DE3012135A1

DE3012135A1 - Traeger fuer lithographische druckplatten und verfahren zur herstellung derselben

Info

Publication number: DE3012135A1
Application number: DE19803012135
Authority: DE
Inventors: Kazutaka Oda; Azusa Ohashi; Hirokazu Sakaki; Akira Shirai
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1979-03-29
Filing date: 1980-03-28
Publication date: 1980-10-09
Also published as: DE3012135C2; GB2118575B; GB2047274A; GB2118575A; GB2047274B

Description

W. 4-3 657/80 - Ko/Fe

Fuji Photo Film Co., Ltd. Kinarni Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)

Träger für lithographische Druckplatten und Verfahren zur Herstellung derselben

Die Erfindung betrifft Träger für lithographische Druckplatten und ein Verfahren zur Herstellung derselben. Insbesondere betrifft die Erfindung Aluminiumplatten mit einer rauhen Oberfläche für lithographische Pruckplatten sowie ein Verfahren zur Herstellung derselben.

Um Aluminiumplatten als Träger für lithographische Druckplatten verwenden zu körnen, wird die Oberfläche im allgemeinen zur Verbesserung der Haftung an der hierauf auszubildenden empfindlichen Schicht und zur Verbesserung

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BAD ORIGINAL

der Vasserbeibehaltungseigenschaft aufgerauht. Die Behandlungen zu js.-frauhung der Oberfläche werden als Körnung bezeichne"»; jjd eine mechanische Körnung, wie Kugelkörnung, Drahtkörnung, Bürstenkörnung und dgl., und elektrochemische Körnung, z. B. elektrolytische Ätzung, sind bekannt.

Da die nach diesen Verfahren gekörnte Aluminiumoberfläche verhältnismässig weich ist und leicht abgeschliffen wird, wird sie einer anodischen Oxidation zur Bildung eines Oxidfilmes darauf unterworfen. Die erhaltene Oberfläche der behandelten Al uminiump latte ist hart und zeigt eine ausgezeichnete Abriebbeständigkeit, eine gute Affinität für Wasser, eine gute Wasserbeibehaltung und eine gute Haftung an der lichtempfindlichen Schicht. Falls jedoch die anodische Oxidation allein nach der Körnung direkt anschliessend an die mechanische Körnung ausgeführt wird, wird der Oxidfilm durch unlösliche Substanzen, beispielsweise die Rückstände der Schleifmittel, Aluminiumschleifstäube oder Bürstenfragmente und dgl.., geschwärzt, die während der Körnungsbehandlunc ausgebildet wurden ,und infolgedessen ist das Aussehen geschädigt. Ferner wird die Empfindlichkeit der hierauf aufgetragenen empfindlichen Schicht geschädigt oder wird angleichmä.ssig, der visuelle Kontrast zwischen den Bild- und den JHchtbildbereichen wird selbst nach der Entwicklung schlecht und infolgedessen sind weitere Arbeitsgänge zur Plattenherstellung, wie Korrektur oder Entfernung und dgl., unvermeidlich. Ferner werden nicht nur die Arbeitsgänge bexm Drucken, beispielsweise die Steuerung des Wasser/Druckfarben-Ausgieiches und dgl., schwierig, sondern es wird auch der Mchtbildbereich leicht "verschmutzt. Aus diesem Grund wird eine Zwischenbehandlung allgemein nach der Körnung und vor der

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BAD 3:V"^c

anodischen Oxidation durchgeführt. Als Zwischenbehandlungen sind ein chemisches Ätzverfahren, wie in der US-Patentschrift 3 S34- 998j und ejn elektrochemisches Ätzverfahren in der US-Patentschrift 3 929 591 beschrieben. Im Fall der elektrochemischen Ätzung tritt; obwohl die behandelte Obeifläche etwas weiss im Vergleich mit der der Körnung und der anschliessenden anodischen Oxidation unterworfenen Aluminiuu·- oberfläche ist, praktisch keine Lichthofbildung auf und die Empfindlichkeit ist niedrig und gibt Störungen mit Nachbehandlungsarbeitsgängen, wie Korrektur oder Entfernung der Bilder. Ferner sind die Druckarbeitsgänge, z. B. Einstellung des Ausgleiches zwischen Wasser und Druckfarbe und d?l»i schwierig zu bewirken.

Im Fall der chemischen Ätzung wird, obwohl die Verunreinigung des Nicht-Bildbereiches und die Beständigkeit gegenüber Kratzerbildung verbessert werden, die auf der Aluminiumoberfläche ausgebildete feine Kornstruktur gebrochen. Infolgedessen werden die ausgezeichneten Oberflächeneigenschaften der Körnungsbehandlung geschädigt, die Wasserbehandlung und die Druckdauerhaftigkeit werden verschlechtert und feine Halbtonflecken von 1 bis 5 % können nicht wiedergegeben werden.

Eine erste Aufgabe der Erfindung besteht deshalb in dor Ausbildung von Trägern für lithographische Druckplatten Bit ausgezeichneter Affinität für Wasser und ausgezeichneten Wasserbeibehaltungseigenschaften sowie einem Verfahren zur Herstellung derselben.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in der Ausbildung von Trägem für lithographische Druckplatten, die

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lithographische Druckplatten mit verbesserter Druckdauerhaftigkeit ergeben, sowie mit einem Verfahren zur Herstellung derselben.

Eine v/eitere Aufgabe der Erfindung besteht in der Ausbildung von Trägern für lithographische Druckplatten, die lichtempfindliche lithographische Druckplatten mit hoher Empfindlichkeit und ausgezeichneten Plattenbetrachtungseigenschaften liefern.

Infolge ausgedehnter^zur Erzielung der vorstehenden Aufgaben durchgeführten Untersuchungen wurde nun gefunden, dass die Ilikrostruktur von feinen ungleichmässigen Oberflächen, die bei Vergrösserung, beispielsweise auf das 2000- bis 5000iache,auf Aluniniumträgern beobachtet werden, einen sehr starken Einfluss auf die Qualität der Platte als Träger für lithographische Druckplatten besitzenο Die vorliegende Erfindung liefert somit:

(1) ΕΙηθϊ] Sräger für lithographische Druckplatte^ "bestehend aus einer Alurainiuraplatte» welche eine rauhe_? aus Hügeln νωά Tiefstellen auf der Oberfläche dersel·= "beu ausgefeilte Oberfläche sowie eine Körnungsstrulctur "besitzt, wobei diese Hügel und Löcher einheitlich die= pergiert βϊώΊ nnä die nachfolgende Struktur besitself und

(2) ein Tsrfahren zur Herstellung eines Träger für eins Iitliograpl3ioeli9 Druolrplattöj welohes die TDechaniaolie Eoi=tjuag;

ler Oberflfiche einer Alizrainiiiopiattej, die e

. ρ

Λι-m £ TdG 20 fc/n~ Aluiaininra τοώ der 0 Ho ibilcviirrtf-' pJ>hs slelcferisoheii Stroms

Td ΰ Zu fc/n~ Aluiainiura τοώ der Ober-fläcbe ä^v Platte

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an die Platte in einer sauren wässrigen Lösung in der Weise, dass.die Menge der mit der Platte als Anode erzeugten Elektrizität grosser als die Menge der mit der Platte als Kathode erzeugten Elektrizitätsmenge ist» wobei die Elektrolyse in der Weise ausgeführt wird, dass die Stromdichte, falls die Platte als Anode geschaltet ist, nicht

weniger als etwa 20 A/dm beträgt und die Menge der mit

Platte als Anode erzeugten Elektrizität etwa 200 coulomb /dm oder weniger beträgt,
umfasst.

