DE29822090U1 - Laser for generating narrow-band radiation - Google Patents
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Description
1G-81 274
LAMBDA PHYSIK1G-81 274
LAMBDA PHYSICS
Laser zur Erzeugung schmalbandiger StrahlungLaser for generating narrowband radiation
Die Erfindung betrifft einen Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung mit einem laseraktiven Bereich, einem Auskoppelspiegel, einem Strahlaufweiter und einem wellenlängenselektiven Element, auf das Strahlung trifft.The invention relates to a laser for generating narrow-band radiation with a laser-active region, an output mirror, a beam expander and a wavelength-selective element, which is incident on the radiation.
Insbesondere betrifft die Erfindung Excimerlaser der vorstehend genannten Art.In particular, the invention relates to excimer lasers of the type mentioned above.
Die Erfindung befaßt sich mit dem Problem, bei einem solchen Laser möglichst schmalbandige Strahlung mit hoher Stabilität zu erzeugen. Dies ist insbesondere beim Einsatz in der Fotolithographie zur Erzeugung integrierter Schaltungen wichtig. Hierzu sind Wellenlängen < 2 50 nm erforderlich, um Strukturen mit Abmessungen < 0,25 &mgr;&idiagr;&eegr; zu erzeugen (für Strukturen mit Abmessungen < 0,18 &mgr;&idiagr;&eegr; sind Wellenlängen < 200 nm erforderlich). In solchen Wellenlängenbereichen sind achromatisch abbildende Optiken kaum herstellbar. Deshalb muß die verwendete Strahlung sehr schmalbandig sein, um die Abbildungsfehler aufgrund der chromatischen Aberration klein zu halten. Im Einsatzbereich der Fotolithographie, um die es bei der vorliegenden Erfindung insbesondere geht, sind für brechende Abbildungsoptiken Bandbreiten im Bereich < 0,6 pm akzeptabel.The invention addresses the problem of generating radiation with a narrow band as possible and with high stability in such a laser. This is particularly important when used in photolithography to produce integrated circuits. For this purpose, wavelengths < 250 nm are required in order to produce structures with dimensions < 0.25 μηη (for structures with dimensions < 0.18 μηη, wavelengths < 200 nm are required). In such wavelength ranges, achromatic imaging optics are hardly producible. The radiation used must therefore be very narrow band in order to keep the imaging errors due to chromatic aberration small. In the field of photolithography, which is the particular focus of the present invention, bandwidths in the range < 0.6 pm are acceptable for refractive imaging optics.
Eine andere wichtige Strahlungseigenschaft bei solchen Verwendungen der Strahlung ist die sogenannte spektrale Reinheit. Die spektrale Reinheit der Strahlung kann z.B. durch dasjenige Wellenlängenintervall angegeben werden, in dem 95 % der gesamten Pulsenergie liegt. Die Bandbreite und in noch höherem Maß die spektrale Reinheit der Strahlung werden u.a. bestimmt durch die Divergenz &thgr; oder auch durch die Wellenfrontkrümmung R des Strahls. Fig. 1 zeigt schematisch einen herkömmlichen Excimerlaser mit einem laseraktiven Bereich 1 (also dem Plasma einer Gasentladung) , einem Auskoppelspiegel 2, einem Strahlaufweiter 3Another important radiation property for such uses of radiation is the so-called spectral purity. The spectral purity of the radiation can be specified, for example, by the wavelength interval in which 95% of the total pulse energy lies. The bandwidth and, to an even greater extent, the spectral purity of the radiation are determined, among other things, by the divergence θ or by the wavefront curvature R of the beam. Fig. 1 shows a schematic of a conventional excimer laser with a laser-active region 1 (i.e. the plasma of a gas discharge), an output mirror 2, a beam expander 3
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und einem wellenlängenselektiven Element 5 in Form eines Gitters . Das strahlaufweitende Element 3 dient zur Verringerung der Divergenz und zur Verringerung der Wellenfrontkrümmung vor dem wellenlängenselektiven Element 5. Fig. 2 zeigt schematisch einen Strahl, wobei der Randstrahl (und Radius) mit R bezeichnet ist. OA ist die optische Achse und &thgr; ist der Divergenzwinkel. Für den Abstand h des Randpunktes der Wellenfront von der optischen Achse OA gilt ohne Verwendung eines Strahlaufweiters &thgr; = h/R. Dies ist in Fig. 2 links dargestellt. In Fig. 2 rechts ist der Strahl bei Verwendung eines Strahlaufweiters gezeigt, wobei der Aufweitungsfaktor M ist. Dann gilt: h' = M · h; &THgr;' = &THgr;/&Mgr;, und R' = M2 · R.and a wavelength-selective element 5 in the form of a grating. The beam-expanding element 3 serves to reduce the divergence and to reduce the wavefront curvature in front of the wavelength-selective element 5. Fig. 2 shows a beam schematically, where the edge ray (and radius) is denoted by R. OA is the optical axis and θ is the divergence angle. The distance h of the edge point of the wavefront from the optical axis OA without using a beam expander is θ = h/R. This is shown on the left in Fig. 2. In Fig. 2 on the right, the beam is shown when using a beam expander, where the expansion factor is M. Then: h' = M · h; θ' = θ/�M, and R' = M 2 · R.
