DE3243565A1 - Ladungsgekoppelte anordnung - Google Patents
Ladungsgekoppelte anordnungInfo
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- DE3243565A1 DE3243565A1 DE19823243565 DE3243565A DE3243565A1 DE 3243565 A1 DE3243565 A1 DE 3243565A1 DE 19823243565 DE19823243565 DE 19823243565 DE 3243565 A DE3243565 A DE 3243565A DE 3243565 A1 DE3243565 A1 DE 3243565A1
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- 230000008878 coupling Effects 0.000 title 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 title 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 title 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 12
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 5
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims 1
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 67
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 description 2
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 108010075750 P-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000819 phase cycle Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/891—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of only components covered by H10D44/00, e.g. integration of charge-coupled devices [CCD] or charge injection devices [CID
-
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
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- H04M1/00—Substation equipment, e.g. for use by subscribers
- H04M1/82—Line monitoring circuits for call progress or status discrimination
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Description
PHN 10 206 .:..^<·. .:. .;. ·..'·.;'.. 11.11.1
Ladungsgekoppelte Anordnung
Die Erfindung bezieht sich auf eine ladungsgekoppelte
Anordnung mit einem Halbleiterkörper, der an einer Oberfläche mit einem System nebeneinander liegender Parallelkanäle
und mit einem Reihenausgangsregister versehen ist, von dem aufeinanderfolgende Ladungsspeicherungs/Ubertragungselemente
mit je einem Parallelkanal zusammenarbeiten, wobei das System von Parallelkanälen zwei Teilgruppen umfasst,
derart, dass die Parallelkanäle abwechselnd zu einer ersten und einer zweiten Teilgruppe gehören, und wobei auf der
Oberfläche in der Nähe des Parallel/Reihenübergangs ein Elektrodensystem angebracht ist, mit dessen Hilfe eine
durch die Parallelkanäle transportierte Reihe von Ladungspaketen in zwei den Teilgruppen entsprechende Teilreihen
aufgespaltet werden kann, die nacheinander in das Reihenausgangsregister
geführt werden können, wobei dieses Elektrodensystem enthält:
eine erste kammförmige Elektrode mit einem Basisteil, der sich in Form eines Streifens quer über die Parallelkanäle
erstreckt und mit Fingern versehen ist, die sich von dem Basisteil her in der Ladungstransportrichtung oberhalb der
Parallelkanäle der ersten Teilgruppe erstrecken; eine zweite kammförmige Elektrode mit einem Basisteil, der
sich in der Nähe der Spitzen der Fingern der ersten kammförmigen Elektrode quer über die Parallelkanäle erstreckt
und mit Fingern versehen ist, die sich oberhalb der Parallelkanäle der zweiten Teilgruppe interdigital zwischen
den Fingern der ersten kammförmigen Elektrode bis in die
Nähe des streifenförmigen Basisteiles der ersten kammförmigen
Elektrode erstrecken;
eine erste und eine zweite streifenförmige Steuerelektrode,
die sich quer über die Parallelkanäle erstrecken und, auf
die Oberfläche gesehen, in den Gebieten zwischen den Fingerspitzen der ersten kammförmigen Elektrode und dem Basisteil
pun to :.·06 S..^'^ .·. .:.*·..·.:]. 11.11.1982
der zweiten kammf οΊ·ΐπ igen Elektrode bzw. in den Gebieten
zwischen den Fingerspitzen der zweiten kammförmigen Elektrode
luiU dem Basiateil der ersten kammförmigen Elektrode
liegen.
Eine ladungsgekoppelte Anordnung eines bekannten Typs mit einem System von Parallelkanälen, deren Ausgänge
mit den Paralleleingängen eines Reihenausgangsregisters gekoppelt sind, ist der SPS-Speicher. Die Parallelkanäle
bilden eine Speichermatrix für analoge oder digitale Inforrnacion,
die über einen Reiheneingangskanal eingeführt wird und über den Reihenausgangskanal ausgelesen werden kann.
Eine ladungsgekoppelte Anordnung eines anderen Typs der obenbesrhriebenen Art wird durch Bildsensoren gebildet,
in denen die in dem Parallelabschnitt gespeicherte Ladung einem aufgefangenen zweidimensionalen Strahlungsmuster
entspricht. Obgleich die Anwendung der Erfindung daher nicht auf nur SPS-Speicher beschränkt ist, wird sie dennoch
wefjen der besonderen Vorteile im wesentlichen an Hand von
SPS-Speichern beschrieben werden.
In üblichen SPS-Speichern werden die Reihenkanäle,
durch Zweiphasen-CCD·s gebildet. Da in einer Zweiphasen-CCD
zu einer vollen Ladungsspeicherstelle stets eine Leerstelle
vorhanden sein muss, liegt es auf der Hand, den Teilungsabstand
zwischen den Parallelkanälen derart zu wählen,
" dass zu zwei Ladungsspeicher/Ubertragungsstellen in dem
Reihenregister ein Parallelkanal vorhanden ist. Beim Übertragen
einer Reihe von Ladungspaketen von dem Parallelabschnitt
auf den Reihenkanal wird dann die Hälfte der Speicherstellen in dem Reihenkanal besetzt, so dass die
LaUuiifjspakete auf übliche Weise zu dem Ausgang transportiert
werden können.
