DE4426119A1 - Photobildfähige Massen, enthaltend 1,2-dihalogenierte Ethane auf Schichtträgermaterial, zur Verbesserung des Druckbildes - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft Resistmassen, die substituierte
1,2-dihalogenierte Ethane enthalten und verbesserte Druck
bilder liefern, in Kombination mit Leukofarbstoffen auf
Schichtträgern, die zur Herstellung von gedruckten Schalt
kreisen, behographischen Platten, Reliefdruckbildern und für
verschiedene weitere Anwendungen bei photographischen Techni
ken verwendet werden.
Photopolymerisierbare Resistmaterialien sind beispielsweise
aus der US-Patentschrift 3 469 982 bekannt, die ein Film
resist mit einer Sandwichstruktur in Form einer photopoly
merisierbaren Schicht zwischen einer Deckschicht und einem
temporären Trägermaterial beschreibt. Der Film kann auf eine
Kupfergrundlage aufgebracht, bildweise exponiert und ent
wickelt werden, wobei sich eine Resistschicht bildet. Die
Kupferplatte mit dem Resistbild kann zur Bildung eines
gedruckten Schaltkreises selektiv angeätzt, elektroplattiert
oder mit Lötmittel behandelt werden.
Photopolymerisierbare Massen der herkömmlichen Technik
enthalten oft geringe Mengen eines Leukofarbstoffes, der sich
bei der photographischen Abbildung in seine farbige Form
umwandelt. Diese Farbe in dem exponierten Teilen des Resists
wird als Druckbild bezeichnet. Das Druckbild verbessert die
Sichtbarkeit der exponierten Flächen und erleichtert die
Prüfung auf Unregelmäßigkeiten in dem Bild sowohl vor als
auch nach dem Entwickeln.
Photobildfähige Massen, die zur Bildung von Druckbildern
geeignet sind, sind bekannt. Yamada et al., US-Patent
schrift 3 476 562 und Lewis et al., US-Patentschrift
3 769 023 beschreiben die Bildung eines Druckbildes unter
Verwendung von Massen, die organische Halogenverbindungen
enthalten. Jedoch sind die gebildeten Bilder relativ
schlecht.
Die US-Patentschrift 4 065 315 von Yamazaki et al.
beschreibt die Verwendung halogenierter aliphatischer Amide
zur Verbesserung des Druckbildes von Massen, die eine Reihe
von Farbstoffbasen enthalten, während Reardon in der
US-Patentschrift 4 343 885 die Verwendung von Fluoran
farbbildnern mit einer Reihe von halogenierten Materialien
als bildformendes System beschreibt. In der US-Patent
schrift 4 552 830 beschreiben Reardon und Lipson die
Verwendung aliphatischer Carbonylhalogenide als Aktivatoren
zur Farbbildung durch Leukofarbstoffe, wobei die bevorzugten
Verbindungen halogenierte Amide von Dicarbonsäuren sind.
Über bromierte Sulfone, wie Tribrommethylphenylsulfon (BMPS),
wurde als Druckbildverbesserer mit Leukofarbstoffen
berichtet, wie beschrieben in der japanischen geprüften
Patentschrift 3-68 376.
Gleichermaßen ist von Hexaarylbisimidazolen (HABIs) seit
langem bekannt, daß sie Radikale bilden, die Triarylmethan
farbstoffe zu ihrer farbigen Form oxidieren können, wie
beschrieben in der US 3 445 234. Die Verwendung von HABIs
und BMPS zusammen als Druckbildverbesserer ist bei Fujikura
et al. in der US-Patentschrift 5 030 548 beschrieben.
Die US-Patentschrift 4 634 657 beschreibt die Verwendung
von Leukofarbstoffen zusammen mit substituierten 1,2-Dibrom
ethanen der Formel
worin R₃ und R₄ unabhängig für Wasserstoff, Chlor oder Fluor
stehen. Obschon diese Massen kontrastreiche Bilder bilden,
sind sie recht flüchtig, so daß eine Bildinstabilität in
Filmen manchmal sogar bei Raumtemperatur auftreten kann.
Polyhalogenierte Materialien wie diese und ihre poly
halogenierten Nebenprodukte sind vom Standpunkt des Umwelt
schutzes aus ebenfalls unerwünscht.
Weitere Massen, wie diejenigen auf der Basis von Tribrom
methylphenylsulfon oder Lophindimeren, neigen zu einer
thermischen Instabilität, wenn sie für kürzere Zeiten auf
höhere Temperaturen erhitzt werden, oder bei längerer
Lagerung entweder in Lösung oder als Film. Die Instabilität
kann sich durch eine vorzeitige Farbbildung in Lösung oder
auf dem Film bemerkbar machen. Die thermische Instabilität
kann sich auch durch eine Temperatursenkung für das Einsetzen
der Polymerisation des Monomersystems bemerkbar machen, was
ein Problem darstellen kann, wenn die Masse während der
Filmherstellung oder während des Anwendungsverfahrens hohen
Temperaturen ausgesetzt ist.
Viele Drucksysteme sind nur in Gegenwart von Säure oder mit
speziellen Monomeren verwendbar.
Druckverbesserer, die bei Verwendung in kleinen Mengen ein
kontrastreiches Bild liefern, sind ebenfalls aus Gründen des
Umweltschutzes erwünscht, da die Auflage zur Verwendung
halogenierter Materialien strenger wird. So sind poly
halogenierte Materialien, die entweder in großen Mengen
verwendet werden müssen, um kontrastreiche Bilder zu liefern,
oder Materialien, wie halogenierte 1,2-Dibromethane, die
während der Reaktion polyhalogenierte Nebenprodukte erzeugen,
als Bestandteile weniger erwünscht. Materialien, die zur
Herstellung von Filmen durch Schmelzextrusion anstelle von
Lösungsmittelbeschichten verwendet werden, sind ebenfalls vom
Standpunkt des Umweltschutzes wünschenswert, da das Schmelz
extrusionsverfahren die Luftemissionen verringert und Rest
lösungsmittel im Film ausschließt.
Somit sind Materialien, die Druckbilder deutlich verbessern,
ohne die thermische Stabilität der Filmmasse ernsthaft zu
erniedrigen, sehr erwünscht zur Verbesserung der Lager
fähigkeit von photobildfähigen Filmmassen unter den Beding
ungen von Umgebungstemperatur oder erhöhter Temperatur und
zur Herstellung von Filmen aus einem thermischen Entstehungs
prozeß, wie Schmelzbeschichten.
Die Erfindung eines Druckbildsystems erfüllt das Bedürfnis
nach einem kontrastreichen Druckbild in einem thermisch
stabilen photobildfähigen Resist, das mit einer Reihe von
Startern, Leukofarbstoffen, Monomeren, Bindemitteln
formuliert werden kann, und nach Verfahren, und besteht aus:
- (a) einem substituierten 1,2-dihalogenierten Ethan der
Struktur
worin
X₁ und X₂ unabhängig entweder für Brom oder Chlor stehen,
R₁ für C₆-C₁₀-Aryl oder Aroyl steht und
R₂ für C₆-C₁₀-Aryl, Aroyl, Acyl oder eine elektronen ziehende Gruppe außer Halogen steht,
R₃ und R₄ unabhängig für C₆-C₁₀-Aryl, C₁-C₁₀-Alkyl, H oder eine elektronenziehende Gruppe mit Ausnahme von Halogen stehen, mit der Maßgabe, daß jeweils zwei von R₁, R₂, R₃ und R₄ eine C₅- bis C₈gliedrige Ringstruktur bilden können, mit der Maßgabe, daß, wenn R₁ oder R₃ für C₆-C₁₀-Aryl steht, R₂ und R₄ nicht für Aryl stehen, - (b) einem Leukofarbstoff,
- (c) einem Photostarter oder einem Photostartersystem
- (d) einem Monomeren,
- (e) einem polymeren Bindemittel und
- (f) einem frei wählbaren thermischen Inhibitor.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform betrifft die Erfindung
eine photobildfähige Masse mit einem kontrastreichen
Druckbild, bestehend aus (a), (b) und (c), supra.
Die Erfindung stellt eine photobildfähige Resistmasse mit
einem thermisch stabilen Druckbildsystem (POI) bereit, die
ein substituiertes 1,2-dihalogeniertes Ethan und einen
Leukofarbstoff aufweist. Dieses POI-System ist in der Lage,
einer Reihe von Beschichtungsverfahren standzuhalten, wie
Schmelzbeschichten bei 450°C oder Beschichten aus einer
Lösung oder wäßrigen Dispersion. Insbesondere ist die
erfindungsgemäße Masse in der Lage, einem Schmelzbeschich
tungsprozeß bei etwa 250-400°F ohne deutlichen Verlust der
POI-Beständigkeit oder weiterer wünschenswerter Resisteigen
schaften, wie Lagerstabilität, z. B. 1 Jahr bei 50°F und 50%
relativer Luftfeuchtigkeit, standzuhalten.
