DE2806099A1 - SEMICONDUCTOR ASSEMBLY - Google Patents
SEMICONDUCTOR ASSEMBLYInfo
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Description
2 8 O ·ν Γ. j H Z- 2 8 O · ν Γ. j H Z-
7.7th
der KeramikbIocke als auch der Metallbasis unter dem Block wird der Wärniewiderstand aufgrund der Packung in erheblichem Maße reduziert.the ceramic block as well as the metal base under the block becomes the Thermal resistance reduced to a considerable extent due to the packing.
Die Erfindung betrifft Halbleitergeräte und insbesondere die gemeinsame Hontage von Hochleistungsgeräten in einer einzigen Baugruppe.The invention relates to semiconductor devices, and more particularly to the common Assembly of high performance equipment in a single assembly.
Früher sind Halbleiter-Bauelemente in der Weise zu Baugruppen montiert worden, daß der Transistor-Chip auf ein einzelnes Stück aus dielektrischem Material, beispielsweise Beryllerdekeramik, gebracht wurde, um den Chip elektrisch gegen die Baugruppenbasis zu isolieren, die typischerweise aus Kupfer besteht. Wenn die Leistungsanforderungen steigen, steigt auch die Größe des Transistorchip. Da beim Stand der Technik ein einziges Keramiksubstrat verwendet wird, auf das der Siliciumchip gebracht wird, verläuft der Wärmeweg durch den Siliciumchip, durch die Keramik und den Teil, an den die Keramik angelötet ist, entweder ein Kupferstumpf oder ein Kupferflansch. Die Dicke der Keramik wird durch die Differenz der Dehnungsraten von Keramik und daran angelötetes Kupfer kontrolliert. Diese beiden Werkstoffe expandieren mit erheblich unterschiedlicher Rate. Wenn die Baugruppe während des Lötvorgangs heiß wird, neigt die Keramik dazu, zu springen. Das begrenzt die Größe der Lötfläche und die Keramikdicke. Es ist deshalb erwünscht, die Lötfläche klein zu halten und die Keramik so dick wie möglich, um die Bruch- oder Sprunggefahr zu reduzieren. Wenn die Transistorchips größer werden, um höhere Ausgangsleistung zu erhalten, erfordert das eine große Lötfläche, so daß die Möglichkeit von Sprüngen wächst.In the past, semiconductor devices have been package assembled by placing the transistor chip on a single piece of dielectric material, such as beryllium ceramic, to electrically isolate the chip from the package base, which is typically copper. As the performance requirements increase, so does the transistor chip size. Since the prior art uses a single ceramic substrate onto which the silicon chip is placed, the thermal path runs through the silicon chip, through the ceramic and the part to which the ceramic is soldered, either a copper stump or a copper flange. The thickness of the ceramic is controlled by the difference in the expansion rates of the ceramic and the copper soldered to it. These two materials expand at significantly different rates. If the assembly gets hot during the soldering process, the ceramic will tend to crack. This limits the size of the soldering surface and the ceramic thickness. It is therefore desirable to keep the soldering area small and the ceramic as thick as possible in order to reduce the risk of breakage or cracking. As the transistor chips get larger in order to obtain higher output power, it requires a large soldering area, so that the possibility of cracks increases.
Es ist auch erwünscht, den Keramikblock so dünn wie möglich zu machen, weil dieser einen Widerstandsweg für den Wärmefluß vom Gerät darstellt. Für strukturelle Steifigkeit wurde auch das Basismaterial unter der Keramik It is also desirable to make the ceramic block as thin as possible because it provides a resistive path for heat to flow from the device. The base material underneath the ceramic was also used for structural rigidity
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dick gemacht. Es ist deshalb erwünscht, die Dicke des Basismaterial zu reduzieren, um den Uärmewiderstand weiter zu reduzieren.made fat. It is therefore desirable to adjust the thickness of the base material to reduce in order to further reduce the thermal resistance.
Wichtigste Aufgabe der Erfindung ist es, eine verbesserte Halbleiter-Baugruppe zur Montage von Hochleistungs-Halbleiterbauelementen verfügbar zu machen.The most important object of the invention is to provide an improved semiconductor assembly available for the assembly of high-performance semiconductor components close.
Kurz gesagt, besteht die Erfindung aus einer Halbleiter-Baugruppe, bei der mehrere Halbleiterplättchen getrennt an mehreren dielektrischen Blöcken befestigt sind. Die Blöcke werden dann auf eine metallene Basis gesetzt, die mit einzelnen Ausnehmungen oder Hohlräumen versehen sein kann, um die Blöcke aufzunehmen und zu lokalisieren, die ihrerseits an die Basis angelötet werden. Die getrennten Halbleiterplättchen werden mit Zuleitungsdrähten verdrahtet, die mit der Halbleiterschaltung verbinden. In short, the invention consists of a semiconductor package, at wherein a plurality of semiconductor dies are separately attached to a plurality of dielectric blocks. The blocks are then placed on a metal base set, which can be provided with individual recesses or cavities to accommodate the blocks and to locate them soldered to the base. The separated semiconductor wafers are wired with lead wires that connect to the semiconductor circuit.