In den Zeichnungen stellen die

Fig. 1(a) eine mikroskopische Photographie der Oberfläche einer auf das 200Ofache vergrösse.rten mechanisch gekörnten Alurainiumplatte und die

Fig. 1 (b) einen Querschnitt entsprechend der Oberfläche der Fig. 1(a),

die Fig. 2(a) eine mikroskopische Photosraphie/auf das 200Ofache vergrösserten Aluminiumplatte, welche chemisch nach der mechanischen Körnung geätzt wurde, und

Fig. 2(b) einen Querschnitt entsprechend der Oberfläche der Fig. 2(a),

Fig. 3.(a) eine mikroskopische Photographie der Oberfläche einer auf das 200Ofache vergrösserten Aluminiumplette, welche elektrolytisch nach einer ersten mechanischen Körnung und anschliessenden chemicshen Ätzbehandlungen behandelt wurde, und

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—& -

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Fig. 3(b) einen Querschnitt entsprechend der Oberfläche der Fig. ⁷^a), und

Fig. *r eine- Ansicht der Spannungswellenformen, wobei (a) eine Sinuswelle, (b) eine rechteckige Welle und (c) eine Trapezoidwelle darstellen,
dar.

In der nachfolgenden Beschreibung wird die Erfindung im einzelnen anhand der beiliegenden Zeichnungen erläutert.

Fig. 1(a) stellt eine Photogi-aphie der Oberfläche einer nach einem Bürstenkörnungsverfahren gekörnten Aluminiunplatte dar, welche auf das 2000fache mit einem Rasterelektronen-Mikroskop vergrössert wurde, während die Fig. 1(b) eine Querschnittswiedergabe dieser Oberfläche zeigt. Aus der Fig. 1(b) zeigt sich deutlich, dass die mittels der Bürstenkörnung gerauhte Aluminiumplatte eine kontinuierliche Wellenform hat, die aus Hügeln und Tälern in verschiedenen Zyklen und Amplituden aufgebaut ist. In der Figur wird die Welle mit dem verhältnismässig langen Zyklus als primäre Struktur und die Welle mit dem kurzen Zyklus als sekundäre Struktur bezeichnet. Ein Merkmal der rauhen Oberfläche der. bürstengekörnten Alurainiumplatte liegt darin, dass die sekundäre Struktur,auf der primären Struktur in einer solchen Dichte ausgebildet wird, dass die Fläche der primären Struktur selbst nicht verbleibt. Der hier angewandte Ausdruck "Fläche der primären Struktur" bezieht sich auf das, welches als nicht-gestrichelte Wellen in der Fig. 1(b) dargestellt ist. Ferner ist die Richtung, worin die Kerbungen in der sekundären Struktur die primäre Struktur durchbrechen, wahllos und die Vertiefungen haben eine komplizierte zwei- oder dreidimensionelle Anordnung,

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obwohl dies nicht aus den in Fig. 1(b) angegebenen zwei Abmessungen gesehen werden kann. Diese komplizierte Sekundärstruktur ist ein wichtiges Merkmal der rauhen Oberfläche der mechanisch gekörnten Alurainiumplatte. Da die Oberfläche eine derartige komplizierte Struktur besitzt, zeigen die auf Grund der anodischen Oxidation dieser Oberfläche hergestellten lithographischen Druckplatten die vorstehend geschilderten Fehler.

Fig. 2(a) zeigt eine Photographie der Oberfläche einer Aluminiumplatte, die chemisch nach einer mechanischen körnung geätzt wurde, welche auf das 200Ofache mittels eines Rasterelektronenmikroskops vergrössert wurde. Die Fig. 2(b) zeigt einen Querschnitt der Oberfläche. Wie aus Fig. 2(b) ersichtlich, verschwindet die Sekundärstruktur in der Oberfläche der mechanisch gekörnten Aluminiumplatte und eine schwach geschweifte Wellenausbildung, welche nachfolgend als Hügel bezeichnet wird, wird gebildet. Die AlumiDiumplatte, die einer chemischen Ätzung nach der mechanischen Körnung unterliegt, hat eine Oberfläche mit hohem Weissgrad nach der anodischen Oxidation und eine lithographische Druckplatte mit nur geringer Verunreinigung der Nicht-Bildbereiche kann erhalten werden. Da jedoch die Sekundäretruktur verschwunden ist, schälen sich die Bildteile auf der lithographischen Druckplatte leicht von der Oberfläche dfis Trägers unter den physikalischen Krafteinwirkungen des Druckes ab, und infolgedessen wird die Druckdauerhaftigkeit geschädigt.

Fig· 3 (a) stellt eine Photographie der Oberfläche einer Aluminiuraplatte dar, welche einer elektrolyt}schon Ätzungsbehandlung nach der ersten mechanischen Körnung

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und anschliessend chemischen Ätzungsbehandlung unterzogenen wurde, welche auf das 2000JTache durch ein Rasterelektronenmikroskop vergrößert wurde. Die Fig. 3(b) stellt einen Querschnitt der Oberfläche dar. Wie sich aus den Fig. 3 (a) und 3(b) ergibt, tritt eine neue Sekundarstruktur anstelle der durch mechanische Körnung an dar Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildeten Sekundarstruktur ein, bei der die nach der chemischen Ä'tzung anschliessend an die mechanische Körnung ausgebildete Primärstruktur überwiegt. Diese neue Sekundärstruktur ist bemerkenswert unterschiedlich gegenüber der vorstehend abgehandelten Sekundarstruktur, d. h. äpr durch mechanische Körnung ausgebildeten Sekundarstruktur, da die Richtung, womit die Kerbungslöeher die Hügelfläche treffen, nahezu senkrecht hierzu ist und die Kerbung verhältnismässig sparsam dispergiert ist, d. ho mit solcher Frequenz erfolgt, dass die Hügel verbleiben, obwohl die" Eerbungen einheitlich vorliegen.

