DE4232007A1 - Zerstäubungskathode zum Einsatz in Vakuum-Beschichtungsanlagen - Google Patents
Zerstäubungskathode zum Einsatz in Vakuum-BeschichtungsanlagenInfo
- Publication number
- DE4232007A1 DE4232007A1 DE19924232007 DE4232007A DE4232007A1 DE 4232007 A1 DE4232007 A1 DE 4232007A1 DE 19924232007 DE19924232007 DE 19924232007 DE 4232007 A DE4232007 A DE 4232007A DE 4232007 A1 DE4232007 A1 DE 4232007A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- target
- sputtering cathode
- cathode according
- vacuum
- base plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000002826 coolant Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 239000002360 explosive Substances 0.000 title claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 title abstract description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/06—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating by means of high energy impulses, e.g. magnetic energy
- B23K20/08—Explosive welding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3491—Manufacturing of targets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3497—Temperature of target
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Diese Erfindung betrifft eine Zerstäubungskathode zum
Einsatz in Vakuum-Beschichtungsanlagen, im wesentlichen
bestehend aus einem zu zerstäubenden Target und einer
Targetgrundplatte mit einer Kühlwanne, die zusammen
einen Hohlraum zur Führung eines Kühlmittels bilden.
Zerstäubungskathoden für die Beschichtung von Substra
ten in Vakuum-Beschichtungsanlagen sind bis heute in
vielfältigen Ausführungsformen bekannt. So unterschei
den sich die Kathoden durch ihre unterschiedlichsten
geometrischen und konstruktiven Ausführungen, sowohl
des zu zerstäubenden Targets als auch des gesamten
Targetunterbaus, der im wesentlichen aus einer Target
grundplatte und einer Kühlwanne besteht.
Es sind Kathodenzerstäubungsvorrichtungen mit hoher
Zerstäubungsrate allgemein bekannt, bei denen die Küh
lung des Targets nach dem Prinzip der Direktkühlung
mittels Kühlkanälen im Target oder auch durch Verbinden
des Targets mit einer gekühlten Trägerplatte erfolgt.
In den meisten Anwendungsfällen mit Kühlwanne ist diese
als einstückige, massive nach oben geöffnete Wanne
ausgeführt. Auf diese Wanne wird eine membranartige
Targetgrundplatte aufgelegt, welche durch den im Hohl
raum anstehenden Kühlmitteldruck direkt an der Target
rückseite anliegt und dadurch eine gute Wärmeübertra
gung ermöglicht.
Bekannt ist weiterhin eine Kathodenzerstäubungsvor
richtung (P 39 37 558.7), bei der in die, in einer
Tragplatte angeordneten Kühlkanäle vom Kühlmittel durch
flossene dünnwandige Rohre eingelegt sind, deren Quer
schnittsprofile den Querschnittsprofilen der Kühlkanäle
entsprechen, so daß die Rohre mit ihren Außenwänden den
Kontakt mit den Innenflächen der Kühlkanäle beziehungs
weise mit der Rückseite des Targets haben.
Diese bisherigen Lösungen bestehen meist aus einer
Baueinheit von verschiedenen Einzelteilen, die zum
Einsatz im Vakuum eine äußerst anspruchsvolle Montage
erforderlich machen. Nachteilig ist bei diesen bekann
ten Vorrichtungen insbesondere die ungünstige Kühl
mittel-Vakuum-Dichtung, welche meist ein vorhersehbares
Leck darstellt oder ein konstruktionsbedingt unzurei
chender Kontakt von der gekühlten Trägerplatte zum
Target, was oft zu thermischen Problemen der Kathode
führt. Weiterhin versucht man die Herstellkosten für
die Kathoden ständig zu reduzieren, da diese als Ver
brauchsmaterialien einen erheblichen Kostenfaktor dar
stellen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es nun, einen
Kathodentyp zu entwickeln, der aus möglichst wenigen
Einzelteilen besteht und somit eine spürbare Verbes
serung der Handhabung durch eine geschlossene Wasser
führung im Vakuum ermöglicht und zudem noch die Her
stellkosten der Kathoden deutlich reduziert.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
die Targetgrundplatte und die Kühlwanne aus Blechen
bestehen und diese Bleche an ihren Nahtstellen mittels
eines Explosiv-Schweißverfahrens vakuumdicht zusammen
gefügt werden. Die Formgebung der Kühlwanne erfolgt
nach dem Verschweißen durch den Einsatz einer Hoch
druckhydraulik in Verbindung mit einer Stahldrückform.
