DE3428563A1 - EXPOSURE SYSTEM FOR USE IN THE PRODUCTION OF HALFTONE IMAGES - Google Patents
EXPOSURE SYSTEM FOR USE IN THE PRODUCTION OF HALFTONE IMAGESInfo
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Description
von Halbtonbildernof halftone images
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Belichtungssystem für die Verwendung bei der direkten Herstellung eines Halbtonbildes, das für die Verwendung bei der Herstellung einer Druckplatte von einem Original geeignet ist.The present invention relates to an exposure system for use in the direct manufacture of a Halftone image suitable for use in making a printing plate from an original.
Ar+-Ionenlaser, He-Cd-Gaslaser, He-Ne-Gaslaser u.dgl.Ar + ion laser, He-Cd gas laser, He-Ne gas laser and the like.
wurden allgemein als Lichtquellen in herkömmlichen punkt- oder rastererzeugenden Belichtungssystemen verwendet, von denen Bildsignale zur Erzeugung von Halbtonbildern abgegeben werden, die direkt aus den durch photoelektrisches Abtasten von Vorlagen erhaltenen Abtastsignalen erzeugt werden. Es ist jedoch unmöglich, den Lichtstrom eines Laserstrahls mit einer hohen Geschwindigkeit direkt zu modulieren. In einem Belichtungssystem vom Digitaltyp wird daher ein Laserstrahl optisch in eine Vielzahl von Belichtungsstrahlen aufgeteilt, und jeder der erhaltenen Belichtungsstrahlen wird dann extern moduliert. Es ist daher erforderlich, einen optischen Modulator o.dgl. innerhalb des Belichtungssystems anzuordnen, was zu einer unvermeidbaren Vergrößerung und zu komplizierten Bauweisen führt.have generally been used as light sources in conventional point- or screen-generating exposure systems are used, from which image signals are output for the generation of halftone images which are generated directly from the scanning signals obtained by photoelectrically scanning originals will. However, it is impossible to directly apply the luminous flux of a laser beam at a high speed modulate. In a digital type exposure system, therefore, a laser beam is optically converted into a plurality of exposure beams and each of the exposure beams obtained is then externally modulated. It is therefore required an optical modulator or the like. to arrange within the exposure system, resulting in a unavoidable enlargement and complicated construction.
Bei den herkömmlichen Belichtungssystemen kann die Rasterlineatur oder -feinheit dadurch geändert werden, daß man die Breite eines Belichtungsstrahles mit Hilfe einer Zoom-Linse ändert. Wenn man versucht, ein projiziertes Bild über einen großen Zoom-Bereich scharf zu halten, ist es unumgänglich, die Blende der Zoom-Linse zu vergrößern. Das führt dazu, daß derartige herkömmliche Belichtungssysteme mit verschiedenen Nachteilen behaftet sind, da die auf diese Weise vergrößerte Blende nicht nur die Bilder dunkler macht, sondern auch den Aufbau eines An-In the conventional exposure systems, the raster ruling or fineness can be changed by changes the width of an exposure beam with the help of a zoom lens. When trying to get a projected image To keep the camera in focus over a large zoom area, it is essential to enlarge the aperture of the zoom lens. As a result, such conventional exposure systems suffer from various disadvantages the aperture enlarged in this way not only makes the pictures darker, but also
triebs-Mechanismus für die Zoom-Linse kompliziert macht.drive mechanism for the zoom lens complicated power.
Im Hinblick auf die obigen Umstände ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Belichtungssystem mit hoher Zuverlässigkeit zu schaffen, das für die Verwendung bei der Erzeugung eines Halbtonbildes geeignet ist, wobei das Belicht&hgssyst-em zu einer Vereinfachung des Aufbaus des Belichtungssystems per se führt, und bei dem eine Änderung der Rasterlineatur in einfacher Weise ohne Fehler bewirkt werden kann.In view of the above, it is an object of the present invention to provide an exposure system with to provide high reliability suitable for use in forming a halftone image, the exposure & hgssyst-em to simplify the Structure of the exposure system per se leads, and in which a change in the raster lines in a simple manner without Error can be caused.