Da die Plättchen kleine Fläche haben, können sie sehr dünn gemacht werden, ohne daß während des Baugruppenlötvorgangs die Gefahr von Sprüngen entsteht. Since the platelets have a small area, they can be made very thin, without the risk of cracks occurring during the assembly soldering process.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung sind in der Basis Hohlräume oder Ausnehmungen vorgesehen, die die Metallstärke unter den Plättchen reduzieren, so daß der Wärmewiderstand reduziert wird, so daß die Leistungskapazität der ganzen Einheit erhöht wird.According to one aspect of the invention, there are cavities or recesses in the base provided that reduce the metal thickness under the platelets, so that the thermal resistance is reduced, so that the power capacity of the whole Unit is increased.
Da das Plättchen sehr klein ist, verursacht die Differenz der temrischen Dehnungsraten von Metallbasis und Plättchen nicht dafür, daß das Plättchen springt.Since the platelet is very small, it causes the difference to be temric Strain rates of metal base and platelet do not imply that the platelet jumps.
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2 8 O b ü 9 92 8 O b ü 9 9
Diese und weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von in der Zeichnung dargestellten Ausführungsformen; es zeigen:These and other objects, features and advantages of the invention will become apparent from the following description of FIG. 1 in the drawing illustrated embodiments; show it:
Figur 1 eine Aufsicht auf eine bekannte Transistor-Baugruppe;Figure 1 is a plan view of a known transistor assembly;
Figur 2 einen Schnitt längs der Linie 2 - 2 in Figur 1;FIG. 2 shows a section along the line 2-2 in FIG. 1;
Figur 3 eine Aufsicht auf eine erste Ausführungsform der Erfindung;FIG. 3 shows a plan view of a first embodiment of the invention;
Figur 4 einen Schnitt längs der Linie 4 - 4 in Figur 3;FIG. 4 shows a section along the line 4-4 in FIG. 3;
Figur 5 eine Aufsicht auf eine zweite Ausführungsform der Erfindung; undFIG. 5 is a plan view of a second embodiment of the invention; and
Figur 6 einen Schnitt längs der Linie 6 - 6 in Figur 5.FIG. 6 shows a section along the line 6-6 in FIG.
Eine bekannte Leistungstransistor-Baugruppe ist in Figuren 1 und 2 dargestellt. Bei bekannten Geräten ist ein Keramikblock 10 mit einer leitenden Fläche 12 versehen, die auf eine erste Fläche aufmetallisiert ist, und einer leitenden Oberfläche 14, die auf die entgegengesetzte Oberfläche aufmetallisiert ist. Das Plättchen wird dann an eine Kupferbasis 16 gelötet, die als Wärmeableitung wirkt. Ein Transistorplättchen 18 ist an die leitende Oberfläche 14 gelötet. Typischerweise ist der Körper des Plättchens 18 der Kollektorbereich des Transistors und der Kollektor kommt dann in elektrischen Kontakt mit der metallisierten Fläche 14. Zuleitungs-Verbindungsdrähte verbinden Emitter und Basis des Plättchens 18 mit Eingangs- und Ausgangs-Pads, die nicht dargestellt sind.A known power transistor assembly is shown in FIGS. In known devices, a ceramic block 10 is provided with a conductive surface 12 which is metallized on a first surface, and a conductive surface 14 metallized on the opposite surface. The plate is then soldered to a copper base 16, which acts as a heat dissipation. A transistor plate 18 is conductive Surface 14 soldered. Typically, the body of the die 18 is the collector region of the transistor and the collector then comes in electrical Contact with the metallized surface 14. Lead connecting wires connect the emitter and base of the plate 18 to input and output pads, which are not shown.
