DE3707631A1 - Vielfachthermoelement mit sehr kleinem temperaturkoeffizienten als monolithisch integrierter chip fuer praezise temperaturdifferenzmessungen bei strahlungssensoren und vielfachthermokonvertern - Google Patents
Vielfachthermoelement mit sehr kleinem temperaturkoeffizienten als monolithisch integrierter chip fuer praezise temperaturdifferenzmessungen bei strahlungssensoren und vielfachthermokonverternInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Vielfachthermoelement mit sehr kleinem
Temperaturkoeffizienten als monolithisch integrierter Chip für prä
zise Temperaturdifferenzmessungen bei Strahlungssensoren und
Vielfachthermokonvertern nach dem Oberbegriff des Anspruches.
Sowohl bei Strahlungssensoren wie auch bei Vielfachthermokonvertern
wird die Temperaturerhöhung infolge einfallender Strahlung auf eine
lichtabsorbierende Schicht zum Strahlungssensor bzw. infolge
Joulescher Wärme des elektrischen Stromes in einem Heizer beim
Thermokonverter mit Thermoelementen gemessen. Zur Erhöhung der
Empfindlichkeit sowie zur gleichmäßigen Wärmeableitung wird eine
Reihenschaltung von möglichst vielen Thermoelementen verwendet. Bei
Erhöhung der Anzahl der Thermoelemente wird jedoch die Wärmeablei
tung aus der Meßstelle erhöht, und deren Temperatur wird verringert.
Zur Minimierung der Wärmeableitung müssen die Thermoelemente aus
sehr dünnen Drähten hergestellt (Durchmesser bis herab zu 20 µm)
werden, wodurch die Herstellung sehr schwierig wird. Die Empfindlich
keit der Anordnung wird weiter erhöht, wenn für die Thermoelemente
Materialien mit großem Seebeckfkoeffizienten gewählt werden. Gleich
zeitig ist aber für einen solchen hochempfindlichen Temperatursensor
ein kleiner TK bei Änderung der Umgebungstemperatur notwendig, um
seine Empfindlichkeit ausnutzen zu können.
Ein Verfahren zur Herstellung der Reihenschaltung von mehreren Ther
moelementen pro mm für Vielfachthermokonverter wird von /Klonz 1987/
angegeben.
Dabei wird ein Wickel aus CuNi44-Draht partiell von den "warmen" bis
zu den "kalten" Verbindungsstellen mit Kupfer beschichtet.
Bei dieser Konstruktion wird wie bei keiner anderen bisher ange
gebenen Konstruktion für Vielfachthermoelemente ein sehr kleiner TK
der Thermospannung bei Änderung der Umgebungstemperatur dadurch er
reicht /Klonz 1987/, daß die TK der Thermospannung und der Wärmeleit
werte der Thermoelemente durch geeignete Wahl der Schichtdicke des
Kupfers einander kompensieren.
Durch Aufbringen eines Heizers auf die "warmen" Verbindungsstellen
wird aus diesem Temperatursensor ein Vielfachthermokonverter, mit
dem die im Heizer durch einen Wechselstrom bzw. durch einen äquivalenten
Gleichstrom hervorgerufenen Übertemperaturen verglichen werden können.
Der Wechselstrom kann dabei im Frequenzbereich bis zu einigen MHz
liegen.
Durch exakt gleiche Geometrie aller Thermoelemente, die die Wärmeab
leitung vom Heizer besorgen, gelingt es, eine periodische Temperatur
verteilung auf dem Heizer zu erzeugen, wodurch wiederum systematische
Änderungen der Temperaturverteilung infolge Joulescher Wärme bei
Gleichstrom durch thermoelektrische Effekte im Heizer vermieden wer
den, so daß die Rückführung von Wechselströmen auf äquivalente
Gleichströme mit einer Unsicherheit von einigen 10-7 möglich ist,
und auf diese Weise die Messung von Wechselgrößen sehr genau durchge
führt werden kann.
Die Herstellung dieser Vielfachthermokonverter ist sehr aufwendig, da
Drähte mit Durchmessern von 10 µm bis 20 µm unter einem Mikroskop ge
handhabt, miteinander und mit der Wärmesenke verklebt und spezielle
Punktschweiß- und Lichtbogenschweißtechniken angewendet werden
müssen. Die Grundplatte, auf die das Vielfachthermoelement auf
gesetzt wird, besteht aus einer präzis angefertigten und damit
teuren Cu-Platte, die wegen ihres guten Wärmeleitwertes die Wärme
senke und Referenztemperatur für die Temperaturdifferenzmessung dar
stellt. Die Einzelanfertigung dieser Vielfachthermokonverter führt
zu sehr hohen Stückpreisen. Die Schwierigkeiten der Fertigung und
der hohe Preis stehen einer wünschenswerten breiten Einführung
dieses Konvertertyps in die industrielle Wechselstrom-Meßtechnik ent
gegen. Nachteilig ist weiterhin, daß dieser Aufbau infolge seiner
Größe eine Integration dieses Bauelementes in moderne integrierte
elektronische Schaltkreise nicht zuläßt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Konstruktion für das
Vielfachthermoelement zu finden, die eine billige Massenfertigung
bei Einhaltung der Spezifikation, besonders der vernachlässigbar
kleinen thermoelektrischen Effekte und des kleinen TK des beschrie
benen Vielfachthermokonverters bzw. Vielfachthermoelementes für
Strahlungsmessungen ermöglicht und die in integrierte Schaltkreise
integriert werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die bisherige
dreidimensionale Thermoelementenreihenschaltung planar angeordnet und
in Dünnfilmtechnik hergestellt wird ((1) in Bild 1 und Schnitt A-A
in Bild 2).
