DE3917750C2 - Widerstandselement und Verfahren zum Abgleichen des Widerstandselementes - Google Patents
Widerstandselement und Verfahren zum Abgleichen des WiderstandselementesInfo
- Publication number
- DE3917750C2 DE3917750C2 DE3917750A DE3917750A DE3917750C2 DE 3917750 C2 DE3917750 C2 DE 3917750C2 DE 3917750 A DE3917750 A DE 3917750A DE 3917750 A DE3917750 A DE 3917750A DE 3917750 C2 DE3917750 C2 DE 3917750C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- resistance film
- electrodes
- region
- groove
- resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
- H01C17/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49082—Resistor making
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Widerstandselement, welches einen Teil eines Hyb
rid-IC's, eines Typwiderstandes und dergleichen bildet und einen auf einem isolierenden
Substrat zwischen einem Paar von Elektroden gebildeten Widerstandsfilm umfaßt, sowie ein
Verfahren zum Abgleichen eines derartigen Widerstandselementes.
Fig. 6 bis 10 sind Ansichten, die entsprechend verschiedene Beispiele herkömmlicher Wi
derstandselemente zeigen.
Fig. 6 zeigt ein Widerstandselement, bei welchem ein Widerstandsfilm 3 zwischen einem
Paar von Elektroden 1 und 2 auf einem isolierenden Substrat (nicht gezeigt) gebildet ist, und
ein Widerstandswert zwischen den Elektroden 1 und 2 abgeglichen oder eingestellt wird,
indem eine geradlinige Abgleichnut 4 in dem Widerstandsfilm 3 gebildet wird. Fig. 7 zeigt
ein Widerstandselement, bei welchem eine L-förmige Abgleichnut 5 in dem Widerstands
film 3 gebildet wird, um den Widerstandswert abzugleichen oder einzustellen. Bei jedem
der in den Fig. 6 und 7 gezeigten Widerstandselementen liegt der Startpunkt SP der
Abgleichnut außerhalb des Widerstandsfilmes 3, während ein Endpunkt EP der Nut auf dem
Widerstandsfilm 3 liegt.
Damit kann leicht ein Mikroriß in einem Bereich in der Nähe des Endpunktes EP auftreten.
Somit wird, wenn ein großer Stromstoß zwischen den Elektroden 1 und 2 anliegt, durch die
Stromkonzentration in dem Bereich in der Nähe des Endpunktes EP lokal Hitze erzeugt, und
der beim Abgleichen gebildete Mikroriß wird groß, woraus eine große Änderung des Wi
derstandswertes resultiert.
Um diesen Nachteil zu vermeiden, wurde gemäß JP-A 107806/1985 vom 13. Juni 1985 ein
in Fig. 8 und 9 gezeigtes Abgleichverfahren vorgeschlagen. Gemäß Fig. 8 sind der Start
punkt SP und der Endpunkt EP beide außerhalb des Widerstandfilmes 3 positioniert und
eine Abgleichnut 6 ist gebildet, welche zwischen dem Startpunkt SP und dem Endpunkt EP
in Form eines Kreisbogens verläuft, wobei ein Widerstandsfilmbereich 3a gebildet wird, der
von dem zwischen den Elektroden 1 und 2 verlaufenden Widerstandsfilm 3 unabhängig ist.
Zusätzlich wird gemäß Fig. 9 eine Abgleichnut 7 zwischen dem Startpunkt SP und dem
Endpunkt EP, welche beide außerhalb des Widerstandsfilms 3 angeordnet sind, gebildet,
welche einen ersten Bereich 7a umfaßt, der sich von dem Startpunkt SP in einer eine die
Elektroden 1 und 2 verbindende Linie senkrecht schneidenden Richtung erstreckt, einen
zweiten Teil 7b, welcher an einem Ende des ersten Teiles 7a beginnt und in der gleichen
Richtung in Form eines Kreisbogens verläuft und einem dritten Bereich 7c, welcher an ei
nem Ende des zweiten Bereiches 7b beginnt und an dem Endpunkt EP endet und sich in
entgegengesetzter Richtung zum ersten Bereich 7a erstreckt.
