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DE60100113T2 - Verfahren zur Herstellung einer Fläche von Diamantzylindern mit Vertiefungen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer Fläche von Diamantzylindern mit Vertiefungen

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DE60100113T2
DE60100113T2 DE60100113T DE60100113T DE60100113T2 DE 60100113 T2 DE60100113 T2 DE 60100113T2 DE 60100113 T DE60100113 T DE 60100113T DE 60100113 T DE60100113 T DE 60100113T DE 60100113 T2 DE60100113 T2 DE 60100113T2
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Description

    HINTERGRUND DER ERFINDUNG 1. Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Zylinderanordnung, bei der jeder Zylinder eine Vertiefung in seinem Endabschnitt hat.
  • 2. Beschreibung des Standes der Technik
  • Ein Diamantzylinder-Strukturkörper, insbesondere ein Diamantzylinder-Strukturkörper, der durch Dotieren mit elektrischer Leitfähigkeit ausgestattet wurde, wird für eine Elektronenemissionsquelle für eine Anzeige, einen Gassensor, ein Elektrodenmaterial und dgl. verwendet. Zu diesem Zweck ist es üblicherweise wichtig, eine gute und regelmäßige Struktur zur Verbesserung der Leistungsfähigkeit auszuformen. Als ein effizientes Verfahren zur Herstellung eines derartigen zylinderförmigen Diamants ist ein Verfahren bekannt, bei dem eine Struktur, die einen regelmäßigen Aufbau aufweist, zuvor hergestellt und hierauf aus der Dampfphase abgeschiedener Diamant ausgeformt wird, wobei diese Struktur als Form verwendet und dann die Form abgelöst wird, um einen wie einen Vorsprung hervorstehenden Diamanten mit einheitlicher Gestalt auszuformen [K. Okaso et al., Applied Physics Letters, Jahrg. 64, S. 2742 (1994)]. Die als Form verwendete regelmäßige Struktur wird durch Bearbeiten von Silizium oder dgl. mit üblicher lithographischer Technik bereitgestellt.
  • Für die Anwendung des zylindrischen Strukturkörpers ist es wichtig den Durchmesser jeden Zylinders zu minimieren und das Verhältnis Zylinderlänge / Zylinderdurchmesser oder das Öffnungsverhältnis zu erhöhen. Zum Beispiel wird die Minimierung des Durchmessers des Zylinders wichtig, um ein elektrisches Feld effizienter in einem Ende einer nadelförmigen Struktur in einer Elektronenemissionsquelle zu konzentrieren.
  • Zu diesem Zweck haben die Erfinder ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem eloxiertes poröses Aluminiumoxid, von dem bekannt ist, dass es eine regelmäßige poröse Struktur aufweist, als Form verwendet und hierauf Diamant mittels eines CVD-Prozesses aufgewachsen und danach die eloxierte poröse Struktur abgelöst wird, um einen zylinderförmigen Diamanten mit einem hohen Öffnungsverhältnis zu erhalten [Masuda et al., The Electrochemical Society of Japan, 1998 Autumn Time Annual Proceedings, 1c18 (1998)]. Nach diesem Verfahren ist es möglich, eine Anordnung von Feinzylindern zu niedrigen Kosten und mit einem hohen Durchsatz herzustellen. Außerdem wird eine Formstruktur (eloxiertes poröses Aluminiumoxid), die ein großes Verhältnis von Porentiefe /Öffnungsdurchmesser aufweist (Öffnungsverhältnis) erhalten, wie sie bisher niemals mit üblicher Lithographie ausgeformt wurde, so dass das Öffnungsverhältnis eines ausgeformten Zylinderstrukturkörpers erhöht wird. Gleichzeitig haben die Erfinder eine Technik offenbart, bei der Diamantfeinpartikel als Wachstumskeime gleichmäßig auf den Innenwänden der Poren des eloxierten porösen Aluminiumoxids aufgebracht werden, um einen zylindrischen diamantartigen Kohlenstoff mit einer Hohlstruktur in seiner Oberfläche zu erhalten [Masuda et al., Proceedings des zuvor genannten Vortrags]. Bei dieser Technik wird eine Zylinderstruktur durch gleichmäßiges Verteilen von Diamantfeinpartikeln als Wachstumskeime auf den Wandflächen der Poren im eloxierten porösen Aluminiumoxid und gleichzeitigem Starten des Aufwachsens von diamantartigem Kohlenstoff von der gesamten Wandfläche ausgeformt.