Ein an sieh z.B. aus der US-PS 3967254 bekanntes
Verfahren zur Vergrosserung dex* Informationsdichte benutzt
das "Interlacing"- und "De-interlacing"-Prinzip, Der
Teilungsabstand der Parallelkanäle kann nun im Vergleich
zu der obenbeschriebenen Ausführung zweimal kleiner gewählt werden, so dass zu einer Ladungsspeicher/Ubertragungsste^le
des Reiheneingangskanals und/oder des Reihenausgangskanals
BAD ORIGfNAL
ein Parallelkanal vorhanden ist. Die Informationsdichte
oder Informationsmenge kann dadurch praktisch verdoppelt werden. Da von den Reihe'nkanälen stets nur die Hälfte der
Stellen zugleich besetzt werden kann, kann die Information nicht mehr pro Reihe eingelesen oder ausgelesen werden.
Beim Einlesen werden daher z.B. von einer Reihe zunächst die geradzahligen Stellen und in einem zweiten Schritt die
ungeradzahli^en Stellen mit Information besetzt ("Interlacing"). Auf analoge Weise werden beim Auslesen einer
Reihe zunächst die Ladungspakete an z.B. den geradzahligen Stellen und dann die Information an den ungeradzahligen
Stellen in den Reihenausgangskanal geführt und ausgelesen ("De-interlacing").
Die in der Einleitung beschriebene Elektrodenkonfiguration
an dem Parallel/Reihenübergang, die u.a. aus der bereits genannten US-PS 396725^· bekannt ist und die zwei
ineinander eingreifende Kämme umfasst, dient zur "De-interlacing" der gespeicherten Information. Ihre Wirkung ist
im grossen ganzen wie folgt: Zunächst wird eine ganze Reihe von Signalladungen unter die genannte erste kammförmige
Elektrode geschoben. Die Signale sind dann abwechselnd unter einem Finger und unter einem Gebiet unter dem Basisteil
der kammförmigen Elektrode vorhanden. Mittels der genannten
ersten Steuerelektrode können die Signale, die unter den _. 25 Fingern der ersten kammförmigen Elektrode gespeichert sind,
über die Gebiete unter dem Basisteil unter der zweiten kammförmigen Elektrode in den Reihenausgangskanal geschoben
werden, um am Ausgang ausgelesen zu werden. Während dieser Parallel/Reihenübertragung werden die Signale, die unter
dem Basisteil der ersten kammföriiiigeri Elektrode gespeichert
sind, nicht übertragen, weil die erste Steuerelektrode nur die Finger und nicht den Basisteil der ersten kammförmigen
Elektrode überlappt. Wenn der Reihenausgangskanal wieder leer ist, können die zurückgebliebenen Signale mit
Hilfe der zweiten Steuerelektrode unter die Finger der zweiten kammförmigen Elektrode und von dort wieder in den
Reihenausgangskanal geschoben werden.
Beim zuletzt genannten Transport, bei dem die Ladung
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von unter den Fingern in den Reihenausgangskanal geschoben wird, kann die Elektrodenstruktur zu Problemen führen. Bei
kleinen Ladungsmengen besteht die Ladungsübertragung im wesentlichen aus thermischer Diffusion, wobei die Ladung
- auf d<!-r Source-Seite - gemäss einer exponentiellen Kurve
als Funktion der Zeit t asymptotisch mit einer Zeitkonstante
,2
£ = -^=- zu Null geht. L ist in dieser Formel die Länge
£ = -^=- zu Null geht. L ist in dieser Formel die Länge
der Elektrode auf der Source-Seite und D die Diffusionskonstante.
Da die Länge L der Finger im allgemeinen gross Lsi, wird der Ladungstransport ziemlich träge sein. In einer
besonderen Ausführungsform, in der L an den Stellen der Finger mehr als zweimal grosser als die Basisteile der kammformigen
Elektroden (und der Längen der übrigen Taktelektroden) is c, wird die Zeitkonstante i- mehr als viermal grosser.
Auf die Frequenzeigenschaften des Speichers übt ili<' kamini'orrniivti Konfiguration der "De-interlacing"-Elektroden
iiiiH.'ji ungünstigen liinflusa aus, insbesondere in denjenigen
Füllen, in denen die weiteren Abmessungen möglichst klein
gehalten werden.
Die Erfindung hat u.a. zur Aufgabe, diesen Nachteil wenigstens grösstenteils zu beheben. Ihr liegt u.a. .die
Erkenntnis zugrunde, dass Zeitverlust dadurch vermieden werden kann,· dass man den langsamen Ladungstransport wenigstens
im wesentlichen in dem Zeitintervall stattfinden lässt, in dem die erste Teilreihe des Reihenausgangskanals
transportiert wird.
Eine ladungsgekoppelte Anordnung der eingangs beschriebenen
Art ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem genannten Elektrodensystem und dem
Reihenausgangskanal eine dritte streifenförmige Steuerelektrode angebracht ist, die sich quer über die Parallelkanäle
erstreckt und mit den unterliegenden Teilen der Parallelkanäle eine Anzahl von Pufferspeicherstellen bildet,
in denen, wenn von einer Reihe von Ladungspaketen eine erste Teilreihe in den Reihenausgangskanal geführt ist, die
andere Teilreihe gespeichert werden kann, bevor sie, wenn der Reihenausgangskanal wieder leer ist, in den Reihen-
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gefühi-t wli'd.