In Figur 3 ist eine Halbleiter-Baugruppe dargestellt, die nach der Erfindung aufgebaut ist. Ein leitender Träger 20 ist vorgesehen, der aus Kupfer hergestellt sein kann. Der Träger ist mit mehreren Ausnehmungen oder Hohl-In Figure 3, a semiconductor assembly is shown according to the invention is constructed. A conductive support 20 is provided which can be made from copper. The carrier is with several recesses or hollow
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^Ub υ 9^ Ub υ 9
räumen 22, 24, 26 versehen. Mehrere Keramikblocke 28, 30, 32 sind vorgesehen, ihre Abmessungen sind so gewählt, daß sie in die jeweiligen Ausnehmungen 22, 24, 26 passen. Jeder Block weist eine leitende Schicht 34 auf einer Seite und eine zweite leitende ·clear 22, 24, 26 provided. Multiple ceramic blocks 28, 30, 32 are provided, their dimensions are chosen so that they fit into the respective recesses 22, 24, 26. Each block has one conductive layer 34 on one side and a second conductive
Schicht 36 auf der entgegengesetzten Seite auf. Die Blöcke sind in die Ausnehmungen eingesetzt und durch einen Lötvorgang am Träger 20 befestigt, bei dem die leitende Schicht 34 an die Bais 20 angelötet wird.Layer 36 on the opposite side. The blocks are inserted into the recesses and on the carrier by a soldering process 20 attached, in which the conductive layer 34 is soldered to the base 20.
Die Transistorplättchen 38, 40, 42 sind jeweils an die zweite leitende Schicht der Blöcke angelötet, etwa die Schicht 36 des Blockes 28. Nicht dargestellte Verbindungsdrähte sind an Eingangs- und Ausgangs-Pads befestigt und mit entsprechenden Basis- und Emitter-Zuleitungen auf den Plättchen 38, 40, 42 verbunden, und zwar nach bekanntem Verfahren.The transistor plates 38, 40, 42 are each to the second conductive Layer of blocks soldered on, such as layer 36 of block 28. Connecting wires (not shown) are on input and output pads attached and connected to corresponding base and emitter leads on the platelets 38, 40, 42, namely according to known method.
In Figuren 5 und 6 ist eine zweite Ausführungsform der Erfindung dargestellt. Es ist eine Kupferbasis 50 vorgesehen, in die Ausnehmungen oder Hohlräume 52, 54, 56 und 58 eingeschnitten sind.In Figures 5 and 6, a second embodiment of the invention is shown. A copper base 50 is provided into which recesses or cavities 52, 54, 56 and 58 are cut.
Einzelne Blöcke 60, 62, 64 sind vorgesehen und auf eine solche Größe geschnitten, daß sie in die Ausnehmungen 52, 54 bzw. 56 passen. Die unteren Seiten der Blöcke sind mit der Basis 50 verbunden. Diese Blöcke tragen jeweils ein Halbleiterplättchen 70, 72, 74, die an die Oberseiten der Plättchen gebondet sind. Der Block 68 trägt einzelne kapazitive Elemente 76, 78, 80, die den Halbleiterschaltungen 70, 72 bzw. assoziiert sind.Individual blocks 60, 62, 64 are provided and of such a size cut so that they fit into the recesses 52, 54 and 56, respectively. The lower sides of the blocks are connected to the base 50. These blocks each carry a semiconductor die 70, 72, 74 attached to the top the platelets are bonded. The block 68 carries individual capacitive elements 76, 78, 80, which the semiconductor circuits 70, 72 and are associated.
Ein Keramikring 82, dessen untere Seite an die Basis 50 gebondet ist, umgibt die soeben beschriebenen Halbleiter-Schaltkreiselemente. Der Keramikring 82 bietet eine öffnung 84, die eine Wand eines Gehäuses zur Aufnahme der Halbleiterelemente bildet, wobei Raum für die Zuleitungs-A ceramic ring 82, the lower side of which is bonded to the base 50, surrounds the semiconductor circuit elements just described. Of the Ceramic ring 82 offers an opening 84, which is a wall of a housing Forms receptacle for the semiconductor elements, with space for the supply line
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28 0 b 0 928 0 b 0 9
-r--r-
Verbindungsdrähte verbleibt, die die verschiedenen Elemente entsprechend bekannten Techniken verbinden. Der Keramikring 82 bildet auch einen isolierenden Support für die Basis- und KoIlektor-Pads 86 bzw. 88, die an die Oberseite des Rings gebondet sind. Diese Pads sind jeweils als ein Stück dargestellt, an die der Eingangs- bzw. der Ausgangsanschluß geführt v/ürde. Es ist darauf hinzuweisen, daß getrennte einzelne Schaltungen zur Baugruppe vereinigt sein könnten, wenn diese Technik verwendet wird, jedoch drei Pads aufplattiert werden (wie durch unterbrochene Linien dargestellt) statt des einzigen Pads gemäß 86 und 88. Dadurch würden sich drei getrennte Schaltkreise ergeben, entsprechend den drei Halbleiterplättchen und den drei Kondensatoren.Connection wires are left that connect the various elements connect according to known techniques. The ceramic ring 82 also forms an insulating support for the base and collector pads 86 and 88 respectively bonded to the top of the ring. These pads are each shown as one piece to which the Input or output connection led v / ürde. It should be noted that separate individual circuits to the assembly could be united if this technique is used but three pads are plated (as shown by broken lines) instead of the single pad shown in 86 and 88. This would result in three separate circuits, corresponding to the three Semiconductor wafers and the three capacitors.