Diese Aufgabe wird durch ein Belichtungssystem gelöst, wie es in den Patentansprüchen beschrieben ist und sich IQ für den Fachmann aus der nachfolgenden Beschreibung ergibt. This object is achieved by an exposure system as described in the patent claims and as will become apparent to a person skilled in the art from the following description.
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird somit ein Belichtungssystem geschaffen, das für die Verwendung bei der Erzeugung eines Halbtonbildes geeignet ist und das elektrische Signale, die durch photoelektrische Abtastung einer Vorlage erhalten wurden, einer vorgegebenen Verarbeitung unterwirft, um das elektrische Signal in Bildsignale umzuwandeln und die Vorlage auf der Basis dieser Bildsignale als das gewünschte Halbtonbild aufzuzeichnen, das dadurch gekennzeichnet ist, daß das Belichtungssystem mit einer Lichtquellen-Einheit versehen ist, die durch die Anordnung von in der Haupt-Abtastrichtung aufeinanderfolgenden LED-Feldern oder -Reihen ge-Thus, in accordance with one aspect of the present invention, there is provided an exposure system suitable for use is suitable in the generation of a halftone image and the electrical signals obtained by photoelectrically scanning an original of a predetermined one Processing subjected to convert the electrical signal into image signals and based on the original to record these image signals as the desired halftone image, which is characterized in that the exposure system is provided with a light source unit defined by the arrangement of in the main scanning direction consecutive LED fields or rows
QQ bildet wird, wobei jedes der LED-Felder von LED's gebildet wird, die lichtemittierende Flächenbereiche einer gleichen Breite aufweisen und nebeneinander in einer Sub-Abtastrichtung in einer vorgegebenen regelmäßigen Anordnung angeordnet sind, wobei die Breite des lichtemittie- QQ is formed, each of the LED arrays being formed by LEDs having light emitting areas of the same width and side by side in a sub-scanning direction are arranged in a predetermined regular arrangement, the width of the light emitting
gc renden Flächenbereichs einer jeden LED in einem der LED-Felder sich von der Breite einer jeden LED in einemgc rende surface area of each LED in one of the LED fields differ from the width of each LED in one
anderen LED-Feld unterscheidet, sowie mit mindestens einer Kondensorlinse zum Sammeln der Belichtungsstrahlen aus der Lichtquellen-Einheit, wobei entsprechend einer gewünschten Rasterlineatur ein dieser zugeordnetes LED-Feld ausgewählt und für die Belichtung gesteuert wird.different LED field, as well as with at least one Condenser lens for collecting the exposure rays from the light source unit, according to a desired one Raster ruling an LED field assigned to this is selected and controlled for the exposure.
Das erfindungsgemäße Belichtungssystem verwendet als seine Lichtquelle LED-Felder. Deren LED's können direkt moduliert werden, was es ermöglicht, einen externen Modulator wegzulassen, der bei einem herkömmlichen Laserstrahl-Belichtungssystem unumgänglich ist. Es ist daher möglich, das Belichtungssystem per se nicht nur kleiner zu machen, sondern auch seinen Aufbau zu vereinfachen.The exposure system according to the invention uses LED fields as its light source. Their LEDs can be modulated directly , which makes it possible to omit an external modulator that is used in a conventional laser beam exposure system is inevitable. It is therefore possible not only to make the exposure system smaller per se, but also to simplify its structure.