Der Stand der Technik kennt bereits einen Versuch, eine Wellenfrontkrümmung zu kompensieren (U.S. Patent 5,095,492; R.L. Sandstrom) . Dort wird das Gitter verändert, was jedoch Nachteile hat, insbesondere hinsichtlich des Ausmaßes, in dem eine Wellenfrontkrümmung korrigiert werden kann. In einer U.S. Patentanmeldung (Erfinder: D. Basting und S. Govorkov) wird zur Kompensation einer Wellenfrontkrümmung eine zusätzliche Zylinderlinse in den Laserresonator eingesetzt (U.S. Anmeldung vom 22.6.1998).The state of the art already knows an attempt to compensate for wavefront curvature (US Patent 5,095,492; R.L. Sandstrom). In this case, the grating is changed, but this has disadvantages, particularly with regard to the extent to which wavefront curvature can be corrected. In a US patent application (inventors: D. Basting and S. Govorkov), an additional cylindrical lens is inserted into the laser resonator to compensate for wavefront curvature (US application dated June 22, 1998).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Laser der eingangs genannten Art so auszugestalten, daß mit einfachen und zuverlässigen Mitteln eine Korrektur der Wellenfrontkrümmung möglich ist, und weiterhin der Status der WellenfrontverZerrung kontrolliert werden kann.The invention is based on the object of designing a laser of the type mentioned at the outset in such a way that a correction of the wavefront curvature is possible using simple and reliable means, and furthermore the status of the wavefront distortion can be controlled.
Die Erfindung erreicht diese Ziele durch Einrichtungen zum Einstellen der Wellenfront, also insbesondere zum Korrigieren und Ändern der Wellenfrontkrümmung, wobei die Einrichtungen ein optisches Element aufweisen, dessen optische Eigenschaften veränderbar sind. Eine solche Einrichtung ist z.B. ein veränderbarer, insbesondere verformbarer Spiegel.The invention achieves these goals by means of devices for adjusting the wavefront, i.e. in particular for correcting and changing the wavefront curvature, wherein the devices have an optical element whose optical properties can be changed. Such a device is, for example, a changeable, in particular deformable mirror.
Eine Variante der Erfindung erreicht die oben genannten Ziele durch Einrichtungen zum Messen einer Wellenfront und zum Abgeben eines Meßergebnisses sowie durch Einrichtungen zum Einstellen der Wellenfront entsprechend dem Meßergebnis. Diese Ausgestal-A variant of the invention achieves the above-mentioned objectives by means for measuring a wavefront and for outputting a measurement result as well as by means for adjusting the wavefront in accordance with the measurement result. This embodiment
tung der Erfindung eignet sich besonders zur Einrichtung eines geschlossenen Regelkreises, bei dem die Wellenfront durch Messung jeweils auf einen optimalen Wert, d.h. einen Wert mit möglichst geringer Wellenfrontkrümmung, geregelt wird.The invention is particularly suitable for setting up a closed control loop in which the wave front is controlled by measurement to an optimal value, i.e. a value with the lowest possible wave front curvature.
Der Erfindungsgedanke läßt sich also sowohl statisch mit auf für ein gegebenes Lasersystem optimal (fest) eingestellten optischen Elementen verwirklichen als auch (in einer fortgeschritteneren Ausgestaltung) dynamisch durch Messung der Wellenfrontkrümmung und entsprechender Einstellung einer Wellenfrontkorrektur, insbesondere in Form eines Regelkreises.The inventive concept can therefore be implemented both statically with optical elements that are optimally (fixedly) adjusted for a given laser system and (in a more advanced design) dynamically by measuring the wavefront curvature and setting a wavefront correction accordingly, in particular in the form of a control loop.