In den in Fig. 8 oder 9 gezeigten Beispielen findet Stromfluß zwischen den Elektroden 1
und 2 entlang des Strompfades CP, wie durch eine gestrichelte Linie gezeigt, statt. Damit ist
die Änderung des Widerstandswertes in diesen Beispielen groß, da der Strom so fließt, daß
der die Abgleichnut 6 oder 7 in jedem ihrer Bereiche schneidet, wodurch es schwierig ist,
den Widerstandswert endgültig oder präzise abzugleichen oder einzustellen.
Zusätzlich wurde in der JP-A-133504/1980, offengelegt am 17. Oktober 1980, ein wie in
Fig. 10 gezeigtes Widerstandselement vorgeschlagen. In dem in Fig. 10 gezeigten Beispiel
wird eine Abgleichnut 8 zwischen dem Startpunkt SP und dem Endpunkt EP, welche beide
außerhalb des Widerstandsfilms 3 liegen, gebildet. Die Abgleichnut 8 umfaßt einen ersten
Bereich 8a, welcher an dem Startpunkt SP beginnt und sich in eine die Elektroden 1 und 2
verbindende Linie senkrecht schneidender Richtung erstreckt, einen zweiten Bereich 8b,
welcher an einem Ende des ersten Bereiches 8a beginnt und sich in zu der die Elektroden 1
und 2 verbindenden Linie parallel verlaufender Richtung erstreckt, und einen dritten Be
reich 8c, welcher an einem Ende des zweiten Bereiches 8b beginnt und sich zum Endpunkt
EP in eine die die Elektroden 1 und 2 verbindenden Linie senkrecht schneidender Richtung
erstreckt. Da in diesem Beispiel die Verbindungsbereiche zwischen dem ersten Bereich 8a
und dem zweiten Bereich 8b sowie zwischen dem zweiten Bereich 8b und dem dritten Be
reich 8c beide rechtwinklig gebildet sind, kann in diesen Bereichen leicht ein Mikroriß auf
treten. Weiterhin besteht in diesem Beispiel, ähnlich zu den in Fig. 8 und 9 gezeigten Bei
spielen, der Nachteil, daß es schwierig ist, endgültig oder präzise den Widerstandswert ab
zugleichen oder einzustellen.
Die CH 686985 A5 zeigt einen Widerstand, der mit U-förmigen Abgleichnuten versehen ist,
die außerhalb des Widerstandsfilms beginnen und enden. Die Ecken der U-förmigen Ab
gleichnuten sind dabei abgeschrägt oder abgerundet. Außerdem ist ein Verfahren gezeigt,
bei dem zunächst eine breite, U-förmige Abgleichnut mit geringer Tiefe, d. h. eine
Abgleichnut, die sich in einer Verbindungsrichtung der beiden Elektroden vergleichsweise
weit erstreckt und von der Seite über eine vergleichsweise kurze Distanz in den Wider
standsfilm hineinragt, angebracht wird. Nach anschließender Messung des Widerstands
werts werden weitere, im Vergleich zur ersten Abgleichnut schmälere, jedoch weiter in den
Widerstandsfilm hineinragende Abgleichnuten angebracht. Dieses Verfahren wird wieder
holt, bis der Widerstandswert des Widerstandselements dem Sollwert nahekommt.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Widerstandselement bzw. ein Verfahren zu
dessen Herstellung anzugeben, bei dem die Genauigkeit des erhaltenen Widerstandswert
weniger empfindlich von der Wahl der Bahnkurve der Abgleichnut bzw. von der Präzision
des die Abgleichnut in den Widerstandsfilm einbringenden Schneidewerkzeugs abhängig
ist.