  • Wird eine Anordnung von Diamantzylindern unter Verwendung des eloxierten porösen Aluminiumoxids als Form wie oben erwähnt ausgeformt, so weist das Oberteil eines jeden ausgeformten Zylinders eine flache Gestalt auf. Wird eine solche Zylinderanordnung als Elektronenemitter verwendet, dann besteht das Problem, dass die Konzentration des elektrischen Feldes schwierig ist. Außerdem ist es schwierig, andere Substanzen (katalytisches Metall, Enzyme, etc.) auf das Oberteil des Zylinders aufzubringen, falls beabsichtigt ist, eine solche Anordnung in einer Elektrode oder dgl. anzuwenden.
  • Andererseits besteht der eine Hohlstruktur aufweisende Zylinder, der durch gleichmäßiges Aufbringen der Wachstumskeime auf die Wandflächen zum Durchführen des CVD-Prozesses ausgeformte wurde, aus einem diamantartigem Kohlenstoff, dessen Kristallform sich von der von Diamant unterscheidet, so dass ein Problem bei der Verwendung für den Elektronenemitter oder die Elektrode besteht.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Ausformen einer sich auf der Oberfläche eines Diamantzylinders öffnenden Vertiefung oder einer Hohlstruktur bereitzustellen.
  • Die Erfinder haben festgestellt, dass sich eine Vertiefung, die sich gegen die Oberfläche öffnet, selektiv auf jedem Zylinder ausformen lässt, wenn eine Zylinderanordnung aus Diamant Plasmaätzen von der Oberfläche des Zylinders aus unterzogen wird. Mit anderen Worten, es wurde festgestellt, dass nur ein zentraler Teil in der Oberfläche eines jeden Diamantzylinders selektiv geätzt wird, aber ein am Rand gelegener Teil eines jeden Zylinders als zylindrischer oder ringförmiger Vorsprung erhalten bleibt, ohne geätzt zu werden. In diesem Fall wird keine Maske verwendet. Ein solches selektives Ätzphänomen ist bis heute unbekannt.
  • Deshalb ist es möglich einen zylinderförmigen Diamanten, der eine Hohlstruktur aufweist, bei der nur der zentrale Teil selektiv geätzt wurde, durch Einregeln der Ätzzeit zu erhalten, und es ist auch möglich die Tiefe der Vertiefung oder das Verhältnis von Tiefe zu Breite der Vertiefung einzuregeln.
  • Von der so erhaltenen Zylinderanordnung mit Vertiefungen kann eine hohe Leistungsfähigkeit als Elektronenemitter erwartet werden. Außerdem ist es möglich eine gegebene Substanz auf die Vertiefung im Oberteil des Zylinders aufzubringen. Daher kann die vorliegenden Erfindung als grundlegendes Herstellungsverfahren auf dem Gebiet der elektronischen Bauteile aus Diamant, mit dessen Weiterentwicklung in Zukunft zu rechnen ist, bezeichnet werden.
  • In der vorliegenden Erfindung sind Anzahl und Form der Zylinder in der Zylinderanordnung nicht kritisch. Jedoch beträgt die Breite (Durchmesser) der Zylinder bevorzugt 100-300 nm und deren Höhe beträgt bevorzugt 1-10 um. Weiterhin ist das Verhältnis von Höhe zu Durchmesser des Zylinders (Öffnungsverhältnis) vorzugsweise nicht kleiner als 3.
  • Insbesondere kann der Zylinder entsprechend der Form der Pore im eloxierten porösen- Aluminiumoxid ausgeformt werden, wobei das eloxierte poröse Aluminiumoxid als Form verwendet wird und Diamant durch einen Gasphasen-Aufwachsprozess vor dem Plasmaätzen in jeder Pore des eloxierten porösen Aluminiumoxids ausgeformt wird.
  • Das eloxierte Aluminiumoxid ist eine poröse Oxidschicht, in der feine gerade Poren, die ein hohes Öffnungsverhältnis aufweisen und in ungefähr gleichen Abständen angeordnet sind, und die durch Eloxieren von Aluminium in einem geeigneten sauren Elektrolyten ausgeformt wird. Der Porendurchmesser, der Porenabstand und die Porenlänge können durch Einregeln der Bedingungen des Eloxierens kontrolliert werden. Das eloxierte Aluminiumoxid kann durch selektives Ablösen einer Aluminiummatrix nach dem Eloxieren in eine selbsttragende Schicht überführt werden. Weiterhin können die Feinporen durch eine Ätzbehandlung, bei der der untere Teil der Schicht abgelöst wird, in durchgehende Hohlräume überführt werden.