Die Erfindung ermöglicht also die Herstellung einer Wellenfront mit einer möglichst geringen Krümmung, insbesondere unmittelbar vor dem Auftreffen auf das wellenlängenselektive Element. Bei dem wellenlängenselektiven Element kann es sich bevorzugt um ein Gitter handeln, es kommen aber auch andere Einrichtungen in Betracht, die dem Fachmann bekannt sind.The invention therefore enables the production of a wave front with the smallest possible curvature, in particular immediately before it hits the wavelength-selective element. The wavelength-selective element can preferably be a grating, but other devices known to the person skilled in the art can also be considered.
Bei Verwendung eines ebenen Gitters als wellenlängenselektives Element wird die höchste spektrale Reinheit dann erreicht, wenn die Wellenfront keine Krümmung aufweist, also sich der Krümmungsradius R' (Fig. 2, rechts) gegen Unendlich nähert. Bei praktischen Lasersystemen läßt sich eine Wellenfrontkrümmung aus mehreren Gründen nicht vermeiden, so daß die oben genannten erfindungsgemäßen Korrektureinrichtungen für die Erzeugung schmalbandiger Strahlung erforderlich sind. Die Ursachen der Wellenfrontkrümmung sind insbesondere darin zu sehen, daß Strahlen, die nicht exakt parallel zur optischen Achse des Lasers verlaufen, auch in dem Resonator verstärkt werden, daß die optischen Komponenten in aller Regel nicht völlig ebene Oberflächen haben, daß im Volumen der optischen Komponenten Änderungen des Brechungsindex auftreten können, und daß die Strahlung selbst Änderungen des Brechungsindex im Volumen der optischen Komponenten erzeugen kann.When using a flat grating as a wavelength-selective element, the highest spectral purity is achieved when the wavefront has no curvature, i.e. the radius of curvature R' (Fig. 2, right) approaches infinity. In practical laser systems, wavefront curvature cannot be avoided for several reasons, so that the above-mentioned correction devices according to the invention are required for the generation of narrow-band radiation. The causes of wavefront curvature are in particular that rays that do not run exactly parallel to the optical axis of the laser are also amplified in the resonator, that the optical components do not usually have completely flat surfaces, that changes in the refractive index can occur in the volume of the optical components, and that the radiation itself can produce changes in the refractive index in the volume of the optical components.
Als optisches Element, dessen optische Abbildungseigenschaften zur Korrektur einer Wellenfrontkrümmung veränderbar sind, kommt bei den oben genannten erfindungsgemäßen Einrichtungen insbesondere ein Spiegel in Betracht, der verformbar ist.As an optical element whose optical imaging properties can be changed to correct a wavefront curvature, in the above-mentioned devices according to the invention, in particular a mirror that is deformable comes into consideration.
Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den abhängigen Schutzansprüchen beschrieben.Further preferred embodiments of the invention are described in the dependent claims.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der schematischen Zeichnungen erläutert. Es zeigt:In the following, embodiments of the invention are explained using the schematic drawings. It shows:
einen herköinin liehen Aufbau eines Excimerlasers; Laserstrahlen mit hier interessierenden Parametern, wie sie oben erläutert sind, links ohne und rechts mit Strahlaufweitung,a conventional structure of an excimer laser; Laser beams with parameters of interest here, as explained above, on the left without and on the right with beam expansion,
ein erstes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Lasers;a first embodiment of a laser according to the invention;
eine Abwandlung der Einrichtungen zur Wellenfrontkorrektur bei einem Lasersystem gemäß Fig. 3;a modification of the wavefront correction devices in a laser system according to Fig. 3;
Fig. 5 und 6 Beispiele für eine Fernfeld-Intensitätsverteilung/ nämlich ohne Wellenfrontkorrektur (Fig. 5) und mit Wellenfrontkorrektur (Fig. 6);Fig. 5 and 6 Examples of a far-field intensity distribution/ namely without wavefront correction (Fig. 5) and with wavefront correction (Fig. 6);
Fig. 7 und 8 zeigen beispielhaft gemessene Spektren von Laserstrahlung, einmal ohne Wellenfrontkorrektur (Fig. 7) und einmal mit Wellenfrontkorrektur (Fig. 8); undFig. 7 and 8 show exemplary measured spectra of laser radiation, once without wavefront correction (Fig. 7) and once with wavefront correction (Fig. 8); and
Fig. 9 ein zweites Ausführungsbeispiel eines Lasersystems mit Einrichtungen zur Wellenfrontkorrektur.Fig. 9 shows a second embodiment of a laser system with devices for wavefront correction.
