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Hintergrund der Erfindung
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Gebiet der Erfindung
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Diese
Erfindung betrifft elektrisch gesteuert Aktuatoren und betrifft
insbesondere Aktuatoren für mikroelektromechanische
Systeme (MEMS).
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Beschreibung
der zugehörigen
Technik
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Elektrisch
gesteuerte Aktuatoren erhalten elektrischen Signaleingang und stellen
eine mechanische Leistung bereit, die verwendet werden kann, um
Gegenstände
zu bewegen. Das elektrische Signal kann die mechanische Leistung
steuern, um ein Maß und
eine Menge an Bewegung zu steuern, die für den Gegenstand verwendet
wird. Große
elektrisch gesteuerte Aktuatoren sind in mechanischen Systemen gebräuchlich,
um Ventile und Pumpen zu steuern und Gegenstände zu bewegen.
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Neueste
Innovationen erfordern Steuerung von sehr kleinen Bestandteilen.
Im US-Patent Nummer 5.808.384 wird ein photolithographischer Prozess
angewendet, um einen mikromechanischen Aktuator herzustellen, um
Schalter, Relais und Ventile zu steuern. Jedoch die Erfindung des
Patents 5.808.384 sagt nichts aus über eine Einrichtung, um Gegenstände hin
zu oder zurück
von der Ebene des Substrats zu bewegen, auf dem die Vorrichtung
ausgebildet ist.
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Im
US-Patent Nummer 5.867.297 legt der Erfinder eine mikroelektrische
mechanische Vorrichtung offen, um einen Spiegel in Schwingung zu
versetzen, um einen Laserstrahl abzulenken, um Strichcodes zu lesen.
Der Spiegel ist im Wesentlichen aufrecht und wird an einer Gelenkverbindung
zu dem Substrat bewegt, auf welchem er ausgebildet ist, aber die
Vorrichtung ist auf Klammern und Gelenke angewiesen, die sich als
unzuverlässig
erwiesen haben. Darüber
hinaus ist der Spiegel drehbar an dem Substrat angebracht und kann
sich nur drehend um eine einzelne Achse bewegen, wodurch sein Nutzen einschränkt wird.
Außerdem
erfordern einige Anwendungen einen Spiegel, der pa rallel zu dem
Substrat ist, auf dem er ausgebildet ist, eine Begrenzung bei der
Gestaltung, die von US-Patent Nummer 5.867.297 nicht gelöst werden
kann.
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Gegenwärtig versuchen
viele Anwendungen, eine Spiegelfläche zu steuern, um Lichtenergie
zu steuern und Lichtstrahlen zu bewegen, um Strichcodes zu scannen
oder Videobilder zu erzeugen und zu projizieren.
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Im
US-Patent Nummer 5.192.946 umfasst eine räumliche Lichtsteuerung eine
Anordnung von Spiegeln, die verwendet werden, um ein Videobild zu erzeugen
und auf einen Bildschirm zu projizieren. Das Videobild wird erzeugt,
indem Licht auf die Spiegelanordnung (im US-Patent Nummer 5.192.946
als eine verformbare Spiegelvorrichtung bezeichnet) gerichtet und
die Ausrichtung der einzelnen Spiegel gesteuert wird, um einen Weg
des Lichts zu steuern. Die Bildschirmdarstellung umfasst viele Bildpunktelemente,
die einzelnen Spiegeln der Anordnung entsprechen. Jedes Bildpunktelement
wird durch die Steuerung der Ausrichtung der Spiegel ein- und ausgeschaltet,
um das Licht auf den Bildschirm (oder dazwischen liegende Linsen)
oder weg von dem Bildschirm zu reflektieren. Die Spiegelanordnung
umfasst Spiegel, die auf einem Halbleitersubstrat ausgebildet sind,
die drehbar angebracht sind, um sich zwischen Auf- und Abpositionen
zu bewegen, in denen das Licht in Richtung auf oder weg von dem
Bildschirm reflektiert wird, um die auf dem Bildschirm dargestellten
Bildpunktelemente jeweils zwischen Ein und Aus hin-und herzuschalten.
Die einzelnen drehbar angebrachten Spiegel können nur um eine Achse gedreht
werden, wodurch sie nur ein Maß an Bewegung
bieten, das die Ausführung
des Projektors begrenzt. Solche Videodarstellungssysteme werden auch
als digitale Lichtverarbeitungsanlagen (DLP) bezeichnet.
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Um
für ein
solches Videosystem brauchbar zu sein, müssen die Spiegelanordnungen
einfach und kostengünstig
in Mengen herzustellen sein und steuerbare Hochgeschwindigkeitsbewegung
der Spiegel bieten. Ein weiteres wichtiges Kriterium ist, dass die
Spiegelantriebselemente sehr zuverlässig sind. In vielen Ausführungen
haben Halbleiter-Drehgelenke
erwiesen, dass sie eine geringere Zuverlässigkeit als gewünscht aufweisen,
hauptsächlich
wegen Problemen durch Haftreibung und Abrieb. Darüber hinaus
ist wünschenswert,
dass die Spiegel der Spiegelanordnung in einem ausreichenden Bewegungsbereich
und mit Bewegungsspielraum bewegt werden können, um Projektorausführungen
zu unterstützen.
Demnach, wo andere Faktoren gleich sind, werden Aktuatoren, die
Spiegel in 2 oder 3 Bewegungsgraden und in einem Bewegungsbereich
von ± 30
Grad um eine Drehachse bewegen können,
einem Aktuatorsystem vorgezogen, das einen Spiegel mit einem Maximum
von ±10
Grad in nur einem Bewegungsgrad bewegen kann.
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US 5.748.172 beschreibt
einen Spiegelantriebsprozess und eine Vorrichtung, worin der Spiegel
eine gewendelte leitende Schicht auf seiner Rückfläche aufweist und ein Permanentmagnet
unter einem Substrat eingebaut ist, an dem der Spiegel drehbar befestigt
ist.
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Übersicht über die
Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung stellt einen mikromechanischen Aktuator nach
Anspruch 1 und eine Spiegelaktuator-Vorrichtung nach Anspruch 26
bereit.
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Bevorzugte
Ausführungsformen
sind in den Unteransprüchen
dargelegt.
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In
einer ersten bevorzugten Ausführungsform
wird die zugeführte
elektrische Energie entlang von Spulen geleitet, die ein magnetisches
Feld erzeugen, wie es in einer unter Spannung stehenden Magnetspule
auftritt. Ein zweites magnetisches Feld wird durch eine zweite Quelle
bereitgestellt, wie etwa einem Permanentmagnet, und die beiden magnetischen
Felder sind in entgegengesetzter Ausrichtung angeordnet, so dass
eine Abstoßkraft
erzeugt wird, die einen Abschnitt der Spule bewegt. Die Spule kann
auf diese Weise mit einem Rand eines Spiegels verbunden sein, um
den Spiegel steuerbar zu bewegen. Der Spiegel kann auf einer Vielzahl
von Aktuatoren befestigt sein, um einen dreifachen Bewegungsspielraum
zu bieten: um zwei Rotationsachsen und linear entlang einer Längsachse
der Aktuatoren.
