (1) nachdem der elektrische Pfad
zwischen dem dritten Paar Elektroden und der leitfähigen Schicht
ausgebildet ist, Verbinden des dritten Paares Elektroden mit einer
Prüfschaltung 20;
- (2) wobei das Verfahren des Weiteren vor oder nach dem Schritt
(b) oder gleichzeitig Folgendes umfasst:
- (c) während
wenigstens ein Paar Sonden mit wenigstens einer vierten Elektrode
P auf der zweiten Fläche
des Untersuchungsobjekts in Kontakt gehalten wird, Anlegen einer
Spannung zwischen dem Sondenpaar, um ein Frittphänomen zu erzeugen, und Bilden
eines elektrischen Pfades zwischen jeder Sonde des Sondenpaares
und der vierten Elektrode unter Ausnutzung des Frittphänomens;
- (3) nachdem der elektrische Pfad zwischen jedem Paar Sonden
und der vierten Elektrode ausgebildet ist, Verbinden von wenigstens
einer Sonde des Sondenpaares mit einer Prüfschaltung; und
- (4) wobei das Bauelement ein Leistungsbauelement ist.
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Gemäß einem
zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Untersuchungsvorrichtung zum
Untersuchen der elektrischen Eigenschaften eines Untersuchungsobjekts
W' bereitgestellt.
Die Untersuchungsvorrichtung umfasst: einen Tisch, auf dem wenigstens
ein Untersuchungsobjekt W' angebracht
ist (wobei der Tisch eine Montagefläche 11C zum Anbringen
des Untersuchungsobjekts aufweist und die Montagefläche wenigstens
ein drittes Paar Elektroden aufweist); eine Sondenkarte 12,
die über dem
Tisch angeordnet ist und mehrere Sonden aufweist; eine erste Fritt-Energieversorgung,
die eine Frittspannung zwischen wenigstens einem Sondenpaar anlegt,
das einen Kontakt zu einer Elektrode auf einer zweiten Fläche des
Untersuchungsobjekts und der Elektrode herstellt; und eine zweite
Fritt-Energieversorgung, die eine Frittspannung zwischen einem Elektrodenpaar
auf einer ersten Fläche
des Untersuchungsobjekts und einer leitfähigen Schicht des Tisches anlegt.
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Vorzugsweise
umfasst die Untersuchungsvorrichtung des Weiteren:
- (5) das Untersuchungsobjekt, das eine erste Fläche und
eine zweite Fläche
aufweist, wobei die erste Fläche
wenigstens eine leitfähige
Schicht Q umfasst, wobei die zweite Fläche wenigstens eine vierte
Elektrode P umfasst, wobei das Untersuchungsobjekt dergestalt auf
der Montagefläche angebracht
ist, dass die leitfähige
Schicht in Kontakt mit dem dritten Paar Elektroden steht.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1A ist
eine Seitenansicht, die größere Abschnitte
einer Ausführungsform
einer Untersuchungsvorrichtung der Erfindung zeigt.
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1B ist
ein Schaubild, das eine Verbindungsbeziehung zwischen einem Paar
Sonden, einer Fritt-Energieversorgung und einer Prüfschaltung zeigt.
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2 ist
ein Schaubild zum Erläutern
eines Frittphänomens
zwischen dem Paar Sonden der Untersuchungsvorrichtung und einer
Elektrode eines Bauelements, das in den 1A und 1B gezeigt ist.
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3 ist
ein Schaltbild, das eine weitere Frittschaltung zur Verwendung in
der Untersuchungsvorrichtung, die in den 1A und 1B gezeigt
ist, zeigt.
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4A ist
eine Draufsicht, die eine Beziehung zwischen einem Tisch der Untersuchungsvorrichtung,
die in 1 gezeigt ist, und einem Bauelement
zeigt.
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4B ist
eine Schnittansicht, welche die Beziehung zwischen dem Tisch der
Untersuchungsvorrichtung und dem Bauelement, das in dem 1A und 1B gezeigt
ist, zeigt.