In den Figuren haben funktionsgleiche Bauteile die gleichen Bezugszeichen. Insoweit entsprechen also das laseraktive Medium 1, der Auskoppelspiegel 2, der Strahlaufweiter 3 und das Gitter 5 beim erfindungsgemäßen Lasersystem gemäß Fig. 3 einem herkömmlichen Aufbau eines Excimerlasers, wie er oben anhand der Fig. 1 erläutert ist. In den Figuren wird der Strahlaufweiter 3 durch ein einziges Prisma symbolisch angedeutet. Tatsächlich bestehen Strahlaufweiter in der Regel aus z.B. mehreren Prismen.In the figures, functionally identical components have the same reference numerals. In this respect, the laser-active medium 1, the output mirror 2, the beam expander 3 and the grating 5 in the laser system according to the invention according to Fig. 3 correspond to a conventional structure of an excimer laser, as explained above with reference to Fig. 1. In the figures, the beam expander 3 is symbolically indicated by a single prism. In fact, beam expanders usually consist of, for example, several prisms.
Das beim Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 3 vom Strahlaufweiter 3 kommende Licht weist also eine gekrümmte Wellenfront auf (Fig. 2, rechts). Dieses Licht wird in eine Einrichtung 4 zum Einstellen der Wellenfront eingegeben. Die Einrichtung 4 weist einen deformierbaren Spiegel 4a auf, an dem das Licht zum Gitter 5 reflektiert wird. Weiterhin ist schematisch eine Betätigungsein-The light coming from the beam expander 3 in the embodiment according to Fig. 3 therefore has a curved wave front (Fig. 2, right). This light is fed into a device 4 for adjusting the wave front. The device 4 has a deformable mirror 4a, on which the light is reflected to the grating 5. Furthermore, an actuating device is shown schematically.
richtung 4b für die Deformierung des Spiegels 4a angedeutet. Bei der Betätigungseinrichtung 4b kann es sich z.B. um eine mechanische
Einrichtung zum Deformieren (Verformen) des Spiegels 4a
handeln oder auch um eine thermische Einrichtung für diesen
Zweck. Z.B. kann damit die Krümmung des Spiegels 4a geändert
werden. Das Gitter 5 selektiert Wellenlängen und reflektiert nur einen schmalbandigen Bereich zurück zum Spiegel 4a. Die Strahlung
gelangt dann wieder zurück zum Strahlaufweiter 3, wo die
Strahlbreite komprimiert wird. Danach passiert die Strahlung
wieder die Gasentladungskammer 1 und das laseraktive Medium und
wird dort weiter verstärkt. Ein (geringer) Teil der Strahlung
wird mittels eines Strahlteilers 6a in Fig. 3 nach oben abgelenkt.
Der Strahlteiler 6a ist Teil einer Einrichtung 6 zum Ermitteln
der Wellenfront-Krümmung. Nach Fokussierung durch eine
Linse 6b aus Schmelzquarz, gelangt die abgezweigte Strahlung auf einen Festkörperbildsensor 6c (z.B. ein CCD-Array). Die Linse 6b
hat eine Brennweite f und der Festkörperbildsensor 6c ist in der Brennebene der Linse angeordnet. Der Festkörperbildsensor 6c ermittelt
die Fernfeld-Intensitätsverteilung des Strahlungsfeldes
im Laserresonator. Die Einrichtung 6 ermittelt also eine Kenngröße
für die Qualität der Wellenfront. Soll die Winkelvergrößerung noch verstärkt werden, kann ein zusätzlicher Strahl-Komprimierer
im Strahlengang zwischen dem Strahlteiler 6a und der Linse 6b angeordnet werden.direction 4b for the deformation of the mirror 4a is indicated. The actuating device 4b can be, for example, a mechanical device for deforming (shaping) the mirror 4a
or a thermal device for this
Purpose. For example, the curvature of the mirror 4a can be changed
The grating 5 selects wavelengths and reflects only a narrow band range back to the mirror 4a. The radiation
then returns to the beam expander 3, where the
beam width is compressed. Then the radiation passes
again the gas discharge chamber 1 and the laser-active medium and
is further amplified there. A (small) part of the radiation
is deflected upwards by means of a beam splitter 6a in Fig. 3.