Durch das Vorhandensein der Pufferelektrode zwischen der kammförmigen Elektrodenstruktur und dem Reihenausgangskanal
kann der langsame Ladungstransport in der Auslesezeit der ersten Teilreihe stattfinden. Durch die verhältnismässig
lange Dauer dieser Auslesezeit ergibt dieser Ladungstransport keine Probleme. Dadurch, dass die Elektrodenlänge
der Pufferelektrode sehr klein sein kann, wenigstens viel
kleiner als die Länge der Finger gemacht werden kann, kann die Übertragung von der Pufferelektrode auf den Reihenausgangskanal
sehr schnell sein. In einer bevorzugten Ausführungsform, in der die Länge L des Puffers wenigstens
etwa zweimal kleiner als die Länge L der Finger ist, kann der Ladungstransport etwa viermal schneller sein, wodurch
die Frequenzeigenschaften des Parallel—Reihenübergangs wieder
mit denen in anderen Teilen des Speichers vergleichbar werden. .
Eine Ausführungsform der Erfindung ist in der
Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht auf einen Teil einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung,
Fig. 2 bis k Schnitte durch die Anordnung nach
Fig. 1 längs der Linien H-II, IH-III bzw. IV-IV, Fig. 5 ein Schema anzulegender Taktspannungen, und
Fig. 6 das Prinzipschaltbild eines SPS- Speirliers.
Es sei bemerkt, dasa die Figuren schema Lisch sind und nicht masstäblich gezeichnet sind.
Die Erfindung wird, obgleich sie nicht auf SPS-3^
Speicher beschränkt ist, sondern auch in anderen matrixähnlichen Strukturen anwendbar ist, insbesondere an Hand
eines SPS-Speichers erläutert werden, weil die Erfindung für Anordnungen dieser Kategorie von besonderer Bedeutung
ist. In Fig. 6 ist dazu das Prinzipschaltbild eines SPS-Speichers dargestellt. Die Anordnung enthält ein Reiheneingangsregister
A, ein Reihenausgangsregister B und einen zwischen den Registern A und B liegenden Parallelabschnitt C,
ilur dJ. ο u J.ü'OJi I. L ii'lu) Spo i du« rinn (. ι· I χ hl Mol.. Dor Piiriil I
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II," ·
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uli-K-liiii 11. KiilliIVI L ο l.jiu Λπ^ιιΙι I iiüboiujintindt)*' 1 logontior
Kanüle I, von denen in Fig. 1 nur. sechs dargestellt sind,
aber von denen tatsächlich die Anzahl viel grosser sein
wird und einige Hundert betragen kann. Die Stromrichtung in den Kanälen 1 verläuft annahmeweise von oben nach unten.
Zwischen den Kanälen 1 sind kanalbegrenzende Gebiete 2 gebildet,- die die Kanäle 1 gegeneinander isolieren. Der
Ladungstransport in dem Parallelabschnitt wird von Takt— elektroden 3-8 gesteuert, die sich quer über den Parallelabschnitt
erstrecken. Die Elektrode 3 bildet ein Ubertragungs-(Tfanst'cr)Gatter
zur Übertragung der Information von dem Rt» i hone i MfinnKsre/jister A auf den Parallelabschnitt C. Die
JiLu'ki.i'od'en ·Ί - B bilden eine Anzahl in einer Matrixstruktur
angeordneter Speicherstellen mit dem unterliegenden HaIble
L tierkörper. Die Elektroden 4-8 können ein 2—, 3— oder
't-Phasensystem bilden. Vorzugsweise sind jedoch diese Takt—
elektroden gemäss einem sogenannten Mehrphasensystem, in z.B. Gruppen von zehn, angeordnet. Dabei werden, wie u.a.
in der deutschen Patentanmeldung P 32 32 702.1 beschrieben ist, zu jeder Gruppe von zehn aufeinanderfolgenden
Speicherstellen neun Stellen mit Information gefüllt,
wahrend die zehnte leer bleibt. Dadurch, dass die Leerstelle von unten nach oben verschoben wird, kann die Information
schrittweise vqn oben nach unten verschoben werden. Dieser Betriebsmodus hat den Vorteil einer hohen Informationsdichte,
die in dem Paralielabschni11 dadurch erhalten werden kann j
dass zu je zehn Stellen nur eine leere Stelle vorhanden ist.
Es sei bemerkt, dass nur einige Taktelektroden des
Parallelabsehnittes dargestellt sind, aber dass naturgemäss
die ganze Speichermatrix mit derartigen Elektroden bedeckt .
Das Reiheneingangsx-egister A enthält eine Zweiphasen-CCD
mit einem Eingangsanschluss 9 zum Zuführen der in dem Speicher zu speichernden Information und Taktelektroden 10
und 11. Diese Elektroden sind in Fig. 6 der Einfachheit
halber durch einfache, mit einer der Taktleitungen 0* und 0~
verbundene Elektroden dargestellt. In einer praktischen Aus fttliriiiiijH form sind jedoch die Elektroden oft aus zwei
elektrisch miteinander verbundenen Teilen auf verschiedenem Metallisierungspegel zusammengesetzt, wie im nachstehenden
Ausführungsbeispiel beschrieben werden wird. Das Register A bildet eine Zweiphasen-CCD, wobei die Elektroden 10 über
die gemeinsamen Taktleitungen mit der Taktspannungsquelle
/A
0 ,, und die Elektroden 11 über die Taktleitung I3 mi.t der TaktSpannungsquelle 0 1 verbunden sind.
0 ,, und die Elektroden 11 über die Taktleitung I3 mi.t der TaktSpannungsquelle 0 1 verbunden sind.
Auf entsprechende Weise wird das Ausgangsregister B durch eine Zweiphasen—CCD mit einem Ausgangskontakt λΚ und
mit Elektroden 15 und 16 gebildet, die abwechselnd über die Taktleitungen 17 bzw. 18 an Zweiphasentaktspannungen 0
bzw. 0 o angeschlossen sind.
Es wird angenommen, dass unter den Elektroden 10, 11 oder 15, 16 eine Asymmetrie angebracht ist, derart, dass
beim Anlegen von Taktspannungen unter den linken Rändern der Elektroden eine Potentialsperre erhalten wird, wodurch
ein Zweiphasenladungstransport von links nach rechts bewirkt wird. Eine derartige an sich bekannte Asymmetrie kann auch
unter den Elektroden k - 8 in dem Parallelabschnitt angebracht
sein.
In dem SPS-Speicher des in Fig. 6 gezeigten Typs ist der Teilungsabstand zwischen den Parallelkanälen 1
derart gewählt, dass jeder Stufe (Elektrode) der Reihenregister A und B ein Parallelkanal des Parallelabschnittes C
_^ 25 entspricht. Auf diese Weise kann eine maximale Informationsdichte
erhalten werden. Da jedoch in den waagerechten Registern nur bei jeder zweiten Elektrode Information gespeichert
werden kann (in der Zweiphasen-CCD werden die vollen Stellen stets mit einer leeren Stelle abgewechselt), findet das
Einschreiben oder Auslesen einer Reihe von Information nicht in einem Schritt, sondern in zwei aufeinanderfolgenden
Schritten statt. Beim Einschreiben werden z.B. in dem Reiheneingangsregister A zunächst die Stellen unter den
Elektroden 10 gefüllt. Über das Ubertragungsgatter werden
diese Signale unter die erste Elektrode k in die Kanäle 1a
geschoben. Dann wird das Eingangsregister A aufs neue mit Signalen gefüllt, bis alle Stellen unter den Elektroden 11
gesetzt sind; die im ersten Schritt eingeführten Signale
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bleiben Inzwischen unter der Elektrode k vorhanden. Dann
worden die Signale unter den Elektroden 11 des Eingangs-
!·(«(■, Lm Um-.s Λ Lu (ILt) Parallelkanäle 1b unter die Elektrode k
fieschübun ("Interlacing"). Unter, der Elektrode k ist nur
eine ,'canze Reihe mit Information gefüllt, die in Form einer
Reihe dem Ausgangsregister B auf die für eine CCD übliche Weise transportiert werden kann.
Da das Ausgangsregister B, wie das Eingangsregister A, maximal nur eine halbe Reihe enthalten kann, müssen die
Signale einer Reihe in zwei aufeinanderfolgenden Schritten
in das Register geschoben werden, um ausgelesen zu werden. In Fic. ö- ist die Elektrodenkonfiguration zur Aufteilung
der Reihenschematisch und der Deutlichkeit halber nur teilweise dargestellt. In der Ladungstransportrichtung gesehen,
1E> enthält diese Elektrodenkonfiguration eine erste kammförmige
Ii 1 i-k I J1OiIt: 10 mit, .Fiiißcni 20 über den Kanälen 1a und eine
zweite kummi'örmige Elektrode 21 mit Fingern 22 über den
Kanälen 1b. Über den Kämmen befinden sich zwei Steuer- oder Übertragungsgatter, die der Deutlichkeit der Figur halber
2" nicht dargestellt sind und von denen eines sich oberhalb
der Spitzen der Finger 20 und das andere sich oherhalb der Finger 22 erstreckt, wie noch klar werden wird, wenn
das praktische Ausführungsbeispiel beschrieben werden wird. Zwischen dem Kamm 21 und dem Reihenausgangsregister B ist
noch ein Ubertragungsgatter 23 angebracht.
Eine Reihe von Ladungspaketen, die von oben nach im ten (lurch den ParaLlelabychnitt geschoben worden ist,
kann unter dem ersten Kamm 19 gespeichert werden. Die Ladungspakete unter den Fingern 20 in den Kanälen 1a können
dann selektiv zu dem Ausleseregister B weiter, transportiert
werden, währejid die Ltidiui^spakete in den Kanälen 1b zurückbleiben.
Wenn das Ausleseregister B wieder leer ist, können die Ladungspakete in die Kanäle 1b weitergeschoben werden.
Fig. 1 bis k zeigen in Draufsicht und im Quer—
schnitt einen Teil einer Aus führung s.f or m eines derartigen SPS-Speichers nach der Erfindung, und zwar den Teil, der
den Übergang zwischen dem Parallelabschnitt C und dem Ausgangsregister B enthält. Es sei bemerkt, dass für ent-
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sprechende Teile möglichst dieselben Bezugsziffern wie in Fig. 6 verwendet werden. Ausserdem sei bemerkt, dass, obgleich
das Ausführungsbeispiel vom n-Oberflächenkanaltyp
ist, die Erfindung nicht darauf beschränkt ist, sondern
auch in Ausführungsformen mit einem p-Kanal und/oder in
AusfUhrungsformen vom vergrabenen Kanaltyp verwundet werden
kann.