Ba die Aluminiumplatte mit der in den Fig. 3(a).und

3(b) geseigten Sekundärstruktur nach der anodischen Oxidation einen liehen Ueissgrad besitzt, liefert eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit einer darauf ausgebildeten empfindlichen ScMent eine hohe Empfindlichkeit und die "Hieraus erhaltene lithographische. Druckplatte hat den 7or-tG.il, dass die Anwesenheit unnötiger-Bildbereiehe loiett dureii den hohen Kontrast zwischen den Bild= berei.Gli^zi vn(i n@a Nxelrfc-Biläbsreicnen unterschieden werden !rann. Toxnc-v h^nd-tzt diss© Iitb.og2?ßphiseh® Bruclrplati-s θ Ins t"3h'~ ^r'r»«rIi"ö'?.üG2'Iisf"üi-fiIsGi"fe₀ öa aie Βϋοο^Γ^ΙοΙι® Ri.cli auf ⁽ΐ3?\ιηβ. Ü3?: 6i$ Behimä'a^s-tsnuztns au3bild'?üä&ii IxsrbCT

Dichte verteilt sind, dass die Hügel verbleiben, wird eine lithographische Druckplatte mit höchstens geringer Verunreinigung in den Nicht-Bildbereichen hergestellt. Ferner stellt die Tatsache, dass die Kerbungsrichtung der Kerbungen, die die Sekundärstruktur ausbilden, einfach im Vergleich zum Fall der durch mechanische Körnung ausgebildeten Sekundärstruktur i^t, einen der Gründe dar, weshalb eine lithographische Druckplatte mit höchstens einer geringen Verunreinigung, wie vorstehend beschrieben, gebildet werden kann.

Diese elektrochemische Körnung wird vorzugsweise so durchgeführt, dass die Porendurchmesser entsprechend einem 5%- bzw.95%-Porendurchmesser auf der kumulativen Häufigkeitskurve der ausgebildeten Körnung jeweils 3/Um oder weniger, vorzugsweise 0,5 bis 3/U bzw. 7/um oder weniger, vorzugsweise 5 bis 7/um, betragen. Ferner beträgt die bevorzugte Dichte der Nadellöcher oder Kerbungen 10 bis

ο ρ

10 Fadellöcher oder Kerbungen/cm .

Trotz der Kenntnis, dass eine Aluminiumplatte mit einer Körnung innerhalb des vorstehenden Bereiches auf der Oberfläche derselben für die Anwendung als Träger für eine lithographische Druckplatte nicht geeignet ist, wie in der britischen Patentschrift 2 019 022 A beschrieben, wurde nun in völlig überraschender Weise gefunden, dass eine Aluminiumplatte mit einer derartigen Körnung, welche durch eine Kombination von mechanischer Körnung und elektrochemischerKörnung entsprechend dem erfindungsgemassen Verfahren hergestellt wurde, ganz ausgezeichnet als Träger für lithographischö Druckplatten ist. Da zusätzlich die Ausbildung der Oberfl&ehe mit einer derartigen Körnung durch eine elektrochemische Körnung relativ leicht ist, ist das Ver-

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--4Θ—

fahren gemäss der vorliegenden Erfindung bemerkenswert vorteilha* ■ jm Gesichtspunkt der Vereinfachung der Herstellung.

Die vorstehende kumulative Häufigkeitskurve des Porendurchmessers kann durch Vergrösserung der Oberfläche eines Stückes der elektrochemisch gekörnten Aluminiumplatte auf das 100- bis 70Ofaehe durch Anwendung eines Elektronenmikroskopes, beispielsweise vom Rastertyp, Bestimmung der Durchmesser und der Anzahl der Poren in einer Einheitsfläche und anschliessende Auftragung des Porendurchmessers Com) als Abszisse und der kumulativen Häufigkeit (%) als Ordinate erhalten werden.

Das Verfahren zur Herstellung von l'rägern für lithographische Druckplatten gemäss der Erfindung wird nachfolgend im einzelnen erläutert.

Die erfindungsgemäss eingesetzte Aluminiumplatte umfasst reine Aluminiumplattenund Aluminiumleg5erungspla.tten. Als Aluminiumlegierungen können die verschiedensten Legierungen verwendet v/erden. Beispiele sind Legierungen von Aluminium und Metallen, v/ie Silicium, Kupfer, Mangan. Magnesium, Chrom, Zink, Blei_t Wismut oder llicke.l und dgl» Diese Massen können Verunreinigungen in Mengen enthalten, welche im Hinblick auf die Zugabe bestimmter Eisen- und Titanmengen ausser Betracht bleiben können.

Spezifische Beispiele für geeignete Aluminiumlegierungen sind in der nachfolgenden Tabelle aufgeführt, worin sämtliche Zifferwerte als Gewichtsprozent angegeben sind.

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Tabelle

Aluminium legierung Nr.	Cu	Si	1	0,6	0	Fe	■ν··· Λ5	Mn	Mg	0,05	,8	Zn	Cr	Ti	03	Al
1050*	0,05	0,25	0,5	0,40-0	0,40	,8 0,7	0,05			,8	0,05	—	0",		>99,5
1100*	0,05-0,20	0,40	To" .	0,5	00,05		—	,2	0,10	—	—		>99,Ο
3003	0,05-0,20	- 0,7	1,0-1,5		,2-1	,9	0.10	—	—		Rest
2024	3,8-4,9	0,5	0,3-0,9	1	,2-2	0,25	0,10	—		Rest
5052	0,10	0,10	2	,8-1	0,10	0,1S-O,35	—	15	Rest
■ 6061	0,'5-0,40	0,15	0	,1-2	0.25	0,04-0,35	ο,	20	Rest
ω 7075 σ ο	1,2-2,0	0,30	2		5,1-6,1	0,18-0,35	ο,	Rest

*fj)ie anderen Mengen ausser denjenigen von Al , κ

geigen Maximalmengen an. ^- τ

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Vor der mechanischen Körnung wird die Alurainiumoberfläche allgemein entfettet und die Aluminiumoberfläche wird "behandelt, um eine saubere Alurainiuraoberflache freizulegen. Zum ersteren Zweck werden Lösungsmittel, wie !Drichloräthylen und dgl», sowie oberflächenaktive Mittel verwendet. Zum letzteren Zweck wurde ein Alkaliätzverfahren unter Anwendung von Mitteln, wie ITetriumhydroxid oder Kaliumhydroxid in weitem Umfang verwendet. ¥enn das Valzöl nicht stark anhaftet, kann die Entfettungsbehandlung vor der mechanischen Körnung auch weggelassen werden.

Gemä&d der Erfindung wird es möglich, eine elektrochemische Körnung (elektrolytisehe Ätzung) anzuwenden, welche eine Körnung umfasst, "bei der ein elektrischer Strom durch einen Salzsäure oder Salpetersäure umfassenden Elektrolyt geleitet wird, mechanische Körnungsverfahren, wie Nadelbürstenkörnung, welche ein Kratzen der Altiminiumoberf lache mit Metalldrähten uafasst, eine Kugelkörnung, welche eine Körnung der Alurainimmoberflache mit Sch3eifkörnern und Schleifmitteln umfasst, oder eine Bürstenkörnung, welche eine Körnung der Oberfläche mit einer Nylonbürste und dgl. umfasst. Ein Bürstenkörnungsverfahren wird jedoch "bevorzugt, da es für die kontinuierliche Massenherstellung geeignet ist. Jedoch kann keine Oberflächenstruktur, die ein Charakter ist ikura der vorliegenden Erfindung darstellt, erhalten werden, falls irgendeines der vorstehend abgehandelten Verfahren zur Körnung oder Kombination hiervon allein angewandt wird. Die gekörnte Oberfläche besteht aus einer feinen Struktur (Sekundärstruktur), welche durch mechanische Ätzung geglättet ist, und einer aufgerauhten Fläche (Primärstruktur), welche durch die chemische Ätzung nicht zerstört wurde.