Die Transistor-Baugruppe gemäß Figuren 5 und 6 ist besonders brauchbar zur Montage von Baugruppen gemäß der älteren Anmeldung P 28 OO 304.5 der Anmelderin. In dieser älteren Anmeldung ist eine Halbleiter-Baugruppe beschrieben, die zwei einzelne Transistoren derart enthalten soll, daß diese extern in Gegentaktschaltung verbunden werden können. Die beiden Transistoren haben jeder ein Eingangs- und ein Ausgangs-Pad und sind auf dem gleichen dielektrischen Plättchen geformt. Die Transistoren teilen sich in eine gemeinsame Erdebene und sind entweder in Emitter- oder in Basis-Schaltung verdrahtet.The transistor assembly according to FIGS. 5 and 6 is particularly useful for the assembly of assemblies according to the earlier application P 28 OO 304.5 of the applicant. In this older application there is a semiconductor assembly described, which should contain two individual transistors in such a way that they can be connected externally in a push-pull circuit. The two transistors each have an input and an output pad and are molded on the same dielectric sheet. the Transistors share a common ground plane and are wired in either an emitter or a base circuit.
Die Baugruppe nach der Erfindung ist leicht zur Montage der in dieser älteren Anmeldung beschriebenen Schaltung zu adaptieren. Zu diesem Zweck würde das Ausgangs-Pad 86 in zwei getrennten Teilen metallisiert. In ähnlicher Weise würde das Eingangs-Pad 88 in zwei getrennten Teilen metallisiert. Die Verbindungsdrähte würden dann in der gleichen Weise gebondet wie in der älteren Anmeldung erläutert. Beispielsweise würden für eine Basisschaltung Verbindungsdrähte 90 vom Eingangs-Pad 88The assembly according to the invention is easy to assemble in this to adapt the circuit described earlier. For this purpose the output pad 86 would be metallized in two separate parts. Similarly, the input pad 88 would be metallized in two separate parts. The connecting wires would then work in the same way bonded as explained in the older application. For example, connection wires 90 would be from input pad 88 for a basic circuit
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an eine Elektrode des Kondensators 80 gebondet, und dann zum Emitter des Halbleiters 74. Schließlich würde die Basis des Halbleiters 74 über Draht 94 mit der anderen Elektrode des Kondensators 80 und ebenfalls an eine geeeignete Erdebene angeschlossen, beispielsweise den kupfernen Träger 50. Alle diese Anschlüsse sind in Figur 5 nicht dargestellt, um die Zeichnung zu vereinfachen. Es gibt viele verschiedene Arten von SchaltungsVerdrahtungen, die vom Fachmann verwendet werden können, und die Erfindung ist nicht auf eine spezielle Schaltung beschränkt. bonded to one electrode of the capacitor 80, and then to the emitter of the semiconductor 74. Finally, the base of the semiconductor 74 would via wire 94 to the other electrode of the capacitor 80 and likewise connected to a suitable earth plane, for example the copper carrier 50. All these connections are not shown in FIG. to simplify the drawing. There are many different types of circuit wiring used by those skilled in the art can, and the invention is not limited to any particular circuit.
In beiden bevorzugten Ausführungsformen ist das Kupfer mit Ausnehmungen oder Hohlräumen versehen worden, die eingeschnitten sind, um die Blöcke zu halten. Dadurch ist es möglich, daß das Basismaterial dick genug gemacht wird, um strukturell fest zu sein, während das Material in den Hohlräumen unter jedem Block dünn ist, um den Wärmewiderstand zu erniedrigen. Es ist darauf hinzuweisen, daß die Hohlräume oder Ausnehmungen zur Ausführung der Erfindung nicht erforderlich sind, und daß die Blöcke an ein flaches Stück Kupfer gebondet werden können. Bei der Ausführungsform nach Figuren 5 und 6 kann die Kupferbasis 50 immer noch sehr dünn gemacht werden, weil der Keranrikring 80 ausreichend strukturelle Festigkeit für die Basis bietet, an die er gebondet ist.In both preferred embodiments, the copper is recessed or cavities cut to hold the blocks. This makes it possible for the base material to be thick enough is made to be structurally strong while the material in the cavities under each block is thin to lower the thermal resistance. It should be noted that the cavities or recesses are not required for the practice of the invention, and that the blocks can be bonded to a flat piece of copper. In the embodiment of Figures 5 and 6, the copper base 50 can still be very thin be made because the Keranrik ring 80 has sufficient structural strength for the base to which it is bonded.
L e e rs e i t eL e rs e i t e
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