Die Anordnung enthält einen p-leitenden Halbleiterkörper 31 aus vorzugsweise Silicium. Statt des Siliciums
kann naturgemäss auch jedes andere geeignete Halbleitermaterial angewendet werden. Der Halbleiterkörper 31 enthalt
wenigstens eine Oberflächenschicht 32 mit einer verhältnis-
1 "5 massig niedrigen Dotierungskonzentration zwischen 10 ' und
10 Akzeptoratomen/cm3. Diese Schicht kann die ganze Dicke
des Halbleiterkörpers in Anspruch nehmen, aber kann auch in einer anderen wichtigen Ausführungsform als eine verhältnismässig
hochohmige Schicht mit einer Dicke zwischen 5 und 10 /um auf einem niederohmigen p-leitenden Substrat 33
19 20 mit einer Dotierungskonzentration zwischen 10 und 10 Atomen/cm3
angebracht werden. Dieser Aufbau des Halbleiterkörpers weist bekanntlich den Vorteil auf, dass die Leckströme
beschränkt werden können. In den Fig. 2-4 ist diese mögliche Zusammensetzung durch die mit gestrichelten
Linien angegebene Trennlinie zwischen der epitaktischen Schicht 32 und dem Substrat 33 dargestellt.
Die CCD-Kanäle 1a und 1b des Parallelabschnittes C und der Kanal des Ausgangsregisters B sind, wie das nicht
in den Figuren dargestellte Eingangsregister A, in der
p-Schicht 32 definiert. Dazu ist die Oberfläche des HaIbleiterkörpers
mit einem Feldoxidmuster 2 versehen (in Fig.1
mit gestrichelten Linien angegeben), das einen grossen Teil der Oberfläche bedeckt und Aussparungen an den Stellen .der
Kanäle 1a, 1b, A und B aufweist. Naturgemäss kann das Feldoxidmuster 2 auch noch ausserhalb des in den Figuren
gezeigten Teiles Offnungen an Stellen aufweisen, an denen
liantliichul tunken angebracht hükI. DaM Foldox .Lditui.s tor 2,
dessen Dicke zwischen 0,5 und I /um liegen kann, IhL im
vorliegenden Ausführungsbeispiel mittels örtlicher Oxidation
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des Si I Lziumkörpers gebildet. Unter dem Oxidmuster 2 ist
zur Ver-nieidung der Bildung parasitärer Kanäle die Dotierungskonzentration
dadurch, erhöht, dass die p-leitenden Kanalunterbrecherzonen 3^· angebracht werden.
Die Breite der Kanäle 1a, 1b beträgt z.B. etwa 5/um,
während die Feldoxidstreifen 2, die die. Kanäle 1a, 1b voneinander
trennen, eine Breite von etwa 2/um aufweisen.
An den Stellen der CCD-Kanäle ist die Oberfläche des Ilalbleiterkörpers mit einer dünnen dielektrischen
-10 Schicht, insbesondere mit einer Siliciumoxidschicht 35 mit
einer Dicke-.zwischen 0,05 und. 0,07/um überzogen. Auf der
Schicht 33 sind die Taktelektroden in Form einer Zwei-Schichtenverdrahtung
angebracht. Die Elektroden 15i 16
dos Ausgangsregisters B enthalten je einen Elektrodenteil
1i>a bzw. i6a aus polykristallinem Silicium (nachstehend
als Poly bezeichnet) und einen Teil 15b bzw. i6b aus z.B.
Al (oder gegebenenfalls auch Poly). Die Teile 15a, 15b bzw.
16a, 16b können, wie in Fig. 1 angegeben ist, ausserhalb dos in der Figur dargestellten Teiles miteinander verbunden
werden. Unter den Teilen 15b, 16b kann durch eine zueätz-Ii(IiU
p-liiiplantation die Dotierungskonzentration an Akzeptor
atoinen auf an sich bekannte selbstregistrierende Weise
gegenüber den Polystreifen 15a» I6a erhöht sein, um eine
Po tentialsperre für einen Zweiphasen-Betriebsmodus zu er—
halten. Wie aus Fig. 1 hervorgeht, entspricht die Breite jedes Paares 15a, 15b und jedes Paares i6a, i6b der Breite
eines Kanals 1a bzw. 1b (einschliesslich der Feldoxids treifen 2) .
Die Taktelektroden 15a, 15b und lob sind mit Taktleitungen
17 bzw. 18 zum Zuführen der Taktspannungen 0
2 s
bzw. JZf"\ verbunden.
Von den Taktspannungselektroden des Parallelabschnittes sind in der Zeichnung zwei Elektroden, und zwar
die Elektroden 36 und 37» angegeben, die mit den Taktspannungsquellen
φ und 0 des Zehnphasentaktsystems
verbunden sind. Die Elektroden "}6 und 37 enthalten je einen
Po 1. ys tre if en 36a bzw. 37a, die die Speicherteile der Elektroden
bilden, und einen Al- (oder Poly-)Teil 36b bzw. 37t>,
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« 9
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die die Ubertragungsgebiete definieren und ausserhalb der
Figuren mit den Teilen 36a bzw. 37a kurzgeschlossen sind.
Auf. gleiche Weise wie in den Reihenregistern A, B ist unter den Teilen 36b, 37t>
eine zusätzliche p-Implantation (38) zum Erhalten einer Potentialsperre und damit der gewünschten
Richtung im Ladungstransport ausgeführt. Die erste karnmförmige Elektrode 19 enthält einen Teil 19a, der in der
unteren Verdrahtungsschicht ausgeführt ist, die polykristalline Siliciumschicht und einen zwischen diesem Teil 19a und
der letzten Taktelektrode 37 liegenden Teil 19b, der in der Al-Verdrahtungsschicht ausgeführt und mit dem Teil 19a
kurzgeschlossen ist. Unter dem Elektrodenteil 19b ist wieder
eine p-Implantation zum Erhalten einer Potentialsperre
angebracht.
Die zweite kammförmige Elektrode 21 ist gleichfalls
in der unteren (Poly-)Verdrahtungsschicht ausgeführt.
Die Finger 20 des Kammes I9 erstrecken sich über
den Kanälen 1a und die Finger 22 des Kammes 2 1 über den Kanälen 1b des Parallelabschnittes. Über dem Zwischenraum
zwischen den Fingern 20 des Kammes 19 einerseits und des Kammes 21 andererseits ist die Steuerelektrode 39 angeordnet;
über dem Zwischenraum zwischen den Fingern 22 des Kammes 21 einerseits und des Kammes 19 andererseits liegt
die Steuerelektrode 4o. In den genannten Zwischenräumen
2s kann, wie in den Fig. 2 - h angegeben ist, auch eine pimplantierte
Zone 38 zum Erhalten des gewünschten Oberflächenpotentials
beim Anlegen von Taktspannungen mit demselben Spannungswert wie der der übrigen anzulegenden Taktspannungen
angebracht sein.
Vor dem Ausgangsregister B befindet sich das auch in Fig. 6 dargestellte Ubertragungsgatter 23, das in der
Al-Verdrahtungsschicht ausgeführt ist. Unter diesem Ubertragungsgatter
ist ebenfalls eine p-leitende Zone 38 zum
Erhalten des gewünschten Oberflächenpotentials angebracht. Zwischen dem Ubertragungsgatter 23 und der zweiten
kammförmigen Elektrode 21 ist nach der Erfindung eine zusätzliche
Elektrode kl angebracht. Diese Elektrode is L auf
gleiche Weise wie die Elektroden 36, 37 aus zwei Teilen,
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PHN 10 20ό "3**/*yy4 *"* """ "***"** 11.11.1982
und zwar einem in PoIy-Si ausgeführten Teil 4ia, der eine
Speichersteile in dem Halbleiterkörper definiert, und einem
in Al ausgefüh±ten Teil, der zusammen mit der unterliegenden p-implantierten Zone ein Ubertragungsgebiet definiert,
aufgebaut. Die Elektrode kl bildet Pufferstellen, in denen
zeitweilig Ladungspakete gespeichert werden können, bevor •sie zu dem (noch nicht leeren) Reihenausgangsregister B
transportiert werden. Dadurch kann der Einfluss von Verzögerungen,
die während dieses Transports von Ladungspaketen ssw Lschon den Fingern 22 und dem Reihenausgangsregister B
auftreten könnten, eliminiert werden. Dazu ist die Breite der Pufferelektrode 41 oder wenigstens des Teiles 4ia, der
den Speicherteil im Halbleiterkörper definiert, viel kleiner
als die Länge der Finger 20, 22 gewählt. In einer besonderen
Ausführungsform war die Breite des Streifens 41a etwa 5/um,
gleich wie die Breite der Streifen 36a und 37 und die
Breite der Basisteile der kammförmigen Elektroden 19» 21. Die Länge der Finger der Kämme 19, 21 betrug in dieser Ausführungsform etwa T2yum. Nach der bereits genannten Gleichung
'.. kh2 , -.
λ
Ί = (nach der L dem Quadrat von L proportional ist)
ergab dies Ladungsübertragungszeiten von etwa 20 nsec bei
L = 5yum und von etwa 100 nsec bei L ^12/Um.
Zur Verdeutlichung des mit der Erfindung erreichten Effekts ist in Fig. 5 ein Schema von Taktspannungen ge—
zeichnet, mit denen die Anordnung betrieben wird. Dabei ist angenommen, dass der Parallelabschnitt C mit einer
ZehnphaKenwelligkei-fcstaktspannung betrieben wird und- dass
an die letzte Elektrode des Parallelabschnittes, die vor
der kammförmigen Elektrode 19, 20 liegt, die Taktspannung
0 angelegt wird. Naturgemäss kann auch an die letzte
Elektrode eine der anderen Zehnph^isentaktspannungen angelegt
werden. Die Länge des Parallelabschnittes ist nicht von wesentlicher Bedeutung, aber kann einige Hundert Speicherstellen
betragen. Die Breite des Paralleiabschnittes beträgt z.B. 256 Kanäle, so dass die Länge der Re'ihenkanäle,
die mindestens 128 Ladungspakete enthalten können müssen, auch mindestens 2%6 Speicherstellen beträgt. Von den Reihen-
PHN 10 206 .^...I- ··· ·:· *.·*··*· 11.11.1982
/Ib
ausgangsregist er takt spannungen φ und 0 sind in Fig. 5
3 S
jeweils nur sieben Impulse dargestellt,, um eine — halbe —
Reihe auszulesen, aber es wird einleuchten, dass, um eine halbe Reihe von 128 Bits auszulesen, jeweils 256 Impulse
benötigt werden. Weiter wird angenommen, dass sich die Taktspannungspegel zwischen O und 5 V bei einer Substratspannung
von z.B. -2,5 V ändern. Bei diesen Spannungen wird ein Signal (Paket von Elektronen) von einer ersten auf
eine zweite Elektrode übertragen, wenn bei einer Spannung von 0 V an der ersten Elektrode der Wert 5 V an die zweite
Elektrode angelegt wird ("Drop-clocking"). Wenn die zweite Elektrode dann wieder zu 0 V zurückkehrt, bleiben die
Elektronen unter der zweiten Elektrode vorhanden.