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Unter diesen Verfahren wiad die Bürstenkörnung be sondern bevorzugt. Einzelheiten für die Bürstenkörnung sind in der japanischen Patent-Veröffentlichung 4004*7/75 und der US-Patentschrift 3 891 516 beschrieben.

Die Körnung wird vorzugsweise so durchgeführt, dass die durchschnittliche Rauheit an der Mittellinie (Ra) des Trägers 0,4 bis 1,0/Um beträgt. Die hier angegebene durchschnittliche Rauheit an der Mittellinie wird gemäss JIS-B O6OI-197O in Mikrometer entsprechend der folgenden Gleichung angegeben:

Ra = j_iS\ f(x) dx ,

worin 1 die aus der Rauheitskurve in Richtung der Mittellinie entnommene Länge und y = f(x) die Rauheitkurve bedeuten, wobei die Mittellinie der Länge als X-Achse und die Längsrichtung als Y-Achse genommen werden.

Das Ausmass der mechanischen Körnung zur Ausbildung der vorstehend angegebenen Ra-Bereiches lässt sich leicht vom Fachmann bestimmen, wenn die Bedingungen der elektrochemischen, anschliessend anzuwendenden Körnung und die woiteren zusätzlich anzuwendenden Behandlungen bestimmt werden.

Die der Körnungsbehandlung unterworfene Aluminiumplatte wird dann chemisch mit einer Säure oder einem Alkali geätzt. Im Fall der Anwendung einer Säure als Ätzungsmittel ist ein sehr langer Zeitraum zur Zerstörung der Feinstruktur erforderlich und infolgedessen ist dies industriell nachteilig zur Ausführung der vorliegenden Erfindung. Das

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-Al·

Verfahren kann unter Anwendung eines Alkalis als Ätzmittel verbessert werden.

Als geraäss der Erfindung geeignete alkalische Mittel seien Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumaluminat, Natriummetabοrat, Natriumphosphat, Kaiiumhydroxid und Lithiumhydroxid und dgl. aufgeführt- Die bevorzugten Konzentrations- und Temperaturbereiche sind 1 bis 50 Gew.% bzw. 20 bis 100° C und es wird besonders bevorzugt, einen Zustand

anzuwenden, bei dem Al in einer Menge von etwa 5 bis

P ·· P

20 g/m gelöst wird. Durch Ätzung vcn 5 g/c oder mehr

des Aluminiums kann eine rauhe Oberfläche, die aus der Primärstruktur selbst, d. h. Hügeln besteht, gebildet werden.

Nach der Ätzung wird eine Säurewäsche durchgeführt, um den Schmutz von der Oberfläche zu entfernen. Als Säuren können Salpetersäure, Schweftisäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure und Borfluorsäure verwendet werden.

Die in der vorstehenden Weise behandelte Aluminiumplatte wird dann einer elektrolytischen Ätzung unterworfen, um eine neue Sekundärstruktur auszubilden. Diese Behandlung wird durch Elektrolyse der Platte in einer sauren wässrigen Lösung von beispielsweise Salzsäure, Salpetersäure oder

Gemischen hiervon, mit einer Elektrizitätsstärke von

ο
200 coulomb /dm oder weniger, die mit einer Stromdichte

von nicht weniger als 20 A/dm aufgebracht wird, wobei die Platte als Anode unter Anwendung einer geeigneten Gegenelektrode, beispielsweise aus Graphit oder einer Aluminiumplatte und dgl., besteht, so dass die Elektrizitätsmenge

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mit der Platte als Anode, die nachfolgend als Qa bezeichnet wird, grosser als die Elektrizitätsmenge mit der Platte als Kathode, die nachfolgend als Qc bezeichnet wird, i st.

Der gemäss der vorliegenden Erfindung eingesetzte elektrische Strom in wechselnder Wellenform ist eine Wellenform, die durch alternierende Änderung der Polarität der positiven und negativen Elektroden erhalten wird, und es können beliebige Wellenformen eingesetzt werden, sofern Qa gleich oder grosser als Qc ist. Ide bevorzugte^eine derartige Stromwellenform ergebende Spannungswellenform ist eine, bei der die anodische Spannung (Va) grosser als die kathodische Spannung (Vc) ist. Me Fig.4 zeigt typische Spannungöwellenfcrmen unter den bevorzugten Spannungswellenformen, wobei (a) eine Sinuswelle, (b) eine rechteckige Welle und (c) eine ^rapezoidwellt darstellen. In diesen Fällen wird es bevorzugt, der. anodischen Halbkreiszeitraum (Fig. 4, t.) so einzustellen, dass er gleich oder niedriger als der kathodische Halbkreiszeitraum (Fig. &, t_c) ist. Durch Änderung des Verhältnisses Qc/Qa durch Regulierung von Spannung und Stromdichte kann die Mikrostruktur der porösen Oberfläche (Durchmesser und Dichte der Nadellöcher oder Kerbungen) in geeigneter-Weise gesteuert werden. Falls ferner· "Va" konstant ist und "Vc." zunimmt, zeigt auch der Durchmesser der Naüellöcher oder Kerbungen eine Neigung zur Zunahme. Falls umgekehrt "Vc" konstant ist und "Va" zunimmt, zeigt der Durchmesser der Kerbungen oder Nadellöcher eine Neigung zur-Abnahme. Der Xadolloch- oder Kerbungsdurchmecser zeigt auch eine Neigung zur Zunahme, wenn die Temperatur der Behandlung erhöht wird oder die Stromdichte gesenkt wird. Es wird dadurch möglich, eine

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•Μ

gekörnte Oberfläche auszubilden, deren Porendurchmesser entsprechend 5 % bzw.95 % der kumulativen Frequenzkurve des Porendurchmessers der gebildeten Körnung jeweils 3/Um oder weniger bzv/.7/um oder weniger sind.

Gemäss der Erfindung ist es notwendig, die vorstehend abgehandelte elektrolfische Behandlung in der Weise auszuführen, dass die Nadellöcher oder Kerbungen einheitlich auf den vorstehend abgehandelten Hügeln dispergiert sind, jedoch die Hügel (Primärstruktur) verbleiben.

Falls die Nadellöcher über die gesamte Oberfläche ausgebildet werden, so dass die Hügel verschwinden, geht die charakteristische Eigenschaft, dass die Nicht-Bildbereiche schwierig zu verschmutzen sind, verloren. Falls die Nadellöcher nicht einheitlich verteilt sind oder sie in örtlichen Ansammlungen ausgebildet sind, wird es schwierig, eine geeignete Druckdauerhaftigkeit und Tönungswiedergabe zu erreichen.

Als Elektrolytbad kann eine Lösung von Salzsäure oder Salzen hiervon und/oder Salpetersäure oder Salzen hiervon verwendet werden. Erforderlichenfalls können Hemmstoffe oder Stabilisatoren, wie die in der CJS-Patentechrift 3 755-116 beschriebenen, die in der US-Patentschrift 3 980 530 beschriebene Schwefelsäure_r_die in der japanischen Patentanmeldung ".-1653/76 beschriebene Borsäure und die in der DE-OS 22 50 275 und dgl. beschriebene Phosphorsäure zu der vorstehend beschriebenen Lösung zugesetzt werden.