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In
einer ersten Ausführungsform
der Erfindung sind Paare von doppelt miteinander vermischten Spulen
(vorzugsweise Archimedische Spiralen) nebeneinander angeordnet und
durch ein leitendes Brückenelement
miteinander verbunden. Die erste und die zweite Spule des Spulenpaars
sind in entgegengesetzten Richtungen gewickelt. Das heißt, die erste
Spule verläuft
im Urzeigersinn und die zweite Spule verläuft entgegen dem Uhrzeigersinn
von ihrem jeweiligen Mittelpunkt aus. Strom wird dann von dem ersten
Spulenmittelpunkt zu einem äußersten Abschnitt
der ersten Spule geleitet und dann durch die Brücke zu einem äußersten
Abschnitt der zweiten Spule geleitet. Der Strom wird dann entlang
der zweiten Spule zu ihrem innersten Abschnitt geleitet. Auf diese
Weise verläuft
der Strom in der gleichen Richtung durch beide Spulen, das heißt, im Uhrzeigersinn oder
entgegen dem Uhrzeigersinn, und das Magnetfeld ist durch beide Spulen
in der gleichen Richtung ausgerichtet. Die Magnetfelder der Spulen
sind dadurch ausgerichtet, eine abstoßende Kraft zu dem zweiten
Magnetfeld zu bilden.
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Bevorzugte
Ausführungsformen
der Aktuatoren werden in einem üblichen
Herstellungsprozess hergestellt, der Kennern der Technik als Mehrfachanwender-Prozess
(Multi-User MEMS
Processes/MUMPs) bekannt ist, der ausführlicher weiter unten beschrieben
wird. In einer bevorzugten Ausführungsform
werden vier Aktuatoren auf ein Substrat als Abschnitte einer Schicht
ausgebildet, und die Brücken
und der Spiegel werden als Abschnitte eines anderen Spiegels ausgebildet.
Die Aktuatoren sind an jeder von vier Ecken des Spiegels angeordnet,
der rechteckig ist. Der Spiegel ist mit den Aktuatoren durch die
Brücken
verbunden und sitzt oben an den Aktuatoren. Ausdehnung der Aktuatoren
bewegt folglich den Spiegel jeweils auf und ab oder weg von und hin
zu dem Substrat. Aktuatorenpaare können ausgedehnt werden, um
den Spiegel um eine Drehachse zu drehen. Die Wahl, dass sich die
Aktuatoren ausdehnen, erlaubt Bewegung des Spiegels an rechtwinklig
winkelhalbierenden Drehachsen oder entlang einer diagonalen Drehachse.
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Eine
Limitierung des MUMPs-Herstellungsprozesses ist, dass die Schichten,
die physikalisch verbunden sind, ebenfalls elektrisch leitend sind.
Und in dieser bevorzugten Ausführungsform
sind die Aktuatorspulen, die Brücke
und der Spiegel physikalisch verbunden und folglich elektrisch leitend.
Demnach wird symmetrischer, bipolarer Strom auf die Spulenpaare
gelegt, um den Spiegel bei Nullspannung zu halten und einen Kopplungseffekt
und übermäßigen und
möglicherweise
Schaden anrichtenden Strom zwischen den Spulen zu verhindern.
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Der
Aktuator der vorliegenden Erfindung kann in konformen Schichten
hergestellt werden, wie weiter unten im Zusammenhang mit dem MUMPs-Prozess
beschrieben. Demnach sind die Aktuatoren, Brücken und der Spiegel als Schichten
ausgebildet, die nahe aneinander sind. Um einen gewünschten
Bewegungsbereich bereitzustellen, kann deshalb ein ansteigender
Gleichgewichtsstrom auf die Aktuatoren gebracht werden, was ein
im Wesentlichen ähnliches
Magnetfeld in jedem Aktuator erzeugt, um jeden Aktuator in einem
gleichen Maß auszudehnen
und den Spiegel über
das (das heißt
weg von dem) Substrat anzuheben, auf welchem die Bestandteile ausgebildet
werden. Der Spiegel kann dann bewegt werden, indem ein Modulationsstrom an
die einzelnen Aktuatoren bereitgestellt wird, was die Stärke des
Magnetfeldes in jenen bestimmten Aktuatoren erhöht oder verringert, um eine
Ecke oder Seite des Spiegels relativ zu den anderen Spiegelabschnitten
anzuheben oder abzusenken. Auf diese Weise kann ein Spiegel umgelenkt
werden, um einen Weg eines Lichtstrahls zu steuern, um einen Abschnitt
eines Videobildes auszubilden. Alternativ können Aktuatoren der vorliegenden
Erfindung, die durch andere Einrichtungen als MUMPs hergestellt sind,
für elektrische
Trennung zwischen den Spulen und dem Spiegel sorgen, und dadurch
die Anordnung von Spulen in dem Aktuator vereinfachen.
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In
alternativen Ausführungsformen
können die
Aktuatorspulen zusammengestellt werden, um einen bestimmten Bewegungsbereich
für besondere Anwendungen
bereitzustellen. Die Spulen können mit
einer größeren oder
kleineren Anzahl von Spulenwindungen bereitgestellt werden, oder
ein Querschnittsbereich der Spulen kann vergrößert oder verkleinert werden.
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Alternativ
kann ein einzelner Aktuator, der eine einzelne Spule aufweist, auf
einem Spiegel verwendet werden, der drehbar auf einer tragenden
Fläche
angebracht ist, um einen einzelnen Bewegungsgrad, wie in machen
Anwendungen gewünscht,
bereitzustellen.
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In
weiteren alternativen Ausführungsformen kann
die zweite abstoßende
Magnetkraft durch eine elektromagnetische Spule bereitgestellt werden,
die auf dem Substrat ausgebildet ist, welche die Aktuatoren und
den Spiegel trägt.
Alternativ kann die zweite Magnetkraft durch eine elektromagnetische
Spule bereitgestellt werden, die auf einem zweiten Substrat ausgebildet
ist und in der Nähe
zu dem Substrat angeordnet ist, auf dem sich die Aktuatoren und
der Spiegel befinden.
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Außerdem können in
einer alternativen Ausführungsform
die sich ausdehnenden und bewegenden Spulen aus einem magnetischen
Material ausgebildet sein, und die abstoßende Magnetkraft kann durch
eine elektromagnetische Halbleiterspule, die auf dem Substrat ausgebildet
ist, bereitgestellt werden. Die Magnetspulen dieser Ausführungsform
können
durch galvanisches Beschichten oder Aufstäuben eines ferromagnetischen
Materials ausgebildet werden. Die elektromagnetische Halbleiterspule kann
auf einer Vorder- oder einer Rückseite
des Substrats ausgebildet werden oder auf einem zusätzlichen
Substrat, das sich nahe dem Substrat befindet, das die Magnetspulen
und den Spiegel trägt.
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Die
bevorzugte Ausführungsform
der Erfindung wird im Zusammenhang mit dem Tragen und gesteuerten
Bewegen eines Spiegels gezeigt. Wie ausgeführt, findet Steuerung mi kroelektrischer
mechanischer Spiegelsysteme im Wesentlichen Anwendung in räumlichen
Lichtsteuerungen (digitalen Lichtprozessoren), die schnelle, steuerbare
Bewegung von Spiegeln erfordern. Jedoch finden die Aktuatoren der
vorliegenden Erfindung auch Anwendung in anderen mikroelektrischen
mechanischen Systemen, die die Bewegung von anderen Objekten wie
etwa Linsen, Ventilen und Getrieben erfordern können.
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Wie
ausgeführt,
werden die Aktuatoren der bevorzugten Ausführungsform in einem kommerziell verfügbaren Prozess,
bekannt als MUMPs, hergestellt. Der MUMPs-Prozess ist kein Teil der vorliegenden
Erfindung.
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Überblick über den
MUMPs-Herstellungsprozess
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Um
das Verständnis
für die
vorliegende Erfindung zu fördern,
wird der übliche
Ablauf bei der Herstellung von mikromechanischen Vorrichtungen unter
Verwendung des MUMPs-Prozesses
mit Bezug auf die 1 bis 15 erläutert.
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Der
MUMPs-Prozess stellt drei Schichten von konformem Polysilizium bereit,
die geätzt
werden, um eine gewünschte
physikalische Struktur zu erzeugen. Die beiliegenden Zeichnungen
zeigen einen üblichen
Prozess, um einen Mikromotor zu bauen, wie er durch das MEMS Technology
Application Center, 3021 Cornwallis Road, Research Triangle Park,
North Carolina, bereitgestellt wird.