Die obigen Angaben sowie weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung ergeben sich für den Fachmann in klarer Weise aus der nachfolgenden Beschreibung in Verbindung mit den Ansprüchen sowie den Figuren. Es zeigen:The above statements as well as other objects, features and advantages of the present invention will be apparent to the A person skilled in the art can be clearly understood from the following description in conjunction with the claims and the figures. Show it:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Einheits-Rasterpunkt-Struktur eines Halbtonbildes;1 shows a schematic representation of a unit raster point structure a halftone image;
Fig. 2 eine schematische Draufsicht auf die Aufzeichnungseinheit eines Farbscanners, in den dieFig. 2 is a schematic plan view of the recording unit of a color scanner into which the
Aufzeichnungseinheit der vorliegenden Erfindung eingebaut wurde;Recording unit of the present invention has been incorporated;
Fig. 3 eine schematische Ansicht, die das Aussehen einer Ausführungsform einer Lichtquellen-Ein-Fig. 3 is a schematic view showing the appearance of an embodiment of a light source input
heifzeigt; undheif shows; and
Fig. 4 eine schematische Ansicht, die in schematischer Form eine andere Ausführungsform der Lichtquellen-Einheit zeigt.4 is a schematic view showing, in schematic form, another embodiment of the light source unit shows.
Zuerst bezugnehmend auf Fig. 1 werden Halbton- oder Rasterpunkte auf 50% der Punktfläche innerhalb eines Einheits-Rasterpunktbereiches
gebildet, der durch die vier Eckpunkte A, B, C, D beschrieben wird. Allgemein gesprochen
hängt eine Rasterlinienbreite Jt von der Größe eines
Rastermusters oder, in anderen Worten, von der Anzahl und der Breite der bei der Belichtung verwendeten Belichtungsstrahlen
ab. Wenn man die Größe eines Einheits-Rasterpunktes mit D (cm) bezeichnet, die Anzahl der
Strahlen, die den Einheits-Rasterpunkt bilden mit ß und die Strahlenbreite ι
folgende Beziehung:Referring first to FIG. 1, halftone or halftone dots are formed on 50% of the dot area within a unit halftone dot area which is described by the four corner points A, B, C, D. Generally speaking, a raster line width Jt depends on the size of a raster pattern or, in other words, on the number and the width of the exposure beams used in the exposure. If you denote the size of a unit raster point with D (cm), the number of rays that form the unit raster point with ß and the beam width ι
following relationship:
die Strahlenbreite mit B (cm) bezeichnet, so gilt diethe beam width is denoted by B (cm), then the applies
Dp = ß - Bp (1)D p = ß - B p (1)
Wenn das obige Rastermuster verwendet wird, wird die Rasterlineatur oder Rasterlinienbreite ί (Linien/cm) durch die folgende Gleichung beschrieben:When the above grid pattern is used, the grid ruling or grid line width ί (lines / cm) is described by the following equation:
^= 1/β·Βρ (2)^ = 1 / β ρ (2)
Aus diesem Grunde wurde, wie oben erwähnt, die Breite (B ) eines jeden Belichtungsstrahls in einem herkömmlichen System unter Verwendung einer Zoom-Linse verändert, um die Rasterlineatur zu ändern.For this reason, as mentioned above, the width (B) of each exposure beam in a conventional one became System modified using a zoom lens to change the grid ruling.
Es wird nunmehr auf Fig. 2 Bezug genommen. Ein Belichtungssystem 1 wird direkt gegenüber einer Trommel 2 angeordnet, die auf ihrer Trommelwand einen aufgespannten lichtempfindliehen Film trägt. Das Belichtungssystem 1 ist intern mit einer Belichtungs-Lichtquelleneinheit 3 versehen, in die Bildsignale S eingegeben werden, die dadurch erhalten wurden, daß man elektrische Signale, die ihrerseits durch photoelektrisches Abtasten einer Vorlage erhalten wurden, einer vorgegebenen elektrischen Verarbeitung unterwirft. Das Belichtungssystem 1 ist gleitend auf einem Schaft 4Reference is now made to FIG. An exposure system 1 is arranged directly opposite a drum 2, which on their drum wall a stretched light-sensitive Film wears. The exposure system 1 is internally provided with an exposure light source unit 3, in the image signals S are input which have been obtained by taking electrical signals which in turn pass through photoelectrically scanning an original were subjected to predetermined electrical processing. The exposure system 1 is sliding on a shaft 4
angeordnet und wird mit vorgegebenen Schrittabständen in eine Sub-Abtastrlchtung bewegt/ die durch einen Pfeil gekennzeichnet ist.and is moved at predetermined step intervals in a sub-scanning direction / the direction indicated by an arrow is marked.