Ein photobildfähiges Resist, das zur Herstellung gedruckter
Schaltkreise verwendet werden kann, besteht, abgesehen von
der POI-Chemie, im allgemeinen aus einem Photostarter oder
Photostartersystem, aus wenigstens einem Monomeren, wenig
stens einem Bindemittel und weiteren Bestandteilen, um
Herstellbarkeit, Lagerstabilität oder das Verhalten während
der Endanwendung zu verbessern. Das erfindungsgemäße
POI-System enthält einen Leukofarbstoff. Freie Radikale, die
Leukofarbstoffe oxidieren, können im allgemeinen hergestellt
werden, indem ein Photostarter, Photostartersystem oder
weitere Typen organischer Verbindungen, die in der Lage sind,
freie Radikale zu erzeugen, wie organohalogene, belichtet
werden. Die photobildfähigen erfindungsgemäß beschriebenen
Resistmassen enthalten substituierte 1,2-dihalogenierte
Ethane, als Erzeuger für freie Radikale und sind unter einer
Reihe von Herstellungsverfahren und typischen Filmlager
bedingungen überraschend stabil. Diese Resistmassen sind für
die Bearbeitungsstufen eines gedruckten Schaltkreises, wie
Ätzen, Plattieren und als Permanentmasken zum Aufbringen von
Lötmittel, geeignet.
Die erfindungsgemäßen Photoresistmassen können hergestellt
werden, um in flüssiger Form oder häufiger in Form eines
Films aufgetragen zu werden. Das Photoresist kann durch
herkömmliche Mittel auf einen temporären Trägerfilm
aufgebracht und getrocknet werden oder kann alternativ durch
ein Schmelzbeschichtungsverfahren auf einen temporären
Trägerfilm gegossen werden. Die Erfindung ist insbesondere
für ein Schmelzbeschichtungsverfahren geeignet. Vorzugsweise
wird ein Deckfilm auf die bloße Oberfläche des Photoresists
laminiert, so daß es sandwichartig zwischen Trägerfilm und
Deckfilm liegt und von dem Deckfilm geschützt wird.
Die Dicke des Photoresists hängt von der Verarbeitungsart des
gedruckten Schaltkreises ab, wie Ätzen oder Plattieren,
oder davon, ob es als Lötmaske verwendet wird.
Das erfindungsgemäße 1,2-dihalogenierte Ethan umfaßt ein
substituiertes 1,2-dihalogeniertes Ethan der Struktur
worin R₁-R₄ und X₁-X₂ die vorstehend im Abschnitt Zusammen
fassung der Erfindung gegebenen Definitionen besitzen.
Außerdem kann, wenn R₁-R₄ unsubstituiert ist oder für eine
substituierte C₆-C₁₀-Arylgruppe steht, die Substitution aus
einer C₁-C₄-Alkylgruppe oder einer elektronenziehenden
Gruppe, wie Cyano oder Nitro, bestehen.
Das Halogen (X₁ und X₂) ist vorzugsweise Brom. Die elek
tronenziehenden Gruppen sind diejenigen, die in der Technik
bekannt sind, und umfassen Carboxy, Carboxyester, Cyano,
Nitro und dergleichen. Geeignete Verbindungen umfassen
diejenigen, die aus der Bromierung von substituierten
Stilbenen, Chalconen und Styrolen stammen. Beispiele für
geeignete Verbindungen umfassen 2,3-Dibrom-3-phenylpropio
phenon, 10,11-Dibromdibenzosuberon, Ethyl-2,3-dibrom-3-
phenylpropionat, 2,3-Dibrom-3-phenylpropionsäure, trans-1,2-
Dibromacenaphthen, 2,3,-Dibrom-3-(p-chlorphenyl)-propion
säure, 1,2-Dibromacenaphthen, 1,2-Dibrom-1,2-dibenzoylethan,
3,4-Dibrom-4-phenyl-2-butanon, 2,3-Dibrom-3-(p-nitrophenyl)
propiophenon, 2,3-Dibrom-3-(p-cyanophenyl)-propiophenon,
2-Brom-2-(alpha-brombenzyl)-1-indanon und 2-Brom-2-(alpha
brom-p-cyanobenzyl)-1-indanon.
Alkylgruppen bestehen aus 1 bis 12 Kohlenstoffatomen und
vorzugsweise aus 1 bis 4 Kohlenstoffatomen. Die elektronen
ziehenden Gruppen sind diejenigen, die in der Technik bekannt
sind, beispielsweise Halogen, Carboxy, Carboxyester, Cyano,
Nitro und dergleichen.
Beispiele für die bevorzugten erfindungsgemäßen 1,2-Dibrom
ethane sind trans-10,11-Dibromdibenzosuberon, Ethyl-2,3-
dibrom-3-phenylpropionat, 2,3-Dibrom-3-phenylpropiophenon,
trans-1,2-Dibromacenaphthen, 2,3-Dibrom-3-phenylpropionsäure
und 2,3-Dibrom-3-para-chlorphenylpropionsäure.
Die Menge des substituierten 1,2-Dibromethans oder des
substituierten 1,2-dihalogenierten Ethans beträgt im
allgemeinen 0,01 bis 10 Gewichtsteile relativ zu den
Gesamtkomponenten der photobildfähigen Masse, und der
bevorzugte Bereich beträgt 0,1 bis 1,0 Gewichtsteile.
Die Leukoform des Farbstoffes, die eine Komponente der
erfindungsgemäßen photographische Bildmasse umfaßt, besteht
in der reduzierten Form des Farbstoffes, der ein oder zwei
Wasserstoffatome aufweist. Die Entfernung dieser Wasserstoffe
zusammen mit einem weiteren Elektron in bestimmten Fällen
erzeugt den Farbstoff, d. h. eine unterschiedlich gefärbte
Verbindung. Wenn die Leukoform nur einen entfernbaren Wasser
stoff besitzt, ist der resultierende Farbstoff kationisch.
Wenn letzterer Farbstofftyp verwendet wird, wird manchmal
auch eine Mineralsäure oder eine säurespendende Verbindung,
z. B. para-Toluolsulfonsäure (PTS), mit der Leukoform des
Farbstoffes verwendet. Solche Farbstoffe wurden beispiels
weise in der US-Patentschrift 3 445 234, Spalte 2, Zeile 49
bis Spalte 8, Zeile 55 beschrieben. Die folgenden Klassen
sind eingeschlossen:
- (a) Aminotriarylmethane
- (b) Aminoxanthene
- (c) Aminothioxanthene
- (d) Amino-9,10-dihydroacridine
- (e) Aminophenoxazine
- (f) Aminophenothiazine
- (g) Aminodihydrophenazine
- (h) Aminodiphenylmethane
- (i) Leuko-Indamine
- (j) Aminohydrozimtsäuren (Cyanoethane, Leuko-Methine)
- (k) Hydrazine
- (l) Leuko-Indigoidfarbstoffe
- (m) Amino-2,3-dihydroanthrachinone
- (n) Tetrahalogen-p,p′-bisphenole
- (o) 2-(p-Hydrophenyl)-4,5-diphenylimidazole
- (p) Phenethylaniline.
Diese Leukoformen (a) bis (i) bilden den Farbstoff durch
Verlust eines Wasserstoffatoms, während die Leukoformen (j)
bis (p) zwei Wasserstoffatome verlieren, um den Stammfarb
stoff zu bilden. Aminotriarylmethane sind bevorzugt. Eine
allgemeine Klasse bevorzugter Aminotriarylmethane sind
diejenigen, bei denen wenigstens zwei der Arylgruppen
Phenylgruppen sind, die einen R₁R₂N-Substituenten in para-
Stellung zu dem Methankohlenstoff aufweisen, worin die
Gruppen R₁ und R₂ aus Wasserstoff, C₁-C₁₂-Alkyl oder
-Cylcoalkyl, Hydroxyalkyl, Alkoxyalkyl, Cyanoalkyl, Benzyl
ausgewählt sind, oder bei denen R₁ und R₂ zusammengenommen
einen Ring mit 3 bis 10 Atomen zusammen mit dem Aminostick
stoff bilden, worin die Kohlenstoffatome des Rings eine
weitere Substitution aufweisen können oder nicht.
Die dritte Arylgruppe kann sich von den ersten beiden
unterscheiden oder kann gleich sein. Wenn sie verschieden
ist, wird sie ausgewählt aus:
- (a) Phenyl, das mit Niedrigalkyl, Niedrigalkoxy, Chlor, Diphenylamino, Cyano, Nitro, Hydroxy, Fluor oder Brom substituiert sein kann,
- (b) Naphthyl, das mit Amino, Dialkylamino oder Alkylamino substituiert sein kann,
- (c) Pyridyl, das mit Alkyl substituiert sein kann,
- (d) Indolinyliden, das mit Alkyl substituiert sein kann. Vorzugsweise stehen R₁ und R₂ für Alkyl mit 1 bis 6 Kohlen stoffatomen oder Wasserstoff.