Ein erfindungsgemäßes Widerstandselement umfaßt ein Paar von Elektroden; einen zwi
schen dem Elektrodenpaar gebildeten Widerstandsfilm; und eine Abgleichnut, die zwischen
einem Startpunkt und einem Endpunkt, welche beide außerhalb des Widerstandsfilmes liegen,
verläuft, wobei die Abgleichnut einen ersten Bereich umfaßt, der an dem Startpunkt
beginnt und sich bogenförmig in Richtung einer Elektrode des Elektrodenpaares erstreckt,
einen zweiten Bereich, welcher an einem Ende des ersten Bereiches beginnt und sich in pa
ralleler Richtung zu einer das Elektrodenpaar verbindenden Linie erstreckt, und einen drit
ten Bereich, welcher an einem Ende des zweiten Bereiches beginnt und an dem Endpunkt
endet und sich bogenförmig in Richtung der anderen Elektrode des Elektrodenpaares er
streckt. Der erste und der dritte Bereich sind dabei zur jeweils nächstgelegenen Elektrode
des Elektrodenpaars hin gekrümmt.
Um ein derartiges Widerstandselement zu erzielen, wird ein Widerstandsfilm zwischen ei
nem Elektrodenpaar gebildet, und indem ein Laserstrahl auf den Widerstandsfilm strahlt,
wird eine Abgleichnut gebildet, die von einem Startpunkt außerhalb des Widerstandsfilms
zu einem Endpunkt außerhalb des Widerstandsfilms verläuft. Bei der Bildung der Abgleich
nut wird zuerst ein erster Bereich, welcher an dem Startpunkt beginnt und bogenförmig in
Richtung einer Elektrode des Elektrodenpaares verläuft, gebildet, und nachfolgend ein
zweiter Bereich, welcher an einem Ende des ersten Bereiches beginnt und sich in Richtung
parallel zu einer das Elektrodenpaar verbindenden Linie erstreckt, und ein dritter Bereich
wird abschließend zwischen dem zweiten Bereich und dem Endpunkt bogenförmig in
Richtung der anderen Elektrode des Elektrodenpaares verlaufend gebildet. Die erste, zweite
und dritte Abgleichnut bilden einen Widerstandsfilmbereich, der von dem Widerstandsfilm
elektrisch unabhängig ist, wobei die erste Abgleichnut und die dritte Abgleichnut zu dem
Elektrodenpaar hin gekrümmt sind.
Im Sinne der vorliegenden Erfindung ist, obwohl die Änderung des Widerstandswertes in
dem ersten Bereich der Abgleichnut groß ist, da der erste Bereich einen Strompfad zwischen
dem Elektrodenpaar schneidet, die Änderung des Widerstandswertes in dem zweiten Be
reich klein, da der Strompfad parallel zu dem zweiten Bereich verläuft, und die Änderung
des Widerstandswertes wird noch kleiner an dem dritten Bereich, da der Abstand des End
punktes von dem Strompfad ständig zunimmt. Damit ist es im Sinne der vorliegenden Er
findung im Vergleich mit einem durch jeden bekannten Stand der Technik erhaltenen Wi
derstandselement einfach, endgültig oder präzise den Widerstandswert abzugleichen oder
einzustellen. Zusätzlich ist keine Neigung zur Bildung von Mikrorissen in irgendeinem Bereich
der Abgleichnut vorhanden, da der erste und dritte Bereich entsprechend der Richtung
der jeweiligen Elektrode gekrümmt sind und diese durch den zweiten Bereich ohne die Bil
dung scharfer Ecken oder Kanten verbunden sind. Selbst wenn eine derartige Entladung
stattfindet, wird somit die Änderung des Widerstandswertes nicht groß.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung ist in einem Bereich des
Widerstandsfilmes, welcher durch die oben beschriebene Abgleichnut elektrisch unabhängig
von dem zwischen den Elektroden verlaufenden Widerstandsfilm ist, eine weitere
Abgleichnut gebildet, welche sich in einer eine die Elektroden verbindenden Linie schnei
denden Richtung erstreckt. Indem diese weitere Abgleichnut gebildet wird, ist es möglich,
die Entladung, die zwischen dem Widerstandsfilm und dem Widerstandsfilmbereich über
eine erste Abgleichnut stattfindet, zu verhindern.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nun anhand der Zeichnungen beschrieben. Da
bei zeigen:
Fig. 1 eine Ansicht eines Ausführungsbeispieles der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 bis 5 Ansichten entsprechend unterschiedlich modifizierter Ausführungsbeispiele
des Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 1; und
Fig. 6 bis 10 entsprechende Ansichten herkömmlicher Widerstandselemente und Verfah
ren zur deren Abgleich.
Gemäß Fig. 1 wird auf einem nicht gezeigten isolierenden Substrat wie beispielsweise Alu
minium und dergleichen ein Paar von Elektroden 1 und 2 gebildet, so daß diese einander
gegenüberliegen, indem beispielsweise Ag-Pd-Paste aufgedruckt und gebrannt wird. Zwi
schen den Elektroden 1 und 2 wird durch Drucken und Brennen einer Widerstandspaste, wie
beispielsweise Rutheniumoxid oder dergleichen, ein Widerstandsfilm 3 gebildet. Ein derar
tiges Widerstandselement bildet einen Chip-Widerstand oder einen Bereich eines Hybrid-
IC.
Zum Abgleichen des Widerstandselementes wird eine Abgleichnut 12 in dem Widerstands
film 3 gebildet, indem beispielsweise mit einem Laserstrahl bestrahlt wird. Ein Startpunkt
SP und ein Endpunkt EP der Abgleichnut 12 sind derart angeordnet, daß sie außerhalb des
Widerstandsfilmes 3 liegen. Eine Abgleichnut in Form eines Kreisbogens wird gebildet, um
von dem Startpunkt SP ausgehend bogenförmig in Richtung einer Elektrode 1 zu verlaufen,
was ein erster Bereich 12a der Abgleichnut 12 wird. Ein zweiter Bereich 12b wird gebildet,
um von dem ersten Bereich 12a auszugehen, wobei er an einem Ende des ersten Bereiches
12a beginnt und in einer Richtung parallel zu einer die Elektroden 1 und 2 verbindenden
Linie zu verlaufen. Anschließend wird von einem Ende des zweiten Bereiches 12b zum
Endpunkt EP ein dritter Bereich 12c in Form eines Kreisbogens gebildet, welcher bogen
förmig in Richtung der anderen Elektrode 2 verläuft. Indem die Abgleichnut 12 von dem
Startpunkt SP zu dem Endpunkt EP verlaufend gebildet wird, wird ein Widerstandsfilmbe
reich 3a, welcher die Form eines langgezogenen Kreises hat und elektrisch unabhängig von
dem Widerstandsfilm 3, der zwischen den Elektroden 1 und 2 verbunden ist, gebildet.
Im folgenden wird in dem von dem Widerstandsfilm 3 elektrisch unabhängigen Wider
standsfilmbereich 3a eine Abgleichnut 14 in Form eines Trapezes gebildet, wobei ein Start
punkt SP' und ein Endpunkt EP' der Abgleichnut 14 beide außerhalb des Wi
derstandsfilmbereiches 3a angeordnet sind. Die Abgleichnut 14 umfaßt einen ersten Bereich
14a und einen zweiten Bereich 14b, welche beide in einer die die Elektroden 1 und 2 verbin
denden Linie schneidenden Richtung verlaufen.
In dem in Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ist ein Stromfluß zwischen den Elektroden 1
und 2 entlang einem Strompfad CP mit gestrichelten Linien gezeigt. Demgemäß wird die
Änderung des Widerstandswertes vergleichsweise groß in dem ersten Bereich 12a der
Abgleichnut 12, da der erste Bereich 12a den Strompfad CP schneidet, jedoch wird die Än
derung des Widerstandswertes klein in dem zweiten Bereich 12b, da der zweite Bereich 12b
parallel zu dem Strompfad CP verläuft, und in dem dritten Bereich 12c, obwohl dieser den
Strompfad CP schneidet, wird die Änderung des Widerstandswertes weiterhin klein, da der
Abstand des dritten Bereiches 12c von dem Strompfad CP beständig zunimmt. Somit wird
die Änderungsrate des Widerstandswertes in den zweiten und dritten Bereichen 12b und 12c
hinsichtlich der vorbestimmten Länge der Abgleichnut 12 klein, wodurch es leicht ist, end
gültig oder präzise den Widerstandswert abzugleichen oder einzustellen.
Weiterhin sind die Verbindungsbereiche des ersten Bereiches 12a und des zweiten Berei
ches 12b sowie des zweiten Bereiches 12b und des dritten Bereiches 12c beide weich gebo
gen und es sind keine scharfen Ecken oder Kanten in diesen Bereichen gebildet, wodurch
keine Möglichkeit besteht, daß ein Mikroriß in diesem Bereich gebildet ist. Somit wird,
wenn in dem ersten Bereich 12a und im zweiten Bereich 12b Entladung stattfindet, die Än
derung des Widerstandswertes infolge der Entladung nicht groß.
Zusätzlich ist die Form einer weiteren Abgleichnut, welche in einem Widerstandsfilmbe
reich 3a, der unabhängig von dem Widerstandsfilm 3 ist, nicht auf das in Fig. 1 gezeigte
Ausführungsbeispiel beschränkt und kann wie in jeder der Fig. 2 bis 5 gezeigt, gebildet sein.
In dem in Fig. 2 gezeigten Beispiel hat die in dem Widerstandsfilmbereich 3a gebildete
Abgleichnut 16 eine zur Form der Abgleichnut 12 ähnliche Form und die Bereiche 16a und
16b schneiden die die Elektroden 1 und 2 verbindende Linie. In dem in Fig. 3 gezeigten
Beispiel hat die in dem Widerstandsfilmbereich 3a gezeigte rechtwinklige Abgleichnut 18
Bereiche 18a und 18b, welche die die Elektroden 1 und 2 verbindende Linie schneiden. In
dem in Fig. 4 gezeigten Beispiel ist eine V-förmige Abgleichnut 20 mit Bereichen 20a und
20b, welche die die Elektroden 1 und 2 verbindende Linie schneiden, in dem Widerstands
filmbereich 3a gebildet. In dem in Fig. 5 gezeigten Beispiel sind in dem Widerstandsfilmbe
reich 3a die Abgleichnuten 22a und 22b, welche die die Elektroden 1 und 2 verbindende
Linie schneiden, gebildet. Damit ist es möglich, indem eine Abgleichnut oder Nuten in dem
Widerstandsfilmbereich 3a gebildet werden, die Entladung zwischen dem Widerstandsfilm
3 und dem Widerstandsfilmbereich 3a über die Abgleichnut 12 effektiv zu verhindern.
Claims (4)
1. Widerstandselement, umfassend ein Paar von Elektroden (1, 2), einen Widerstandsfilm
(3), welcher zwischen dem Elektrodenpaar gebildet ist, und eine Abgleichnut (12), wel
che in dem Widerstandsfilm gebildet ist, um zwischen einem Startpunkt (SP) und einem
Endpunkt (EP) zu verlaufen, welche außerhalb des Widerstandsfilms angeordnet sind,
wobei die Abgleichnut (12) einen ersten Bereich (12a), welcher an dem Startpunkt (SP)
beginnt, einen zweiten Bereich (12b), welcher an einem Ende des ersten Bereichs (12a)
beginnt und sich in einer Richtung parallel zu einer das Elektrodenpaar (1, 2) verbin
denden Linie erstreckt, und einen dritten Bereich (12c), welcher an einem Ende des
zweiten Bereichs (12b) beginnt und an dem Endpunkt (EP) endet, umfaßt und wobei
die Abgleichnut (12) einen Widerstandsfilmbereich (3a) bildet, dadurch gekennzeich
net, daß der erste und der dritte Bereich (12a, 12c) zur jeweils nächst gelegenen Elekt
rode des Elektrodenpaars (1, 2) hin gekrümmt ist.
2. Widerstandselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine weitere
Abgleichnut (14, 16, 18, 20, 22a, 22b) in dem Widerstandsfilmbereich (3a) gebildet ist,
welche die das Elektrodenpaar verbindende Linie schneidet.
3. Verfahren zum Abgleichen eines Widerstandselements, welches einen zwischen einem
Paar von Elektroden (1, 2) ausgebildeten Widerstandsfilm (3) aufweist, umfassend die
Schritte:
- a) Bestimmen eines Startpunkts (SP) außerhalb des Widerstandsfilms (3) und Bilden einer ersten Abgleichnut (12a), welche an dem Startpunkt (SP) beginnt,
- b) Bilden einer zweiten Abgleichnut (12b), welche an einem Ende der ersten Abgleichnut (12a) beginnt und sich in eine Richtung parallel zu einer das Elekt rodenpaar verbindenen Linie erstreckt, und
- c) Bilden einer dritten Abgleichnut (12c), welche an einem Ende der zweiten Abgleichnut beginnt, und Bestimmen eines Endpunkts (EP) außerhalb des Wider standsfilms, um die dritte Abgleichnut (12c) an dem Endpunkt enden zu lassen,
4. Verfahren nach Anspruch 3, gekennzeichnet durch
- a) die Bildung einer weiteren Abgleichnut, welche die das Elektrodenpaar (1, 2) verbindende Linie in dem Widerstandsfilmbereich schneidet.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63134953A JPH01304705A (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 膜抵抗体のトリミング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3917750A1 DE3917750A1 (de) | 1989-12-14 |
| DE3917750C2 true DE3917750C2 (de) | 2002-08-29 |
Family
ID=15140431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3917750A Expired - Lifetime DE3917750C2 (de) | 1988-06-01 | 1989-05-31 | Widerstandselement und Verfahren zum Abgleichen des Widerstandselementes |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5043694A (de) |
| JP (1) | JPH01304705A (de) |
| DE (1) | DE3917750C2 (de) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5504470A (en) * | 1993-10-12 | 1996-04-02 | Cts Corporation | Resistor trimming process for high voltage surge survival |
| US6007755A (en) * | 1995-02-21 | 1999-12-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Resistor trimming method |
| JP2929966B2 (ja) * | 1995-04-11 | 1999-08-03 | 株式会社村田製作所 | 抵抗体のトリミング方法 |
| US5896081A (en) * | 1997-06-10 | 1999-04-20 | Cyntec Company | Resistance temperature detector (RTD) formed with a surface-mount-device (SMD) structure |
| US6462304B2 (en) * | 1997-07-22 | 2002-10-08 | Rohm Co., Ltd. | Method of laser-trimming for chip resistors |
| US6107909A (en) * | 1997-08-27 | 2000-08-22 | Microlectronic Modules Corporation | Trimmed surge resistors |
| US5874887A (en) * | 1997-08-27 | 1999-02-23 | Kosinski; John P. | Trimmed surge resistors |
| DE202005015927U1 (de) * | 2005-10-11 | 2005-12-29 | Rosenberger Hochfrequenztechnik Gmbh & Co. Kg | Abgeglichener HF-Widerstand mit einer planaren Schichtstruktur |
| JP2014017378A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Denso Corp | 抵抗体のトリミング方法 |
| JP7085378B2 (ja) * | 2018-03-23 | 2022-06-16 | Koa株式会社 | チップ抵抗器 |
| JP7712781B2 (ja) * | 2021-04-05 | 2025-07-24 | Koa株式会社 | チップ抵抗器およびチップ抵抗器の製造方法 |
| JP7636965B2 (ja) * | 2021-05-20 | 2025-02-27 | Koa株式会社 | チップ抵抗器 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55133504A (en) * | 1979-04-03 | 1980-10-17 | Mitsubishi Electric Corp | Method of trimming film resistor |
| JPS60107806A (ja) * | 1983-11-16 | 1985-06-13 | 富士通株式会社 | 抵抗体のトリミング方法 |
| CH686985A5 (de) * | 1992-01-29 | 1996-08-15 | Siemens Schweiz Ag | Verfahren zum Abgleichen von Schichtwiderstaenden. |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4429298A (en) * | 1982-02-22 | 1984-01-31 | Western Electric Co., Inc. | Methods of trimming film resistors |