Fig. 3 zeigt ein Beispiel der in Fig. 2 dargestellten Lichtquellen-Einheit 3. Auf einem Träger 5 sind LED-Felder oder -Reihen A, B, C nebeneinander angeordnet, die drei Typen von lichtemittierenden Bereichen aufweisen. Jedes der Felder A, B, C ist elektrisch mit einer FeIdwähl-Schaltung 9 verbunden. In Fig. 3 entspricht die senkrechte Richtung der Lichtquellen-Einheit 3 der Haupt-Abtastrichtung des Farbscanners von Fig. 2, während die waagerechte Richtung der Lichtquellen-Einheit 2 der Sub-Abtastrichtung des gleichen Farbscanners entspricht. FIG. 3 shows an example of the light source unit 3 shown in FIG. 2. On a carrier 5 there are LED fields or rows A, B, C arranged side by side, which have three types of light emitting regions. Each of the fields A, B, C is electrical with a field selection circuit 9 connected. In Fig. 3, the vertical direction of the light source unit 3 corresponds to Main scanning direction of the color scanner of FIG. 2, while the horizontal direction of the light source unit 2 corresponds to the sub-scanning direction of the same color scanner.
Das erste LED-Feld A wird von lichtemittierenden Feldbereichen a~ - afi gebildet, die alle die gleiche Breite P1 aufweisen und nebeneinander in einem vorgegebenen gleichmäßigen Abstand in der Sub-Abtastrichtung angeordnet sind.The first LED field A is formed by light-emitting field regions a ~ - a fi , which all have the same width P 1 and are arranged next to one another at a predetermined uniform distance in the sub-scanning direction.
Das zweite LED-Feld B weist die gleiche Feld-Länge auf, wie das erste LED-Feld A und wird von lichtemittierenden Flächenbereichen b- - bg gebildet, die ebenfalls nebeneinander in einer vorgegebenen Teilung in der Sub-Abtastrichtung angeordnet sind.The second LED field B has the same field length, like the first LED field A and is formed by light-emitting surface areas b- - bg, which are also next to each other are arranged at a predetermined pitch in the sub-scanning direction.
Das dritte LED-Feld C weist die gleiche Länge auf, wie das erste und das zweite LED-Feld A und B. Es wird von lichtemittierenden Flächenbereichen C1 - C12 gebildet, die nebeneinander mit einer vorgegebenen Teilung in der Sub-Abtastrichtung angeordnet sind.The third LED array C has the same length as the first and the second LED array A and B. It is of light-emitting surface areas C 1 - formed C 12, which are arranged side by side at a predetermined pitch in the sub scanning direction .
Wenn man die Rasterlineatur unter Auswahl einer gewünschten anderen Rasterlineatur ändert, wird das LED-Feld A,If you have the grid ruling choosing a desired changes to other grid lines, the LED field A,
—ο-Ι B oder C/ das der gewünschten Rasterlineatur entspricht, mit Hilfe einer Feldwähl-Schaltung 9 ausgewählt. Gleichzeitig werden, indem man jede Strahlenzahl mit einem Multiplexer in einer solchen Punkt-Erzeugungs-Schaltung auswählt, wie sie beispielsweise in der Japanischen Patentanmeldung Nr. 80639/1983 beschrieben ist, elektrische Signale, die durch Abtasten des.Originals erhalten wurden, einem ausgewählten LED-Feld zugeführt, um eine EIN-AUS-Steuerung der gewünschten LED's zu bewirken. IQ Dementsprechend werden LED-Strahlen durch eine optische Linse· 6 auf eine Belichtungs-AufZeichnungs-Oberfläche 7 projiziert und auf diese Weise dort als ein scharfes Halbtonbild aufgezeichnet.—Ο-Ι B or C / which corresponds to the desired raster line, selected with the aid of a field selection circuit 9. At the same time, by selecting each number of beams with a multiplexer in such a dot generating circuit as described, for example, in Japanese Patent Application No. 80639/1983, electrical signals obtained by scanning the originals are assigned to a selected LED Field supplied to effect ON-OFF control of the desired LEDs. IQ Accordingly, LED rays are projected onto an exposure-recording surface 7 through an optical lens x6, and thus recorded there as a sharp halftone image.
Auf die Belichtungs-Aufzeichnungs-Oberflache 7 der Trommel 2 ist beispielsweise ein lithographischer Film für einen Halbtonbild-Abtaster gewickelt. Da die Trommel 2 synchron mit der (nicht gezeigten) Original-Trommel unter Verwendung einer Antriebswelle 8 rotiert, können Strahlen, die von einem LED-Feld abgegeben werden, auf das ein Bild übertragen wurde, die Belichtungs-Aufzeichnungs-Oberf lache 7 abtasten, um ein gewünschtes Halbton-Bild zu erhalten.On the exposure recording surface 7 of the drum 2, for example, a lithographic film for a halftone image scanner is wound. Since the drum 2 synchronously with the original drum (not shown) Using a drive shaft 8 rotates, rays emitted by an LED array can be applied that an image has been transferred, the exposure recording surface Scan 7 laugh to obtain a desired halftone image.
Fig. 4 zeigt ein anderes Beispiel für eine erfindungsgemäße Lichtquellen-Einheit 3, die in Fig. 2 dargestellt ist. Die lichtemittierenden Flächenbereiche der individuellen LED-Felder sind mit einem vorgegebenen Intervall in der Haupt-Abtastrichtung in einem versetzten MusterFIG. 4 shows another example of a light source unit 3 according to the invention, which is shown in FIG is. The light-emitting surface areas of the individual LED fields are at a predetermined interval in the main scanning direction in a staggered pattern
go angeordnet, wenn man in Richtung der Sub-Abtastrichtung schaut.go arranged when looking in the direction of the sub-scan direction looks.
Bei der in Fig. 4 dargestellten Ausführungsform sind die individuellen lichtemittierenden Flächenbereiche mit Q5 dem vorgegebenen Intervall in der Haupt-Abtastrichtung angeordnet, um die elektrische und optische IsolierungIn the embodiment shown in FIG. 4, the individual light-emitting surface areas are also included Q5 the predetermined interval in the main scanning direction arranged to provide electrical and optical isolation
oder Separierung benachbarter lichtemittierender Flächenbereiche zu gewährleisten. Demgemäß wird bei der dargestellten Ausführungsform jedes der LED-Felder A1, B', C von lichtemittierenden Flächenbereichen gebildet, die in zwei Reihen angeordnet sind, wobei die lichtend.ttierenden Flächenbereiche der in Richtung der Haupt-Abtastrichtung gesehenen oberen Reihe gegenüber denen der unteren Reihe versetzt sind. Die lichtemittierenden Flächenbereiche sind somit in anderen Worten in einer Zick-Zack-Anordnung angeordnet, wenn man aus deren Sub-Abtastrichtung schaut. Bildsignale, die in eine Lichtquelleneinheit 3' eingegeben werden, sind daher im Einklang mit den Relativgeschwindigkeiten der Aufzeichnungsoberfläche und den Belichtungsstrahlen verzögert. Um diese Verzögerungszeit konstant zu halten, wird das senkrechte Intervall zwischen jedem lichtemittierenden Flächenbereich in einem der Felder A1, B1, C und seinem entsprechenden lichtemittierenden Flächenbereich in dem benachbarten Feld so gewählt, daß es konstant ist.or to ensure separation of adjacent light-emitting surface areas. Accordingly, in the illustrated embodiment, each of the LED fields A 1 , B ', C is formed by light-emitting surface areas which are arranged in two rows, with the light-end.tting surface areas of the upper row viewed in the direction of the main scanning direction being opposite to those of the lower row Row are staggered. In other words, the light-emitting surface areas are thus arranged in a zigzag arrangement when looking from their sub-scanning direction. Image signals input to a light source unit 3 'are therefore delayed in accordance with the relative speeds of the recording surface and the exposure beams. In order to keep this delay time constant, the perpendicular interval between each light-emitting surface area in one of the fields A 1 , B 1 , C and its corresponding light-emitting surface area in the adjacent field is chosen to be constant.