The beam splitter 6a is part of a device 6 for determining
the wavefront curvature. After focusing by a
Lens 6b made of fused quartz, the branched radiation reaches a solid-state image sensor 6c (e.g. a CCD array). The lens 6b has a focal length f and the solid-state image sensor 6c is arranged in the focal plane of the lens. The solid-state image sensor 6c determines the far-field intensity distribution of the radiation field
in the laser resonator. The device 6 thus determines a parameter
for the quality of the wavefront. If the angular magnification is to be increased even further, an additional beam compressor can be arranged in the beam path between the beam splitter 6a and the lens 6b.
Das vom Festkörperbildsensor 6c gelieferte elektrische Meßsignal bezüglich der Fernfeld-Intensitätsverteilung (und damit bezüglich
der Wellenfront-Krümmung) wird an eine Steuerung 7 gegeben, die wiederum mittels eines Rechners die Daten auswertet und entsprechend
der erforderlichen Korrektur der Wellenfront die Betätigungseinrichtung 4b so beaufschlagt, daß der Spiegel 4a verformt
wird, bis die mit der Einrichtung 6 gemessene Wellenfront-Krümmung einen optimalen (minimalen) Wert hat. Hierzu können
z.B. die gemessenen Werte des Festkörperbildsensors mit im Rechner der Einrichtung 7 gespeicherten Werten verglichen werden.
Für die Steuerung der Einstelleinrichtung 4 eignet sich insbesondere
die Fernfeld-Intensitätsverteilung auf der Achse. Die
Einstelleinrichtung 4, also beim Ausführungsbeispiel der verformbare
Spiegel 4a, wird so verformt, daß die Fernfeld-Inten-The electrical measurement signal provided by the solid-state image sensor 6c with respect to the far-field intensity distribution (and thus with respect to
the wavefront curvature) is sent to a control 7, which in turn evaluates the data by means of a computer and, in accordance with the required correction of the wavefront, acts on the actuating device 4b so that the mirror 4a is deformed
until the wavefront curvature measured with device 6 has an optimal (minimum) value.
e.g. the measured values of the solid-state image sensor are compared with values stored in the computer of device 7.
For controlling the setting device 4, the following is particularly suitable:
the far-field intensity distribution on the axis. The
Adjustment device 4, i.e. in the embodiment the deformable
Mirror 4a is deformed so that the far-field intensity
sitätsverteilung auf der Achse ein Maximum hat. Diese Einstellung wird automatisch durch den Rechner der Steuerung 7 durchgeführt. sity distribution on the axis has a maximum. This setting is carried out automatically by the computer of the control unit 7.
Die Fig. 5 und 6 zeigen Meßergebnisse. In den Figuren ist die Intensität (in willkürlichen Einheiten) über der Wellenlänge aufgetragen. Gemessen ist die Intensitätsverteilung im Fernfeld. Fig. 5 zeigt deutlich die Aufspaltung dieser Intensitatsverteilung mit zwei Spitzen (peaks). Diese Aufspaltung wird durch die starke Wellenfrontstörung, insbesondere im Strahlaufweiter, verursacht. Fig. 6 zeigt die Meßergebnisse nach Korrektur der WeI-lenfrontkrüminung mittels der Korrektureinrichtungen 6 und 4, die anhand der Fig. 3 erläutert wurden. Die Aufspaltung der Intensitätsverteilung ist im wesentlichen verschwunden, was anzeigt, daß die Wellenfront-Krümmung im wesentlichen zum Verschwinden gebracht worden ist durch Einstellung des Spiegels 4a.Figures 5 and 6 show measurement results. In the figures, the intensity (in arbitrary units) is plotted against the wavelength. The intensity distribution in the far field is measured. Figure 5 clearly shows the splitting of this intensity distribution with two peaks. This splitting is caused by the strong wavefront disturbance, particularly in the beam expander. Figure 6 shows the measurement results after correction of the wavefront curvature using the correction devices 6 and 4, which were explained with reference to Figure 3. The splitting of the intensity distribution has essentially disappeared, which indicates that the wavefront curvature has essentially been made to disappear by adjusting the mirror 4a.
Die Fig. 7 und 8 zeigen die gemessenen Spektren ohne Kompensation der Wellenfrontkrüitimung (Fig. 7) und mit Kompensation der Wellenfrontkrümmung (Fig. 8). Auf Grund der fehlenden Wellenfrontkorrektur zeigt das Spektrum von Fig. 7 eine Aufteilung der spektralen Verteilung in zwei getrennte Frequenzen.Figures 7 and 8 show the measured spectra without compensation of the wavefront curvature (Figure 7) and with compensation of the wavefront curvature (Figure 8). Due to the lack of wavefront correction, the spectrum of Figure 7 shows a division of the spectral distribution into two separate frequencies.