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BESTE ART DER AUSFÜHRUNG DER
ERFINDUNG
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Eine
Ausführungsform
der Erfindung kann wenigstens eines der oben beschrieben Probleme
lösen.
Die Ausführungsform
der Erfindung kann so konfiguriert sein, dass ein stabiler elektrischer
Pfad zwischen Sonden und Bauelementen gebildet wird, ohne die Sonden
zu beschädigen
oder zu verzehren. Die Ausführungsform
der Erfindung kann so konfiguriert sein, dass eine elektrische Verbindung
auf sichere Weise hergestellt wird und eine stabile Untersuchung
auf sichere Weise ohne Fehlfunktion ausgeführt wird.
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Im
Weiteren wird die Erfindung auf der Grundlage der in den 1 bis 4 gezeigten
Ausführungsform
beschrieben. Eine Untersuchungsvorrichtung 10 der Ausführungsform
umfasst, wie in 1A gezeigt, einen Tisch 11 (dieser
Tisch kann vorzugsweise horizontal und vertikal bewegt werden) zum Montieren
eines Untersuchungsobjekts (zum Beispiel eines Bauelements oder
mehrerer Bauelemente, die auf einem Substrat W, wie zum Beispiel
einem Wafer, ausgebildet sind) und einer Sondenkarte 12, die über dem
Tisch 11 angeordnet ist und mehrere Sonden 13 aufweist
(im Weiteren werden das Substrat und das Untersuchungsobjekt als "Wafer" bzw. "Bauelement" bezeichnet). Wie
in den 1A und 1B gezeigt,
wird in einem Zustand, in dem die mehreren Sonden 13 auf
der Sondenkarte 12 in Kontakt mit einer vierten Elektrode
P, die auf einer zweiten Fläche 32 des
Bauelements W' ausgebildet
ist, gehalten werden, ein Messsignal von einer Prüfschaltung 16 über die
Sonde 13 zu dem Bauelement gesendet, so dass die elektrischen
Eigenschaften des Bauelements untersucht werden. Der Durchmesser
der Spitze einer jeden der Sonden 13 kann etwa 20 μm betragen,
und die Sonden 13 können
aus einem leitfähigen
Metall, wie zum Beispiel Wolfram, hergestellt sein. Die Sondenkarte 12 kann
von einem solchen Typ sein, dass die Sonden mit mehreren Bauelementen
auf einem Wafer gemeinsam in Kontakt gebracht werden. Wenn eine
Sondenkarte, die einen solchen gemeinsamen Kontakt herstellt, verwendet
wird, so können
mehrere Bauelemente mit einem einzigen Kontakt untersucht werden.
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Die
Sonden 13 haben vorzugsweise eine Konfiguration, bei der
eine erste Sonde 13A zum Anlegen einer Frittspannung und
eine zweite Sonde 13B zum Detektieren eines Stroms der
Frittspannung ein Paar bilden, wie in 1B gezeigt.
Mehrere Sondenpaare 13, die jeweils die ersten und zweiten
Sonden 13A, 13B umfassen, stellen einen Kontakt
zu einer einzelnen Elektrode her (im Weiteren wird ein Paar erster
und zweiter Sonden 13A, 13B als ein "Sondenpaar 13" bezeichnet). Wie
in 1B gezeigt, kann jede des Sondenpaares 13 mit
einer Fritt-Energieversorgung 15 oder der Prüfschaltung 16 durch
Umschalten eines Relaisschalters 14 verbunden werden.
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Wenn
das Sondenpaar 13 durch den Relaisschalter 14 mit
der ersten Fritt-Energieversorgung 15 verbunden wird, so
wird eine Spannung von der ersten Fritt-Energieversorgung 15 zwischen
die erste Sonde 13A und die zweite Sonde 13B des
Sondenpaares 13 angelegt, wie schematisch in 2 angedeutet.