Der Elektrolyt kann in einer Konzentration von etwa 0,1 bis 4· Gew.% verwendet werden. Ferner liegen Λχβ Werte

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sowohl von Va als auch Vc, die zur Ausbildung der gewünschten . Struktur geeignet sind, jeweils im Bereich von etwa 1 bis 50 V und vorzugsweise etwa 5 bis 30 V. Ferner liegt jeder Wert von Qa und Qc im Bereich von 200 Coulomb/

ο
dm oder weniger und vorzugsweise etwa 70 bis 200

Coulomb/dm . Falls er mehr als 200 CouLomVdm beträgt, ist eine Verunreinigung der Nicht-Bildbereiche schwierig zu verhindern. Die Temperatur der Behandlung liegt üblicherweise zwischen etwa 10° C und etwa 4-5° C, vorzugsweise etwa 15 bis 4-5° C.

Um eine einheitliche Dispergierung der Nadellöcher oder Kerbungen zu erreichen, liegt das Verhältnis Qc/Qa vorzugsweise im Bereich von etwa 0,5/1 bis 1,0/1 und am stärksten bevorzugt etwa 0,7/1 bis 0,95/1· Es ist notwendig,

dass die Anodenstromdichte bei der Elektrolyse etwa

2

20 A/dm oder mehr und vorzugsweise etwa 25 bis 70 A/dm

beträgt. Falls die AnodenStromstärke weniger als etwa

20 A/dm beträgt und der Betrag der anodischen Elektrizi-

tat niedriger als etwa 200 Coulomb/dm ist, iat es schwierig, eine ausreichende Druckbeständigkeit, Wasserbeibehaltung und Wiedergabe von feinen Haibtonflecken beizubehalten.

Die in der vorstehenden Weise behandelte Aluminiumplatte kann als Träger für 3ithographische Druckplatten, so wie sie ist, verwendet werden, kann jedoGh auch weiterhin durch anodische Oxidationsbehandlung oder chemische Behandlung bearbeitet werden.

Die anodische Oxidationsbehanulung kann kurz nach der Wasserwäsche der in der vorstehenden Weise behandelten

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Alutniniumplatte durchgeführt werden, jedoch wird es bevorzugt," eine Entschmutzung zur Entfernung des Schmutzes auszuführen, der auf der Oberfläche der elektrolytisch behandelten Aluminiumplatte ausgebildet ist. Die Entschmutzung wird durch Kontaktieren der Oberfläche der Aluminiumplatte mit einer wässrigen Lösung von Säuren oder Alkalien beispielsweise durch Eintauchen bewirkt. Beispiele für Säuren umfassen Phosphorsäure, Schwefelsäure und Chromsäure sowie Gemische hiervon. Als Alkalien ist es möglich, die gleichen Substanzen zu verwenden, wie sie zur chemischen Ätzung nach der mechanischen Aufrauhungsbohandlung eingesetzt werden. Hiervon umfasst ein besonders bevorzugtes Entschmutzung sver fahr en die Kontaktierung des Trägers mit Schwefelsäure in einer Konzentration von etwa Λξ> bis 65 Gew.% bei 50 bis 90° C, wie in der japanischen Patentanmeldung 12739/78 beschrieben. Das in der japanischen Patent-Veröffentlichung 27123/73 beschriebene alkalische Ätzverfahren kann gleichfalls angewandt werden.

Die anodische Oxidation kann nach an sich bekannten Verfahren ausgeführt werden. Beispielsweise ist es möglich, einen anodischen Oxidationsfilm auf der Oberfläche der Aluminiumplatte durch Anlegung eines Gleichstromes oder eines Wechselstromes an die Aluminiumplatte in wässriger Lösung .oder nicht-wässriger Lösung von einem oder mehreren der Materialien Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, SuIfaminsäure und Benzolsulfonsäure.und dgl. aufζ ubringen.

Obwohl die Bedingungen entsprechend dem eingesetzten Elektrolyt variieren, wird es allgemein bevorzugt, dass die Konzentration des Elektrolyts etwa 1 bis 80 Gew.%,,

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die I¹Iussigkeitstemperatur etwa 5 bis 70° C, die Stroπιο
dichte etwa 0,5 bis 60 A/dm , die Stromstärke etwa 1 bis 100 V und die Elektrolysezeit etwa 30 Sekunden bis 50 Minuten betragen.

Als anodische Oxidationsbehandlung wi^d es besonders bevorzugt, ein Verfahren anzuwenden, welches die Durchführung der anodischen Oxidation in Schwefelsäure mit

utnf a ßt
hoher Stromdichte', v.ie in der britischen Patentschrift 1 412 768 beschrieben, oder eir Verfahren anzuwenden, welches die Ausführung der anodischen Oxidation unter Phosphorsäure als Elektrolytbad umfasst, wie in der US-Patentschrift 3 511 611 beschrieben.

Die der anouischen Oxidation unterworfene Aluminiumplatte kann durch Eintauchen in eine wässrige Alkali. silicatlösung, beispielsweise Natriumsulfat, wie in den US-Patentschriften 2 714 066 und 3 181 461 beschrieben, behandelt werden oder kann mit einer Unterüberzugsschicht, die aus hydrophiler Cellulose,ζ. B. Carboxymethylcellulose und dgl., mit dem Gehalt von wasserlöslichen Metallsalzen, beispielsweise Zinkacetat und dgl., wie in der US-Patentschrift 3 860 426 beschrieben, aufgebaut ist, ausgestattet werden.

Auf den Trägern für die lithographischen Druckplatten gemäss der Erfindung können bekannte lichtempfindliche Schichten zur Bildung lichtempfindlicher lithographischer Drucke ausgebildet werden (vorsensibilisierte Platten). Diese lithographischen Druckplatten besitzen ausgezeichnete Eigenschaften.

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Massen für die vorstehend angegebenen lichtempfindlichen Schichten umfassen die folgenden.

(1) Aus einem Diazoharz und einem Binder aufgebaute empfindliche Schicht:

Als negativ arbeitende lichtempfindliche Diazoverbindung wird ein sogenanntes lichtempfindliches Diazoharz, d.h. ein Kondensationsprodukt aus Formaldehyd und einem Diphenylatnin-p-diazoniumsalz, welches das Reaktionsprodukt aus einem Diazoniurasalz und eirem organischen Kondensationsmittel mit einer reaktiven Carbonylgruppe, wie Alöol und Acetal darstellt, wie in den US-Patentschriften 2 063 631 und 2 667 4-15 angegeben, bevorzugt verwendet. Andere brauchbare kondensierte Diazoverbindungen sind in den japanischen Patent-Veröffentlichungen 48001/74-, 45322/74 und 45 323/74 aufgeführt. Diese lichtempfindlichen Diazoverbindungen werden üblicherweise in Form von wasserlöslichen anorganischen Salzen erhalten und infolgedessen können die Verbindungon als wässrige Lösung derselben aufgezogen werden. Ferner können diese wasserlöslichen Diazoverbindungen in die entsprechenden praktisch wasserunlöslichen Diazoharze durch Umsetzung mit aromatischen oder aliphatischen Verbindungen mit einer oder mehreren phenolischen Hydroxygruppen und/oder Sulfogruppen nach dem in der japanischen Patent-Veröffentlichung 1167/72 beschriebenen Veifahren..überführt werden, und die in dieser Weise hergestellten wasserunlöslichen lichtempfindlichen Diazoharze können in der lichtempfindlichen Schicht verwendet werden.

Beispiele für Reaktionsprodukte mit den vorstehend angegebenen phenolischen Hydroxylgruppen sind Diphenolsäuren,

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Hydroxybenzophenon, 4,4-Bis-(4'-hydroxyphenyl)-pentansäure, Resorcin und Diresorein, die auch Substituenten besitzen können. Zu den Hydroxybenzophenoren gehören 2,4— Dihydroxybenzophenon, 2-Hydroxy-4~methoxybenzophenon, 2,2'-Dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenon und 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon. Als bevorzugte Sulfonsäuren seien aromatische Sulfonsäuren, wie Benzulsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Xylolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, Phenolsulfönsäure, Naphtholsulfonsäure und Benzophenonsulfonsäure sowie deren lösliche Salze, beispielsweise die Ammoniumsalze und Alkalisalze, aufgeführt. Die sulfönsäurehaltigen Verbindungen können substituiert sein, allgemein mit einer niedrigen Alkylgruppe, Nitrogruppe, Halogengruppe und/oder einer v/eiteren Sulfogruppe. Bevorzugte Beispiele für derartige Verbindungen sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfönsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2,5-Diine thylbenzolsulf onsäure, Natriumbenzolsulfonat, Naphbhalin-2-sulfönsäure, 1-Naphthol-2-(oder 4)-sulfonsäure, 2,4~Dinitro-1-naphthol-7-sulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfönsäure, Natrium-m-(p'-anilinophenylazo)-benzolsulfonat, Alizarinsulfonsäure, o-Toluidin-msulfonsäure und Äthansulfönsäure. Die Sulfonsäureester von Alkoholen und deren Salze sind-gleichfalls brauchbar. Derartige Verbindungen stehen leicht als anionische oberflächenaktive Mittel zur Verfügung. Beispiele hierfür sind die Ammoniumsalze oder Allcalisalze von Laurylsulfat, Alkylarylsulfat, p-Nonylphenylsulfat, 2-Phenyläthylsulfat, Isooctylphenoxydiäthoxyäthylsulfat und dgl.

Diese praktisch wasserunlöslichen lichtempfindlichen Diazoharze werden hergestellt und als Niederschläge gewonnen, indem die vorstehenden wasserlöslichen licht-

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empfindlichen Diazoharze und praktisch ein Äquivalent einer wässrigen Lösung der vorstehend aufgeführten aromatischen oder aliphatischen Verbindungen vermischt werden.

Die in der britischen Patentschrift 1 312 925 aufgeführten Diazoharze können gleichfalls verwendet werden.

Das am stärksten bevorzugte Diazoharz besteht aus 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonat, welches das Kondensationsprodukt von p-Diazophenylarain und Formaldehyd darstellt.

Es ist günstig, wenn das Diazoharz in der lichtempfindlichen Schicht in einer Menge von etwa 5 bis 50 Gew.% vorliegt. Falls·d?r Gehalt des Biazoharzes niedriger ist, nimmt: die Lichtempfindlichkeit selbstverständlich zu, Jedoch wird die Lagerungsstabilität verringert. Der optimale Gehalt des Diazoharzes beträgt etwa 8 Gew.% bis etwa 20 Gew.%.

Ferner können verschiedene hochmolekulare Verbindungen als Binder verwendet werden, jedoch werden im Rahmen der Erfindung Binder mit Hydroxylgruppen, Amingruppen, Kohlenstoff gruppen, Amidgruppen, SuIfonamidgruppen_>aktiven Methylengruppen, Thioalkoholgruppen, Epoxygruppen und dgl. bevorzugt verwendet. Beispiele für bevorzugte Binder sind der in der britischen- Patentschrift 1 350 521 beschriebene Shellak, Polymere mit dem Gehalt an Hydroxyäthylacrylateinheiten oder Hydroxyäthylmethacrylateinheiten als wiederkehrende Einheit entsprechend der britischen Patentschrift 1 460 978 und der US-Patentschrift 4 123 276, die in der US-Patentschrift 3 751 257 beschriebenen Polyamidharze,

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3012195

Phenolharze und Polyvinylacetalharze, wie z. B. Polyvinylformalharz, Polyvinylbutyralharze und dgl., wie in der britischen Patentschrift 1 074 392 beschrieben, die in der US-Patentschrift 3 660 097 beschriebenen linearen Polyurethanharze, phthalierte Harze von Polyvinylalkohol, durch Kondensation von Bisphenol A und Epichlorhydrin gebildete Epoxyharze, Polymere mit dem Gehalt einer Aminogruppe, wie Polyaminostyrol und Polyalkylaminoacrylat oder -methacrylat und Cellulosederivate, wie Celluloseacetat, Cellulosealkyläther, Celluloseacetatphthalat und dgl.

Die das Diazoharz uni den Binder enthaltende Masse kann weiterhin Zusätze, wie den in der britischen Patentschrift 1 041 463 beschriebenen pH-Indikator, die in der US-Patentschrift 3 236 646 beschriebenen Phosphorsäuren, sowie Farbstoffe enthalten.

(2) o-Chinond3 endverbindungen enthaltende lichte mp fin dli ehe Schi chten;

Die bevorzugten o-Chinondiazidverbindungen sind o-Kaphtho· chinondiazidverbindungen, wie sie beispielweise in den US-Patentschriften 2 766 118, 2 767 092, 2 772 972,

2 859 112, 2 907 665, 3 046 110, 3 046 111, 3 046 115,

3 046 118, 3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123, 3 061 4?0, 3 102 809, 3 106 455, 3 635 709 und 3 647 443 und zahlreichen weiteren Veröffentlichungen beschrieben sind. Von diesen Verbindungen werden die o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäureester von aromatischen Hydroxylverbindungen und die o-Naphthochinondiazidsulfonsäureamide oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäureamide von aromatischen

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Arainverbindüngen besonders bevorzugt. Insbesondere sind das Vöresterungsprodukt aus der o-Eaphthochinondiazidsulfonsäure und dem Ko^densationsprodukt von Pyrogallol und Aceton, wie in der US-Patentschrift 3 635 709 beschrieben, das Veresterungsprodukt eines Polyesters mit endständiger Hydroxylgruppe und o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure, wie in der US-Patentschrift 4 028 111 beschrieben, das "Veresterungsprodukt eines Homopolymeren aus p-Hydroxystyrol oder einem Copolymeren hiervon und weiteren copolymer!sierbaren Monomeren und o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Haphthochinondi azidocarbonsaure, wie in der britischen Patentschrift 1 4-94- 043 beschrieben, und das Amidreaktionsprodukt eines Copolymeren aus p-Aminostyrol und weiteren copolymerisierbaren Monomeren und o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure, wie in der US-Patentschrift 3 759 711 beschrieben, ganz ausgezeichnet.