Beispiele für bevorzugte Farbstoffe umfassen Leuko-Kristall
violett, Leuko-Ethylviolett und höheralkylierte Analoga.
Die Gegenwart eines Leukofarbstoffes in Kombination mit der
erfindungsgemäßen 1,2-dihalogenierten Ethanverbindung erzeugt
ein Druckbild, bei dem die Identifizierung polymerisierter
Bereiche wünschenswert ist. Der Leukofarbstoff ist im
allgemeinen in einem Molverhältnis von Leukofarbstoff zu
substituierter 1,2-dihalogenierter Ethanverbindung von 0,1
bis 10 vorhanden, wobei ein bevorzugter Bereich 0,2 bis 4
ist.
Ein Photostarter ist ebenfalls in der photopolymerisierbaren
Masse vorhanden. Der Photostarter kann von einem speziellen
Typ, wie ein halogenierter 2,5-Cyclohexadienon-, Benzo
phenon-, oder Diketontyp oder Gemische davon, sein.
Irgendeiner aus einer Vielzahl von Photostartern, die freie
Radikale erzeugen, kann bei der Erfindung verwendet werden.
Benzophenonderivate, wie Benzophenon, Bis-4,4-dimethyl
aminobenzophenon (Michler′s Keton), Bis-4,4′-diethylamino
benzophenon (Ethyl-Michler′s Keton), Benzophenone, die
einfach oder mehrfach substituiert sind mit weiteren
Aminogruppen, Chlor, Methoxy etc. Bevorzugte Verbindungen
umfassen Benzophenon, Ethyl-Michler′s Keton und Michler′s
Keton. Auch substituierte Xanthone, Thioxanthone, Anthrone
und Fluorenone sind geeignete Starter, wobei Alkyl-, Chlor-
und Alkoxy-substituierte Thioxanthone bevorzugt werden.
Substituierte Cyclohexadienone, wie diejenigen, die bei
Sysak, US-Patentschrift 4 341 860 beschrieben sind, können
ebenfalls verwendet werden, wobei die bevorzugten Verbin
dungen sowohl einen Alkyl- als auch Trichlormethyl-Substi
tuenten in Position 4 aufweisen.
Geeignete Alkylarylketonderivate umfassen Ketaldonylalkohole,
wie Benzoin-, Pivaloin- und Acyloinether, wie Benzoinalkyl
ether, Benzoinarylether, alpha-Kohlenwasserstoff-substitu
ierte aromatische Acyloine, Benzoin-Dialkylketale, Benzil,
Benzoinester, O-acylierte Oximinoketone und alpha-Amino
ketone, wie alpha-Aminoacetophenonderivate. Substuierte oder
unsubstituierte mehrkernige Chinone, wie 9,10-Anthrachinone,
1,4-Naphthochinone und Phenanthrenchinone sind ebenfalls
mögliche Starter.
Tertiäre Amine, die als Elektronen- und/oder Wasserstoff
donoren geeignet sind, können ebenfalls Teil des Starter
systems sein. Besonders bevorzugt werden tertiäre aromatische
Amine, wie substituierte N,N-Dialkylaminobenzolderivate, wie
Ethyl-4-(dimethylamino)-benzoat.
Geeignete Diketone umfassen Diacetyl, 2,3-Dibenzoyl-2-
norbornen, Benzoylbenzalchlorid, 2,2-Dibrom-2-(phenyl
sulfonyl)-propandion, alpha-Naphthil, 2,3-Bornandion, Phenyl-
Weinsäure und 2,4-Pentandion. Repräsentative Chinone, die
verwendet werden können, umfassen 4-Benzochinon, 2-Benzo
chinondiazid, Anthrachinon, 2-Methylanthrachinon,
2,6-Dimethoxyanthrachinon, 2,4,8-Trichloranthrachinon,
Aminoanthrachinon, 1,4-Naphthochinonderivate und
Phenanthrenchinone.
Ebenfalls geeignet als Photostarter sind 2,4,5-Triphenyl
imidazolyldimere in Kombination mit Kettenübertragungsmitteln
oder Wasserstoffdonoren, wie mit denjenigen, die in den
US-Patentschriften 3 479 185, 3 784 557, 4 311 783 und
4 622 286 beschrieben sind. Bevorzugte Hexaarylbisimidazole
(HABI) sind 2-ortho-Chlor-substituierte Hexaphenylbis
imidazole, bei denen die weiteren Positionen am Phenylradikal
unsubstituiert oder mit Chlor, Methyl oder Methoxy substi
tuiert sind. Der am meisten bevorzugte Starter dieser Klasse
ist ortho-C1-HABI, d. h. 1,1′-Bisimidazol, 2,2′-Bis(ortho
chlorphenyl)-4,4′,5,5′-tetraphenylimidazol-Dimer.
Wasserstoffdonorverbindungen, die als Kettenübertragungs
mittel in den Photopolymermassen wirken, umfassen 2-Mercapto
benzoxazol, 2-Mercaptobenzothiazol, 4-Methyl-4H-1,2,4-
triazol-3-thiol, etc. Ebenso wie verschiedene Typen von
Verbindungen, z. B. (a) Ether, (b) Ester, (c) Alkohole,
(d) Verbindungen, die allylischen oder benzylischen
Wasserstoff enthalten, (e) Acetale, (f) Aldehyde und
(g) Amide, die in Spalte 12, Zeilen 18 bis 58 der
US-Patentschrift 3 390 996 von MacLachlan beschrieben sind.
Geeignete Wasserstoffdonor-Verbindungen zur Verwendung in
Systemen, die sowohl einen Starter vom Bisimidazoltyp als
auch N-Vinylcarbazol enthalten, sind 5-Chlor-2-mercapto
benzothiazol, 2-Mercaptobenzothiazol, 1H-1,2,4-triazol-3-
thiol, 6-Ethoxy-2-mercaptobenzothiazol, 4-Methyl-4H-1,2,4-
triazol-3-thiol, 1-Dodecanthiol und Gemische davon.
Einige bevorzugte Photostarter und Photosensibilisatoren sind
HABI, Benzophenon, Ethyl-Michler′s Keton, p-Dialkylamino
benzoat-Alkylester, Cyclohexadienone, Xanthone, Thioxanthone,
Benzil-Dialkylketale, Aminoacetophenone, Benzoin, Benzoindi
alkylether oder Kombinationen davon, worin Alkyl 1 bis 4
Kohlenstoffatome enthält.
Das Monomer liefert die Fähigkeit, die photoresisthaltige
Masse zu polymerisieren und trägt zu den Gesamteigenschaften
des Resists bei. Um dies wirksam durchzuführen, sollte das
Monomer wenigstens eine ethylenisch ungesättigte Gruppe
enthalten, die in der Lage ist, bei Exposition gegenüber
actinischer Strahlung eine Polymerisation zu durchlaufen.
Die bevorzugten monomeren Verbindungen sind polyfunktionell,
jedoch können auch monofunktionelle Monomere, wie (Meth)
acrylatester von Polycaprolacton, verwendet werden. Geeignete
Monomere, die als einziges Monomer oder in Kombination mit
anderen verwendet werden können, umfassen folgende:
1,4-Butandioldiacrylat, 1,5-Pentandioldiacrylat, Diethylen
glycoldiacrylat, Hexamethylenglycoldiacrylat, 1,3-Propandiol
diacrylat, Decamethylenglycoldiacrylat, Decamethylenglycol
dimethacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, 2,2-Dimethylol
propandiacrylat, Glycerindiacrylat, Glycerintriacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat, Pentaerythrittriacrylat,
polyoxyethyliertes Trimethylolpropantri(meth)acrylat,
polypropoxyliertes Trimethylpropantri(meth)acrylat und
ähnliche Verbindungen, wie beschrieben in der US-Patent
schrift 3 380 831, 2,2-Di-(p-hydroyphenyl)-propandiacrylat,
Pentaerythrittetraacrylat, 2,2-Di-(p-hydrophenyl)-propandi
methacrylat, Triethylenglycoldiacrylat, Polyoxyethyl-2,2-
Di(p-hydroxyphenyl)-propandimethacrylat, Bisphenol A-
Diacrylat, Di-(3-methacryloxy-2-hydroxypropyl)-ether von
Bisphenol A, Di-2-methacryloxyethylether von Bisphenol A,
Di-(3-acryloxy-2-hydroxypropyl)-ether von Bisphenol A,
Di-2-acryloxyethylether von Bisphenol A, Di-(3-methacryloxy-
2-hydroxypropyl)-ether von Tetrachlorbisphenol A,
Di-2-methacryloxyethylether von Tetrachlorbisphenol A,
Di-(3-methacryloxy-2-hydroxypropyl)-ether von Tetrabrombis
phenol A, Di-2-methacryloxyethylether von Tetrabrombisphenol
A, Di-(3-methacryloxy-2-hydroxypropyl)-ether von 1,4-Butan
diol, Triethylenglycoldimethacrylat, Trimethylolpropantri
methacrylat, Ethylenglycoldimethacrylat, Butylenglycoldi
methacrylat, 1,3-Propandioldimethacrylat, 1,2,4-Butantriol
trimethacrylat, 2,2,4-Trimethyl-1,3-pentandioldimethacrylat,
1,2,4-Butantrioltrimethacrylat, 2,2,4-Trimethyl-1,3-pentan
dioldimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, 1-Phenyl
ethylen-1,2-dimethacrylat, Pentaerythrittetramethacrylat,
1,5-Pentandioldimethacrylat, 1,4-Benzoldioldimethacrylat,
1,3,5-Triisopropenylbenzol und Polycaprolactondiacrylat.