Indem man die Lichtquellen-Einheit auf die obenbeschriebene Weise konstruiert, wird es möglich, Belichtungsstrahlen sehr eng zu projizieren und auf diese Weise ein Halbtonbild zu erhalten, das eine hervorragende Bildqualität aufweist.By constructing the light source unit in the manner described above, it becomes possible to generate exposure beams project very closely and in this way obtain a halftone image that has excellent image quality having.
Wie sich aus der obigen Beschreibung in klarer Weise ergibt, können die LED-Felder, die als Lichtquellen-Einheit in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, eine Hybrid-LED-Mikroschaltung sein, die dadurch erhalten wird, daß man separate LED's (LED = lichtemittierende Diode) nach der Hybrid-Technik verbindet, oder es kann eine monolithische LED-Mikroschaltung sein, die dadurch erhalten wurde, daß man getrennte LED's in Feldern auf einem monokristallinen Substrat ausbildet.As can be clearly seen from the above description, the LED fields can be used as a light source unit used in the present invention can be a hybrid LED microcircuit obtained thereby is that you have separate LEDs (LED = light-emitting Diode) according to the hybrid technology, or it can be a monolithic LED microcircuit, which thereby was obtained by placing separate LED's in fields a monocrystalline substrate.
-ιοί Bei jeder der obenbeschriebenen Ausführungsformen sind drei Typen von LED-Feldern aufeinanderfolgend auf dem Substrat 5 angeordnet. Die Anzahl derartiger LED-Felder kann jedoch ganz nach den jeweiligen Bedürfnissen bestimmt werden. Darüber hinaus sind die Länge eines jeden LED-Feldes und die Breite eines jeden lichtemittierenden Flächenbereichs nicht notwendigerweise auf die beispielhaften Angaben der? obigen Ausführungsformen beschränkt. Es ist unnötig zu sagen, daß diese jeweils frei festgelegt werden können.-ιοί In each of the embodiments described above three types of LED arrays arranged in succession on the substrate 5. The number of such LED fields however, it can be determined entirely according to the respective needs. In addition, the length of each LED field and the width of each light-emitting surface area are not necessarily limited to the exemplary Details of? above embodiments are limited. Needless to say, these are each freely defined can be.
Infolge des obenbeschriebenen Aufbaus weist das erfindungsgemäße Beiichtungssystem die folgenden Effekte auf, die unter praktischen Gesichtspunkten außerordentlich vorteilhaft sind.As a result of the structure described above, the imaging system according to the invention has the following effects, which are extremely advantageous from a practical point of view.
Vor allem ist es möglich,' die auf der Aufzeichnungsoberfläche abzutastende Rasterlineatur gegen eine andere gewünschte Rasterlineatur zu ändern, indem man ein LED-Feld auswählt, das der gewünschten Rasterlineatur entspricht, um die Breite und die Anzahl der Belichtungsstrahlen bei der Bildung eines Halbtonbildes zu ändern. First of all, it is possible to 'die on the recording surface To change the raster line to be scanned against another desired raster line by placing an LED field selects that corresponds to the desired raster ruling to change the width and number of exposure beams in forming a halftone image.