Bei den in Fig. 5 gezeigten Spannungen ist die Wirkung wie folgt:
Zu to gelangt eine Reihe von Information unter die letzte mit 0 verbundene Elektrode im Parallelabschnitt.
Durch den Impuls 0 v wird diese Reihe zum Zeitpunkt ti
Jn.
unter die erste kammförmige Elektrode übertragen. Die Ladungspakete
werden wechselweise unter den Fingern 20 und unter den schmalen Teilen der Elektrode T9 zwischen den
1 2 Fingern gespeichert. Infolge der Impulse 0 und 0 an
der ersten Steuerelektrode 30, und dem Kamm 21 werden zu t2 die Pakete, unter den Fingern 20 gespeichert in den
Kanälen 1a, auf die zweite kammförmige Elektrode 21 übertragen.
Die Pakete, die in den Kanälen 1b unter der ersten kammförmigen Elektrode gespeichert sind, werden wegen der
Spannung 0 V an der zweiten Steuerelektrode 4θ nicht übertragen.
Zu t3 werden die übertragenen 128 Bits zu der
3fl Pufferelektrode 41 durch den Impuls 0, weitertransportiert.
Wenn das Reihenausgangsregister B leer ist, kann diese halbe Reihe in das Reihenausgangsregister B dadurch geschoben
werden, dass an das Ubertragungsgatter 23 der
Impuls 0* und zugleich an die Elektroden 15a, 15b die
Spannung von 5 V angelegt wird. Mit Hilfe der Taktspannungen
0 und 0 können die 128 Bits (halbe Reihe) durch das
Reihenausgangsregister B zu dem Ausgang der Anordnung transportiert werden, bis zu t7 alle Ladungspakete ausgelesen
BAD ORIGINAL
PHN IO 20ό ••i^'iV ·*· "*" "··*···· 11.11.1982
bind und das Register B wieder leer ist. Inzwischen kann dii· zurückgebliebene halbe Reihe, d.h. können die Ladungspakete unter dem ersten Kamm 19 in den Kanälen 1n, durch
^ 2
den impuls 0''., am zweiten Kamm 21, 22 und den Impuls 0
an der zweiten Steuerelektrode weitertransportiert werden. Diese Ladungspakete können unmittelbar auf das Puffergatter
-»1 durch den Impuls 0, (t6) übertragen werden. Durch
die verhältnismässig grosse Länge der Finger 22 ist die Zeitkonstante dieses Ladungstransports gross. Durch das
Vorhandensein des Puffergatters 41 kann dieser verhältnismätssig
träge Ladungstransport in dem Zeitintervall t6-t7 stattfinden, in dem die erste halbe Reihe noch ausgelesen
wild, so da«« mit dem trägen Ladungstransport noch keine
Verzögerungen in die Anordnung eingeführt werden. Wenn das
1^ ReLhenregister leer ist (t7) kann durch den Impuls 0mG die
zweite halbe Reihe von 128 Bits in das Reihenausgangsregister unter die Elektroden 16 geschoben werden. Durch die
geringe Breite der Elektrode 40 kann dieser Ladungstransport
jedoch schnell vor sich gehen. Das Reihenausgangsregister B ist dann wieder ganz gefüllt und kann auf übliche Weise
wieder betrieben werden. Während diese 128 Bits wieder
ausgelesen werden, kann von einer nächsten Reihe von Information die erste halbe Teilreihe, d.h. die Bits dieser
Reihe, unter den Fingern 20 und von dort zu den - schmalen Teilen des zweiten Kammes zwischen den Fingern und dann
zu dem Puffer ko transportiert werden. Der letztere Ladungstransport
kann schnell vor sich gehen, so dass nun nur ein kurzer Impuls an der Elektrode 40 genügend wäre (t8). Im
vorliegenden Beispiel ist aber der Impuls 0b zu t8 gleich
lang wie der Impuls 0, zu t7 gewählt, um die Taktsteuerung
möglichst einfach zu machen.
Es ist einleuchtend, dass vdie Erfindung nicht auf
das hier gegebene Ausführungsbeispiel beschränkt ist, sondern dass im Rahmen der Erfindung für den Fachmann noch vie.le
Abwandlungen möglich sind. So kann z.B. im beschriebenen Ausführungsbeispiel die Reihenfolge der Teilreihen umgekehrt
werden, wobei von einer ganzen Reihe von Information
PHN 10 206 -3^*··* *:· ":· *··*-:-· 11.11.1902
/Π*
zunächst die Ladungspakete in den Kanälen 1b und dann die Ladungspakete in den Kanälen 1a zu dem Ausgangsregister B
weitergeschoben werden.