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Der
MUMPs-Prozess beginnt mit einer n-leitenden 100-mm-Siliziumscheibe 100 mit
einem Leitungswiderstand von 1–2 Ω-cm. Die
Scheibenfläche wird
in einem Standard-Diffusionsofen
stark mit Phosphor dotiert, indem POCI 3 als Dotiersubstanzquelle
verwendet wird. Dies verringert oder verhindert sogar, Ladung von
elektrostatischen Vorrichtungen, die nachfolgend auf der Scheibe
befestigt sind, zu dem Silizium durchzuleiten. Als Nächstes wird eine
Silizium-Nitrid-Schicht 102 mit 600-nm-Niederspannungs-LPCVD (chemische
Niederdruckgas-Phasenabscheidung) auf dem Silizium als eine elektrische
Isolierschicht aufgebracht. Die Siliziumscheibe und die Silizium-Nitrid-Schicht
bilden ein Substrat.
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Als
Nächstes
wird ein 500-nm-LPCVD-Polysiliziumfilm – POLY 0 104 – auf das
Substrat aufgebracht. Die POLY-0-Schicht 104 wird durch
Photolithographie gemustert; ein Prozess, der das Überziehen
der POLY-0-Schicht mit einem Photolack 106, Belichten des
Photolacks mit einer Maske (nicht gezeigt) und Entwicklung des belichteten
Photolacks einschließt,
um die gewünschte Ätzmaske
für anschließende Maskenübertragung
in die darunter liegende Schicht (2) zu erzeugen.
Nach der Musterbildung des Photolacks wird die POLY-0-Schicht 104 in
einem RIE-System (Reactive Ion Etch – reaktives Ionenätzen) (3)
geätzt.
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Wie
in 4 gezeigt, wird eine Schutzschicht 10 aus
2,0 μm Phosphorsilikatglas
(PSG) durch LPCVD auf die POLY-0-Schicht 104 und belichtete
Abschnitte der Nitridschicht 102 aufgebracht. Diese PSG-Schicht,
die hierin als erstes Oxid bezeichnet wird, wird am Ende des Prozesses
entfernt, um die erste mechanische Polysiliziumschicht , POLY 1
(unten beschrieben), von ihrer zugrunde liegenden Struktur zu befreien,
nämlich
von POLY 0 und den Silizium-Nitrid-Schichten. Diese Schutzschicht
wird photolithographisch mit einer Prägemaske (DIMPLES-Maske) gemustert,
um Vertiefungen 110 in der PSG-Schutzschicht durch reaktives Ionenätzen (5)
mit einer Tiefe von 750 nm auszubilden. Die Scheibe wird dann mit
einer dritten Maskenschicht, ANCHOR1, gemustert und reaktiv ionengeätzt (6),
um Verankerungslöcher 112 bereitzustellen,
die sich zu der POLY-0-Schicht erstrecken. Die ANCHOR1-Löcher werden
in dem nächsten Schritt
mit der POLY-1-Schicht 114 gefüllt.
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Nach
dem Ätzen
von ANCHOR1 wird eine erste Strukturschicht aus Polysilizium (POLY
1) 114 mit einer Dicke von 2,0 μm aufgebracht. Eine dünne 200-nm-PSG-Schicht 116 wird über die
POLY-1-Schicht 114 aufgebracht und die Scheibe wird bei
1.050 °C
für eine
Stunde (7) gebrannt. Das Brennen dotiert
die POLY-1-Schicht mit Phosphor von den PSG-Schichten sowohl darüber als
auch darunter. Das Brennen dient auch dazu, die Netzspannung in
der POLY-1-Schicht zu reduzieren. Die POLY-1- und PSG-Maskierschichten
werden lithographisch gemustert, indem eine Maske verwendet wird,
die dazu bestimmt ist, die Struktur der POLY-1-Schicht auszubilden.
Die PSG-Schicht wird geätzt,
um eine Hartmaske für
das anschließende
Polysiliziumätzen
zu erzeugen. Diese Hartmaske ist widerstandsfähiger gegen die Chemikalie
des Polysiliziumätzens
als der Photolack und stellt eine bessere Übertragung des Musters in die
POLY-1-Schicht sicher. Nach dem Ätzen
der POLY-1-Schicht (8) wird der Photolack abgelöst und die
verbleibende Oxid-Hartmaske wird durch reaktives Ionenätzen entfernt.
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Nachdem
die POLY-1-Schicht 114 geätzt wurde, wird eine zweite
PSG-Schicht (zweites Oxid) 118 aufgebracht (9).
Das zweite Oxid wird gemustert, indem zwei unterschiedliche Ätzmasken
mit unterschiedlichen Zielsetzungen verwendet werden.
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Zuerst
sorgt ein POLY1_POLY2_VIA-Ätzen (dargestellt
bei 120) dafür,
dass in dem zweiten Oxid Löcher
herunter bis auf die POLY-1-Schicht geätzt werden. Dieses Ätzen stellt
eine mechanische und elektrische Verbindung zwischen der POLY-1-Schicht und
einer anschließenden
POLY-2-Schicht dar. Die Schicht POLY1_POLY2_VIA ist lithographisch
gemustert und geätzt
durch reaktives Ionenätzen (10).
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Zweitens
wird ein ANCHOR2-Ätzen
(dargestellt bei 122) bereitgestellt, um sowohl die ersten und
zweiten Oxidschichten 108, 118 in einem Schritt zu ätzen, um
Ausrichtungsfehler auszuschließen,
die zwischen einzeln geätzten
Löchern
entstehen können.
Noch wichtiger ist, dass das ANCHOR2-Ätzen die Notwendigkeit ausschließt, einen
Schnitt in die erste Oxidschicht zu machen, der ohne Bezug zu dem
Verankern einer POLY-1-Struktur
steht, der das Substrat unnötig
für anschließende Bearbeitung bloßlegen würde, die
entweder die POLY-0- oder Nitridschichten beschädigen kann. Für das ANCHOR2-Ätzen wird die zweite Oxidschicht
lithographisch gemustert und durch reaktives Ionenätzen in
der gleichen Weise geätzt
wie das POLY1_POLY2_VIA-Ätzen. 11 zeigt
den Scheibenquerschnitt, nachdem sowohl das POLY1_POLY2_VIA-Ätzen als
auch das ANCHOR2-Ätzen
abgeschlossen wurde.
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Dann
wird eine zweite Strukturschicht, POLY 2, 124 aufgebracht
(1,5 μm
dick), gefolgt durch das Aufbringen von 200 nm PSG. Wie bei der
POLY-1-Schicht, dient die dünne
PSG-Schicht sowohl als eine Ätzmaske
als auch als Dotiersubstanzquelle für die POLY-2-Schicht (12). Die
Scheibe wird dann für
eine Stunde bei 1.050 °C
gebrannt, um das Polysilizium der POLY-2-Schicht zu dotieren und
die verbleibende Filmspannung zu vermindern. Die POLY-2-Schicht
wird mit einer siebten Maske lithographisch gemustert, und die PSG-
und Polysiliziumschichten werden durch reaktives Ionenätzen geätzt, indem
die gleichen Verfahrensbedingungen wie für die POLY-1-Schicht verwendet
werden. Dann wird der Photolack abgelöst und das Maskieroxid wird
entfernt (13).
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Die
abschließend
aufgebrachte Schicht in dem MUMPs-Prozess ist eine 0,5-μm-Metallschicht 126,
die für
das Prüfen,
Verbinden, die Stromführung und
hochreflektierende Spiegelflächen
sorgt. Die Scheibe wird mit der achten Maske lithographisch gemustert,
und das Metall wird aufgebracht und gemustert, indem Abheben verwendet
wird. Die endgültige, unveröffentlichte
Beispielstruktur wird in 14 gezeigt.
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Zuletzt
werden die Scheiben einer Ablösung des
Schutzes und einem Test unterzogen. Die Ablösung wird ausgeführt, indem
die Vorrichtung für
1,5 bis 2 Minuten in ein Bad mit 49 % HF (bei Zimmertemperatur)
getaucht wird. Dies wird gefolgt von einigen Minuten in DI-Wasser
und dann Alkohol, um Haftreibung zu vermindern, gefolgt von mindestens 10
Minuten in einem Ofen bei 110 °C. 15 zeigt die
Vorrichtung nach dem Ablösen
des Schutzoxids.
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In
bevorzugten Ausführungsformen
wird die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung durch den MUMPs-Prozess
hergestellt und ist den Schritten des oben beschriebenen kommerziellen
Prozesses unterworfen. Jedoch verwendet die Vorrichtung der vorliegenden
Erfindung nicht die spezifischen Masken, die in dem allgemeinen
Prozess von 1 bis 15 gezeigt
werden, sondern eher Masken für
die Struktur der vorliegenden Erfindung entsprechend der ausführlichen
Beschreibung, die unten bereitgestellt wird. Außerdem können sich die oben für den MUMPs-Prozess
beschriebenen Schritte danach verändern, wie es von dem MEMS
Technology Application Center vorgeschrieben wird. Das Herstellungsverfahren
ist nicht Teil der vorliegenden Erfindung und ist nur eines von
mehreren Verfahren, die verwendet werden können, um die vorliegende Erfindung
auszuführen.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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1 bis 15 sind
Querschnittsansichten eines üblichen
Mehrfachanwender-MEMS-Prozesses,
nach dem Stand der Technik bekannt zur Herstellung mikroelektrischer
mechanischer Vorrichtungen. Kreuzschraffierung wurde weggelassen,
um die Übersichtlichkeit
der Darstellung von Struktur und Prozess nach dem Stand der Technik
zu erhöhen.
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16 ist
eine Draufsicht einer bevorzugten Ausführungsform von elektrisch gesteuerten,
magnetisch angetriebenen Aktuatoren der vorliegenden Erfindung,
die so auf einem Substrat angeordnet sind, dass sie einen mittig
angeordneten Spiegel bewegen.
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17 ist
eine vergrößerte Draufsicht,
die den Aktuator der vorliegenden Erfindung verbunden mit einem
Rand eines Spiegels zeigt.
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18 ist
eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform
des Aktuators der vorliegenden Erfindung, verbunden mit einer elektrischen
Stromquelle.
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19 ist
eine vergrößerte Querschnittsansicht
des Aktuators der vorliegenden Erfindung, wie er entlang der Linie
19-19 von 17 gesehen wird.
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20 ist
ein vergrößerter Aufriss,
der die Aktuatoren der vorliegenden Erfindung zeigt, wie sie sich
unter der Kraft von Magnetfeldern ausdehnen, und die Bewegung des
Spiegels als schemenhaften Umriss zeigt.
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Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsformen
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Eine
bevorzugte Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird unten mit Bezug auf die beiliegenden
Zeichnungen 16 bis 20 beschrieben. Die vorliegende Erfindung stellt
einen elektrisch gesteuerten Aktuator bereit. Während der vorliegende Aktuator gezeigt
wird, wie er eine Spiegelfläche
steuert – eine übliche Anwendung
für mikroelektrische
mechanische Aktuatoren – kann
der Aktuator verwendet werden, andere physikalische Strukturen zu
steuern wie etwa Linsen, Ventile oder Schalter.
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In
der vorliegenden Erfindung wird eine abstoßende Magnetkraft verwendet,
um eine Ausrichtung des Spiegels oder eines anderen Objekts anzuheben
und zu steuern. In einer ersten bevorzugten Ausführungsform wird den ausdehnbaren
Halbleiterspulen elektrische Eingangsenergie bereitgestellt, um
ein variables Magnetfeld zu erzeugen. Ein Permanentmagnet, der sich
nahe an den Halbleiterspulen befindet, stellt eine entgegensetzt
festgelegte Magnetkraft bereit, die bewirkt, dass sich die Halbleiterspulen
in einer vorhersehbaren und steuerbaren Weise ausdehnen. Diese Spulenausdehnung
stellt mechanischen Antrieb bereit, der ein Objekt wie etwa den
beispielhaften Spiegel bewegen kann. Die elektrische Eingangsenergie
kann gesteuert werden, um das Magnetfeld zu verändern und folglich die abstoßende Magnetkraft,
um die Ausrichtung des Spiegels zu steuern.
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In
einer alternativen Ausführungsform
wird der Spiegel durch sich ausdehnende Spulen getragen, die aus
einem magnetischen Material hergestellt sind. Die abstoßende Magnetkraft
wird durch eine elektromagnetische Spule erzeugt, die sich auf oder
nahe an einem Substrat befindet, das die sich ausdehnenden Spulen
trägt.
In dieser Ausführungsform
sind die sich ausdehnenden Spulen nicht mit einer elektrischen Stromquelle
verbunden. Stattdessen sind die sich ausdehnenden Spulen magnetisch
und wirken als Permanentmagnete, die eine Nord-Süd-Polarisation aufweisen. Die
elektromagnetische Spule stellt ein variables Magnetfeld bereit, dessen
Ausrichtung durch eine Richtung des Stromflusses in der elektromagnetischen
Spule bestimmt wird, und die Ausrichtung wird so gewählt, dass
sie eine abstoßende
Magnetkraft zu der Polarisation der sich ausdehnenden, magnetischen
Spulen bereitstellt. Die Stärke
des Stroms in der elektromagnetischen Spule bestimmt die Stärke der
abstoßenden Magnetkraft
und wird gesteuert, um die Ausrichtung des Spiegels zu steuern.
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Im
Folgenden wird die erste bevorzugte Ausführungsform ausführlich beschrieben,
und Alternativen werden später
im Zusammenhang mit Unterschieden zu der ersten bevorzugten Ausführungsform
beschrieben.
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Spiegel-Aktuatorsystem
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In
der ersten bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung wird ein Spiegel 200 durch vier Aktuatoren 202 über einer
Vorderseite 204 eines planen Substrats 206 gehalten.
Jeder Aktuator umfasst zwei Spulen 208, die im Wesentlichen
nebeneinander nahe zu dem Spiegel angeordnet sind. Eine Brücke 210 verbindet
die Spulen miteinander und verbindet die Spulen mit dem Spiegel.
Ein Permanentmagnet 212 ist mit einer Rückseite 214 des Substrats
durch herkömmliche
Mittel verbunden, wie etwa einem Haftmittel.
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Jede
Spule 208 eines jeden Aktuators 202 umfasst zwei
miteinander vermischte Archimedische Spiralen 216a und 216b (17)
(zusammengefasst Spiralen 216). In einem gegebenen Aktuator,
an einem festgelegten Ausgangspunkt, folgen die Spiralen 216 einer
Spule einem Weg in Uhrzeigerrichtung von einem radial innersten
Abschnitt 218 der Spule zu einem radial äußersten
Abschnitt 220 der Spule, und die Spiralen 216 der
anderen Spule des Aktuator folgen einem Weg entgegen der Uhrzeigerrichtung von
dem radial innersten Bereich zu dem radial äußersten Bereich. Von dem Ausgangspunkt
in 17 ist die Spule, die als 208a bezeichnet
ist, in Uhrzeigerrichtung (CW) und die Spule, die als 208b bezeichnet
ist, in Gegenuhrzeigerrichtung (CCW).
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Der
radial innerste Abschnitt 218 von jeder Spule (das heißt, der
Mittelpunktabschnitt) ist verankert mit einer Halbleiterplattform 222,
die ein metallisches Prüffeld 224 zur
elektrischen Prüfung
und als einen Standort für
die elektrische Verbindung der Spulen mit einer elektrischer Energiequelle
umfasst, wie im Folgenden ausführlicher
beschrieben wird. Die Prüffelder 224 sind über die
Halbleiterplattform 222 elektrisch mit den Spiralen 216 jeder
Spule verbunden. Spezifische Plattformen und Felder werden hierin
gekennzeichnet, indem eine Buchstabenbezeichnung nach der numerischen
Bezeichnung hin zugefügt
wird: Daher sind in 17 und 18 Plattformen 222a und 222b und
Felder 224a und 224b dargestellt.
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Die
radial äußersten
Abschnitte 220 der Spulen 208 sind direkt nur
mit der Brücke 210 verbunden. Weil
die Halbleiterspulen 208 flexibel sind, können sich
die radial äußersten
Abschnitte 220 aufwärts
erstrecken, weg von der vorderen Fläche 204 des Substrats 206.
Wenn sich die radial äußersten
Abschnitte 220 aufwärts
erstrecken, folgen die verbundene Brücke 210 und Spiegel 200 notwendigerweise
und werden gleichermaßen
aufwärts
bewegt.
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Mit
Bezug auf 18 erzeugt eine Gleichgewichts-Elektropotenzialquelle 258,
die über
den Prüffeldern 224a und 224b angelegt
ist, einen elektrischen Strom, der von der Gleichgewichtsquelle
zu dem Mittelpunkt 218a der einen Spule 208a geleitet wird
(wenn das Potenzial bei 218a größer ist als 218b).
Der Stromfluss verläuft
im Uhrzeigersinn entlang der Spiralen von Spule 208a zu
dem äußersten Abschnitt 220 von
Spule 208a. Von Spule 208a wird der Strom durch
die Brücke 210 zu
dem äußersten Abschnitt
der Spule 208b geleitet, von wo der Strom im Uhrzeigersinn
entlang den Spiralen 216 von Spule 208b zu dem
innersten Abschnitt 214 der Spule 208b und dem
Prüffeld 218b geleitet
wird. Auf diese Weise, wie als Draufsicht in 18 gezeigt,
verläuft
der Strom in Uhrzeigerrichtung durch jede Spule.
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Der
Strom, der durch jede Spule 208a und 208b läuft, erzeugt
ein Magnetfeld Bc (19) und definiert
Linien des Magnetflusses, die im Wesentlichen senkrecht zu der Ebene
des Substrats 206 ausgerichtet sind. Und weil die Spulen
entgegengesetzt gewickelt sind und den Strom zwingen, in einer gleichen
Richtung durch jede Spule zu fließen, sind die Richtungen der
Magnetfelder jeder Spule gleich.
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Der
Magnet 212 erzeugt ebenfalls ein Magnetfeld BM und
definiert Linien eines Magnetflusses, die im Wesentlichen senkrecht
zu dem Substrat 206 sind. Die magnetische Polarität des Magnets
und des Magnetflusses in den Spulen sind so angeordnet, dass sie
im Wesentlichen entgegensetzt sind. Auf diese Weise erzeugt der
Magnetfluss innerhalb der Spulen eine abstoßende Kraft zu dem Magnetfluss des
Magnets, und die Spulen werden gedrängt, sich auszudehnen, so dass
sich die radial äußersten
Abschnitte 220 der Spulen aufwärts, weg von dem Substrat,
bewegen und auf diese Weise die Brücke 210 und Spiegel 200 über das
Substrat heben. Der Strom kann moduliert werden, um Strom in den
Spulen zu steigern oder zu vermindern, um so die Magnetflussdichte
(das heißt
die Stärke
der magnetischen Abstoßkraft)
zu steigern oder zu vermindern und dabei das Ausmaß der Spulenausdehnung
zu steuern und den Spiegel, oder einen Abschnitt davon, hin zu oder weg
von dem Substrat zu bewegen.
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Durch
Steuerung des Stroms in jedem Aktuator 202 kann der Spiegel 200 entlang
diagonaler oder winkelhalbierender Achsen angehoben, abgesenkt oder
geneigt werden. Auf diese Weise können zum Beispiel zwei Aktuatoren
gleichzeitig angehoben oder abgesenkt werden, um so eine Seite des
Spiegels relativ zu seiner gegenüberliegenden
Seite anzuheben oder abzusenken. Wenn Licht durch den Spiegel reflektiert
wird, bewegt die Bewegung der Aktuatoren den reflektierten Lichtstrahl.
Demnach können
die Aktuatoren gesteuert werden, den Spiegel zu bewegen, um den
Weg eines Lichtstrahls zu steuern.
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Wie
im Folgenden ausführlicher
beschrieben wird, ist der Spiegel ein Halbleiter mit einer Metallfläche und
leitet auf diese Weise Strom. Darüber hinaus, nach dem derzeitigen
MUMPs-Herstellungsprozess, kann der Spiegel nicht elektrische isoliert
werden von den Spulen 208 und Brücke 210. Auf diese Weise
würde Strom,
der einer Spule eines Aktuator zugeführt wird, zu jedem Aktuator
geleitet, der eine Spule mit einem niedrigeren Potenzial aufweist. Stattdessen
wird den Aktuatoren ein bipolarer Strom zugeführt, der die Spiegel bei Nullspannung
hält und einen
Kopplungseffekt zwischen Aktuatoren ausschließt.
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Die
obige Beschreibung gibt einen beispielhaften Überblick zu einer Vielzahl
von Aktuatoren 202, die so eingerichtet sind, dass sie
den Spiegel tragen und steuerbar bewegen. In der folgenden Beschreibung
wird der Aktuator 202 ausführlicher beschrieben.
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Aktuator
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Mit
besonderem Bezug auf 17 bis 19 wird
eine bevorzugte Ausführungsform
des Aktuators 202 beschrieben. Wie dargelegt umfasst jeder
Aktuator zwei Spulen 208. Die Spulen 208 umfassen
die Doppelspiralen 216, die miteinander vermischte Archimedische
Spiralen sind, die ein nächstgelegenes
Ende 232 an dem radial innersten Abschnitt 218 der
Spule und ein entfernt gelegenes Ende 234 an dem radial äußersten
Abschnitt 220 der Spule aufweisen. Die nächstgelegenen
Enden 232 der Spiralen sind mit der Plattform 222 verbunden, und
die Spiralen folgen einem Weg einer Archimedischen Spirale (r =
Aθ, wobei
r = Radius, A = eine Konstante und θ = Winkel in Polarkoordinaten
ist) von den nächstgelegenen
Enden zu den entfernt gelegenen Enden 234. Die jeweiligen
Spulen weisen entgegensetzte Spiralwindungen auf, das heißt, die
Spiralen von Spule 208a (wenn als Draufsicht wie in 17 und 18 betrachtet)
folgen einem Weg in Urzeigerrichtung, der von den nächstgelegenen
Enden zu den entfernt gelegenen Enden verläuft, und die Spiralen von Spule 208b folgen
einem Weg in Gegenuhrzeigerrichtung, der von den nächstgelegenen Enden
zu den entfernt gelegenen Enden verläuft.
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Wie
dargelegt sind die Spiralen jeder Spule miteinander vermischt. In
den bevorzugten Ausführungsformen
von 17 und 18 befinden
sich die nächstgelegenen
Enden 232 der beiden Spiralen ungefähr 180 Grad entfernt an dem
radial innersten Abschnitt 218 der Spule. Von dieser 180-Grad-Anfangsausrichtung
folgen die Spiralen einer gegebenen Spule dem Weg der Archimedischen
Kurve und überlappen
die andere Spirale radial, während
sie entlang des Weges verlaufen. Anders dargelegt, jeder Spiralabschnitt,
mit Ausnahme an den innersten und äußersten Abschnitten, wird von
entsprechenden Abschnitten der anderen Spirale umgeben, so dass
für einen
gegebenen Abschnitt einer ersten Spirale, zum Beispiel 216a,
eine zweite Spirale 216b radial einwärts und radial auswärts anstößt. Die
entfernt gelegenen Enden 234 jeder Spirale in jeder Spule
enden annähernd
180 Grad entfernt an den radial äußersten
Abschnitten der Spule.
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Im
Querschnitt umfassen die Spulenspiralen 216 eine Halbleiterschicht 236 (19)
und eine Metallflächenschicht 238,
die einen niederohmigen Weg für
Strom bereitstellt. Die Spulenspiralen sind flexibel und können sich
ausdehnen, das heißt,
der äußerste Spulenabschnitt 220 kann
sich relativ zu dem innersten Abschnitt 218 bewegen, um
die Spule auszudehnen, um einer gewickelten konischen Feder zu gleichen.
Weil die nächstgelegenen
Enden 232 mit den Plattformen 222 verbunden sind,
können
sich nur die äußersten
Abschnitte der Spule weg von dem Substrat 206 ausdehnen.
Wenn sie ausgebildet sind und wenn kein Strom in den Spulen fließt, liegen
die Spulen als Spiralen in einer Ebene wie in 19 dargestellt,
und wenn sie ausgedehnt sind, bilden die Spulen eine umgekehrte,
konische Form nach Art einer Wendel, die im Allgemeinen parabolisch
im vertikalen Querschnitt ist, im Wesentlichen wie in 20 dargestellt.
In dem vorliegenden Zusammenhang bezieht sich „Wendel" auf die gesamte Form der ausgedehnten
Spulen, die sich aus dem Anheben der äußersten Abschnitte der Spiralen 216 über das
Substrat 206 ergeben. Wenn derart ausgedehnt, ist eine
weiche Kurve entlang der äußersten
Punkte eines vertikalen Querschnitts der ausgedehnten Spule im Wesentlichen
parabolisch. Die Kurve des Querschnitts kann in den verschiedenen
Ausführungsformen unterschiedlich
sein. Trotzdem ist der Ausdruck „Wendel" dazu bestimmt, alle Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung abzudecken, in denen eine Spirale ausgedehnt
oder ausgebreitet wird.
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Die
Brücke 210 ist
bei Draufsicht wie ein „E" geformt und weist
einen Mittelsteg 240 auf, der mit dem Spiegel verbunden
ist. Der Mittelsteg ist auch mit den entfernt gelegenen Enden 234 von
Spirale 216a jeder Spule 208a und 208b verbunden.
Entfernt gelegene Brückenstege 242a und 242b erstrecken sich
von einer Brückenrückseite 244 und
sind mit den entfernt gelegenen Enden 234 der Spirale 216b jeder Spule 208a und 208b verbunden.
Die Brücke
ist aus einer metallisierten Halbleiterschicht 246 und
einer hochleitfähigen
Metallfläche 248 (19)
ausgebildet. Weil die Brücke
mit den entfernt gelegenen Enden jeder Spirale von beiden Spulen
eines einzelnen Aktuators verbunden ist, leitet die Brücke Strom
zwischen den Spulen, wenn das elektrische Potenzial von einer Spule
größer ist
als das elektrische Potenzial der anderen Spule.
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Mit
Bezug auf den oben beschriebenen MUMPs-Prozess, wird die Struktur
des Aktuators der vorliegenden Erfindung im Zusammenhang mit seiner
Herstellung mit besonderem Bezug auf 19 weiter
beschrieben. Eine n-leitende 100-mm-Siliziumscheibe 252 wird
stark mit Phosphor dotiert, und eine 600-nm-Silizium-Nitrid-Schicht 254 wird
auf der Siliziumscheibe 252 als eine elektrische Isolierschicht
aufgebracht und bildet dabei das Substrat 206. Die Silizium-Nitrid-Schicht
wird direkt gefolgt durch Aufbringen des POLY 0 (die Schichten POLY
0, POLY 1 und POLY 2 sind nicht gekennzeichnet; nur die Strukturen,
die durch Aufbringen und Ätzen
ausgebildet sind, sind gezeigt und gekennzeichnet).
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Die
POLY-O-Schicht wird photolithographisch mit einem Photolack gemustert,
belichtet und entwickelt, um die Halbleiter-Spulenplattformen 222 zu
erzeugen. Nachdem der Photolack gemustert wurde, wird die POLY-0-Schicht
in einem reaktiven Ionenätzsystem
geätzt.
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Die
erste Oxidschicht wird auf der POLY-O-Schicht und belichteten Abschnitten
der Nitridschicht 254 aufgebracht. Wie dargelegt, wird
diese erste Oxidschicht am Ende des Verfahrens entfernt, um die
nachfolgenden mechanischen Schichten, welche Spulen, Brücke und
Spiegel umfassen, zu befreien. Nach dem Aufbringen der ersten Oxidschicht wird
die Scheibe mit der ANCHOR1-Maskenschicht gemustert und reaktiv
ionengeätzt, μm die Verankerungslöcher bis
hinunter auf die Plattformen 222 bereitzustellen, die in
dem nächsten
Schritt durch die POLY-1-Schicht gefüllt werden.
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Die
POLY-1-Schicht wird dann in einer Dicke von 2 μm aufgebracht. Diese Schicht
ist die erste Strukturschicht der Einrichtung. Nach dem Ätzen und Ablösen bildet
diese Schicht die Spulen 208 und die Aktuatoren 202 aus.
Die oben ausgebildeten Verankerungslöcher stellen Mittel zur Verfügung, um
die radial innersten Abschnitte 218 der Spulen an den Plattformen 222 zu
verankern. Eine dünne 200-nm-Phosphorsilikatglas-Maskenschicht wird über die
POLY-1-Schicht und andere belichtete Schichten aufgebracht und die
Scheibe wird gebrannt.
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Die
POLY-1- und Phosphorsilikatglas-Maskenschicht werden photolithographisch
gemustert, indem eine Maske verwendet wird, welche die Spulen 208 definiert.
Nach dem Ätzen
der POLY-1-Schicht wird der Photolack abgelöst und die verbleibende Oxid-Hartmaske wird durch
reaktives Ionenätzen
entfernt.
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Als
Nächstes
wird das zweite Oxid aufgebracht und gemustert, indem eine der beiden Ätzmasken
in dem MUMPs-Prozess verwendet wird.
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Das
POLY1 POLY2 VIA-Ätzen
sorgt für Ätzlöcher in
dem zweiten Oxid bis hinunter zu der POLY-1-Schicht. Dieses Ätzen stellt
eine mechanische und elektrische Verbindung zwischen der POLY-1-Schicht
und der folgenden POLY-2-Schicht her. In Zusammenhang mit der vorliegenden
Erfindung wird dieses Ätzen
angewendet, um eine mechanische und elektrische Verbindung zwischen
den Spulen (ausgebildet durch die POLY-1-Schicht) und der Brücke (ausgebildet durch die
POLY-2-Schicht) bereitzustellen.
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Die
zweite Strukturschicht, POLY 2, wird dann auf der Scheibe zusammen
mit einer 200-nm-Phosphorsilikatglas-Schicht
aufgebracht und dann gebrannt, um das Polysilizium zu dotieren und
die Filmspannung zu verringern. Die POLY-2-Schicht wird lithographisch
mit einer siebten Maske gemustert, um die Strukturen der Brücke 210 und
des Spiegels 200 auszubilden.
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Die
abschließend
aufgebrachte Schicht ist eine 0,5-μm-Metallschicht, die für die Prüffelder 224, die
elektrisch leitfähigen
Schichten auf den Spulen und Brücken
und eine hochreflektierende Fläche
für den
Spiegel sorgt. Zuletzt unterläuft
die Vorrichtung einer Ablösung
des Schutzes, um die Spulen 208 von den Plattformen 222 zu
befreien, ausgenommen dort, wo die radial innersten Abschnitte 218 mit
den Plattformen verankert sind.
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In 18 wird
der Aktuator 202 schematisch gezeigt, wie er mit einem
Schaltkreis 256 verbunden ist, der zwei Quellen für elektrische
Energie aufweist: die hebende Stromquelle 258 und eine
modulierende Stromquelle 260. Die hebende Stromquelle stellt Gleichgewichtsstrom
bereit, der durch die Spulen geleitet wird und das Magnetfeld Bc (19) erzeugt. Die
Stärke
des Magnetfelds ist proportional zu dem Produkt aus dem Strom, der
Anzahl an Spulenumdrehungen und dem Querschnittsbereich der Spulenspiralen.
Das Spulenmagnetfeld Bc hat eine Polarität, in 19 als
in das Substrat 206 gerichtet dargestellt. Für eine gegebene
Ausführung
sind die Anzahl von Spulendrehungen und ein Querschnittsbereich der
Spiralen festgelegt. Folglich ist die Stärke des Magnetfelds proportional
zu dem Strom und kann durch Veränderung
des Stroms moduliert werden.
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Die
hebende Stromquelle 258 stellt Gleichgewichtsstrom bereit,
der ein Gleichgewichts-Magnetfeld
Bc erzeugt. Das Magnetfeld Bc steht
dem Magnetfeld Bm des Permanentmagnets 212 gegenüber und
die Spule 208 wird gedrängt,
sich auszudehnen und dadurch den Spiegel über das Substrat 206 anzuheben.
Die Entfernung des Spiegels weg von dem Substrat wird durch die
Stärke
der Magnetfelder Bc und Bm geregelt.
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Der
hebende Strom hebt den Spiegel etwa 100 bis 500 μm über das Substrat, um ausreichend Raum
zwischen dem Spiegel und dem Substrat für einen gewünschten Bewegungsbereich für den Spiegel
bereitzustellen. Durch Anheben des Spiegels über das Substrat kann die vorliegende
Erfindung den Spiegel mehr als 30 Grad aus der Parallelen zu dem
Substrat neigen. Einige Vorrichtungen nach dem Stand der Technik,
die die Spiegelbewegung steuern, können ihren Spiegel nur mit
10 Grad bewegen, bevor der Spiegel die darunter liegende Struktur berührt. Weil
die vorliegende Erfindung den Spiegel weg von dem Substrat hebt,
kann ein größerer Ablenkungswinkel
realisiert werden.
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18 stellt
lediglich zum Zweck der Erläuterung
nur einen Aktuator dar, der mit einem hebenden Strom verbunden ist.
Um jedoch die Aktuatoren der vorliegenden Erfindung zum Steuern
eines Spiegels zu nutzen, schließt dies vier Aktuatoren ein,
wie in 16 dargestellt. Jeder Aktuator
kann einen identischen hebenden Strom erhalten, um den Spiegel nach
oben und parallel zu der ebenen Fläche des Substrats zu heben.
Um jedem der vier Aktuatoren identischen hebenden Strom bereitzustellen,
kann das Substrat zusätzliche
Stromkreise beinhalten, so dass jeder Aktuator mit der gleichen
Versorgungsquelle für
hebenden Strom verbunden ist. In alternativen Ausführungsformen
ist die Quelle für
hebenden Strom separat für
jeden Aktuator, um den Spiegel an einer bevorzugten Ausrichtung
zu dem Substrat zu halten.
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Nachdem
der hebende Strom wirksam ist und der Spiegel zu einer bevorzugten
Höhe angehoben
wurde, können
die Aktuatoren individuell gesteuert werden, um einen Rand oder
eine Ecke des Spiegels durch die Steuerstromquelle 260 anzuheben oder
abzusenken, die durch einen digitalen Prozessor (nicht gezeigt)
oder andere Einrichtungen gesteuert werden kann. Wenn Rückkopplungsschaltungen bereitgestellt
sind, um die Aktuatoren zu kalibrieren oder anderweitig zu steuern,
würde die
Rückkopplungsschaltung
die modulierende Stromquelle steuern.
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In 20 werden
die Spulen 208 ausgedehnt gezeigt, um so den Spiegel 200 über dem
Substrat 206 aufzuhängen.
Diese Seitenansicht zeigt die parabolische Form der Spulen, wenn
die Spulen in ihrem ausgedehnten Zustand sind. Wenn alle Aktuatorspulen
in einem gleichen Umfang ausgedehnt sind, wird der Spiegel oben
und im Wesentlichen parallel zu der Ebene des Substrats gehalten.
Wenn die Spulen eines Aktuators in größerem Umfang als die Spulen
eines anderen Aktuators durch Einrichtungen wir oben beschrieben
ausgedehnt sind, wird der Spiegel gezwungen, sich zu neigen, wie
in dem schemenhaften Umriss gezeigt.
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Weitere alternative
Ausführungsformen
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Abschnitte
der Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen beziehen sich
auf Schritte des MUMPs-Herstellungsprozesses. Wie jedoch dargelegt,
ist MUMPs ein allgemeiner Herstellungsprozess, der insbesondere
bereitgestellt wird, um einen breiten Bereich an MEMS-Vorrichtungsgestaltungen in
Einklang zu bringen. Folglich wird ein anderer Herstellungsprozess,
der speziell für
die vorliegende Erfindung entwickelt wurde, wahrscheinlich andersartige
Schritte, zusätzliche
Schritte, unterschiedliche Abmessungen und Dicken und unterschiedliche
Materialien einschließen.
Solche spezifischen Herstellungsprozesse sind innerhalb des Wissens
von Kennern der Technik photolithographischer Verfahren und sind
kein Teil der vorliegenden Erfindung.
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In
den oben offen gelegten bevorzugten Ausführungsformen ist der Magnet 212 offen
gelegt als mit dem Substrat 206 verbunden. Jedoch kann
der Magnet auch unterhalb eines gepackten Chips angebracht sein,
der die Aktuatoren der vorliegenden Erfindung aufweist, was alternativ
einfacheres Verpacken bereitstellen kann.
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In
der bevorzugten Ausführungsform
beinhaltet jede Spule doppelte, miteinander vermischte Spiralen.
Jedoch kann jede Spule nur eine Spirale enthalten, oder alternativ
kann jede Spule drei oder mehr miteinander vermischte Spiralen aufweisen.
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Die
Spiralen der Spulen können
umgekehrt sein relativ zu der Beschreibung, die oben bereitgestellt
wurde, so dass die entfernt gelegenen Spiralenden 226 (das
heißt
die äußersten
Abschnitte der Spulen) mit der Spulenplattform 222 verankert
sind und die nächstliegenden
Spiralenden 224 (innerste Spulenabschnitte) von dem Substrat
gelöst
und frei sind, sich aufwärts
auszudehnen. In dieser alternativen Ausführungsform ist die Brücke 210 an
den innersten Abschnitten der Spulen angebracht.
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In
einer anderen alternativen Ausführungsform
können
die Aktuatoren bereitgestellt werden, um den Spiegel zu steuern.
In der oben offen gelegten bevorzugten Ausführungsform machen die vier Aktuatoren
(das heißt
Spulenpaare) das System mechanisch übermäßig spezifiziert (das heißt, das
System kann sich in mehr Achsrichtungen bewegen, als sie für die bevorzugten
Anwendungen erforderlich sind). Im Gegensatz dazu kann ein System,
das drei Aktuatoren aufweist, die gewünschte Bewegung bereitstellen.
Die drei Aktuatoren würden
an drei der vier Spiegelecken angeordnet. Ein Mittelaktuator, angeordnet
zwischen den beiden anderen Aktuatoren, würde eine Spiegelecke anheben
und den Spiegel an die anderen beiden, diagonal gegenüberliegenden Aktuatoren
drehen, um den Spiegel an einer diagonalen Achse zu neigen. Jedes
andere Spulenpaar würde
ebenso eine Spiegelecke anheben, aber würde den Spiegel an den beiden
Aktuatoren drehen, die entlang einer gemeinsamen Spiegelseite liegen,
um so den Spiegel jeweils an einer X-Achse oder Y-Achse zu drehen.
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Die
Zeichnungen und bevorzugten Ausführungsformen
zeigen und beschreiben einen rechteckigen Spiegel, der von vier
Aktuatoren getragen wird, die sich an jeder von vier Ecken befinden.
Alternativ können
größere oder
weniger Aktuatoren den Spiegel an anderen Stellen als den Spiegelecken
tragen.
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Die
Spulen können
mit erhöhter
Steifigkeit bereitgestellt werden, indem Metallfedern über den Spulenspiralen
bereitgestellt werden. Jedoch kann solch eine Anordnung erheblichen
Strom erfordern, was ohmische Erhitzung erzeugen kann, die ausreicht,
um die Spulen zu erweichen, um genügend Strom zum Ableiten der
Spulen bereitzustellen. Jedoch ist eine solche Anordnung geeignet
in Verbindung mit einem Herstellungsverfahren, das die Spulen elektrisch
von dem Spiegel isoliert.
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Bevorzugte
Ausführungsformen
stellen einen Permanentmagnet bereit, der mit einer Rückseite
des Substrats verbunden ist. In einer alternativen Herstellungsausführungsform
kann eine ferromagnetische Schicht innerhalb des Substrats oder
darauf ausgebildet werden, um die Notwendigkeit für den zusätzlichen
mechanischen Schritt zum Anbringen des Magnets zu vermeiden.
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Eine
andere alternative Einrichtung zur Bereitstellung eines abstoßenden Magnetfelds
ist, eine große
Spule auf der Rückseite
des Substrats oder als eine untere Schicht auf der Vorderseite des
Substrats herzustellen und der großen Spule Strom zuzuführen, um
ein Magnetfeld zu erzeugen. In dieser Ausführungsform kann der oben beschriebene
modulierende Strom, der den Aktuatorspulen zugeführt wird, vermieden werden,
und stattdessen kann der Strom, der der großen Spule zugeführt wird,
zum Modulieren gemacht sein, um den Spiegel gleichmäßig zu heben und
zu senken.
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In
der oben beschriebenen ersten bevorzugten Ausführungsform wird die abstoßende Magnetkraft
dadurch erzeugt, dass ein Permanentmagnet nahe an dem Substrat angeordnet
ist und ein Elektromagnet in den ausdehnenden Spulen erzeugt wird. In
einer alternativen Ausführungsform
werden die Spulen 208 aus einem magnetischen Material ausgebildet
und sind nicht mit Strom verbunden und leiten nicht. In dieser Ausführungsform
weisen die ausdehnenden magnetischen Spulen Eigenschaften eines Permanentmagnets
auf und erzeugen auf diese Weise B-Felder. Die abstoßende Magnetkraft
kann dann durch eine (relativ) große elektromagnetische Spule erzeugt
werden, die auf dem Substrat 206 oder auf einem zweiten
Substrat, das sich nahe an dem Substrat 206 befindet, ausgebildet
oder angeordnet ist. Schematisch erscheint diese Ausführungsform
im Wesentlichen wie in 16 bis 20 gezeigt,
ausgenommen, dass der Block 212 ein zweites Substrat repräsentieren
würde,
das eine oder mehrere elektromagnetische Spulen darauf aufweisen
würde,
die mit Stromquellen verbunden sind. Vorzugsweise würden separate
elektromagnetische Spulen für
jeden Aktuator 202 bereitgestellt, um separate Steuerung jedes
einzelnen Aktuators zu ermöglichen.
Der Betrieb der elektromagnetischen Spulen würde ein Magnetfeld erzeugen,
das so ausgerichtet wäre,
dass es dem Magnetfeld der ausdehnenden Magnetmaterial-Spulen 208 gegenüberläge. Die
abstoßende
Kraft würde
die Magnetmaterial-Spulen 208 zwingen, sich auszudehnen
und dadurch den Spiegel 200 bewegen.
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Diese
Ausführungsform,
in der die Spulen 208 Magnetmaterial-Spulen sind, löst Probleme,
die in der ersten bevorzugten Ausführungsform auftreten können. Belastung
führen zu
einer Veränderung
des Widerstands in stromführenden
Vorrichtungen, wie etwa den leitenden Spulen der ersten Ausführungsform.
Folglich kann sehr genaue Steuerung bei einigen Abläufen schwierig
sein, wie etwa die Spule zu einem genauen Platz zu bewegen und sie
an diesem Platz zu halten. Die Verwendung von Magnetmaterial-Spulen 208 und
Erzeugung einer abstoßenden Magnetkraft
durch Mittel einer elektromagnetischen Spule verringern die Möglichkeit
von durch Belastung hervorgerufenen Effekten wesentlich, weil belastungsabhängige magnetische
Eigenschaften relativ vernachlässigbar
sind. Darüber
hinaus müssen
die Aktuatoren in dieser Ausführungsform
keine Spiralen sein, die sich in ihrem ausgedehnten Zustand zu einer
Wendelform entwickeln. Jede Form magnetischen Materials, das eine
Magnetfeld erzeugt und das mit dem Substrat verbunden ist, und die
Vorrichtung, die sich so entwickelt (wie etwa der Spiegel 200),
dass der Magnetmaterial-Aktuator von dem Substrat ableiten kann,
ist geeignet.
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Während bevorzugte
Ausführungsformen der
vorliegenden Erfindung spezifische physikalische Elemente umfassen,
die eine Struktur aufweisen, kann die vorliegende Erfindung in andere
Strukturen einfließen,
die größere oder
weniger Spulen, Spulendrehungen, Anordnungen und in unterschiedlichen Zusammenstellungen
verbundene Spulen aufweisen.
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Zum
Beispiel kann die Spulenbreite der Spulen 208 der ersten
bevorzugten Ausführungsform
so variiert werden, um die Spuleneigenschaften wesentlich zu verändern. Wie
dargelegt, sind die Spulen Spiralen 216 und jede Spirale
hat eine Breite entlang einer Ausdehnung, die im Wesentlichen parallel
zu dem Substrat 206 ist. In der ersten bevorzugten Ausführungsform
ist die Spiralbreite im Wesentlichen konstant entlang ihrer Länge, und
die äußersten
Abschnitte der Spulen sind am wenigsten steif. Durch Erhöhung der
Spiralbreite an den äußersten
Abschnitten der Spulen, so dass die Spiralbreite in ihrer Mitte
am schmalsten ist, kann die Steifigkeit wie gewünscht bis zu vorgesehenen optimalen
Entfaltungsmerkmalen modifiziert werden. In gleicher Weise kann
das Verändern
des elektrischen Widerstands der Spirale entlang ihrer Länge, wie
etwa durch Verändern
der Breite der Metallschicht entlang der Spirallänge, ebenfalls die entfalteten
Merkmale der Spulen beeinflussen. In allen Fällen, in denen die Spulen Spiralen
in ihrem flachen, unentfalteten Zustand sind, werden die entfaltet
geformten hierin als Wendel bezeichnet.