DE4242172A1 - Verfahren zur Entkeimung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entkeimung gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.

Ein solches Verfahren findet dort eine Anwendung, wo Ge­ genstände, Geräte, Werkzeuge und Materialien zu entkeimen sind. Zur Entkeimung wurden bis jetzt beispielsweise Per­ oxide eingesetzt. Durch verschärfte Auflagen hinsichtlich des zulässigen Peroxidgehalts in Nahrungsmitteln sind diese Verfahren nur noch beschränkt einsetzbar. In anderen Bereichen ist Peroxid teilweise nicht anwendbar, da es negative Einwirkungen auf die zu entkeimenden Materialien, Geräte und Werkzeuge nimmt.

Bei einem anderen bekannten Verfahren wird die Entkeimung mit UV-Strahlung durchgeführt, die mit Hilfe einer Queck­ silberniederdrucklampe erzeugt wird. Die Wellenlänge die­ ser UV-Strahlung beträgt 254 nm. Nachteilig an diesem Verfahren ist, daß die Quecksilberniederdrucklampe nur UV-Strahlung dieser Wellenlänge erzeugen kann. Der für die Entkeimung geeignete Wellenlängenbereich der UV-Strahlung erstreckt sich jedoch von 170 bis 300 nm. Er kann daher mit dieser Quecksilberniederdrucklampe nicht in vollem Umfang genutzt werden. Ein weiterer Nachteil der Quecksilberniederdrucklampe besteht darin, daß sie bei einer sehr hoher Temperatur arbeitet. Hierdurch kommt es teilweise zur Schädigung des zu entkeimenden Materials bzw. der Geräte. Eine Kühlung der Quecksilberniederdruck­ lampe führt andererseits zu einer Reduzierung ihrer Lebensdauer.

Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Entkeimung aufzuzeigen, das den gesamten hierfür geeigneten Wellenlängenbereich der UV-Strahlung nutzt und mit dem keine schädigenden Nebenwirkungen ver­ bunden sind.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale des Patentanspruches 1 gelöst.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können Gegenstände jeglicher Art entkeimt werden. Das Verfahren ist sowohl für Verpackungsmaterialien als auch für Werkzeuge und Ge­ räte der Lebensmittelherstellung, für Geräte und Werk­ zeuge des medizinischen Bereichs sowie für Geräte und Werkzeuge der chemischen und pharmazeutischen Industrie und Forschung geeignet. Das erfindungsgemäße Verfahren arbeitet bei niedrigen Temperaturen, so daß es keine schädigenden Wirkungen auf temperaturempfindliche Mate­ rialien wie Kunststoffe, Papiere und Pappe ausübt. Ein Vorteil des verwendeten Hochleistungsstrahlers besteht darin, daß er bereits beim Einschalten mit voller Inten­ sität arbeitet. Beim Abschalten des Hoch­ leistungsstrahlers wird die UV-Strahlung unmittelbar auf null geschaltet. Der Hochleistungsstrahler läßt sich so ausbilden, daß er fast jede beliebige Geometrie annehmen kann.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand von schematischen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine Vorrichtung mit einem Hochleistungs­ strahler,

Fig. 2 eine Vorrichtung mit mehreren Hochleistungs­ strahlern.

Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung 1 umfaßt einen Hochleistungsstrahler 2 sowie ein Laufband 3. Dieser Hochleistungsstrahler 2 erzeugt inkohärente UV-Strahlung in einem Wellenlängenbereich zwischen 60 nm und 320 nm. Der Wellenlängenbereich zwischen 170 nm und 300 nm wird hierbei für die Entkeimung genutzt. Eine detaillierte Be­ schreibung dieses Hochleistungsstrahlers 2 kann der EP-OS-0 254 111 entnommen werden. Der Hochleistungsstrahler 2 besteht aus einem durch eine einseitig gekühlte Metall­ elektrode (hier nicht dargestellt) und ein Dielektrikum (ebenfalls nicht dargestellt) begrenzten und mit einem Edelgas oder Gasgemisch gefüllten Entladungsraum (nicht dargestellt). Mit Hilfe einer Gasfüllung aus Helium bzw. Argon kann mit diesem Hochleistungsstrahler 2 inkohärente UV-Strahlung in einem Wellenlängenbereich zwischen 60 und 100 nm bzw. 107 und 165 nm erzeugt werden. Mit einer Gas­ füllung aus Xenon kann UV-Strahlung mit einer Wellenlänge zwischen 160 und 190 nm erzeugt werden, wobei das Maximum hierbei bei 172 nm liegt. Mit einer Gasfüllung aus Argon und Fluorid bzw. Krypton und Fluorid kann UV-Strahlung im Bereich zwischen 180 und 200 nm bzw. 240 bis 255 nm er­ zeugt werden. Mit einer Gasmischung aus Xenon und Chlor läßt sich eine Wellenlänge von 300 bis 320 nm erzeugen. Mit Quecksilber bzw. Selen können Wellenlängen von 185, 254, 196, 204 und 206 nm erzeugt werden. Eine Füllung bestehend aus Deuterium erzeugt UV-Strahlung in einem Wellenlängenbereich zwischen 150 und 250 nm. Der Hochlei­ stungsstrahler ist über dem Laufband 3 angeordnet. Auf dem Laufband 3 werden die zu entkeimenden Gegenstände und Werkstoffe aller Art angeordnet und unter dem Hoch­ leistungsstrahler hindurchgeführt. Der Abstand zwischen dem Laufband 3 und dem Hochleistungsstrahler 2 kann sehr gering gewählt werden, da dieser bei einer sehr niedrigen Temperatur arbeitet. Der Abstand muß deshalb nur so groß gewählt werden, daß die zu entkeimenden Gegenstände zwi­ schen dem Laufband 3 und dem Hochleistungsstrahler 2 hin­ durchgeführt werden können. Bei der Entkeimung von flä­ chigen Gegenständen, beispielsweise von Folien, können diese unmittelbar über die strahlende Oberfläche des Hochleistungsstrahlers 2 gezogen werden. Da der Abstand zwischen dem Hochleistungsstrahler 2 und dem Laufband 3 nur sehr gering und die Entkeimung wegen des kurzen Ab­ stands sehr intensiv ist, ist ein schneller Durchlauf der zu entkeimenden Gegenstände möglich. Damit ist es auch möglich, daß in sehr kurzer Zeit viele Gegenstände zu entkeimen.

Fig. 2 zeigt eine Variante der in Fig. 1 dargestellten Vorrichtung. Die hier gezeigte Vorrichtung umfaßt drei Hochleistungsstrahler 2. Diese sind so angeordnet, daß die zu entkeimenden Gegenstände zwischen ihnen position­ iert werden können. Mit dieser Vorrichtung 1 ist es mög­ lich, mehrere aufeinandergestapelte Gegenstände gleich­ zeitig zu entkeimen. Die Anzahl der Hochleistungsstrahler 2 kann bei Bedarf in beliebiger Weise vergrößert werden.

Claims (5)

1. Verfahren zur Entkeimung mit Hilfe von UV-Strah­ lung, dadurch gekennzeichnet, daß die Entkeimung mit in­ kohärenter UV-Strahlung durchgeführt wird, die einen Wel­ lenlängenbereich zwischen 60 nm und 320 nm umfaßt.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich­ net, daß die Entkeimung mit inkohärenter UV-Strahlung im Wellenlängenbereich zwischen 170 nm und 300 nm durchge­ führt wird.

3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, da­ durch gekennzeichnet, daß die inkohärenter UV-Strahlung mit Hilfe eines Hochleistungsstrahlers (2) gemäß der EP-A-0 254 111 erzeugt wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, da­ durch gekennzeichnet, daß zur Entkeimung von flächigen und räumlichen Gegenständen in Form von Verpackungsmate­ rial, medizinischen Werkzeugen und Geräten, Werkzeugen und Geräten für die Lebensmittelherstellung, Geräten und Werkzeugen der chemischen Industrie, Geräte und Werkzeuge der pharmazeutischen Industrie, diese mit inkohärenter UV-Strahlung bestrahlt werden, die eine Wellenlänge zwi­ schen 170 bis 300 nm umfaßt.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da­ durch gekennzeichnet, daß flächige Geräte, Werkzeuge und Materialien, insbesondere Verpackungsmaterialien in Form von Folien, Papieren und Matten unmittelbar über die strahlende Oberfläche des Hochleistungsstrahlers (2) ge­ leitet werden.