Zweitens können mit dem erfindungsgemäßen Belichtungssystem Strahlen mit einer gewünschten Strahlbreite aus einem ausgewählten LED-Feld unter Verwendung einer einzigen Linse erhalten werden, wenn man die Rasterlineatur ändert. Es ist deshalb möglich, den Aufbau eines Beiich-: tungssystems zu vereinfachen und gleichzeitig die Gesamt-3Q abmessungen des Belichtungssystems per se zu vermindern, ohne daß es zu solchen Nachteilen käme, daß die erhaltenen Bilder dunkler würden oder das Linsensystem komplizierter würde.Second, with the exposure system according to the invention Beams with a desired beam width from a selected LED array using a single one Lens can be obtained by changing the grid ruling. It is therefore possible to build a Beiich-: management system and at the same time the overall 3Q to reduce dimensions of the exposure system per se, without there being such disadvantages that the obtained Images become darker or the lens system becomes more complex.
Drittens ist es möglich, die Vorschub-Teilung des Belichtungssystems in der Sub-Abtastrichtung beizubehalten,Third, it is possible to adjust the feed division of the exposure system maintain in the sub-scan direction,
unabhängig davon, welches LED-Feld ausgewählt wird, da die aufeinanderfolgend angeordneten LED-Felder in dem Belichtungssystem die gleichen Feld-Längen aufweist. Aus diesem Grund ermöglicht die vorliegende Erfindung die Vereinfachung des Antriebsmechanismus für das Belichtungssystem. Es ist ferner möglich, ein Halbtonbild mit einer gewünschten Rasterlineatur selbst dann zu erhaicen, wenn die LED-Felder die gleiche Anzahl lichtemittierender Flächenbereiche aufweisen, jedoch unterschiedliche FeIdlängen, vorausgesetzt, daß die Vorschubteilung in der Sub-Abtastrichtung im Einklang mit der Feld-Länge eines jeden ausgewählten LED-Feldes eingestellt wird. Es erscheint überflüssig, besonders darauf hinzuweisen, daß dieser Fall ebenfalls in den Bereich der vorliegenden Erfindung fällt.regardless of which LED field is selected, there the successively arranged LED fields in the exposure system have the same field lengths. the end for this reason, the present invention enables the drive mechanism for the exposure system to be simplified. It is also possible to have a halftone image with a to get the desired raster lines even if the LED fields emit the same number of light Have surface areas, but different field lengths, provided that the feed division in the Sub-scanning direction is set in accordance with the field length of each selected LED field. It appears Needless to say, this case also falls within the scope of the present Invention falls.
Es ist aus der obigen Beschreibung offensichtlich, daß durch die vorliegende Erfindung ein extrem vorteilhaftes Belichtungssystem geschaffen wird, das für die Verwendung bei der Erzeugung eines Halbtonbildes geeignet ist, da dies.es Bei ich tungs system einen außerordentlich einfachen Aufbau aufweist und eine sehr geringe Größe, dabei jedoch gleichzeitig zahlreiche Nachteile herkömmlicher Belichtun'gssysteme überwindet und gleichzeitig die Genauigkeit de,r Belichtung sowie die Bedienbarkeit verbessert. It is apparent from the above description that the present invention provides an extremely advantageous Providing an exposure system suitable for use in producing a halftone image, Since this system is an extremely simple one Has construction and a very small size, but at the same time numerous disadvantages of conventional Overcomes exposure systems and at the same time improves the accuracy of the exposure and the operability.
Obwohl oben die Erfindung vollständig beschrieben wurde, ist es für einen Durchschnittsfachmann offensichtlich, daß innerhalb des Bereichs der vorliegenden Erfindung viele Abänderungen und Modifikationen möglich sind, ohne daß der Geist oder Bereich der vorliegenden Erfindung verlassen wird.Although the invention has been fully described above, it will be apparent to one of ordinary skill in the art that many changes and modifications are possible within the scope of the present invention without that the spirit or scope of the present invention is departed from.
Claims (7)
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| GB8419754D0 (en) | 1984-09-05 |
| JPS6033558A (en) | 1985-02-20 |
| GB2144943A (en) | 1985-03-13 |
| GB2144943B (en) | 1987-01-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8131 | Rejection |