Diese o-Chinondaizidverbindungen können einzeln verwendet werden, jedoch werden sie bevorzugt zusammen mit einem alkalilöslichen Harz verwendet. Eevorzugte alkalilösliche Harze sind Phenolharze vom Novolaktyp. Praktisch sind dies Phenol/Formaldehydharze, o-.Cresol/FormalcLehyüharze und..m-Cresol/Formaldehydharze. ,Wie weiterhin in der US-Patentschrift 4-123 279 beschrieben, wird es weiterhin bevorzugt, die vorstehend angegebenen Phenolharze zusammen mit einem Kondensationsprodukt aus Formaldehyd und einem Phenol oder Cresol, die mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert sind, zu verwenden, beispielsweise ein tert.-Butylphenolformaldehydharz. "Her Gehalt des alkalilöslichen Harzes beträgt etwa 50 bis etwa 85 Gew.%, vorzugsweise· etwa 60 bis 80 Gew.%, bezogen

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auf das Gesamtgewicht der die lichtempfindliche Schicht bildenden Masse.

Die die o-Chinondiazidverbindung enthaltende lichtempfindliche Masse kann erforderlichenfalls Zusätze, wie Farbstoffe. Plastifizierer und Komponenten zur Erteilung von Ausdruckseigenschaft enthalten, wie beispielsweise in den britischen Patentschriften 1 041 -'-63 und 1 039 4-75 und der US-Patentschrift 3 969 118 beschrieben.

Azidverbindunp;en und Binder (Polymeres) enthaltende lichtempfindliche Schichten;

Als lichtempfindliche Massen für lichtempfindliche Schichten seien die Massen mit dem Gehalt von Azidverbindungen und wasserlöslichen oder r.lkalilösuchen Polymeren, wie sie beispielsweise in den britischen Patentschriften 1 23b 281 und 1 495 861 und den japanischen Patentanmeldungen 32331/76 und 36 128/76 beschrieben sind, sowie die Polymere mit Azidgruppen und Polymere als Binder enthaltenden Massen, die in den japanischen Patentanmeldungen 5102/75, 84302/7?, 84303/75 und 12984/78 beschrieben sind, aufgeführt.

(4) Weitere lichtempfindliche Harzschichten;

Diese Materialien umfassen lichtempfindliche Harze, wie die beispielsweise in der japanischen Patentanmeldung 96696/77 aufgeführten Polyesterverbindungen, die in den britischen Patentschriften 1 112 277, 1 313 390, 1 341 004 und 1 377 74-7 beschriebenen Polyvinylcinnamatharze und die

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--S6—

in den US-Patentschriften 4 072 528 und 4 072 527 beschriebenen Photopolymermassen vom photopolymerisierbaren Typ.

Die Menge der auf dem Träger ausgebildeten licht-

empfindlichen Schicht beträgt etwa 0,1 bis etwa 7 S/m ,

ο vorzugsweise etwa 0,5 bis 4 g/m .

Eine vorsensibilisierte Druckplatte wird bildweise belichtet und dann durch übliche Behandlungsstufen unter Einschluss von Entwicklung zur Bildung von Harzbildern verarbeitet. Beispielsweise im Fall von vorsensibilisierten Platten mit der vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Schicht (1) aus dem Diazoharz und dem Binder wird nach der Behandlung mittels eines üblichen Verfahrens unter Einschluss der Entwicklung ein Karzbild gebildet. Beispielsweise im Fall einer vorsensibilisierten Platte mit der vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Schicht (1) aus einem Diazoharz und einem Binder werden die unbelichteten Bereiche der Schicht durch die Entwicklung nach der bildweisen Aussetzung an Licht entfernt, so dass die lithographische Druckplatte erhalten wird. Im Fall der Platte mit der lichtempfindlichen Schicht (2) wird der belichtete Bereich bei der Entwicklung unter Anwendung einer wässrigen alkalischen Lösung nach der bildweisen Aussetzung an Licht entfernt-und die lithographische Druckplatte erhalten.

Gemäss der Erfindung wird als ein Träger für eine lithographische Platte sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine derartige Platte vorgeschlagen, wobei das Verfahren umfasst:

die mechanische Aufrauhung der Oberfläche einer Aluminiuiiiplatte,

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die chemische Ätzung von etwa 5 bis 20 g/m Aluminium von der Oberfläche der Platte und

die Anlegung eines elektrischen Stroms von alternierender Wellenform an die Platte in einer sauren wässrigen Lösung, so dass die mit der Platte als Anode erzeugte Elektrizitätsmenge gleich oder grosser als die mit der Platte als Kathode erzeugte Elektrizitätsmenge ist, wobei die Elektrolyse 30 durchgeführt wird, dass die Stromdichte, falls die Platte die Anode ist, nicht weniger als etwa 20 A/m ist, und die mit der Platte als Anode erzeugte Elektr
trägt .

Elektrizitätsmenge etwa 200 Coulopib/dm oder weniger beDie vorliegende Erfindung wird nachfolgend im einzelnen anhand der folgenden Beispiele erläutert, worin sämtliche Prozentsätze auf das Gewicht bezogen sind.

Beispiel

Nachdem ein Aluminiumblech mit einer Reinheit von 99»5 % einer Körnung mit einer Drehnylonbürste in einer wässrigen Bimsdispersion unterworfen worden war, wurde es unter Anwendung einer 20%igen wässrigen Natriumhydroxid-

o lösung geätzt, so dass 8 g/m Aluminium gelöst wurden.

Nach ausreichendem Waschten der Platte mit Wasser wurde sie mit einer 25%igen, wässrigen Salpetersäurelösung gewaschen und erneut mit Wasser zur Herstellung des Trägers gewaschen.

Die erhaltene Platte wurde in einer wässrigen Salpetersäurelösung (7 g/l) bei 22° C unter Anwendung einer alternierenden Wellenform unter Anwendung.der in Fig. 4(b) ge-

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zeigten Rechteckwelle unter den in Tabelle I aufgeführten Bedingungen elektrolysiert. Sie wurde dann in eine 15%ige wässrige Schwefelsäurelösung bei 50° C während 3 Minuten zur Reinigung der Oberfläche eingetaucht.

Dann wurde ein anodische.r Oxidfilm von 3 g/m unter Anwendung einer 10%igen, wässrigen Schwefelsäurelösung gebildet, so dass die Proben A, B, C, D, E und F erhalten wurden.

Auf den erhaltenen Proben wurde die folgende lichtndliche Schicht z<
(trocken) ausgebildet?

empfindliche Schicht zu einer Abdeckung von 2,5 g/m

Veresterte Verbindung aus Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonylchlorid
und Pyrogallol-Acetonharz (beschrieben in Beispiel 1 der US-Patentschrift 3 6i5 709) 0,75 g

Cresolnovolakharz 2,00 g

Ölblau 603 (Produkt der Orient-Chemical Co₀) 0,04 g

Äthylendichlorid 16 g

2-Methoxyäthylacetat 12 g

Die erhaltene lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde bildweise an Licht während 50 Sekunden in einem Abstand von 1 m unter Anwendung einer_3kw-Metallhalogenidlampe ausgesetzt und wurde dann unter Anwendung einer wässrigen Natriumsilicatlösung mit einem Molarverhältnis von SiO₂ZNa₂O von 1,2 und einem SiO₂~Gehalt von 1,5 % entwickelt.. Wenn das Drucken in üblicher Weise unter Anwendung der erhaltenen lithographischen .Druckplatten durchgeführt wurde, v;urden die in Tabelle I aufgeführten Ergebnisse erhalten.