Bevorzugte Monomere umfassen polyethoxyliertes Trimethylol
propantriacrylat, Trimethylolpropantriacrylat und Triethylen
glycoldimethacrylat.
Die Menge des gesamten Monomeren beträgt im allgemeinen 10
bis 50 Gewichtsteile relativ zu den Gesamtkomponenten des
photobildfähigen Resists.
Geeignete Bindemittel, die allein oder in Kombination mit
anderen verwendet werden können, umfassen folgende:
Polyacrylat und alpha-Alkylpolyacrylatester, z. B. Polymethyl
methacrylat, Polyethylmethacrylat und Copolymere von
verschiedenen acrylischen Monomeren, Polyvinylester, z. B.
Polyvinylacetat, Polyvinylacetat/Acrylat, Polyvinylacetat/
Methacrylat und hydrolysiertes Polyvinylacetat, Ethylen-
Vinylacetat-Copolymere, Polystyrolpolymere und -Copolymere,
z. B. mit Maleinsäureanhydrid und Estern, Vinylidenchlorid-
Copolymere, z. B. Vinylidenchlorid/Acrylnitril, Vinyliden
chlorid/Methacrylat und Vinylidenchlorid-Vinylacetat-
Copolymere, Polyvinylchlorid und Copolymere, d. h. Polyvinyl
chlorid/Acetat, gesättigte und ungesättigte Polyurethane,
synthetische Kautschuke, z. B. Butandienacrylnitril, Butadien/
Styrol/Acrylnitril, Methacrylat/Styrol/Butadien/Acrylnitril
Copolymere, 2-Chlorbutadien-Polymere, chlorierten Kautschuk
und Styrol/Butadien/Styrol, Styrol/Isopropen/Styrol-
Blockcopolymere, hochmolekulare Polyethylenoxide von Poly
glycolen mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von
etwa 4000 bis 1 000 000, Polyvinylpyrrolidon und Polyvinyl
pyrrolidon-Copolymere, Epoxide, z. B. Epoxide, die Acrylat-
oder Methacrylatgruppen enthalten, Copolyester, z. B.
diejenigen, die aus dem Reaktionsprodukt eines Glycols und
einer Disäure hergestellt werden, Nylons oder Polyamide,
Celluloseester, Celluloseether, Polycarbonate, Polyvinyl
acetale, Polyformaldehyde.
Bevorzugte Bindemittel sind carbonsäurehaltige Copolymere,
wie diejenigen, die in den US-Patentschriften 3 548 311 und
4 273 857 beschrieben sind, die hier als Referenz angegeben
sind. Bevorzugte Bindemittel sind diejenigen, die aus
Comonomeren der Struktureinheit
bestehen, worin R₁ für H oder Alkyl, R₂ für Phenyl oder CO₂R₃
und R₃ für H oder Alkyl steht, das substituiert oder unsub
stituiert ist. Geeignete Comonomere, die die Struktureinheit
des Copolymeren bilden, das für die Erfindung essentiell ist,
sind Styrol und ungesättigte Carbonsäuren und ihre Derivate,
wie (Meth)acrylsäure und (Meth)acrylate. Acrylsäure, Meth
acrylsäure, Methylmethacrylat, Ethylacrylat, Butylacrylat und
Styrol sind bevorzugt. Das erfindungsgemäße Bindemittel
copolymer kann durch direkte Copolymerisation von einer oder
mehreren ethylenisch ungesättigten Dicarbonsäureanhydriden
oder ihrer entsprechenden Mono- und Dialkylester mit einem
oder mehreren der obigen Comonomeren gebildet werden.
Geeignete, ethylenisch ungesättigte Dicarbonsäureanhydride
sind beispielsweise Maleinsäureanhydrid, Itaconsäureanhydrid,
Citraconsäureanhydrid und Alkylester, wie Diisobutylester von
Maleinsäureanhydrid. Das Copolymer, das eine Säureanhydrid-
Funktionalität enthält, kann auch mit aliphatischen oder
aromatischen Aminen oder mit Alkoholen umgesetzt werden.
Wird die photobildfähige Masse auf einen temporären Träger
aufgebracht und das Element auf ein Substrat laminiert und
photographisch bedruckt, erfordert die Entwicklung der Masse
in wäßrigen Medien, daß das Bindemittelmaterial genügend
Carbonsäuregruppen enthalten sollte, um die Photoresist-
Überzugsmasse in einem wäßrigen alkalischen Entwickler
verarbeitbar zu machen. Die Überzugsschicht auf dem Substrat
wird in Portionen entfernt, die nicht der Strahlung ausge
setzt werden, sie ist jedoch in den exponierten Bereichen
während der Entwicklung durch wäßrige alkalische Flüssig
keiten, wie vollständig wäßrige Lösungen, die 1 Gew.-%
Natrium- oder Kaliumcarbonat enthalten, für die Dauer von
5 Minuten bei einer Temperatur von 40°C relativ unbeein
flußt. Die Säurezahl des Bindemittels sollte im Bereich von
5 bis 500 und vorzugsweise von etwa 20 bis 250 liegen.
Die Menge des gesamten Copolymerbindemittels in der photo
bildfähigen Resistmasse beträgt 30 bis 80 Gew.-% der
Gesamtkomponenten der Resistmasse. Cobindemittel können
vorhanden sein, um Herstellbarkeit, Entwicklung oder Abreiß
eigenschaften oder das Verhalten während der Herstellungs
stufen des gedruckten Schaltkreises, wie elektrolytische
Kupferplattierung oder Kupferätzen, zu optimieren.
Ein thermischer Inhibitor ist in bestimmten Fällen, je nach
Anwendung und Identität des Leukofarbstoffes wünschenswert.
In den Fällen, in denen die Formulierung hohe Temperaturen
erfährt, wie während des Schmelzextrudierens oder bei
weiteren Verfahren, bei denen das Resist vor der Exposition
ein längeres Erhitzen erfährt, verhindert der thermische
Inhibitor die vorzeitige Oxidation des Leukofarbstoffes zu
seiner gefärbten Form oder die vorzeitige Vernetzung des
Polymersystems. Gleichermaßen kann in Systemen, die einen
leicht oxidierbaren Leukofarbstoff, wie Leuko-Kristall
violett, verwenden, ein thermischer Inhibitor wünschenswert
sein, um die Formulierung vor dem Beschichten gegen vor
zeitige Farbbildung in Lösung zu stabilisieren.
Der thermische Polymerisationsinhibitor kann in photopoly
merisierbaren Massen verwendet werden und umfaßt folgende:
p-Methoxyphenol, Hydrochinon, Alkyl- und Aryl-substituierte
Hydrochinone und Chinone, Phenole, substituiert mit einer
Reihe von Substituenten, wie tert-Butylcatechol und
2,6-Di-tert-butyl-p-cresol, Organophoshite, alkylierte
Hydroxylamine, Pyrogallol,Kupferresinat, Naphthylamine,
beta-Naphthol, Kupfer(II)-chlorid, Phenothiazin, Pyridin,
Phenidon, Nitrobenzol und Dinitrobenzol, p-Toluchinon und
Chloranil. Besonders geeignet als thermische Inhibitoren sind
Nitrosopräparate, wie 1,4,4-Trimethyl-2,3-diazabicyclo-
[3.2.2]non-2-en-N,N-dioxid und verwandte Verbindungen, die in
der US-Patentschrift 4 168 982 beschrieben sind.
Jeder der Trägerfilme, der zur Verwendung als solcher für
einen Photoresistüberzug bekannt ist, kann erfindungsgemäß
verwendet werden. Der temporäre Trägerfilm, der vorzugsweise
einen hohen Grad an Dimensionsstabilität gegenüber
Temperaturänderungen aufweist, kann aus einer umfangreichen
Reihe von Polyamiden, Polyolefinen, Polyestern, Vinyl
polymeren und Celluloseestern ausgewählt werden und kann eine
Dicke von etwa 6 bis 200 µm aufweisen. Ein besonders geeig
neter Trägerfilm ist Polyethylenterephthalat mit einer Dicke
von etwa 25 µm.