Weiter kann die Erfindung in anderen matrix-
5 ähnlichen Strukturen als SPS-Speiehern, wie Bildsensoren,
angewandt werden.
Leerseite
Claims (4)
1.) Ladungsgekoppelte Anordnung mit einem Halbleiterkörper,
der an einer Oberfläche mit einem System nebeneinander liegender Parallelkanäle und mit einem Reihenausgangsregister
versehen ist, von dem aufeinanderfolgende
Ladungsspeicher/Ubertragungselemente mit je einem Parallelkanal zusammenwirken, wobei das System von Parallelkanälen
zwei Teilgruppen umfasst, derart, dass die Parallelkanäle abwechselnd zu einer ersten und einer zweiten Teilgruppe
gehören, und wobei auf der Oberfläche in der Nähe des Parallel/Reihenübergangs ein Elektrodensystem angebracht
ist, mit dessen Hilfe eine durch die Parallelkanäle transportierte
Reihe von Ladungspaketen in zwei den Teilgruppen entsprechende Teilreihen aufgespaltet werden kann, die
nacheinander in das Reihenausgangsregister geführt werden können, wobei dieses Elektrodensystem enthält:
eine erste kammförmige Elektrode mit einem Basisteil, der sich in Form eines Streifens quer über die Parallelkanäle
erstreckt und mit Fingern versehen ist, die sich von dem Basisteil her in der Ladungstransportrichtung oberhalb
_ 20 der Parallelkanäle der ersten Teilgruppe erstrecken; eine zweite kammförmige Elektrode mit einem Basisteil,, der
sich in der Nähe der Spitzen der Finger der ersten kamm-rförmigen
Elektrode erstreckt und mit Fingern versehen ist, die sich oberhalb der Parallelkanäle der zweiten Teilgruppe
interdigital zwischen den Fingern der ersten kammförmigen Elektrode bis in die Nähe des streifenförmigen
Basisteiles der ersten kammförmigen Elektrode erstrecken; eine erste und eine zweite streifenförmige Steuerelektrode,
die sich quer über die Parallelkanäle erstrecken, und auf die Oberfläche gesehen, in den Gebieten zwischen den
Fingerspitzon der ersten kummfttrrnlyeii Elektrode» umI dom
Duals toll dor sawelton kuitiiiil'Urin Lp1CUi KlokLrodu l>v,w. in dun
Gebieten zwischen den Fingerap±tzen der zweiten kamm—
BAD ORIGINAL
PHN 10 20b Ρ?'*' '· '- '*.'.'.*.. 11.11.1982
fcii-migen Elektrode und dem Basisteil der ersten kammförmigen
Elektrode liegen, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dein genannten Elektrodensystem und dem Reihenausgangskanal
eine dritte streifenförmige Steuerelektrode angebracht ist,
die sicli quer über die Parallelkanäle' erstreckt und mit den
unterliegenden Teilen der Parallelkanäle eine Anzahl von Pufferspeicherstellen bildet, in denen, wenn von einer Reihe
von Ladungspaketen eine erste Teilreihe in den Reihenausgangskanal geführt worden ist, die andere Teilreihe gespeichert
werden kann, bevor sie, wenn der Reihenausgangskanal wieder leer ist, in den Reihenausgangskanal geführt wird.
2. Ladurigsgekoppelte Anordnung nach Anspruch 1, dadurch
fiokomizi'iclme t, dass, in der Ladungstransportrichtung gesehen,
die wirksame Länge der dritten Steuerelektrode kleiner als die wirksame Länge der Finger der kammförmigen
Elektroden ist.
3. Ladungsgekoppelte Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Länge der dritten Steuerelektrode
etwa gleich gross wie die Länge des Basisteiles der zweiten kammförmigen Elektrode ist.
4. Ladungsgekoppelte Anordnung nach Anspruch 1, 2 oder
3, dadurch gekennzeichnet, dass die Parallelkanäle und der Reihenkanal einen Parallelabschnitt bzw. das Reihenausgangsregistor
eines SPS-Speichers bilden, wobei die Eingänge
der Parallelkanäle mit einem zweiten Reihenkanal gekoppelt sind, der das Reiheneingangsregister des Speichers bildet.
BAD-ORSGINÄt —
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| NL8105397A NL8105397A (nl) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | Ladingsgekoppelde inrichting. |
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| DE3243565C2 DE3243565C2 (de) | 1991-10-17 |
Family
ID=19838466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| DE19823243565 Granted DE3243565A1 (de) | 1981-11-30 | 1982-11-25 | Ladungsgekoppelte anordnung |
Country Status (11)
| Country | Link |
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| US (1) | US4669100A (de) |
| JP (1) | JPS58105573A (de) |
| AU (1) | AU550398B2 (de) |
| CA (1) | CA1187612A (de) |
| DE (1) | DE3243565A1 (de) |
| ES (1) | ES517701A0 (de) |
| FR (1) | FR2517472B1 (de) |
| GB (1) | GB2110874B (de) |
| IE (1) | IE54240B1 (de) |
| IT (1) | IT1208477B (de) |
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Legal Events
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| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8380 | Miscellaneous part iii |
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|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |