DE4002653C2 - - Google Patents
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D12/00—Bipolar devices controlled by the field effect, e.g. insulated-gate bipolar transistors [IGBT]
- H10D12/411—Insulated-gate bipolar transistors [IGBT]
- H10D12/441—Vertical IGBTs
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- Bipolar Transistors (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
- Thyristors (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft einen P-Kanal-Bipolartransistor mit
isoliertem Gate, nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs. Ein
solcher P-Kanal-Bipolartransistor mit isoliertem Gate ist
bekannt aus "IEEE Electron Device Letters, Vol.
EDL-5, 1984, S. 437-439.
Der N-Kanal-Bipolartransistor mit isoliertem Gate (IGBT)
wird mehr und mehr als Leistungsschalterelement eingesetzt.
Man kann dieses Bauelement beschreiben als Bauelement, in
welchem der Seite der Drainelektrode der Drainzone eines N-Kanal-Vertikal-MOSFETS
eine P⁺-Schicht hinzugefügt ist. In
den letzten Jahren wird mehr und mehr ein IGBT vom
P-Kanal-Typ entwickelt, und zwar deshalb, weil mit dem P-
Kanal-IGBT eine Vereinfachung der Steuerschaltung möglich
und eine intelligente Ausgestaltung einfach ist. Bei dem P-
Kanal-IGBT handelt es sich um ein Bauelement, in welchem
sämtliche Leitungstypen gegenüber dem N-Kanal-IGBT umge
kehrt sind.
Gemäß Fig. 1 ist auf einem N⁺-leitenden Substrat 1 (erste
Schicht) eine P⁺-leitende Schicht 2 (zweite Schicht) als
Pufferschicht ausgebildet. Auf der Oberfläche der letztgenannten
Schicht ist eine P--leitende Schicht 3 (dritte
Schicht) mit hohem Widerstand ausgebildet. In der P--leitenden
Schicht 3 ist eine N⁺-Schicht 4 (erste Zone) selektiv
ausgebildet, und selektiv in der N⁺-Schicht 4 ist
eine P⁺-Schicht 5 (zweite Zone) gebildet. Die
Oberflächenzone dieser N⁺-Schicht 4 zwischen der P⁻-Schicht
3 und der P⁺-Schicht 5 ist als Kanalzone ausgebildet. Auf
ihr ist unter Zwischenschaltung einer Gateisolierschicht 6
eine Gateelektrode 7 angeordnet. Eine Sourceelektrode 8
steht in Kontakt mit der N⁺-Schicht 4 und der P⁺-Schicht 5,
und eine Drainelektrode 9 steht in Berührung mit der Oberfläche
des N⁺-Substrats 1. Eine Zwischenisolierschicht 10
liegt zwischen der Sourceelektrode 8 und der Gate
elektrode 7.
Wenn bei diesem Bauelement die Sourceelektrode 8 auf Masse
gelegt und eine negative Spannung an die Gateelektrode 7
und die Drainelektrode 9 gegeben wird, wird der MOSFET
eingeschaltet, und es fließen positive Löcher in die P⁻-Schicht
3. Dementsprechend erfolgt die Injektion von Elektronen
von dem N⁺-Substrat 1 in die P⁻-Schicht 3. Aufgrund
dieser Leitfähigkeitsmodulation in der P⁻-Schicht 3 wird
der Widerstand dieser Zone niedrig.
Wenn ein P-Kanal-IGBT unter einer Last L ausgeschaltet
wird, wird eine hohe negative Spannung an die Drainelektrode
9 gelegt, hervorgerufen durch die Gegen-EMK der Last
L. Die Spannung gelangt in Form einer Sperr-Vorspannung an
den Übergang zwischen der P⁻-Schicht 3 und der N⁺-Zone
4, und demzufolge wird in dem Übergang ein starkes
elektrisches Feld erzeugt. Weiterhin hat ein NPN-Transistor
mit dem N⁺-Substrat 1, der P⁺-Schicht 2, der P⁻-Schicht 3
und der N⁺-Schicht 4 die Neigung, andauernd einen konstanten
Strom abzugeben, und der Hauptstrom ist dem Elektronenstrom
zuzuschreiben. Da das Stoßionisationsverhältnis von
Elektronen bei Anlegen eines starken elektrischen Feldes
von etwa 10⁺⁵ V/cm etwa 100- bis 1000mal größer ist als
das von positiven Löchern, findet beim Abschalten eines P-Kanal-IGBT
eher ein Lawinendurchbruch statt als bei einem
N-Kanal-IGBT.
Aufgabe der Erfindung ist es, die oben angegebenen Nachteile
zu vermeiden und einen P-Kanal-IGBT anzugeben, der
beim Abschalten weniger zum Lawinendurchbruch neigt.
Die Lösung dieser Aufgabe ist im Patentanspruch angegeben.
Dadurch, daß man den spezifischen Widerstand der dritten
Schicht größer als 250 Ohm · cm macht, wird die Dotierstoffkonzentration
der dritten Schicht stark herabgesetzt. Wenn
folglich eine Sperr-Vorspannung an die dritte Schicht und
die erste Zone gelegt wird, so wird dies durch Vergrößerung
der Verarmungsschicht kompensiert. Mit dem so
vorgegebenen Aufbau wird die Stärke des elektrischen Feldes
an dem Übergang geschwächt, und dadurch wiederum werden
beim Anlegen einer identisch großen Sperr-Vorspannung,
verglichen mit dem Fall, bei dem die dritte Schicht eine
Schicht mit geringem spezifischen Widerstand ist, wobei der
spezifische Widerstand weniger als 250 Ohm · cm beträgt, weniger
Lawinen-Ladungsträger hervorgerufen.
Wenn die Dicke der zweiten Schicht herabgesetzt
wird, wird der Stromverstärkungsfaktor hfe
des die erste N-leitende Schicht, die zweite P-leitende
Schicht und die dritte Schicht und die N-leitende erste
Zone enthaltenden NPN-Transistors erhöht, und das Verhältnis
des Elektronenstroms in bezug auf den Gesamtstrom vergrößert
sich, so daß die Tendenz zum Lawinendurchbruch begründet
wird. Folglich ist es notwendig, die Dicke der
zweiten Schicht zu mehr als 15 µm zu wählen.
Der Stromverstärkungsfaktor
des NPN-Transistors hängt außer von der Dicke der zweiten Schicht
und dem spezifischen Widerstand der dritten Schicht auch ab
vom spezifischen Widerstand der zweiten Schicht und der
Dicke der dritten Schicht. Es sei folgende Abhängigkeit für
den Wert A gegeben:
A = W₂²/ρ₂ × ln (ρ₃ × W₃) × 10⁻³
wobei W₂ die Dicke der zweiten Schicht, ρ₂ der spezifische
Widerstand der zweiten Schicht, W₃ die Dicke der dritten
Schicht und ρ₃ der spezifische Widerstand der dritten
Schicht ist. Wenn diese Abhängigkeit bei einer beim Abschalten auftretenden Spannung von 450 V größer als
2,4, bei 900 V größer als 4,0 und bei 1250 V
größer als 7,1 gemacht wird, verringert sich der
Stromverstärkungsfaktor des NPN-Transistors, der
aus der ersten Schicht, der zweiten Schicht, der dritten
Schicht und der ersten Zone gebildet ist, wodurch das Verhältnis
des Elektronenstroms zu dem Gesamtstrom herabgesetzt
wird. Dies macht einen Lawinendurchbruch unwahrscheinlicher.
Da aber bei übermäßig hohem Wert A die Einschaltspannung
(=Spannungsabfall am eingeschalteten Transistor) größer ist, wird A bei einem Bauelement für
450 V unter 19,8 gehalten, bei einem Bauelement für 900 V
unter einem Wert von 30,0 gehalten und bei einem Bauelement
für 1250 V von VCEX auf einem Wert unter 36,6 gehalten.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand
der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Querschnittsansicht eines P-Kanal-IGBT, bei dem
die vorliegende Erfindung angewendet wird,
Fig. 2 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Durchbruchsspannung beim Abschalten und dem spezifischen
Widerstand der P⁻-Schicht in einem Bauelement
der 600-V-Klasse,
Fig. 3 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Durchbruchsspannung beim Abschalten und dem spezifischen
Widerstand der P⁻-Schicht in einem Bauelement
der 1200-V-Klasse,
Fig. 4 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Durchbruchsspannung beim Abschalten und dem spezifischen
Widerstand der P⁻-Schicht in einem Bauelement
der 1500-V-Klasse,
Fig. 5 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Durchbruchsspannung beim Abschalten und der Einschaltspannung
und dem spezifischen Widerstand der
P⁺-Schicht in einem Bauelement der 600-V-Klasse,
Fig. 6 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Durchbruchsspannung beim Abschalten und der Einschaltspannung
sowie der Dicke der P⁺-Schicht in
einem Bauelement der 600-V-Klasse,
Fig. 7 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Durchbruchsspannung beim Abschalten und der Einschaltspannung
sowie dem Wert A gemäß der Erfindung
in jeweils einem Bauelement jeder Klasse, und
Fig. 8 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Obergrenze und der Untergrenze für den Wert A
und der zulässigen Abschaltspannung.
Der IGBT mit dem Aufbau nach Fig. 1 wurde nach dem im folgenden
erläuterten Verfahren hergestellt. Zunächst wurden
mit Hilfe eines Epitaxieverfahrens auf der Oberfläche eines
N⁺-Substrats 1 eine P⁺-Schicht 2 und eine P⁻-Schicht 3 gebildet.
Nach dem Ausbilden einer Gateoxidschicht 6 auf der
Oberfläche der P⁻-Schicht 3 wurde darüber eine Gateelektrode
7 auf polykristallinem Silicium gebildet, und dann
wurde mittels Ioneninjektion eine N⁺-Schicht 4 gebildet,
wobei die Gateelektrode 7 als Maske diente. Nach der thermischen
Diffusion der N⁺-Schicht 4 wurde durch Ioneninjektion
und durch thermische Diffusion eine P⁺-Schicht 5 gebildet,
wobei ebenfalls die Gateelektrode 7 als Maske
diente. Anschließend wurden die Schichten durch eine Isolierschicht
10 abgedeckt, mit einem Muster versehen, und
zur Vervollständigung des Bauelements einer Sourceelektrode
8 und eine Drainelektrode 9 gebildet.
In dem so hergestellten P-Kanal-IGBT hat die Abhängigkeit
der Sekundär-Durchbruchsspannung (=Durchbruchspannung beim Abschalten)
VCEX vom spezifischen Widerstand der P⁻-Schicht 3 mit der
Dicke der P⁺-Schicht 2 als Parameter den in Fig. 2 dargestellten
Verlauf. In diesem Fall entspricht VCEX der Bauelement-Durchbruchsspannung
beim Abschalten einer Last L. In
diesem Fall wurde der spezifische Widerstand der P⁺-Schicht
2 auf 0,2 Ohm · cm eingestellt, während die Dicke der P⁻-Schicht
3 auf 5,5 µm eingestellt wurde. Die numerischen Parameterwerte
in der Figur bedeuten die Dicke der P⁺-Schicht
2, und man kann in jedem der Fälle sehen, daß mit höherem
spezifischen Widerstand der P⁻-Schicht 3 VCEX zunimmt, und
damit die Gefahr eines Lawinendurchbruchs abnimmt. Zum Vermeiden
des Auftretens eines Lawinendurchbruchs beim Ausschalten
der Last L ergibt sich aus Fig. 2 unter folgenden
Bedingungen: VCE = -500 V und ICE = -100 A, definiert als
Obergrenze für den stabilen Betriebsbereich bei einem
Stromfluß in einem Bauelement der 600-V-Klasse, eingesetzt
bei einer 200-V-Spannungsquelle, daß die Dicke der P⁺-Schicht
2 größer als 15 µm und der spezifische Widerstand
der P⁻-Schicht 3 größer als 250 Ohm · cm sein müssen.
Fig. 3 zeigt die Abhängigkeit von VCEX von dem spezifischen
Widerstand der P⁻-Schicht 3 mit der Dicke der P⁺-Schicht 2
als Parameter in einem IGBT der 1200-V-Klasse, wobei die
Dicke der P⁻-Schicht 3 auf 7,8 µm erhöht wurde. In diesem
Fall ergibt sich Fig. 3 als Bedingungen für ein Vermeiden
eines Lawinendurchbruchs unter den Randbedingungen VCE = -1000 V
und ICE = -50 A als Obergrenze für den sicheren
Betriebsbereich eines Bauelements der 1200-V-Klasse die
Voraussetzung, daß die Dicke der P⁺-Schicht 2 mehr als 15 µm
und der spezifische Widerstand der P⁻-Schicht 3 mehr als
250 Ohm · cm beträgt.
Fig. 4 zeigt ebenfalls die Abhängigkeit von VCEX vom spezifischen
Widerstand der P⁻-Schicht 3 in einem IGBT der 1500-V-Klasse,
bei dem die Dicke der P⁻-Schicht 3 weiter auf 8,7 µm
erhöht wurde, während ebenfalls die Dicke der P⁺-Schicht
2 als Parameter fungiert. In diesem Fall läßt sich aus Fig. 4
ersehen, daß zur Vermeidung eines Lawinendurchbruchs bei
VCE = -1250 V und ICE = -67 A als Obergrenzenwert für den
sicheren Betriebsbereich eines Bauelements der 1500-V-Klasse
die Bedingungen gelten, daß die Dicke der P⁺-Schicht
2 größer als 15 µm und der spezifische Widerstand der P⁻-Schicht
3 größer als 250 Ohm · cm sein müssen.
Fig. 5 zeigt die Sekundär-Durchbruchsspannung
VCEX in Abhängigkeit von dem spezifischen Widerstand der
P⁺-Schicht 2 in einem Bauelement der 600-V-Klasse
in welchem der spezifische Widerstand der P⁻-Schicht
3 300 Ohm · cm und die Dicke der P⁺-Schicht 2 15 µm betrugen.
Wie aus der Figur ersichtlich, hängt VCEX in starkem Maß ab
von dem spezifischen Widerstand der P⁺-Schicht 2, und wird
größer, wenn der spezifische Widerstand niedriger wird. Man
kann erkennen, daß die Bedingung dafür, daß kein Lawinendurchbruch
bei VCE = -500 V verursacht wird, darin besteht,
daß der spezifische Widerstand der P⁺-Schicht 2 weniger als
0,3 Ohm · cm beträgt. Weiterhin zeigt Fig. 5 auch die Abhängigkeit
der Einschaltspannung VON von dem spezifischen Widerstand
der P⁺-Schicht 2. Die Einschaltspannung ist
der Spannungsabfall beim Fließen des Nenn-Stroms in einem
Bauelement, das heißt bei ICE = 50 A in einem Bauelement
der 500-V-Klasse. Wie aus Fig. 5 ersichtlich ist, zeigt die
Einschaltspannung VON ein Verhalten, welches demjenigen von
VCEX entgegengesetzt ist. VON nimmt ab, wenn der spezifische
Widerstand zunimmt. Daran sieht man, daß die Bedingung
zur Erfüllung des vorgeschriebenen Einschaltspannungswerts
von VON unterhalb von 3,0 V in einem allgemeinen Leistungsbauelement
darin besteht, daß der spezifische Widerstand
der P⁺-Schicht 2 nicht weniger als 0,1 Ohm · cm
beträgt.
Fig. 6 zeigt VCEX in Abhängigkeit von der
Dicke der P⁺-Schicht 2 in einem Bauelement der 600-V-Klasse,
bei welchem der spezifische Widerstand der P⁻-Schicht
3 330 Ohm · cm und der spezifische Widerstand der P⁺-Schicht
2 0,3 Ohm · cm beträgt. Auch hier ist
VON mit aufgetragen. In gleicher Weise, wie
bei der Abhängigkeit von dem spezifischen Widerstand der
P⁺-Schicht 2 zeigen VCEX und VON entgegengesetzte Kennlinien
im Hinblick auf die Dicke der P⁺-Schicht 2, wobei VCEX
mit einer Zunahme der Dicke der P⁺-Schicht 2 verbessert
wird, während VON verschlechtert wird. Man sieht, daß die
Bedingung dafür, daß kein Lawinendurchbruch verursacht
wird, bei VCE = -500 V folgende ist: Die Dicke der P⁺-Schicht
2 darf nicht weniger als 15 µm betragen; und die
Bedingung dafür, daß VON unterhalb von 3,0 V liegt, besteht
darin, daß die Dicke weniger als 25 µm ist.
Die gleichen Untersuchungen wie bei den vorstehend erläuterten
Beispielen wurden bei Bauelementen der 1200-V-Klasse
und der 1500-V-Klasse gemacht. Es zeigt sich, daß VON und
VCEX in sämtlichen Bauelementen eine entgegengesetzte Beziehung
aufweisen. Wie aus dem vorstehenden Beispiel ersichtlich
ist, lassen sich der spezifische Widerstand und
die Dicke der P⁺-Schicht 2 und der spezifische Widerstand
und die Dicke der P⁻-Schicht 3 als Bauelementparameter angeben,
die Einfluß haben auf die Werte von VON und VCEX.
Unter Verwendung der genannten vier Parameter läßt sich die
folgende Gleichung ableiten:
A = W₂²/ρ₂ × ln (ρ₃ × W₃) × 10⁻³
wobei
W₂: Dicke der P⁺-Schicht 2 (µm)
ρ₂: spezifischer Widerstand der P⁺-Schicht 2 (Ohm · cm)
W₃: Dicke der P⁻-Schicht 3 (µm)
ρ₃: spezifischer Widerstand der P⁻-Schicht 3 (Ohm · cm)
ist.
W₂: Dicke der P⁺-Schicht 2 (µm)
ρ₂: spezifischer Widerstand der P⁺-Schicht 2 (Ohm · cm)
W₃: Dicke der P⁻-Schicht 3 (µm)
ρ₃: spezifischer Widerstand der P⁻-Schicht 3 (Ohm · cm)
ist.
Fig. 7 zeigt VCEX und VON, wenn der oben
angegebene Wert A auf der Abszisse aufgetragen ist, und
zwar gelten die Werte für einen P-Kanal-IGBT der 600-V-Klasse,
der 1200-V-Klasse und der 1500-V-Klasse. Man kann
erkennen, daß bei dem Bauelement der 600-V-Klasse die Bedingungen,
unter denen kein Lawinendurchbruch bei VCE = -500 V
veranlaßt wird und dafür, daß VON niedriger als 3,0 V
ist, für folgenden Fall erfüllt werden können: 2,4 A 19,8.
Beim Bauelement der 1200-V-Klasse ergeben sich die
Bedingungen dafür, daß bei VCE = -1000 V kein Lawinendurchbruch
entsteht und VON niedriger als 3,0 V ist: 4,0 A 30,0.
Bei einem Bauelement der 1500-V-Klasse sind die Bedingungen
dafür, daß bei VCE = -1250 V kein Lawinendurchbruch
verursacht wird und VON niedriger als 3,0 V ist: 7,1 A 36,6.
Fig. 8 zeigt den Bereich für einen solchen Wert
A mit auf der Abszisse aufgetragenem VCE. Das heißt: der
Wert für A kann zwischen der Linie 81 als unterer Grenze
und der Linie 82 als oberer Grenze liegen.
Claims (2)
- P-Kanal-Bipolartransistor mit isoliertem Gate, umfassend
- - eine erste N-leitende Schicht (1) mit hoher Dotierstoffkon zentration,
- - eine zweite, P-leitende Schicht (2) mit hoher Dotierstoffkon zentration,
- - eine dritte P-leitende Schicht (3) geringer Dotierstoffkon zentration, die in der genannten Reihenfolge aneinander anliegend ausgebildet sind,
- - eine erste, N-leitende Zone (4), die selektiv in einem Ober flächenteil der dritten Schicht ausgebildet ist,
- - eine zweite, P-leitende Zone (5), die selektiv in einem Ober flächenteil der ersten Zone ausgebildet ist und als Source- Zone wirkt, und
- - eine Gateelektrode (7), die auf der ersten Zone (4) zwischen der dritten Schicht (3) und der zweiten Zone (5) über einer Isolierschicht angeordnet ist,
- dadurch gekennzeichnet,
- - daß die Dicke W₂ der zweiten Schicht (2) mehr als 15 µm beträgt,
- - daß der spezifische Widerstand ρ₃ der dritten Schicht (3) mehr als 250 Ohm · cm beträgt und
- - daß in einem Diagramm, in dem auf der Abszisse die zulässige
Spannung VCE (gemessen in Volt) beim Abschalten einer Last
und auf der Ordinate eine Größe
A = W₂²/ρ₂ · ln (ρ₃ · W₃) · 10-3aufgetragen ist, wobei W₂ und W₃ die Dicke (gemessen in µm)
der zweiten bzw. dritten Schicht und ρ₂ und ρ₃ der spezifische
Widerstand (gemessen in Ohm · cm) der zweiten bzw. dritten
Schicht sind, der Wert von A in einem Bereich liegt, der
begrenzt ist durch eine erste Kurve, die durch die Punkte
geht, und eine zweite Kurve, die durch die PunkteVCE A 450 2,4 900 4,0 1250 7,1 geht.VCE A 450 19,8 900 30,0 1250 36,6
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|---|---|---|---|
| JP2036489 | 1989-01-30 | ||
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Also Published As
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