Diese Spannung erzeugt ein Frittphänomen, so dass ein Isolierfilm,
wie zum Beispiel ein Oxidfilm, auf der vierten Elektrode (die zum
Beispiel aus Aluminium besteht) P aufgebrochen wird und die ersten und
zweiten Sonden 13A, 13B einen elektrischen Kontakt
mit der vierten Elektrode herstellen, so dass ein elektrischer Pfad
zwischen den beiden entsteht. Unter Nutzung des Frittphänomens kann
das Sondenpaar 13 mit einem geringen Druck (zum Beispiel 0,1
bis 1,0 g/Sonde) in elektrischen Kontakt mit der Elektrode gebracht
werden, selbst wenn der Oxidfilm auf der Elektrode vorhanden ist.
Infolge dessen ist die Möglichkeit,
dass die Elektrode oder die Sonde mechanisch beschädigt werden
könnten,
gering, so dass der elektrische Pfad auf sichere Weise gebildet werden
kann.
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Mit
dem hier angesprochenen Frittphänomen
ist ein Phänomen
gemeint, bei dem ein Strom fließt
und der Isolierfilm zerstört
wird, wenn bei Anlegen einer Spannung an einen Isolierfilm, wie
zum Beispiel einen Oxidfilm, der auf der Oberfläche eines Metalls (in der Erfindung
eine Elektrode) ausgebildet ist, ein Spannungsgradient sich auf
etwa 105 bis 106 V/cm ändert.
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Um
mehrere elektrische Pfade in einer einzelnen Elektrode des Leistungsbauelements
zu bilden, ist es zulässig,
einen Halbleitertreiber 14A oder dergleichen in eine Frittschaltung
einzubauen und gleichzeitig eine Spannung an die mehreren Sondenpaare 13 anzulegen,
um das Frittphänomen
zu erzeugen. In diesem Fall kann auf den Relaisschalter verzichtet
werden.
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In
der in 3 gezeigten Frittschaltung wird eine Diode 15B verwendet.
Die Diode 15B kann in einer Richtung angeordnet sein, die
der in 3 gezeigten Richtung entgegengesetzt ist, und
kann je nach dem konkreten Einzelfall weggelassen werden.
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In 2 stellen
mehrere Paare (zwei Paare in 2) Sonden 13 einen
Kontakt zu einer vierten Elektrode P her. Der Wert des Kontaktwiderstands zwischen
jeder der ersten und zweiten Sonden 13A, 13B und
der vierten Elektrode P kann aufgrund von Streuung oder dergleichen
der Dicke des Oxidfilms auf der vierten Elektrode P unterschiedliche
Werte R1 bis R4 haben. Weil die Kontaktwiderstände R1 bis R4 parallel verbunden
sind, nimmt der gesamte Kontaktwiderstand in dem Maße ab, wie
die Anzahl der Sondenpaare 13 zunimmt.
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Infolge
des Frittphänomens
werden elektrische Pfade zwischen jeder der ersten und zweiten Sonden 13A, 13B und
der vierten Elektrode P gebildet, so dass die ersten und zweiten
Sonden 13A, 13B auf stabile Weise mit der vierten
Elektrode P verbunden werden können.
Mit diesem Zustand, wie in 1B gezeigt,
wird der Relaisschalter 14 von der Fritt-Energieversorgung 15 zu
der Prüfschaltung 16 umgeschaltet
und verbunden. Das heißt,
die erste Sonde 13A wird mit einer Überwachungssignalleitung der
Prüfschaltung 16 verbunden,
und die zweite Sonde 13B wird mit einer Untersuchungssignalleitung
der Prüfschaltung 16 verbunden.
Die Prüfschaltung 16 kann
die elektrischen Eigenschaften eines Bauelements auf sichere und
genaue Weise untersuchen.
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Weil
elektrische Pfade zwischen jeder der ersten und zweiten Sonden 13A, 13B eines
jeden Sondenpaares 13 und der vierten Elektrode P gebildet
werden, bilden mehrere Sondenpaare 13 einen gemeinsamen
elektrischen Pfad, selbst wenn eine Spannung, die an die erste und
die zweite Sonde 13A, 13B angelegt wird, niedrig
ist. Eine Untersuchung eines Leistungsbauelements, an das ein hoher
Strom und eine hohe Spannung angelegt werden, wie zum Beispiel ein
dynamischer Test und ein Schalttest, kann unter Verwendung der Sondenkarte 12 ausgeführt werden.
Die Anzahl der Sondenpaare 13 kann je nach der Größenordnung
des Stroms oder des Spannung eingestellt werden.
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Die 4A und 4B zeigen
den Tisch 11 der Untersuchungsvorrichtung 10,
die für
eine Untersuchung des Leistungsbauelements verwendet werden kann.
Wie in den 4A und 4B gezeigt, sind
mehrere dritte Paare Elektroden 17 auf der Montagefläche 11C des
Tisches 11 ausgebildet. In den 4A und 4B sind
mehrere dritte Paare Elektroden 17 (zum Beispiel 16 Paare)
jeweils auf einer ersten Elektrode 17A und zweiten Elektrode 17B ausgebildet.
Jedes Paar Elektroden 17 enthält die erste Elektrode 17A und
zweite Elektrode 17B wie das Sondenpaar 13. Das
dritte Paar Elektroden 17 wird zwischen einer zweiten Fritt-Energieversorgung 19 und
einer Prüfschaltung 20 mittels
eines Relaisschalters 18 (4B) umgeschaltet
und damit verbunden. Die zweite Fritt-Energieversorgung 19 kann zusammen
mit der ersten Fritt-Energieversorgung 15 (1)
verwendet werden.
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Wenn
das dritte Paar Elektroden 17 mit der Fritt-Energieversorgung 19 verbunden
ist, so wird ein Frittphänomen
durch eine Spannung von der Fritt-Energieversorgung 19 erzeugt.
Die erste und die zweite Elektrode 17A, 17B des
dritten Paares Elektroden 17 stellen einen elektrischen
Kontakt zu einer leitfähigen
Schicht (Kollektorelektrode) Q, die auf der ersten Fläche 31 des
Wafers W oder des Bauelements W' (zum
Beispiel eines Leistungsbauelements) ausgebildet ist, her, um einen
elektrischen Pfad zu bilden, wodurch eine elektrische Verbindung hergestellt
wird. Die erste und die zweite Elektrode 17A, 17B des
dritten Paares Elektroden 17 sind vollständig in
einer Matrix dergestalt angeordnet, dass sie aneinander grenzen,
wie in 4A gezeigt. Die dritten Paare
Elektroden 17 können
auf der gesamten Rückseite
des Wafers W angeordnet sein. Durch Ausbilden mehrerer dritter Paare
Elektroden 17 in der leitfähigen Schicht Q können die
dritten Paare Elektroden 17 elektrisch mit einer gemeinsamen
Elektrode verbunden werden, die auf der Rückseite des Wafers W oder des
Bauelements W' ausgebildet
ist, indem in Abhängigkeit
von der Position eine Abweichung verringert wird. Infolge dessen
kann eine Untersuchung mit geringem Fehler ausgeführt werden.
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Wenn
das dritte Paar Elektroden 17 von der zweiten Fritt-Energieversorgung 19 zu
der Prüfschaltung 20 mittels
des Relaisschalters 18 in einem Zustand umgeschaltet wird,
in dem eine elektrische Verbindung aufrecht erhalten wird, so wird
das dritte Paar Elektroden 17 von der Fritt-Energieversorgung 19 mit
der Prüfschaltung 20 verbunden.
Zum Beispiel wird die erste Elektrode 17A mit der Überwachungssignalleitung
verbunden, und gleichzeitig wird die zweite Elektrode 17B mit
der Untersuchungssignalleitung verbunden. Wenn das dritte Paar Elektroden 17 auf
sichere und stabile Weise elektrisch mit der leitfähigen Schicht
Q des Bauelements verbunden ist, so kann die Prüfschaltung 20 die
elektrischen Eigenschaften des Bauelements auf sichere und genaue
Weise untersuchen.
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Der
Tisch 11 kann aus Keramik, wie zum Beispiel Aluminiumnitrid,
hergestellt werden. Eine Kupferplattierungsschicht 11A ist
auf der Montagefläche 11C ausgebildet,
wie in 4B gezeigt. Mehrere Paare Elektroden 17 sind
auf der Kupferplattierungsschicht 11A ausgebildet. Vorzugsweise
ist ein Isolierfilm (zum Beispiel ein Polyimidharzfilm) 11B auf
die Kupferplattierungsschicht 11A zwischen den ersten und
zweiten Elektroden 17A, 17B aufgebracht. Der Isolierfilm 11B bildet
eine elektrische Isolierung zwischen den aneinandergrenzenden Elektroden 17A und 17B.
Vorzugsweise ist zum Beispiel eine Stufe von etwa 1 μm zwischen
der Oberfläche
des dritten Paares Elektroden 17 und der Oberfläche des
Polyimidharzfilms 11B ausgebildet. Der Wafer W oder das Bauelement
W' stellen einen
Kontakt nur zu dem dritten Paar Elektroden 17 her.
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Bondinseln 21,
die mit den ersten und zweiten Elektroden 17A, 17B verbunden
sind, sind auf dem Außenumfangsabschnitt
der Montagefläche 11C angeordnet.
Diese Bondinseln 21 können
so angeordnet sein, dass sie die mehreren dritten Paare Elektroden 17 umgeben.
Die Bondinseln 21 sind in der gleichen Weise wie in den
ersten und zweiten Elektroden 17A, 17B auf die
Kupferplattierungsschicht 11A gelegt, und vorzugsweise
sind die jeweiligen Bondinseln 21 durch den Polyimidharzfilm 11B elektrisch
voneinander isoliert. Die Elektroden 17A, 17B des
dritten Paares Elektroden 17 sind mit dem Relaisschalter 18 über die
Bondinseln 21 verbunden.
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Wie
in 4B gezeigt, sind vorzugsweise Ablassluftdurchgänge 22,
die in der Oberfläche
der ersten und zweiten Elektroden 17A, 17B offen
sind, in dem Tisch 11 ausgebildet. Diese Ablassluftdurchgänge 22 sind
von den Oberflächen
der ersten und zweiten Elektroden 17A, 17B zur
Rückseite
des Tisches 11 durchgehend. Eine Vakuumglocke 23 ist
auf der Rückseite
des Tisches 11 montiert, und eine Vakuumluftablasseinheit 22A ist
mit der Vakuumglocke 23 verbunden. Die Vakuumluftablasseinheit 22A lässt Luft
aus der Vakuumglocke in Richtung eines Pfeils ab, um den Wafer W
oder das Bauelement W' mit
Vakuum auf die Paare Elektroden 17 zu ziehen.
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Es
wird nun ein Beispiel eines Untersuchungsverfahrens beschrieben,
bei dem die Untersuchungsvorrichtung dieser Ausführungsform verwendet wird.
In 4B ist das Bauelement (zum Beispiel ein Leistungsbauelement)
auf dem Tisch 11 montiert. In diesem Fall stellt die leitfähige Schicht
Q, die auf der ersten Fläche 31 des
Bauelements montiert ist, einen Kontakt zu den mehreren dritten
Paaren Elektroden 17 her, die auf der Montagefläche 11C des
Tisches montiert sind. Durch Ansaugen des Paares Elektroden 17 mit
der Vakuumluftablasseinheit wird der Wafer W auf dem Tisch 11 fixiert.
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Der
Tisch 11 bewegt sich bis kurz unterhalb der Sondenkarte 12.