| US4434416A (en) * | 1983-06-22 | 1984-02-28 | Milton Schonberger | Thermistors, and a method of their fabrication |
-
1988
- 1988-06-01 JP JP63134953A patent/JPH01304705A/ja active Pending
-
1989
- 1989-05-31 DE DE3917750A patent/DE3917750C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-31 US US07/359,209 patent/US5043694A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55133504A (en) * | 1979-04-03 | 1980-10-17 | Mitsubishi Electric Corp | Method of trimming film resistor |
| JPS60107806A (ja) * | 1983-11-16 | 1985-06-13 | 富士通株式会社 | 抵抗体のトリミング方法 |
| CH686985A5 (de) * | 1992-01-29 | 1996-08-15 | Siemens Schweiz Ag | Verfahren zum Abgleichen von Schichtwiderstaenden. |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Laserstrahl auf dem Trimmpfad. In: elektro- technik, 70, H. 7, 28. April 1988, S. 30-33 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5043694A (en) | 1991-08-27 |
| DE3917750A1 (de) | 1989-12-14 |
| JPH01304705A (ja) | 1989-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2603383C2 (de) | ||
| DE2619312C2 (de) | Halbleiter-Heizelement mit positivem Temperaturkoeffizienten(PTC) | |
| DE3917750C2 (de) | Widerstandselement und Verfahren zum Abgleichen des Widerstandselementes | |
| DE112019002509B4 (de) | Chipwiderstand und verfahren zum herstellen eines chipwiderstands | |
| DE2641461B2 (de) | Drahtklemme | |
| EP0046975A2 (de) | Elektrisches Netzwerk und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE2700617C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Bauteils mit AnschluBfahnen und mit diesem Verfahren hergestellter Bauteil | |
| DE19848832B4 (de) | Thermistoren und Verfahren zum Einstellen und Erzeugen von Thermistoren | |
| DE3340720C2 (de) | Spannungsteiler mit mindestens einem stromlosen Abgriff und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE2259133C3 (de) | Verfahren zum Kontaktieren einer Halbleiteranordnung und Anwendung des Verfahrens | |
| DE2812976C2 (de) | Verfahren zur Feststellung des Versatzes zwischen Leiterbahnen und Kontaktlöchern bei einer Leiterplatte sowie eine Leiterplatte zur Verwendung in diesem Verfahren | |
| DE3740872C2 (de) | ||
| DE2701015A1 (de) | Blutserum-applikator | |
| DE2438234C3 (de) | Elektrodenbaugruppe für Mehrstrahlerzeugersysteme und Verfahren zum Betrieb dieser Baugruppe | |
| DE19526583C2 (de) | Dielektrisches Filter | |
| DE2923799C2 (de) | Diffundierter Halbleiterwiderstand | |
| DE2120896A1 (de) | Verfahren zum Abgleichen von flächenhaften elektrischen Widerständen | |
| EP0450107B1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Widerstandselementes | |
| DE2004335A1 (de) | Variabler Widerstand | |
| DE3030906C2 (de) | Umschaltsteckvorrichtung mit einem Brückenstecker | |
| DE68919890T2 (de) | Pyroelektrisches Element. | |
| DE3223930C2 (de) | ||
| DE2609201A1 (de) | Verfahren zur verhinderung der rissbildung am ende des grundmetalls beim lichtbogenschweissen und dafuer verwendbares endstueck | |
| DE2437312A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines abgeglichenen schichtwiderstandes | |
| EP0095592A2 (de) | Vorrichtung zum Herstellen eines Elektrodenkammes |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: H01C 17/242 |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: GROSSE, BOCKHORNI, SCHUMACHER, 81476 MUENCHEN |
|
| 8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: GROSSE, SCHUMACHER, KNAUER, VON HIRSCHHAUSEN, 8033 |