In herkömmlichen Photoresistelementen ist es notwendig oder
wenigstens sehr wünschenswert, die photoempfindliche Schicht
durch einen entfernbaren Deckfilm zu schützen, um ein
Blockieren zu verhindern, wenn sie in Rollenform gelagert
wird. Der schützende Deckfilm wird vor der Laminierung auf
das photobildfähige Element auf ein Substrat entfernt.
Der schützende Deckfilm kann ausgewählt werden aus derselben
Gruppe der hochpolymeren Filme, die für den temporären
Trägerfilm oben beschrieben sind und kann denselben umfang
reichen Bereich von Dicken aufweisen, jedoch ist es bevor
zugt, eine Deckfolie zu verwenden, die unter den Laminier
bedingungen relativ dehnbar ist. Eine Deckfolie aus Poly
ethylen oder Polypropylen einer Dicke von 25 µm ist besonders
geeignet.
Weitere Verbindungen, die typischerweise zu Photopolymer
massen hinzugegeben werden, können auch in dem Überzug
vorhanden sein, um die physikalischen Eigenschaften des Films
zu modifizieren. Solche Komponenten umfassen Haftmodifi
zierer, thermische Stabilisatoren, Photooxidantien, Färbe
mittel, wie Farbstoffe und Pigmente, Vernetzungsmittel,
Viskositätskontrollmittel, Beschichtungshilfen, Netzmittel,
Trennmittel und dergleichen.
Einige heterocyclische Verbindungen verbessern die Haftung
des Überzugs auf kupferplattierten Substraten und/oder
verhindern eine Rückstandbildung während der Bearbeitung.
Geeignete heterocyclische Verbindungen umfassen Materialien,
wie diejenigen, die bei Hurley et al., US-Patentschrift
3 622 334, Jones, US-Patentschrift 3 645 772 und bei Weed,
US-Patentschrift 4 710 262 beschrieben sind. Bevorzugte
heterocyclische Verbindungen umfassen Benzotriazol,
5-Chlorbenzotriazol, 1-Chlorbenzotriazol, 4- und 5-Carboxy
benzotriazol, 1-Hydroxybenzotriazol, 2-Mercaptobenzoxazol,
1H-1,2,4-Triazol-3-thiol, 5-Amino-1,3,4-thiodiazol-2-thiol
und Mercaptobenzimidazol.
Verschiedene Hintergrundfarbstoffe können zu der Masse
hinzugegeben werden, um die Farbe der Masse zu verbessern und
um dem Kupfersubstrat Kontrast zu verleihen. Sämtliche
verwendeten Färbemittel sollten gegenüber der verwendeten
actinischen Strahlung relativ durchlässig sein. Ferner kann
die Photopolymerisationsmasse verschiedene weitere Additive
enthalten, wie Haftbeschleuniger/-modifikatoren, Weichmacher,
oberflächenaktive Mittel, Farbstoffe, Pigmente, Füllstoffe
und weitere Materialien, die hinzugegeben werden, um die
Eigenschaften der Masse zu beeinflussen.
Soll ein photopolymerisierbarer Überzug als Permanentresist,
wie als Lötmaske, verwendet werden, kann ein chemisch oder
thermisch aktiviertes Vernetzungsmittel eingearbeitet werden,
um die mechanischen oder chemischen Eigenschaften zu
verbessern. Geeignete Vernetzungsmittel, die erfindungsgemäß
verwendbar sind, sind diejenigen der herkömmlichen Technik
und umfassen diejenigen, die bei Iimure, US-Patentschrift
4 961 960, beschrieben sind, sowie diejenigen, die bei
Gervay, US-Patentschrift 4 621 043, und bei Geissler et
al., US-Patentschrift 4 438 189 beschrieben sind, wie ein
Addukt aus einer Polyisocyanatverbindung und einem Isocyanat
gruppen-Blockierungsmittel, und Formaldehyd-Kondensations
harze mit Melaminen, Harnstoffen, Benzoguanaminen und
dergleichen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist ein Bildverfahren, um
Resistbilder auf einem kupferplattierten Substrat herzu
stellen, so daß die anschließenden Verarbeitungsstufen bei
der Herstellung von gedruckten Schaltkreisen ablaufen können,
wie Ätzen oder Plattieren oder Permanentbeschichten, um
lötmittelbeständige Bilder auf einem gedruckten Schaltkreis
herzustellen. Der hergestellte Typ von gedrucktem Schaltkreis
kann einseitig, doppelseitig oder mehrschichtig sein.
Für das primäre Abbildungsverfahren wird die photopoly
merisierbare Resistüberzugsschicht als Flüssigkeit oder
vorgeformter trockener Film von einem mehrlagigen Über
tragungselement aufgetragen, indem ein Laminierverfahren
angewendet wird, das dem entspricht, das von Celeste,
US-Patentschrift 3 469 982, beschrieben wird. Das
mehrlagige Photoresist-Beschichtungselement umfaßt einen
temporären Trägerfilm, z. B. Polyethylenterephthalat, einen
photobild-fähigen Resistüberzug und vorzugsweise eine
entfernbare Deckfolie, z. B. Polyethylen oder Polypropylen, in
dieser Reihenfolge. Die erfindungsgemäßen photopolymerisier
baren Übezugsschichten liegen im Bereich einer Gesamtdicke
von 10 bis 100 µm (0,4 bis 4 mil) vor, wenn sie auf
kupferplattierten Substraten verwendet werden. Ist eine
Deckfolie vorhanden, so wird sie zuerst entfernt, und die
unbedeckte Oberfläche des Resistüberzugs wird auf die
vorgereinigte kupferplattierte Oberfläche des Substrats
laminiert, wobei Hitze und/oder Druck, z. B. mit einer
herkömmlichen Heißwalzenlamiermaschine, angewendet werden.
Obwohl das Laminat typischerweise bildweise einer actinischen
Strahlung durch den temporären Trägerfilm ausgesetzt wird,
kann der Trägerfilm in einigen Fällen vor dem Bildprozeß zur
Verbesserung der Auflösung und weiterer solcher Eigenschaften
entfernt werden.
Das aufgetragene photobildfähige Resist wird sodann bildweise
der actinischen Strahlung ausgesetzt, um zu härten oder um
die exponierten Bereiche unlöslich zu machen. Sämtliche nicht
exponierten Bereiche werden dann typischerweise mit einer
wäßrigen Natriumcarbonat-Entwicklerlösung von 0,85 Gew.-% bei
30°C entfernt, die die nicht exponierten Bereiche innerhalb
von 2 Minuten selektiv auflöst, ablöst oder anderweitig
dispergiert, ohne die Integrität oder Haftung der exponierten
Bereiche nachteilig zu beeinflussen. Das entwickelte Resist
bild auf dem Substrat wird sodann weiteren Bearbeitungs
stufen zur Herstellung des Schaltkreises unterzogen, wie
einer elektrolytischen sauren Kupferplattierung oder einem
Kupferätzverfahren. Hat das exponierte Photoresist seine
Funktionsfähigkeit erreicht, wird das Resist anschließend von
dem Schaltkreis im allgemeinen durch eine Lösung zum Ablösen
auf der Basis von wäßrigem Hydroxid entfernt, die
organische Amine oder Lösungsmittel enthalten kann, um die
Ablösegeschwindigkeit zu verbessern oder um einen Angriff auf
das Metall oder eine Fleckbildung so gering wie möglich zu
halten.
Der Test auf POI-Beständigkeit besteht in einer visuellen
Prüfung des photobildfähigen Resists, das nach Exposition
gegenüber einer actinischen Strahlung auf ein Kupferlaminat
laminiert worden ist. Wird kein POI gebildet, so wird die
Note 0 erteilt. Die Note 1 gibt an, daß der Farbkontrast
zwischen exponierten und nicht exponierten Bereichen minimal
ist und somit das POI sehr schwach ist. Die Note 10 gibt an,
daß der Farbkontrast zwischen den exponierten und nicht
exponierten Bereichen sehr groß ist und somit das POI sehr
stark ist. Die absolute Bewertung eines einzelnen POI-Systems
kann leicht von Beispiel zu Beispiel variieren, jedoch sind
die relativen Benotungen innerhalb eines Beispiels quanti
tativ. Im allgemeinen ist eine POI-Testnote von 5-6 akzep
tabel. Es sollte beachtet werden, daß einige Systeme kein
POI, sondern durch Photobleichen der Hintergrundfarbe ein
positives Bild bilden. Dieses Phänomen wird in den Beispielen
mit der Bezeichnung "Ausbleichen" bezeichnet.
Der Unterschied in der optischen Dichte (OD) bei einer
gegebenen Wellenlänge des Lichtes wurde ebenfalls als Maß für
die POI-Beständigkeit verwendet. Die Spektren wurden über
einen Bereich von 300 nm bis 700 nm aufgenommen, das Maximum
von Lambda bestimmt (typischerweise zwischen 590 und 600 nm)
und die optische Dichte als Maximum der exponierten und der
entsprechenden nicht exponierten Filmprobe gemessen. Der
Unterschied oder das Delta hinsichtlich OD wurde sodann
berechnet. Je größer der Unterschied in der optischen Dichte
zwischen den exponierten und nicht exponierten Anteilen des
photobildfähigen Resists ist, desto größer ist POI.