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Der
Tisch 11 hebt sich, und die vierte Elektrode P auf der
zweiten Fläche 32 des
Bauelements W' kommt
mit den Paaren Sonden 13 der Sondenkarte 12 in
Kontakt. Durch einen Überantrieb
des Tisches 11 um etwa 50 μm stellen die Sondenpaare 13 einen Kontakt
zu den vierten Elektroden 4 des Bauelements W (W') mit einem Auflagedruck
von etwa 1 g/Stück
her (1A und 2).
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Der
Relaisschalter 18 verbindet die dritten Paare Elektroden 17 mit
der zweiten Fritt-Energieversorgung 19.
Es wird eine Spannung von der zweiten Fritt-Energieversorgung 19 an
die dritten Paare Elektroden 17 angelegt. Das Frittphänomen tritt
ein, so dass elektrische Pfade zwischen jeder der Elektroden 17A, 17B eines
jeden der mehreren dritten Paare Elektroden 17 und der
leitfähigen
Schicht Q auf der ersten Fläche
des Bauelements gebildet wird.
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Der
Relaisschalter 14 verbindet die erste Fritt-Energieversorgung 15 mit
den Sondenpaaren 13 auf der Seite der Sondenkarte 12.
Es wird eine Spannung von der ersten Fritt-Energieversorgung 15 an die
Sondenpaare 13 angelegt. Das Frittphänomen tritt ein, so dass elektrische
Pfade zwischen jeder der Sonden 13A, 13B eines
jeden der mehreren Sondenpaare 13 und den vierten Elektroden
P des Bauelements gebildet werden. Die dritten Paare Elektroden 17 auf
dem Tisch 11 und die leitfähige Schicht Q auf der ersten
Fläche 31 des
Bauelements W' sind
elektrisch über
die elektrischen Pfade stabil verbunden.
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Der
Relaisschalter 18 schaltet die mehreren dritten Paare Elektroden 17 von
der zweiten Fritt-Energieversorgung 19 zu
der Prüfschaltung 20 auf
der Seite des Tisches 11 um. Der Relaisschalter 14 schaltet
die mehreren Sondenpaare 13 von der ersten Fritt-Energieversorgung 15 zu
der Prüfschaltung 16 auf
der Seite der Sondenkarte 12 um. Während eine Spannung oder ein
hoher Strom an die mehreren Sonden 13 angelegt ist, können die
elektrischen Eigenschaften des Bauelements unter Verwendung der
Prüfschaltungen 16, 20 untersucht
werden.
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Gemäß dieser
Ausführungsform,
wie oben beschrieben, ist es bevorzugt, dass der Wafer W oder das
Bauelement W' auf
dem Tisch 11 montiert ist und dass die Sondenpaare 13 in
Kontakt mit den vierten Elektroden P gebracht werden. Das Frittphänomen wird
durch Anlegen einer Frittspannung an jedes der Sondenpaare 13 erzeugt.
Unter Ausnutzung des Frittphäno mens
werden elektrische Pfade zwischen jeder der Sonden 13A, 13B der
Sondenpaare 13 und der vierten Elektrode P gebildet. Infolge
dessen können
das Sondenpaar 13 und die vierte Elektrode P auf sichere
Weise mit einem extrem geringen Auflagedruck elektrisch miteinander
verbunden. Es kann ein stabiler elektrischer Pfad zwischen der vierten Elektrode
P des Bauelements und jeder der Sonden 13A, 13B gebildet
werden, ohne die ersten und zweiten Sonden 13A, 13B des
Sondenpaares 13 zu beschädigen oder zu verzehren, so
dass eine sichere elektrische Verbindung gebildet wird. Selbst wenn von
dem Sondenpaar 13 ein hoher Strom an das Bauelement angelegt
wird, können
die elektrischen Eigenschaften auf sichere und stabile Weise ohne Fehlfunktion
untersucht werden.
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Vorzugsweise
wird auf der Seite des Tisches 11 in einem Zustand, in
dem die mehreren dritten Paare Elektroden 17, die auf der
Montagefläche 11C ausgebildet
sind, und die leitfähige
Schicht (Kollektorelektrode), die auf der ersten Fläche 31 des
Wafers W oder des Bauelements ausgebildet ist, in Kontakt miteinander
gehalten werden, die Frittspannung an die mehreren dritten Paare
Elektroden 17 angelegt, so dass das Frittphänomen entsteht.
Der elektrische Pfad wird zwischen jeder der jeweiligen Elektroden 17A, 17B des
dritten Paares Elektroden 17 und der leitfähigen Schicht
Q unter Verwendung dieses Frittphänomens gebildet. Darum kann
eine stabile elektrische Verbindung zwischen dem dritten Paar Elektroden 17 auf
dem Tisch 11 und der leitfähigen Schicht Q auf der ersten
Fläche 31 des
Bauelements W' ausgebildet
werden.
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Gemäß dieser
Ausführungsform
ist es bevorzugt, dass nach der Bildung elektrischer Pfade zwischen
jedem der mehreren Sondenpaare 13 und der vierten Elektrode
P des Bauelements das Sondenpaar 13 so mit der Prüfschaltung
verbunden wird, dass der elektrische Pfad zwischen jedem der mehreren
dritten Paare Elektroden 17 und der leitfähigen Schicht
(Kollektorelektrode) auf der zweiten Fläche des Bauelements gebildet
wird, und dann jedes der Paare Elektroden 17 mit der Prüfschaltung 20 verbunden
wird. Die Prüfschaltungen 16, 20 können die elektrischen
Eigenschaften des Bauelements auf sichere Weise untersuchen.
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Gemäß dieser
Ausführungsform
sind die Luftablassdurchgänge,
die zur Oberseite einer jeden der Elektroden 17A, 17B auf
der Montagefläche 11C des
Tisches 11 offen sind, in dem Tisch 11 ausgebildet.
Der Wafer W kann auf sichere Weise auf jeder der Elektroden 17A, 17B fixiert
werden, so dass die jeweiligen Elektroden 17A, 17B und
die leitfähige Schicht
Q auf der ersten Fläche 31 des
Bauelements auf einfache und leichte Weise elektrisch verbunden werden
können.
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Vorzugsweise
sind die Bondinseln 21, die elektrisch mit den jeweiligen
Elektroden 17A, 17B des dritten Paares Elektroden 17 verbunden
sind, an dem Außenumfangsabschnitt
der Montagefläche 11C des
Tisches 11 angeordnet. Die jeweiligen Paare Elektroden 17 können über die
Bondinseln 21 auf einfache Weise mit dem Relaisschalter
verbunden werden.
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Die
vorliegende Erfindung ist nicht auf die oben beschriebenen jeweiligen
Ausführungsformen beschränkt, und
jedes beliebige Untersuchungsverfahren und jede beliebige Untersuchungsvorrichtung zum
elektrischen Verbinden der Sonden und der Elektroden des Bauelements
oder des dritten Paares Elektroden, die auf der Montagefläche 11C des
Tisches ausgebildet sind, und der leitfähigen Schicht Q der ersten
Fläche
des Bauelements unter Verwendung des Frittphänomen sind in der vorliegenden
Erfindung enthalten.
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Gemäß der Erfindung
wurde ein Fall des Untersuchens des Leistungsbauelements beschrieben, und
die vorliegende Erfindung kann weithin auch auf andere Bauelemente
angewendet werden.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung kann eine elektrische Verbindung auf sichere Weise durch Bilden
eines stabilen elektrischen Pfades zwischen der Sonde und dem Bauelement
hergestellt werden, ohne die Sonde zu beschädigen oder zu verzehren. Infolge
dessen kann die Erfindung ein Untersuchungsverfahren und eine Untersuchungsvorrichtung
bereitstellen, die in der Lage sind, eine stabile Untersuchung ohne
Fehlfunktion auszuführen.