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Tabelle I

Betrag der Ätzung

Bedingungen·· der

Elektrolyse

Anodische Stromdichte

Anodische Elektrizität smenge

Qc/Qa

Va

Vc

Betrag des anodischen
Oxi datxonsfilmes

(Probe A)
8 (g/m²)

(Probe B) 8 .

35 (A/dm²) 20

176 ρ 176 (Coülomb/dra )

0,73 0,72

23 (Volt) 14

12 (Volt) 8

3 (g/m²) 3

-* Kumulative Frequenzkurve
S 5 %
^ 95 %

⁰^ Dichte der Sekundärstruktur (dritte)

Ausmass der einheitlich
in der Sekundärstruktur
dispergierten Nadellöcher

Hügel
Druckdauerhaftigkeit

Verunreinigung
Bemerkungen

et

5 Cu)

7 χ 10'
(Nadellöcher/

gut

vorhanden

100 000
(Bogen)

ausgezeichnet

erfindungsgemäss

2,5

6,5

3 χ

co2)

gut

vorhanden 100

ausgezeichnet

erfindungsgemäss (Probe C)
8

15
176

0,73
10
6

Probe D)
.. 8

15
400

0,76
11

(Probe E) . 8

2 3

7 7

0,5 χ 10? 17 χ 10⁷

schlecht schlecht
(nicht ein- (überdicht)
heitlich)

vorhanden
000

gut

Vergleich

fehlt
100 000

schlecht

Vergleich

fehlt fehlt

vorhanden 60 000

ausgezeichnet

Vergleich

(Probe F) • 8

15 1000

0,71 35

17

4 14

schlecht (überdicht)

fehlt 60

schlecnt

Vergleich

Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführung sfoTnen beschrieben, ohne dass die Erfindung hierauf begrenzt ist.

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-IS-

L e e r s e i t e

Claims

Patentansprüche

(i. Verfahren zur Herstellung eines Trägers für lithographische Druckplatten, dadurch gekennzeichnet, dass

die. Oberfläche einer Aluminiuraplatte mechanisch aufgerauht wird,

etwa 5 bis 20 g/iu Aluminium von der Oberfläche der Platte chemisch geätzt werden und

ein elektrischer Strom von alternierender Wellenform an die Platte in einer sauren wässrigen Lösung so angelegt wird, dass die mit der Platte eis Anode erzeugte Elektrizität smenge gleich oder grosser als die mit der Platte als Kathode erzeugte Elektrizitätsmenge ist, wobei clie Elektrolyse so durchgeführt wird, dass die Stromdichte, falls die Platte die Anode ist, nicht weniger als etwa

20 A/dm beträgt und die mit der Platte als Anode erzeugte Elektrizitätsmenge etwa 200 Coulomb/dm oder weniger beträgt .
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die mit der Aluminiumplatte als Anode erzeugte

Elektrizitätsmenge etwa 70 bis 200 Coulomb/dm beträgt.
3· Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,, dass eine Stromdichte, falls die Aluminiumplatte

die Anode ist, von etwa 25 bis 70 A/dm angewandt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet, dass ein Verhältnis der mit der Platts als Kathode erzeugten Elektrizität zu der mit der Platte als Anode erzeugten Elektrizität von etwa 0,5/1 bis 1,0/1 angewandt wird.

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5. Verfahren nach. Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, d' - eine saure wässrige Lösung mit einer Konzentration ν a etwa 0,1 bis 4 % angewancn; wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die slektrolytische Behandlung mit Anoden- und Katho den spannungen im Bereich von 1 bis 50 V durchgeführt wird.
7· Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass sich an die elektrolytische Behandlung eine Entschmutzungsbehandlung anschliesst.
8. Verfahren nach Anspruch 7i dadurch gekennzeichnet, dass die Entschmutzungsbehandlung durch Kontaktieren

der Oberfläche dor elektrolytisch behandelten Platte mit
einer wässrigen Lösung einer Säure oder eines Alkalis durchgeführt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass als Säure Phosphorsäure, Schwefelsäure, Chromsäure
oder Gemische hiervon verwendet werden.
10. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass sich an die elektrolytische Behandlung eine anodische Oxidation anschliesst.
11. Träger für eine lithographische Druckplatte, bestehend aus einem Aluminiumblech, dessen Oberfläche eine aus Hügeln und Nadellöchern oder Kerbungen, welche einheitlich die Oberfläche der Hügel durchsetzen und in solcher Dichte vorliegen, dass die Hügeln noch vorliegen,

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BAOPBtGlNAL

■bestehende Körnungsstruktur besitzt.
12. Träger nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Verteilung der Nadellöcher- oder Kerbungsdurchmesser so ist, dass die lladellöcher oder Kerbungen entsprechend einem Wert von 5r> "bzw. 95/S auf der kumulativen Häufigkeitskurve für den If&dellöcher- oder Kerbungsdurchtnesser 3/um oder weniger bzw. 7/um odei- weniger hinsichtlich des Durchmessers "betragen.
13. Träger nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Verteilung der Kadellöcher - oder Kerbungsdurchmesser so ist, dass die Nadellocher oder Kerbungen entsprechend einem Wert von 5?° bzw. 95$ auf der kumulativen Häuf igkeitskurve für den lladellöcher- oder Ke rbungs durchmesser 0,5 bis 3/ura bzw. 5 bis 7/um betragen.
14. Träger nach Anspruch 12 oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Nadellöcher oder Kerbun-^en in einer Dichte von 10 bis 10 Nadellöcher oder Kerbungen/cn vorliegen.
15. Träger nach Anspruch 12 bis 14> dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche weiterhin eine darauf ausgebildete anodische Oxidschicht besitzt»
16. Vorsensibilisierte Druckplatte; enthaltend eine lichtempfindliche Schicht auf einem Träger nach Anspruch 11 bis 15.
17. Vorsensibilisierte Druckplatte nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Verteilung der Uadellöcher- oder Kerbungsdurchmesser so ist, dass die Nadellöcher

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BAD ORIGINAL

oder Kerbungen entsprechend einem Vert von 5 % bzw. 95 % auf einer kumulativen Frequenzkurve für den Nadellöcher- oder Kerbungsdurchmesser 0,5 bis 3/Um bzw. 5 bis 7/um betragen.
18. Vorsensibilisierte Druckplatte nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Nadellöcher oder

fr ο

Kerbungen in einer Dichte von 10 bis 10 Nadellöcher oder Eerbungen/cn vorliegen.

19· Vorsensibilisierte Druckplatte nach Anspruch 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche weiterhin eine darauf ausgebildete anodische Oxidschicht aufweist.

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