  • Ein zylinderförmiger Diamant, der ein großes Öffnungsverhältnis aufweist, kann durch die Verwendung von eloxiertem Aluminiumoxid als Form beim Aufwachsen des Diamantfilms und Aufwachsen von Diamant durch den CVD-Prozess und nachfolgendem Ablösen des eloxierten Aluminiumoxids erhalten werden.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Die Erfindung wird unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben; es zeigen:
  • Fig. 1 eine schematische Schnittansicht von eloxiertem porösem Aluminiumoxid 1, das in der vorliegenden Erfindung als Form verwendet wird;
  • Fig. 2 eine schematische Schnittansicht, die den Zustand der anhaftenden Feinpartikel 3 als Wachstumskeime für Diamant bezüglich einer Fläche 1b des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 veranschaulicht;
  • Fig. 3 eine schematische Schnittansicht eines Verbundkörpers 4, der aus eloxiertem porösem Aluminiumoxid 1 und einem Diamantzylinder-Strukturkörper 5 besteht;
  • Fig. 4 eine schematische Schnittansicht eines Diamantzylinder-Strukturkörpers 5, der durch Entfernen von eloxiertem porösem Aluminiumoxid 1 vom Verbundkörper 4 erhalten wurde;
  • Fig. 5 ist eine schematische Ansicht, die den Zustand eines Diamantzylinder-Strukturkörpers 5 beim Unterziehen einer Plasmaätzbehandlung veranschaulicht; und
  • Fig. 6 eine schematische Schnittansicht eines Diamantzylinder-Strukturkörpers 12, der eine Hohlkonstruktion aufweist.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Fig. 1 bis 6 zeigen die Schritte, die eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulichen. In Fig. 1 ist schematisch und im Schnitt eloxiertes poröses Aluminiumoxid 1 dargestellt. Das eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 weist eine regelmäßige Anordnung von Poren 2 auf. Bezugszeichen 1a und 1b kennzeichnen Endflächen des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1. Das eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 mit einer Porengröße von 5-400 nm und einem Porenabstand von 100-500 nm wird bevorzugt als Form für das Gasphasenaufwachsen von Diamant verwendet. Überdies ist das eloxierte poröse Aluminiumoxid schon mehrfach in Veröffentlichungen beschrieben worden.
  • Fig. 2 veranschaulicht einen Zustand, in dem die als Wachstumskeime dienenden Diamantpartikel 3 auf eine Seite der Endfläche 1b des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 aufgebracht wurden. Ein Diamantpartikel 3 als Wachstumskeim weist eine geeignete Größe auf, die nahe an der Porengröße des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 liegt. D. h. die Diamantpartikel 3 als Wachstumskeime können durch Aufbringen auf die Endfläche 1b des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 getragen werden.
  • Ein in Fig. 3 dargestellter Verbundkörper 4 wird mittels Durchführen des Gasphasenaufwachsens von Diamant im Zustand nach Fig. 2 erhalten. In der Verbundstruktur 4 sind das eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 und der Diamantzylinder-Strukturkörper 5 miteinander verbunden.