Fig. 9 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Lasersystems mit Korrektur der Wellenfront-Krümmung. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist ein Teleskop 41 (z.B. vom Cassegrain-Typ) gleichzeitig Teil des Strahlaufweiters und Einrichtung zum Korrigieren einer Wellenfront-Krümmung. Das Teleskop 41 weist zwei hochreflektierende Spiegel 4a1, 4b· auf, mit jeweils elliptisch geformten Oberflächen. Das Teleskop 4' hat zwei Funktionen: Zum einen bewirkt es eine StrahlaufWeitung in Richtung senkrecht zu den Ritzen des Gitters 5 und zum anderen bewirkt es eine Wellenfrontkorrektur (Begradigung der Wellenfront-Krümmung). Die WeI-lenfrontkorrektur kann durch Einstellen des Abstandes d zwischen den beiden Spiegeln 4a1 und 4b' vorgenommen werden. Im Strahlengang zwischen dem Teleskop 4■ ist ein weiterer Strahlaufweiter 3 schematisch dargestellt. Die übrigen Bauteile sind mit gleichen Bezugszeichen anhand der Fig. 3 oben erläutert.Fig. 9 shows a further embodiment of a laser system with correction of the wavefront curvature. In this embodiment, a telescope 4 1 (e.g. of the Cassegrain type) is simultaneously part of the beam expander and a device for correcting a wavefront curvature. The telescope 4 1 has two highly reflective mirrors 4a 1 , 4b·, each with elliptically shaped surfaces. The telescope 4' has two functions: firstly, it causes a beam expansion in the direction perpendicular to the cracks of the grating 5 and secondly, it causes a wavefront correction (straightening of the wavefront curvature). The wavefront correction can be carried out by adjusting the distance d between the two mirrors 4a 1 and 4b'. A further beam expander 3 is shown schematically in the beam path between the telescope 4■. The other components are explained with the same reference numerals using Fig. 3 above.
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Claims (14)
Strahlaufweiter (3) und einem wellenlängenselektiven Element
(5), auf das Strahlung trifft, gekennzeichnet durch Einrichtungen (6) zum Messen einer von der Wellenfront der Strahlung abhängigen
Größe und zum Abgeben eines Meßergebnisses, und Einrichtungen
(4, 7) zur Korrektur der Wellenfront in Abhängigkeit von dem Meßergebnis.1. Laser for generating narrow-band radiation, comprising a laser-active region (1), an output mirror (2), a
Beam expander (3) and a wavelength-selective element
(5) onto which radiation is incident, characterized by means (6) for measuring a value dependent on the wavefront of the radiation
Size and for delivering a measurement result, and facilities
(4, 7) to correct the wavefront depending on the measurement result.
Strahlaufweiter (3) und einem wellenlängenselektiven Element
(5), auf das Strahlung trifft, gekennzeichnet durch eine Einrichtung
(4a) zur Korrektur der Wellenfront, die auf das wellenlängenselektive Element (5) auftrifft, wobei die Einstelleinrichtung
(4a) hinsichtlich ihrer optischen Eigenschaften veränderbar ist.2. Laser for generating narrow-band radiation with a laser-active region (1), an output mirror (2), a
Beam expander (3) and a wavelength-selective element
(5) onto which radiation is incident, characterized by a device
(4a) for correcting the wavefront impinging on the wavelength-selective element (5), wherein the adjusting device
(4a) can be changed with respect to its optical properties.
Eigenschaften veränderbares Element (4a) enthalten.3. Laser according to claim 1, characterized in that the means for correcting the wavefront comprise a
Properties contain variable element (4a).
daß das veränderbare Element (4a) verformbar ist.4. Laser according to one of claims 2 or 3, characterized in
that the variable element (4a) is deformable.
daß das veränderbare Element (4a) im Strahlengang zwischen zumindest einem Element (3; 3a) des Strahlaufweiters und
dem wellenlängenselektiven Element (5) angeordnet ist.6. Laser according to one of claims 2 to 5, characterized in
that the variable element (4a) in the beam path between at least one element (3; 3a) of the beam expander and
the wavelength-selective element (5).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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