Die Grundplatte bildet ein Silizium-Wafer (2) mit vorzugsweiser ⟨100⟩
Orientierung der Kristallachsen des Einkristalls, der auf beiden Sei
ten zur elektrischen Isolierung der Thermoelemente eine Oxid- oder
Nitridschicht (3) besitzt. Im Bereich der Thermoelemente wird zur
Verringerung der Wärmeableitung vom Heizer zum Silizium von unten her
ein maßhaltiges Fenster (4) durch isotropes oder anisotropes Ätzen
eingebaut, das dann nur noch von der oberseitigen Isolierschicht über
spannt wird. Auf dieses Fenster werden die Thermoelemente (1) und der
Heizer (5) bzw. an seiner Stelle eine lichtabsorbierende Schicht aufge
dampft oder gesputtert. Die Strukturen werden mit Hilfe von Masken
und Fotolithografie hergestellt. Die Anschlüsse zu den Thermoelemen
ten und zum Heizer und die kalten Verbindungsstellen der thermo
elemente liegen auf dem Si-Rahmen (2), der infolge seiner guten Wärme
leitung die Wärmesenke und Referenztemperatur für die Temperaturdif
ferenzmessung bildet.
Für die Thermoelementenreihenschaltung können alle Materialpaarungen
(Metalle, Metallegierungen und Halbleiter), die einen kleinen posi
tiven TK der Thermospannung und wenigstens das Material eines Schen
kels einen negativen TK des Wärmeleitwertes und einen positiven TK
des elektrischen Widerstandes haben, verwendet werden. Die Geometrie
dieses Schenkels (Breite und Dicke) muß so gewählt werden, daß seine
TK′s den TK der Thermospannung kompensieren. Diesem Schenkel kann
wahlweise das Material des anderen Schenkels in galvanischem Kontakt
unterlegt werden.
Der Heizer wird aus Widerstandsmaterial mit vernachlässigbar kleinem
TK ausgeführt.
Der Siliziumchip wird in einem Keramikhalterung in gutem Wärmekontakt
eingebaut und die Kontaktierung erfolgt durch Bonden.
Die mit dieser Erfindung erzielten Vorteile bestehen besonders darin,
daß Handarbeit unter einem Mikroskop und Schweißtechnik bei der Ein
zelanfertigung des dreidimensionalen Vielfachthermoelementes durch
Masken- und Aufdampftechniken bei der Herstellung der Dünnfilm
strukturen von Thermoelementen und Heizern bzw. lichtabsorbierenden
Schichten sowie die mechanische Formgebung von Metall durch präzise
Ätztechnik in Silizium ersetzt werden.
Mit diesem Verfahren können in reproduzierbarer Weise auf einem
3-Zoll-Wafer 20 bis 50 Vielfachthermokonverter oder Strahlungssen
soren gleichzeitig hergestellt werden, wodurch eine erhebliche
Kostensenkung gegenüber der dreidimensionalen Konstruktion erzielt
werden kann.
Entwicklung von Vielfachthermokonvertern zur genauen
Rückführung von Wechselgrößen auf äquivalente Gleichgrößen.
Dissertation TU Braunschweig, 1985.
Claims (1)
- . Vielfachthermoelement mit sehr kleinem Temperaturkoeffizienten als monolithisch integrierter Chip für präzise Temperaturdifferenzmes sungen bei Strahlungssensoren und Vielfachthermokonvertern, dadurch gekennzeichnet, daß die Thermoelementenreihenschaltung in Dünnfilm-Technik auf einem vorzugsweise ⟨100⟩ orientierten Silizium wafer hergestellt wird, dessen Oberfläche zur elektrischen Isolie rung eine Oxid- oder Nitridschicht und der im Bereich des Vielfach thermoelementes ein Fenster enthält, das in reproduzierbarer Geo metrie gegenüber der Thermoelementenreihenschaltung durch isotropes oder anisotropes Ätzen des Siliziums hergestellt wird, und dessen Rahmen die Funktion der Wärmesenke und der Referenztemperatur für alle Thermoelemente übernimmt, gegen die als Strahlungssensor die Temperaturdifferenz einer lichtabsorbierenden Schicht oder als Vielfachthermokonverter die Temperaturdifferenz eines Heizers mit in reproduzierbarer Geometrie angeordneten Thermoelementen gemessen wird, deren Material und Geometrie für die Thermoelementenausgangs spannungen einen Temperaturkoeffizienten (TK) bei Änderung der Umge bungstemperatur von weniger als 10-5 K-1 ergeben, weil der positive TK der Thermospannung durch den negativen TK des Wärmeleitwerts und/oder durch den positiven TK des elektrischen Widerstandes eines Thermoelementenschenkels, der partiell von dem Material des anderen Schenkels überdeckt wird, infolge geeigneter Schichtdicke dieses Schenkels kompensiert wird, und der Heizer aus Widerstandsmaterial mit vernachlässigbar kleinem TK ausgeführt wird.
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