  • Beim Gasphasenaufwachsen wird das eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 mit den aufgebrachten Wachstumskeimen 3 in ein Gefäß für das Gasphasenaufwachsen platziert, um das Gasphasenaufwachsen durchzuführen. Als Gasphasenaufwachsen von Diamant können verschiedene Prozesse angewendet werden, aber typischerweise kann ein chemischer Gasphasenaufwachsprozess im Mikrowellenplasma angewendet werden. Als ein Beispiel für Fimausformungsbedingungen kann das folgende genannt werden:
  • Flussrate des Wasserstoffträgers: 300-500 Standard-cm³
  • (z. B. 400 Standard-cm³)
  • Innendruck: 8-13 kPa (60-100 Torr) (z. B. 11 kPa)
  • Plasma-Einspeisung: 2000-5000 W (z. B. 3000 W)
  • Menge das Wasserstoffflusses durch Azeton: 10-20 Standard-cm³
  • (z. B. 15 Standard-cm³)
  • Elektrische Leitfähigkeit kann durch Hinzufügen einer Dotiermetallquelle zum Gasmaterial (z. B. Azeton) bereitgestellt werden, um den resultierenden Diamantdünnfilm mit einem bestimmten Metallelement zu dotieren. Als ein solches Metallelement kann Bor genannt werden. Das Dotieren mit Bor kann durch Auflösen von Borsäure in Azeton als Kohlenstoffquelle durchgeführt werden. Diamant wächst bevorzugt unter Nutzung der Diamantfeinpartikel, die auf der Unterseite des eloxierten porösen Aluminiums als Wachstumskeime aufgebracht sind. Als Ergebnis wird Diamant in einem Zustand gebildet, in dem er nach und nach den Innenraum der einzelnen Poren 2 des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 von dessen Unterseite her ausfüllt.
  • Nach dem chemischen Gasphasenaufwachsen kann ein in Fig. 4 dargestellter Diamantstrukturkörper 5 durch selektives Ablösen des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 erhalten werden. Der Strukturkörper 5 besteht aus einer Anordnung 15 aus vielen Zylindern 6 und einer Basis 7, die die Böden der Zylinder 6 verbindet. Als Lösung für das selektive Auflösen des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 kann eine wässrige Lösung von Natriumhydroxid verwendet werden. Auch wenn das eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 durch langes Einwirken einer hohen Temperatur beim Ausformen des Diamantfilms kristallisiert ist, kann eine Ätzbehandlung mit einer auf eine hohe Temperatur erhitzten konzentrierten Phosphorsäure wirksam angewendet werden.
  • Außerdem kann die Oberfläche 6a eines jeden Zylinders 6 hervorstehen oder um ein gewisses Maß angehoben sein, weil der mittlere Teil der Kopffläche selektivem Ätzen unterzogen wird. Jedoch wird bevorzugt, dass sich keine Vertiefung auf der Oberfläche 6a bildet, und meisten bevorzugt wird, dass die Oberfläche 6a im Wesentlichen eben ist. Außerdem ist der Strukturkörper 5 mit einer Basis aus Diamant ausgestattet, aber die Basis 7 wird nicht notwendigerweise für die Leistungsfähigkeit der vorliegenden Erfindung benötigt. Alternativ kann ein Hauptteil der Basis 7 aus einem anderen Verbindungsmaterial als Diamant hergestellt werden. Bezugszeichen 8 bezeichnet einen Zwischenraum zwischen den Zylindern.
  • Danach wird der Diamantzylinder-Strukturkörper 5 wie in Fig. 5 schematisch dargestellt in einer Plasmaätzkammer 10 platziert, um Plasmaätzen durchzuführen. Beim Ätzen können zum Beispiel ein Paar parallele Hochfrequenz-Plasmaätz-Vorrichtungen mit ebenen Platten 9, 11 verwendet werden, aber es bestehen keine Beschränkungen bezüglich des Typs der Kammer. Die Ätzatmosphäre enthält bevorzugt Sauerstoff und der Partialdruck des Sauerstoffs beträgt bevorzugt 13-27 Pa (0,1-0,2 Torr), zum Beispiel 20 Pa. Eine Maske wird nicht gesetzt.
  • Als Ergebnis wird ein Diamantzylinder-Strukturkörper 12 wie in Fig. 6 dargestellt erhalten. Dieser Strukturkörper 12 besteht aus einer Anordnung 15A aus vielen Zylindern 6A und einer. Basis 7, die die Böden der Zylinder 6A verbindet. Auf der Oberfläche eines jeden Zylinders 6A wird eine Vertiefung gebildet, die sich von der Oberfläche aus eintieft, wobei ein zylindrischer hervorstehender Teil 14 verbleibt und so die Vertiefung 13 umschließt. Das Verhältnis Tiefe zu Breite der Vertiefung 13 ist bevorzugt nicht kleiner als 0,5, besser nicht kleiner als 1.
  • Beispiel 1
  • Ein Diamantzylinder-Strukturkörper 12 wird entsprechend dem in Fig. 1-6 dargestellten VerFahren hergestellt. Konkret wird ein Aluminiumblech mit 0,3 M Phosphorsäure bei 2ºC und einer konstanten Spannung von 190 V für die Dauer von 80 Minuten eloxiert und dann wird eine Aluminiummatrix selektiv mit Quecksilberchlorid abgelöst, um eloxiertes poröses Aluminiumoxid zu erhalten. Danach wird eine Sperrschicht, die sich auf der Unterseite des eloxierten porösen Aluminiumoxids befindet, durch Ätzen mit 10 Gew.-% Phosphorsäure entfernt, um eloxiertes poröses Aluminiumoxid 1, das Poren in Form von Durchgangslöchern aufweist, zu erhalten. Das so erhaltene eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 weist eine Porengröße von 0,3 um, einen Porenabstand von 0,5 um und eine Schichtdicke von 8 um auf.
  • Diamantfeinpartikel 3 mit einer durchschnittlichen Partikelgröße von 50 nm werden auf eine Fläche 1b des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 aufgerieselt und leicht gerieben, um die Diamantfeinpartikel 3 an die Fläche 1b des eloxierten porösen Aluminiumoxids 1 anzuhaften. Das eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 wird so in ein Gefäß für die Bildung eines Diamantfilms platziert, dass die mit den Diamantfeinpartikeln 3 bedeckte Fläche 1b nach unten zeigt, und dann wird der Diamantflim unter den folgenden Schichtausformungsbedingungen ausgeformt:
  • Flussrate des Wasserstoffträgers: 400 Standard-cm³
  • Innendruck: 11 kPa (80 Torr)
  • Plasmaeinspeisung: 3000 W
  • Menge des Wasserstoffflusses durch Azeton: 15 Standard-cm³
  • Dauer der Filmbildung: 3 Stunden
  • Nach dem Ausformen des Diamantfilms wird das eloxierte poröse Aluminiumoxid 1 durch Eintauchen in konzentrierte Phosphorsäure bei 200ºC für die Dauer einer Stunde abgelöst um den Diamantzylinder-Strukturkörper 5 zu erhalten. Danach wird der Ätzvorgang unter Benutzung einer Hochfrequenz-Plasmaätzvorrichtung und unter den Bedingungen, dass Sauerstoff als Reaktionsgas verwendet wird, ein Sauerstoffdruck von 20 Pa (0,15 Torr), eine Hochfrequenz-Leistungsabgabe von 180 W und eine Ätzdauer von 100 Sekunden vorliegt, durchgeführt. Als Ergebnis wird eine Vertiefung 13 im oberen Teil eines jeden Zylinders 6A des resultierenden Diamantzylinder-Strukturkörpers 12 gebildet. Jeder der Zylinder 6A hat einen Durchmesser von 0,3 um und eine Höhe von 0,5 um und die Vertiefung 13 hat einen Durchmesser von 280 nm und eine Tiefe von 300 nm.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung kann die regelmäßige Zylinderanordnung, die in ihrem oberen Teil eine Hohlkonstruktion aufweist, schnell und in Massenfertigung bei niedrigen Kosten hergestellt werden.
  • Der Diamantzylinder, der eine Hohlkonstruktion in seinem oberen Teil aufweist, kann im Vergleich zu einem Diamantzylinder ohne Hohlkonstruktion mittels eines scharfkantigen Teiles in einem Abschnitt des Zylinders ein elektrisches Feld wirksam konzentrieren und kann daher für eine Elektronenemissionsquelle mit einer hohen Leistungsfähigkeit verwendet werden. Außerdem ist es möglich, verschiedene Arten von Substanzen auf den Oberteil jedes Zylinders aufzubringen.

Claims (4)

1. Verfahren zur Herstellung einer Zylinderanordnung, von der jeder Zylinder aus Diamant besteht und eine Vertiefung in seiner Oberfläche hat, bei dem eine Zylinderanordnung aus Diamant Plasmaätzen unterzogen wird, um eine Vertiefung in jedem Zylinder zu bilden, die sich zur Oberfläche öffnet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem jeder dieser Zylinder in jeder Pore der Poren in als Form dienendem eloxiertem porösem Aluminiumoxid aufgewachsen wird, indem in jeder Pore des eloxierten porösen Aluminiumoxids durch einen Aufwachsprozess in der Gasphase Diamant gebildet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Plasmaätzen in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre durchgeführt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Vertiefung ein Verhältnis Tiefe zu Breite von mindestens 1 hat.
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