Mit Vorteil wird durch die oben vorgestellte Target
kühlung so eine geschlossene Wasserführung im Vakuum
ermöglicht, die auch keine Dichtringe mehr erforderlich
macht. Ohne zusätzlichen Montageaufwand ist somit auch
die einfache Austauschbarkeit und Handhabung der Kühl
wanne gewährleistet. Die Herstellkosten für eine er
findungsgemäße Kühlwanne sind somit vorteilhafterweise
um ca. die Hälfte reduziert worden, was sich im Betrieb
für eine solche Vakuum-Beschichtungsanlage auf der
Kostenseite spürbar deutlich macht.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungsmög
lichkeiten zu; eine davon ist in den anhängenden Zeich
nungen näher dargestellt und zwar zeigen:
Fig. 1 ein im wesentlichen ovales Target mit
Leitblechen und Spannleisten in der Drauf
sicht und in teilweise aufgebrochener Dar
stellung,
Fig. 2 einen Schnitt entlang der Linie XX in Fig. 1,
im wesentlichen bestehend aus dem Target, der
Targetkühlwanne sowie der Kühlmittelein- und
-rückläufe.
Ein ovales Target 1 (Fig. 1) ist an seinen Längsseiten
durch die geraden Spannleisten 2, 2′, . . . und in den
Endbereichen durch die gebogenen Spannleisten 3, 3′, . . .
gehalten. Die Spannleisten 2, 2′, . . ., 3, 3′, . . . sind
durch die Schrauben 4, 4′, . . . mit einem nicht gezeig
ten Targeträger verbunden. In der Mitte des Targets 1
ist eine weitere Spannleiste 5 mit Schrauben 6, 6′, . . .
vorgesehen.
In einem der beiden gebogenen Endbereiche des Targets 1
sind der Kühlmitteleinlauf 7 sowie der Kühlmittelrück
lauf 8 vorgesehen. Zur kontrollierten Führung des Kühl
mittels in diesem Targetendbereich sind die Leitbleche
9, 10 mit den beiden Kühlmittelein- und -rückläufen 7,
8 verbunden. Ein weiteres Leitblech 11 ist in dem ge
genüberliegenden Endbereich des Targets 1 vorgesehen.
Die Hochleistungskathoden der vorliegenden Art werden
üblicherweise in Bauserien hergestellt. So beträgt
beispielsweise die Breite der gezeigten Kathode ca. 280
mm, während die Länge zwischen 750 und 3750 mm vari
iert. Dies ist der Einfachheit halber durch die ge
brochene Darstellung in Fig. 1 angedeutet.
Das Target 1 in Fig. 2 besitzt eine ebene Rückseite und
ist in den äußeren Randbereichen mittels der Spannlei
sten 2, 2′, . . . mit dem Targetträger 16 verbunden. In
einer Vertiefung in Targetmitte ist eine weitere Spann
leiste 5 eingesetzt. Die membranartige Targetgrund
platte 14 und die Kühlwanne 15 sind an ihrem Außenrand
und im Bereich der mittleren Spannleiste 5 miteinander
verschweißt und zwischen den Spannleisten 2, 2′, . . ., 5
und dem Targetträger 16 geklemmt. Während die Target
grundplatte 14 an der Rückseite des Targets 1 eben
anliegt, ist die Kühlwanne 15 zwischen den Einspann
stellen der Spannleisten 2, 2′, . . . sowie 5 bauchig nach
unten ausgeformt. Die beiden zylindrischen Rohre für
den Kühlmitteleinlauf 7 und den Kühlmittelrücklauf 8
sind in der Kühlwanne 15 senkrecht nach unten zur Tar
getrückseite angeordnet. In dem ringförmigen Hohlraum
17 der Kühlwanne 15 befinden sich die Leitbleche 9, 10
zur Führung des Kühlmittels. Diese Leitbleche 9, 10
sind an den Einspannstellen unterhalb der Spannleisten
sowie an den Schweißstegen 12 und 13 mit der Target
grundplatte 14 fest verbunden.