Eine geeignete Simulation der Schmelzbeschichtungsstabilität
ist der Differentialthermoanalysetest (DSC). Die Resistmassen
wurden auf gewellte Aluminiumprobenpfannen gegeben und DSC-
Messungen der Wärmefreisetzung auf einem DuPont Modell 912
DSC-Meßgerät unterzogen. Die Proben wurden mit einer
Geschwindigkeit von 10°C pro Minute von Raumtemperatur bis
250°C erhitzt. Eine Wärmefreisetzung zeigt das Einsetzen von
Instabilität in Form von Polymerisation an, und das Vorkommen
einer Wärmefreisetzung unterhalb von 170°C ist nicht
zufriedenstellend.
Um die Erfindung weiter auszuführen, sind die nachstehenden
Beispiele angegeben. Alle Zahlenwerte beziehen sich auf
Gewichtsteile auf der Basis der Gesamtmasse, sofern nicht
anders angegeben. Die in den Beispielen verwendeten
Materialien sind:
| 1,2-Dibromethane |
| DBC |
| 2,3-Dibrom-3-phenylpropiophenon |
| Leuko-Farbstoffe |
| LCV |
| Leuko-Kristallviolett |
| Photostarter | |
| EDAB | |
| Ethyl-4-(dimethylamino)-benzoat | |
| ITX | Isopropylthioxanthon |
| EMK | Ethyl-Michler′s Keton |
| o-Cl-HABI | 2,2′-Bis(ortho-chlorphenyl)-4,4′,5,5′-tetraphenyl-1,1′-bisimidazol |
| TMCH | 4-Methyl-4-trichlormethyl-2,5-cyclohexadienon |
| Monomere | |
| TMPTA | |
| Trimethylolpropantriacrylat | |
| TMPEOTA | ethoxyliertes Trimethylolpropantriacrylat |
| TEGDMA | Triethylenglycoldimethacrylat |
| Bindemittel | |
| Bindemittel 1 | |
| Styrol/Methacrylsäure/Methylmethacrylat/Ethylacrylat (20/21/12/38) | |
| Bindemittel 2 | Methylmethacrylat/Ethylacrylat/Methacrylsäure (44/35/21) |
| Bindemittel 3 | Ethylacrylat/Methacrylsäuremethylmethacrylat/Styrol (38/21/21/20) |
| Bindemittel 4 | Acrylsäure/Methylmethacrylat/Ethylacrylat (12/62/26) |
| Bindemittel 5 | Polymethylmethacrylat (PMMA) |
| Bindemittel 6 | Methylmethacrylat/ Ethylacrylat/Methacrylsäure (51/29/20) |
| weitere Bestandteile | |
| CBT | |
| 4- und 5-Carboxybenzotriazol | |
| PVP/PVA | 60/40-Copolymer von Polyvinylpyrrolidon und Polyvinylacetat |
| PO/EO | 31/1-Blockcopolymer von Propylenoxid und Ethylenoxid |
| PTSA | p-Toluolsulfonsäure |
| TAOBN | 1,4,4-Trimethyl-2,3-diazabicyclo-[3.2.2]non-2-en-N,N-dioxid |
Dieses Beispiel zeigt, wie die beanspruchten Verbindungen im
Vergleich auf äquimolarer Basis mit einer Reihe von anderen
farbverbessernden halogenierten Verbindungen zur Verbesserung
der Farbbildung wirksamer sind. In diesem Beispiel basiert
das Startersystem auf Benzophenon/Ethyl-Michler′s Keton.
Die folgende Stammlösung wurde hergestellt:
| Methylenchlorid|2332,0 g | |
| Methanol | 168 g |
| Bindemittel 1 | 780 g |
| TMPEOTA | 273,6 g |
| TMPTA | 19,80 g |
| TAOBN | 0,240 g |
| Benzophenon | 48,0 g |
| EDAB | 20,4 g |
| PVP/PVA | 16,8 g |
| EMK | 1,956 g |
| LCV | 4,560 g |
| Viktoriagrün-Farbstoff | 0,312 g |
| PO/EO | 27,60 g |
| GESAMT | 3693,3 g |
Die Stammlösung wurde in 100-g-Portionen aufgeteilt. Die
folgenden Materialien wurden zu jeder Lösung hinzugegeben,
und die Lösungen wurden bis zu einer trockenen Dicke von
1,5 mil auf eine Platte aufgetragen. Die zugegebenen Mengen
entsprechen den äquimolaren Mengen mit Leuko-Kristallviolett
in jeder Lösung. Nach der Laminierung auf Kupfer wurden die
Filme durch ein Target für 70 mJ auf einem PC 130-Drucker
exponiert. Das Druckbild wurde jeweils auf einer Skala von 1
bis 10 bewertet, wobei 10 das dunkelste war. Ein Wert von 1
bedeutet kaum sichtbar.
Dieses Beispiel zeigt die Wirksamkeit der beanspruchten
Dibromverbindungen mit einem Photostartersystem auf der
Grundlage eines Thioxanthions.
Die folgende Stammlösung wurde hergestellt:
| Methylenchlorid|744 g | |
| Methanol | 56,0 g |
| Bindemittel 3 | 300 g |
| EDAB | 24,00 g |
| ITX | 4,00 g |
| TEGDMA | 72,00 g |
| TAOBN | 0,040 g |
| Viktoriagrün-Farbstoff | 0,120 g |
| CBT | 0,240 g |
| LCV | 1,52 g |
| GESAMT | 1201,9 g |
Die Stammlösung wurde in 100-g-Portionen aufgeteilt. Die
folgenden Materialien wurden zu den Lösungen gegeben. Diese
Mengen machen jede zugegebene Dibromverbindung mit Leuko-
Kristallviolett äquimolar. Jede Lösung wurde bis zu einer
trockenen Dicke von 1,5 mil auf 92A-Mylar®-Polyesterfilm auf
eine Platte aufgetragen. Jeder Film wurde auf Kupfer
laminiert und durch eine photographische Vorrichtung auf
einem PC 130-Drucker bei 70 mJ exponiert. Das Druckbild jedes
Films wurde visuell anhand der Skala von 1 bis 10, die in
Beispiel 1 beschrieben worden ist, bewertet. Die erhaltenen
Ergebnisse sind nachstehend angegeben.
Dieses Beispiel zeigt die Wirksamkeit der beanspruchten
Dibromverbindungen mit einem Ketalphotostarter, der durch
α-Spaltung wirkt.
Die folgende Stammlösung wurde hergestellt:
| MATERIAL | |
| MENGE (g) | |
| Methylenchlorid | |
| 744 | |
| Methanol | 64 |
| Bindemittel 1 | 267 |
| Benzildimethylketal | 8,00 |
| PVP/PVA | 6,00 |
| TEMPEOTA | 100,0 |
| TMPTA | 8,00 |
| TAOBN | 0,080 |
| Vicotriagrün-Farbstoff | 0,120 |
| LCV | 1,60 |
| PO/EO | 9,20 |
| GESAMT | 1208 |
Die Stammlösung wurde in 100-g-Portionen aufgeteilt. Die
folgenden Materialien wurden zugegeben, und die Lösung wurde
auf einer Platte bis zu einer trockenen Dicke von 1,5 mil
aufgetragen. Die Filme wurden auf Kupfer laminiert und durch
eine photographische Vorrichtung auf einem PC 130-Drucker bei
einem Niveau von 70 mJ exponiert. Das Druckbild wurde visuell
unter Verwendung der in Beispiel 1 beschriebenen Skala bewer
tet. Die erhaltenen Ergebnisse sind nachstehend angegeben.
Dieses Beispiel zeigt die Wirksamkeit von einer der bean
spruchten Dibromverbindungen in Verbindung mit einem Hexa
arylbisimidazol-(HABI)-Photostarter. Eine Verbesserung der
photographischen Geschwindigkeit wurde ebenfalls bewiesen.
Die Stammlösung wurde gemäß der nachstehenden Rezeptur
hergestellt und in 6 Portionen zu 302,6 g aufgeteilt. Die
weiteren Bestandteile (unten angegeben) in den Lösungsproben
S1 bis S6 wurden unter Rühren zu den 302,8-g-Portionen hinzu
gegeben. Die Lösungen wurden unter Verwendung eines
8-mil-Messers auf einen 92B-Mylar®-Polyesterfilm aufge
tragen, so daß sich eine trockene Filmdicke von 1,6 mil bil
dete. Zwei Reihen von Filmen wurden auf Kupferlaminatplatten
laminiert und auf einer PC 130-Expositionseinheit mit einer
Energie (120 mJ/sq. cm) exponiert, die 25 S-41-Stufen
erreicht. Eine Reihe von Platten wurde anhand des Delta-OD-
Tests hinsichtlich POI bewertet. Die zweite Reihe von Platten
wurde unter Verwendung von 1 Gew.-% Na₂CO₃ · H₂O bei 85°F bei
einem Durchbruchpunkt von 50% entwickelt.
Die erhaltenen Ergebnisse sind nachstehend angegeben. Dieses
Beispiel zeigt, daß die Kombination von Dibromverbindung DBC
und HABI-Photostarter sowohl eine gute Druck(POI)-Beständig
keit als auch eine gute photographische Geschwindigkeit
ergibt.
Dieses Beispiel zeigt die relativ schlechte Stabilität des
Druckbildes mit Dibromtetrachlorethan im Vergleich zu den
beanspruchten Verbindungen und die ausgezeichnete Stabilität
der Monomerlösungen gegenüber einer thermischen Polymeri
sation, die diese Materialien enthalten, im Vergleich zu
anderen Druckverbesserern.
Das folgende flüssige Gemisch wurde hergestellt:
| TMPEOTA | |
| 642,4 | |
| TMPTA | 34,1 |
| Benzophenon | 176,6 |
| EDAB | 88,0 |
| EMK | 4,06 |
| TAOBN | 0,43 |
| PO/EO | 43,7 |
| LCV | 10,8 |
| GESAMT | 1000,1 |
Die Lösung wurde in 10 Portionen zu 90 g aufgeteilt, die
jeweils 0,972 g LCV enthielten. Die folgenden Materialien
wurden, wie in der nachstehenden Tabelle angegeben,
zugegeben. Die Gesamtmenge jedes Additivs A-H ist mit LCV
äquimolar.
Es wurde jeweils bis zur Auflösung gerührt, wobei nötigen
falls ein sanftes Erwärmen angewendet wurde. Eine kleine
Menge D blieb ungelöst. 0,60 g des Farbstoffes Viktoriablau
wurde jeweils hinzugegeben. Jede Monomerlösung wurde anhand
von DSC auf Wärmeentwicklung getestet, die das Einsetzen
einer Polymerisation signalisieren könnte. Die nachstehende
Tabelle zeigt die Ergebnisse dieses Tests. Jede Flüssigkeit
wurde in einer gewellten Schale bei 10°C pro Minute von
Raumtemperatur bis 250°C erhitzt.
| LÖSUNG | |
| EINSETZ-TEMPERATUR (°C) | |
| A | |
| 208 | |
| B | 150 |
| C | 158 |
| D | 234 |
| E | 231 |
| F | 231 |
| G | 227 |
| H | 224 |
| I | 215 |
| J | 211 |
Die Ergebnisse besagten, daß die Lösungen, die die bean
spruchten Verbindungen enthielten, jeweils Einsetztempe
raturen von über 200°C aufwiesen, was eine gute Stabilität
gegenüber einer Polymerisation unterhalb dieser Temperatur
(etwa 200°C) der Lösungen anzeigte, die die beanspruchten
Dibromverbindungen enthielten.
Lösungen der folgenden Bindemittel wurden hergestellt, indem
400 g Bindemittel in 1200 g 93 : 7 Methylenchlorid:Methanol
aufgelöst wurden.
| I | |
| Bindemittel 4 | |
| II | Bindemittel 5 |
Lösungen zum Beschichten wurden hergestellt, indem 100 g
einer jeden Bindemittellösung mit den folgenden Mengen eines
jeden Monomergemisches A-J kombiniert wurden.
| A|16,66 g | |
| B | 16,74 g |
| C | 16,87 g |
| D | 16,73 g |
| E | 16,71 g |
| F | 16,72 g |
| G | 16,71 |
| H | 16,70 g |
| I | 16,75 g |
| J | 16,75 g |
Jede Lösung wurde auf 92A-Mylar®-Polyesterfilm aufgetragen,
um einen trockenen Film von 1,5 mil Dicke herzustellen. Jeder
Film wurde frisch (ein Tag) und nach 10 Tagen bei Raum-
Stemperatur getestet, indem er über eine photographische
Vorrichtung für 10 mJ auf einem PC 130-Drucker exponiert
wurde. Das Druckbild wurde auf einer Skala von 0 bis 10
bewertet, auf der 0 kein Bild und 10 den besten aufgetretenen
Bildern entspricht oder besser ist. Die Ergebnisse sind in
der nachstehenden Tabelle zusammengefaßt.
Dieses Beispiel zeigt die Wirksamkeit von 2,3-Dibrom-3-
phenylpropiophenon (DBC) als Druckbildverbesserungsmittel in
einer Schmelzbeschichtungsrezeptur.
Die folgenden Rezepturen wurden bei einer Schmelztemperatur
von 300-400°F auf eine Polyestergrundlage aufgetragen. Die
Laminierung der resultierenden Filme auf Kupfer und die
Exposition durch eine photographische Vorrichtung bei 70 mJ
auf einem PC 130-Drucker wurden vorgenommen. Das Experiment
zeigte, daß Rezeptur A ein mäßig starkes Druckbild (Note 7
auf der Skala von 1-10) aufweist, wohingegen Rezeptur B ein
sehr schlechtes Bild (Note 2 auf der Skala von 1-10) auf
weist. Dies trotz der Tatsache, daß Rezeptur B mehr LCV als
Rezeptur A enthält.
Dieses Beispiel zeigt die Wirksamkeit von mehreren substi
tuierten Dibromchalconen, Indanonen, Stilbenen und weiteren
Dibromketonen als Druckbildverbesserungsmittel. Es zeigt
ferner die Wirkung elektronenziehender Gruppen gegenüber
elektronenspendenden Gruppen, die in den Druckbildver
besserungsmitteln vorhanden sind, auf die Beständigkeiten des
Druckbildes.
Die folgende Stammlösung wurde hergestellt:
| Bestandteil | |
| Menge (g) | |
| Methylenchlorid | |
| 1798 | |
| Methanol | 135 |
| Bindemittel 2 | 628 |
| TMPEOTA | 241,7 |
| Benzophenon | 46,72 |
| EMK | 1,61 |
| EDAB | 19,33 |
| LCV | 3,22 |
| PO/EO | 25,78 |
| TAOBN | 0,967 |
Die Lösung wurde in Portionen von 150 g aufgeteilt. Die
folgenden Materialien wurden zu den mit Ziffern bezeichneten
Lösungen gegeben (siehe Tabelle unten). Die zugegebenen
Mengen sind äquimolar zu der Menge an LCV in den Lösungen.
| 1 | |
| 0,100 g TMCH | |
| 2 | 0,164 g 2,3-Dibrom-3-phenylpropiophenon (DBC) |
| 3 | 0,163 g trans-10,11-Dibromdibenzosuberon |
| 4 | 0,170 g 2-Brom-2-(a-brombenzyl)-1-indanon |
| 5 | 0,178 g 2,3-Dibrom-3-(p-methoxyphenyl)-propiophenon |
| 6 | 0,184 g 2,3-Dibrom-3-(p-nitrophenyl)-propiophenon |
| 7 | 0,175 g 2,3-Dibrom-3-(p-cyanophenyl)-propiophenon |
| 8 | 0,152 g 1,2-Dibrom-1-phenyl-2-(p-methoxyphenyl)-ethan |
| 9 | 0,191 g 1,2-Dibrom-1-(p-nitrophenyl)-2-(p-dimethylaminophenyl)-ethan |
| 10 | 0,186 g 1,2-Dibrom-1,2,2-triphenylethan |
| 11 | 0,176 g 1,2-Dibrom-1,2-dibenzoylethan |
| 12 | 0,136 g 3,4-Dibrom-4-phenyl-2-butanon |
| 13 | 0,180 g 2-Brom-2-(brom-p-cyanobenzyl)-1-indanon |
| 14 | 0 g Vergleichslösung (keine Zugabe) |
Die Lösungen wurden auf einen 92A-Mylar®-Polyesterfilm
aufgetragen, so daß sich Filme von 1,5 mil ergaben. Die Filme
wurden auf Kupferplatten laminiert und durch eine photo
graphische Vorrichtung auf einem PC 130-Drucker bei 70 mJ
exponiert. Die Druckbild-(POI)-Beständigkeiten wurden auf der
Skala von 1-10, die in den früheren Beispielen beschrieben
worden ist, bewertet, wobei 0 keinem POI, 1 einem kaum
sichtbaren POI und 10 dem besten, bisher sichtbaren POI
entsprach. Die erhaltenen Ergebnisse sind unten zusammen
gefaßt.
| FILM | |
| POI-BESTÄNDIGKEIT | |
| 1 | |
| 3 | |
| 2 | 9 |
| 3 | 10 |
| 4 | 9 |
| 5 | 5 |
| 6 | 10 |
| 7 | 9-10 |
| 8 | 2 |
| 9 | 2 |
| 10 | 2 |
| 11 | 9 |
| 12 | 7 |
| 13 | 9 |
| 14 | 2 |
Claims (10)
1. Photobildfähige Masse, welche umfaßt
- (a) ein substituiertes 1,2-dihalogeniertes Ethan der
folgenden Struktur
worin X₁ und X₂ unabhängig entweder für Brom oder Chlor
stehen,
R₁ für C₆-C₁₀-Aryl, oder Aroyl steht und
R₂ für C₆-C₁₀-Aryl, Aroyl, Acyl oder eine elektronen ziehende Gruppe außer Halogen steht und
R₃ und R₄ unabhängig für C₆-C₁₀-Aryl, C₁-C₁₀-Alkyl, H oder eine elektronenziehende Gruppe außer Halogen stehen, mit der Maßgabe, daß zwei der Gruppen R₁, R₂, R₃ und R₄ eine 5- bis 8gliedrige Ringstruktur bilden können,
mit der Maßgabe, daß, wenn R₁ oder R₃ für C₆-C₁₀-Aryl steht, R₂ und R₄ nicht Aryl bedeuten, - (b) einen Leuko-Farbstoff und
- (c) einen Photostarter oder ein Photostartersystem.
2. Photobildfähige Masse nach Anspruch 1, die außerdem
- (a) wenigstens ein ethylenisch ungesättigtes Monomer und
- (b) wenigstens ein polymeres Bindemittel enthält.
3. Photobildfähige Masse nach Anspruch 1, worin das
substituierte 1,2-dihalogenierte Ethan ein 1,2-Dibrom
ethan ist, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus:
10,11-Dibromdibenzosuberon, 2,3-Dibrom-3-phenylpropiophenon, Ethyl-2,3-dibrom-3-phenylpropionat, 2,3-Dibrom-3-phenylpropionsäure, trans-1,2-Dibromacenapthen, 2,3-Dibrom-3-phenylpropionsäure, 1,2-Dibrom-1,2-dibenzoylethan, 3,4-Dibrom-4-phenyl-2-butanon, 2,3-Dibrom-3-(p-nitrophenyl)-propiophenon, 2,3-Dibrom-3-(p-Cyanophenyl)-propiophenon, 2-Brom-2-(alpha-brombenzyl)-1-indanon und 2-Brom-2-(alpha-brom-p-cyanobenzyl)-1-indanon.
10,11-Dibromdibenzosuberon, 2,3-Dibrom-3-phenylpropiophenon, Ethyl-2,3-dibrom-3-phenylpropionat, 2,3-Dibrom-3-phenylpropionsäure, trans-1,2-Dibromacenapthen, 2,3-Dibrom-3-phenylpropionsäure, 1,2-Dibrom-1,2-dibenzoylethan, 3,4-Dibrom-4-phenyl-2-butanon, 2,3-Dibrom-3-(p-nitrophenyl)-propiophenon, 2,3-Dibrom-3-(p-Cyanophenyl)-propiophenon, 2-Brom-2-(alpha-brombenzyl)-1-indanon und 2-Brom-2-(alpha-brom-p-cyanobenzyl)-1-indanon.
4. Photobildfähige Resistmasse nach Anspruch 2, worin das
genannte polymere Bindemittel eine Carbonsäure darstellt,
die ein copolymeres Bindemittel enthält, und die Konzen
tration der Carbonsäuregruppen eine Entwicklung in
wäßrigem Natriumcarbonat von 0,85 Gew.-% bei 30°C im
Verlauf von 2 Minuten ermöglicht, mit den Strukturein
heiten:
worin R₁ für H oder Alkyl steht,
R₂ für Phenyl oder CO₂R₃ steht und
R₃ für H oder Alkyl steht.
R₂ für Phenyl oder CO₂R₃ steht und
R₃ für H oder Alkyl steht.
5. Photobildfähige Massen nach Anspruch 1, worin der Leuko
farbstoff
CH[C₆H₄N(R)₂]₃ist, worin R für Alkyl mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen
steht.
6. Photobildfähige Resistmasse nach Anspruch 2, worin der
Photostarter ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus
Benzophenon, 4,4′-Bis(diethylamino)-benzophenon,
4,4′-Bis-(dimethylamino)-benzophenon, Thioxanthon,
substituiertem Thioxanthon, Benzildimethylketal,
4-Methyl-4-trichlormethyl-2,5-cyclohexadienon, Ethyl-p-
dimethyl-aminobenzoat und 2-(2-Chlorphenyl)-4,5-diphenyl
imidazol-Dimer.
7. Photobildfähige Resistmasse nach Anspruch 2, worin die
monomere Komponente eine Verbindung umfaßt, die wenig
stens zwei ethylenisch ungesättigte Gruppen aufweist.
8. Photobildfähige Resistmasse nach Anspruch 7, worin die
monomere Komponente ausgewählt ist aus der Gruppe,
bestehend aus Tripropylenglycoldiacrylat, Trimethylol
propantriacyrylat, polyoxyethyliertem Trimethylolpropan
triacrylat(ethoxyliertem Trimethylolpropantriacrylat)
und Triethylenglycoldimethacrylat.
9. Photobildfähige Resistmasse nach Anspruch 4, worin die
Carbonsäure, die das copolymere Bindemittel enthält, aus
der Gruppe von Struktureinheiten besteht, die aus einer
Acrylsäuremethacrylsäure, Methylmethacrylat, Styrol,
Ethylacrylat, Butylmethacrylat und Butylacryat bestehen.
10. Photobildfähige Massen nach Anspruch 1, worin das
1,2-dihalogenierte Ethan 0,1 bis 10,0 Gew.-% der
Gesamtmasse umfaßt.
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| US5962190A (en) | 1997-08-27 | 1999-10-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions having improved sidewall geometry and development latitude |
| US6251571B1 (en) | 1998-03-10 | 2001-06-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Non-photosensitive, thermally imageable element having improved room light stability |
| EP1209528B1 (de) | 2000-11-28 | 2015-07-22 | Eternal Technology Corporation | Photoresistzusammensetzung |
| JP2003035953A (ja) * | 2001-07-23 | 2003-02-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 高密度・高解像度用の感光性樹脂組成物及びその用途 |
| GB0224529D0 (en) * | 2002-10-22 | 2002-11-27 | Isis Innovation | Improvements in or relating to multiple exposures of photosensitive material |
| US20050175941A1 (en) * | 2004-02-06 | 2005-08-11 | Rohm And Hass Electronic Materials, L.L.C. | Imaging composition and method |
| CN101304962B (zh) | 2005-11-15 | 2012-09-26 | 威士伯采购公司 | 用于纤维水泥基材的抗碎胶乳面层组合物 |
| EP1979426A1 (de) * | 2006-01-31 | 2008-10-15 | Valspar Sourcing, Inc. | Beschichtungssystem für zementverbundartikel |
| AU2007211046B2 (en) * | 2006-01-31 | 2011-09-01 | Valspar Sourcing, Inc. | Method for coating a cement fiberboard article |
| CN101379007B (zh) * | 2006-01-31 | 2013-03-27 | 威士伯采购公司 | 用于水泥复合制品的涂布系统 |
| US9783622B2 (en) * | 2006-01-31 | 2017-10-10 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Coating system for cement composite articles |
| US8133588B2 (en) * | 2006-05-19 | 2012-03-13 | Valspar Sourcing, Inc. | Coating system for cement composite articles |
| EP2035516B2 (de) | 2006-06-02 | 2017-01-04 | Valspar Sourcing, Inc. | Wässrige hochleistungsbeschichtungszusammensetzungen |
| AU2007269038B8 (en) | 2006-07-07 | 2013-02-07 | Valspar Holdings I, Inc | Coating systems for cement composite articles |
| US8202581B2 (en) * | 2007-02-16 | 2012-06-19 | Valspar Sourcing, Inc. | Treatment for cement composite articles |
| US20100215969A1 (en) * | 2007-08-01 | 2010-08-26 | Brandenburger Larry B | Coating system for cement composite articles |
| US8482732B2 (en) * | 2007-10-01 | 2013-07-09 | Maskless Lithography, Inc. | Alignment system for various materials and material flows |
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| US8354216B2 (en) * | 2008-07-15 | 2013-01-15 | Eastman Kodak Company | Negative-working imaging elements and methods of use |
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| CN115504969B (zh) * | 2022-10-20 | 2025-06-06 | 西南医科大学 | 一种色满酮类化合物及其制备方法与应用 |
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|---|---|---|---|---|
| US4168982A (en) * | 1976-06-01 | 1979-09-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing nitroso dimers to selectively inhibit thermal polymerization |
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| US4298678A (en) * | 1980-08-14 | 1981-11-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive compositions and elements containing substituted hydroxylamine |
| US4634657A (en) * | 1984-08-23 | 1987-01-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging compositions containing substituted 1,2-dibromoethanes |
| DE3613632A1 (de) * | 1986-04-23 | 1987-10-29 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
| JPH0820733B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | ドライフイルムレジスト用光重合性組成物 |
| US5049480A (en) * | 1990-02-20 | 1991-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable silver conductor composition |
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