Bezugszeichenliste
1 Target
2, 2′, . . . Spannleiste, gerade
3, 3′, . . . Spannleiste, gebogen
4, 4′, . . . Schraube
5 Spannleiste
6, 6′, . . . Schraube
7 Kühlmitteleinlauf
8 Kühlmittelrücklauf
9 Leitblech
10 Leitblech
11 Leitblech
12 Schweißsteg
13 Schweißsteg
14 Targetgrundplatte
15 Kühlwanne
16 Targetträger
17 Hohlraum
3, 3′, . . . Spannleiste, gebogen
4, 4′, . . . Schraube
5 Spannleiste
6, 6′, . . . Schraube
7 Kühlmitteleinlauf
8 Kühlmittelrücklauf
9 Leitblech
10 Leitblech
11 Leitblech
12 Schweißsteg
13 Schweißsteg
14 Targetgrundplatte
15 Kühlwanne
16 Targetträger
17 Hohlraum
Claims (10)
1. Zerstäubungskathode zum Einsatz in Vakuum-Be
schichtungsanlagen, im wesentlichen bestehend aus
einem zu zerstäubenden Target (1) und einer Target
grundplatte (14) mit einer Kühlwanne, die zusammen
einen Hohlraum zur Führung eines Kühlmittels bil
den, dadurch gekennzeichnet, daß die Targetgrund
platte (14) und die Kühlwanne (15) aus Blechen
bestehen, die an ihren Nahtstellen mittels eines
Explosiv-Schweißverfahrens vakuumdicht zusammenge
fügt werden.
2. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Target (1) einen ovalen
Grundriß aufweist.
3. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Target (1) eine ebene Rück
seite aufweist.
4. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Targetgrundplatte (14) an
der Rückseite des Targets (1) dicht anliegt.
5. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Targetgrundplatte (14) und
die Kühlwanne (15) in der Draufsicht in etwa die
gleiche Kontur aufweisen wie das Target (1).
6. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Targetgrundplatte (14) und
die Kühlwanne (15) in ihrem radial äußeren Bereich
miteinander verschweißt sind.
7. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Targetgrundplatte (14) und
die Kühlwanne (15) durch weitere Schweißnähte
miteinander verbunden sind.
8. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Hohlraum (17) zur Führung
des Kühlmittels in der Draufsicht eine ovale Form
aufweist.
9. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß in der Kühlwanne (15) ein Kühl
mitteleinlauf (7) und ein Kühlmittelrücklauf (8)
vorgesehen sind.
10. Zerstäubungskathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß in den Bogenbereichen des Hohl
raumes (17) Leitbleche (9, 10, 11) zur Führung des
Kühlmittels vorgesehen sind.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19924232007 DE4232007A1 (de) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | Zerstäubungskathode zum Einsatz in Vakuum-Beschichtungsanlagen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19924232007 DE4232007A1 (de) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | Zerstäubungskathode zum Einsatz in Vakuum-Beschichtungsanlagen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4232007A1 true DE4232007A1 (de) | 1994-03-31 |
Family
ID=6468735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19924232007 Withdrawn DE4232007A1 (de) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | Zerstäubungskathode zum Einsatz in Vakuum-Beschichtungsanlagen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE4232007A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6068742A (en) * | 1996-07-22 | 2000-05-30 | Balzers Aktiengesellschaft | Target arrangement with a circular plate, magnetron for mounting the target arrangement, and process for coating a series of circular disc-shaped workpieces by means of said magnetron source |
| US6264804B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3530872C1 (de) * | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Heinrich Dr-Ing Hampel | Verfahren zum Sprengplattieren von Blechen |
| DE4035894C1 (en) * | 1990-11-12 | 1992-01-30 | Hampel, Heinrich, Dr., Moresnet, Be | Cooling box for blast furnaces with low mfr. cost - produced from cooling pipe preformed with number bends and explosively welded |
| EP0476652A2 (de) * | 1990-09-20 | 1992-03-25 | Fujitsu Limited | Verfahren zum Auftragen einer Dünnschicht auf ein Substrat durch Sputtern |
| DE3447278C2 (de) * | 1984-12-22 | 1993-01-14 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe, De |
-
1992
- 1992-09-24 DE DE19924232007 patent/DE4232007A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3447278C2 (de) * | 1984-12-22 | 1993-01-14 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe, De | |
| DE3530872C1 (de) * | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Heinrich Dr-Ing Hampel | Verfahren zum Sprengplattieren von Blechen |
| EP0476652A2 (de) * | 1990-09-20 | 1992-03-25 | Fujitsu Limited | Verfahren zum Auftragen einer Dünnschicht auf ein Substrat durch Sputtern |
| DE4035894C1 (en) * | 1990-11-12 | 1992-01-30 | Hampel, Heinrich, Dr., Moresnet, Be | Cooling box for blast furnaces with low mfr. cost - produced from cooling pipe preformed with number bends and explosively welded |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6068742A (en) * | 1996-07-22 | 2000-05-30 | Balzers Aktiengesellschaft | Target arrangement with a circular plate, magnetron for mounting the target arrangement, and process for coating a series of circular disc-shaped workpieces by means of said magnetron source |
| US6264804B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
| US6406598B2 (en) | 2000-04-12 | 2002-06-18 | Steag Hamatech Ag | System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE4015388C2 (de) | Kathodenzerstäubungsvorrichtung | |
| DE69109865T2 (de) | Verteiler- und Wärmetauscheranordnung Verteiler- und Wärmetauscheranordnung. | |
| DE19505710C2 (de) | Auspuffkrümmer | |
| EP2304370B1 (de) | Umrüstsatz für einen rohrbündelwärmetauscher | |
| EP2250457B1 (de) | Plattenwärmetauscher, wärmetauscherplatte und verfahren zu deren herstellung | |
| EP0957507A1 (de) | Vorrichtung zum Aufbringen dünner Schichten auf ein Substrat | |
| EP1154218B1 (de) | Plattenwärmetauscher | |
| DE2404630C2 (de) | Wärmeaustauscher | |
| EP4386304A2 (de) | Kühlbauteil | |
| DE4232007A1 (de) | Zerstäubungskathode zum Einsatz in Vakuum-Beschichtungsanlagen | |
| DE1986546U (de) | Waermetauscher. | |
| EP1183396B1 (de) | Kühlplatte für kühlschachtöfen | |
| DE60217492T2 (de) | Plattenwärmetauscher | |
| DE1552062C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Heiz- oder Kühlkörpers | |
| EP1454109B1 (de) | Abgaswärmeübertrager | |
| DE69508575T2 (de) | Plattenwärmetauscher | |
| DE60212568T2 (de) | Raketentriebwerksglied und verfahren zur herstellung eines raketentriebwerksglied | |
| EP0994320B1 (de) | Heizkörper, mit mindestens zwei aufeinanderstehenden Flachrohren | |
| DE19508406A1 (de) | Kathodenanordnung für eine Vorrichtung zum Zerstäuben eines Target-Paares | |
| DE1752852C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Plattenwärmetauschers | |
| EP0048873B1 (de) | Wärmeübertrager | |
| EP0816776A2 (de) | Gasbeheizter Wassererhitzer und wassergekühlte Brennkammer | |
| DE3105017C2 (de) | Tragsystem in einem Stoßofen oder dergl. | |
| DE3029000A1 (de) | Waermetauscher | |
| DE102023115116A1 (de) | Kühlbauteil und Verfahren zur Herstellung desselben |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450 |
|
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |