[go: up one dir, main page]

DE2803331B2 - Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung - Google Patents

Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung

Info

Publication number
DE2803331B2
DE2803331B2 DE2803331A DE2803331A DE2803331B2 DE 2803331 B2 DE2803331 B2 DE 2803331B2 DE 2803331 A DE2803331 A DE 2803331A DE 2803331 A DE2803331 A DE 2803331A DE 2803331 B2 DE2803331 B2 DE 2803331B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
recipient
workpiece
container
inner electrode
treated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE2803331A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2803331A1 (de
DE2803331C3 (de
Inventor
Werner Dr. 5038 Rodenkirchen Oppel
Horst Weiningen Rordorf (Schweiz)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kloeckner Ionon 5000 Koeln GmbH
Original Assignee
Kloeckner Ionon 5000 Koeln GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kloeckner Ionon 5000 Koeln GmbH filed Critical Kloeckner Ionon 5000 Koeln GmbH
Priority to DE2803331A priority Critical patent/DE2803331C3/de
Priority to CH1153878A priority patent/CH634604A5/de
Priority to JP14491278A priority patent/JPS5514884A/ja
Priority to US06/004,837 priority patent/US4221972A/en
Publication of DE2803331A1 publication Critical patent/DE2803331A1/de
Publication of DE2803331B2 publication Critical patent/DE2803331B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2803331C3 publication Critical patent/DE2803331C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32018Glow discharge
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/34Methods of heating
    • C21D1/38Heating by cathodic discharges
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/36Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S422/00Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
    • Y10S422/907Corona or glow discharge means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Discharge Heating (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung mit einem Rezipienten und einer Gleichstromquelle, die mit dem Werkstück und dem Rezipienten verbindbar ist.
Bei der Behandlung von Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung etwa zum Nitrieren, (Carbonitrieren, Karburieren, Metallisieren, Glühen oder dgl. werden Werkstücke in einem Rezipienten angeordnet, der evakuiert wird, wonach die Werkstücke indirekt durch Fremdbeheizung oder direkt durch Glimmentladung auf die Behandlungstemperatur gebracht und dann eine vorbestimmte Zeit, gegebenenfalls unter Verwendung eines Behandlungsgases, das den Rezipienten durchströmt, behandelt. Wenn bestimmte Bereiche etwa eines zu nitrierenden Werkstückes weich bleiben sollen, werden diese Bereiche durch ein Blech oder dgl. abgedeckt oder mittels einer Kupferpaste bestrichen, so daß an diesen Stellen keine Nitrierhärtung stattfindet. Wenn man jedoch langgestreckte Werkstücke nur teilweise behandeln will, beispielsweise nur das Gewinde von Rohren eines Bohrgestänges, würde das Einbringen des gesamten Rohres in eine entsprechend großen Rezipienten sowie das Anbringen eines Schutzes für die nicht zu behandelnden Bereiche dieses Werkstückes zu einem unverhältnismäßig hohen Energieverbrauch führen, da das gesamte Werkstück auf Behandlungstemperatur gebracht wird, während nur ein geringer Teil zu behandeln ist. Ferner ergäbe sich ein relativ großer Arbeitsaufwand hinsichtlich des Anbrin gens des Schutzes und zudem würde man einen sehr großen Rezipienten mit entsprechend leistungsstarker Stromversorgung und entsprechend ausgelegten Vakuumpumpen benötigen. Aufgrund des großen Volumens des Rezipienten wäre auch der Gasverbrauch entsprechend groß und ferner würde eine kräftige Aufhängung für das Werkstück benötigt
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Anlage der eingangs genannten Art zu schaffen, die es
ι ο ermöglicht langgestreckte Werkstücke in Teilbereichen mit minimalem Aufwand zu behandeln.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst daß die Wandung des Rezipienten wenigstens eine Durchtrittsöffnung für das Werkstück aufweist während innerhalb des Rezipienten ein metallischer Behälter angeordnet ist der zusammen mit dem Rezipienten und dem Werkstück geerdet und in den der zu behandelnde Teil des Werkstücks einführbar ist, wobei sich innerhalb des Behälters eine Innenelektrode befindet, die mit dem anderen Pol der Gleichstromquelle verbindbar ist
Bei dieser Anlage kann das Werkstück mit seinem zu behandelnden Teil innerhalb des metallischen Behälters angeordnet werden, wobei zur Behandlung des zu behandelnden Teils des Werkstücks dieser sowie das Innere des Behälters beglimmt wird. Das aus dem Rezipienten herausragende Werkstück liegt ebenso wie der Rezipient auf Erdpotential, so daß hierdurch keine Gefährdung des Bedienungspersonals hervorgerufen werden kaiin und ferner keine Sicherheitsvorkehrungen etwa in Form von Schutzabdeckungen vorgesehen werden müssen.
Bei Bohrgestängen wurde festgestellt, daß ein Härten der Gewinde der einzelnen Bohrstangen vorteilhaft ist um ein Festfressen dieser Gewinde zu verhindern, so daß sich beim Ziehen des Bohrgestänges ein besseres Lösen der Bohrstangen voneinander und damit ein erheblich verringerter Zeitaufwand ergibt, jedoch müssen zu diesem Zweck die Gewinde der Bohrstangen jeweils neu gehärtet werden. Mit der erfindungsgemä ßen Anlage wird dies am Ort der Bohrung möglich. Insbesondere benötigt man hierzu nur einen sehr kleinen Rezipienten mit entsprechend kleinen Strom-, Gasversorgungs- und Vakuumpumpanlagen, so daß eine derartige Anlage sogar auf Bohrinseln oder dgl.
verwendet werden kann, wo sehr beengte Verhältnisse herrschen. Gerade hierbei ist es auch wichtig, daß das aus dem Rezipienten herausragende Rohr auf Erdpotential liegt und somit keine Gefahrenquelle darstellt. Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind den
so Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der in den Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispiele näher erläutert. F i g. 1 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Anlage zum Behandeln des Endteiles eines langgestreckten Werkstücks.
F i g. 2 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Anlage zum Behandeln eines Mittelteils eines langgestreckten Werkstücks.
F i g. 3 zeigt ausschnittweise im Schnitt eine Ausführungsform für einen Rezipienten für die Anlage von Fig. 1.
Die in Fig. 1 dargestellte Anlage besteht aus einem Rezipienten 1, einer Gleichstromquelle 2, einer nicht dargestellten Einrichtung zum Evakuieren des Rezipienten 1 sowie gegebenenfalls einer an den Rezipienten angeschlossenen Gaszuführeinrichtung zum Liefern des zur Behandlung der Werkstücke notwendigen Behänd-
lungsgases, die ebenfalls nicht dargestellt ist Innerhalb des Rezipienten ist ein metallischer Behälter 3 angeordnet, der auf dem gleichen Potential wie der Rezipient 1 liegt, nämlich auf Erdpotential. Innerhalb des Behälters 3 befindet sich eine Innenelektrode 4, die mit dem anderen Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden ist, wobei eine Zuführung 5 für die Innenelektrode 4 vorgesehen ist, die sich durch die Wandung des Behälters 3 und des Rezipienten 1 erstreckt und gegenüber diesem mittels einer Isoliereinrichtung 6 isoliert ist In dem Ausführungsbeispiel von Fig. 1 ist die Innenelektrode 4 in Form eines zylindrischen Topfes 7 innerhalb des Behälters 3 ausgebildet Ein zu behandelndes Werkstück 8, das ebenfalls auf Erdpotential liegt ist durch die Wandung des Rezipienten 1 in den Behälter 3 hineingeführt, so daß der Topf 7 der Innenelektrode 4 den zu behandelnden Teil des Werkstücks 8 wenigstens teilweise mit Abstand umgibt An der Öffnung, durch die das Werkstück 8 in den Rezipienten 1 eingeführt ist ist eine Vakuumdichtung 9 vorgesehen.
Falls es sich bei dem zu behandelnden Werkstück 8 um ein Rohr handelt, ist dessen Innenbohrung ebenfalls mit einer Vakuumdichtung zu versehen, um das Eindringen von Luft in den Rezipienten 1 zu verhindern. Das zur Behandlung des Werkstücks 8 notwendige Behandlungsgas kann beispielsweise durch die Zuführung 5 für die Innenelektrode 4 vorgenommen werden, wobei dann die Zuführung 5 rohrförmig ausgebildet und an die Gaszuführungseinrichtung angeschlossen sein muß. Die Gasabfuhr aus dem Rezipienten 1 kann außerhalb und/oder innerhalb des Behälters 3 vorgenommen werden, der Behälter 3 braucht nicht gegenüber dem umgebenden Rezipienten 1 abgedichtet zu sein, vielmehr kann er auch Öffnungen zum Durchtritt von Gas aufweisen. Der Behälter 3 kann beispielsweise aus einem Drahtnetz mit engen Maschen oder aus einem gelochten Blech, aber auch aus einem Zylinder oder dergleichen bestehen.
Das Aufheizen kann direkt oder indirekt vorgenommen werden, d. h. durch Beglimmen des zu behandelnden Teils des Werkstücks 8 (direkte Beheizung) oder durch Beglimmen der Innenelektrode 4, deren Wärmeabstrahlung zum Aufheizen des zu behandelnden Teils des Werkstücks 8 führt (indirekte Aufheizung). Letzteres hat den Vorteil, daß Verschmutzungen der Oberfläche des zu behandelnden Werkstücks 8 während des Aufheizens nicht zum Auftreten von Entladungsstörungen wie Lichtbögen führen können, so daß ein störungsfreierer und gleichmäßigerer Anfahrvorgang gewährleistet wird. Zum Zweck der indirekten Aufheizung ist die Innenelektrode 4 mit dem negativen Pol der Gleichstromquelle 2 zu verbinden, während der Rezipient I, das Werkstück 8 und der Behälter 3 mit dem positiven Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden und gleichzeitig auf Erdpotential gelegt werden. Hierdurch wird vermieden, daß der aus dem Rezipienten 1 herausragende Teil des langgestreckten Werkstücks 8 auf Spannung liegt Beim Beginn der eigentlichen Behandlung (Fig. 1), bei der der zu behandelnde Teil des Werkstücks 8 beglimmt werden muß, muß dann umgepolt werden, wobei die Innenelektrode 4 mit dem positiven Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden wird, während der Rezipient I1 der Behälter 3 und das Werkstück 8 mit dem negativen Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden werden, jedoch geerdet bleiben.
Gemäß F i g. 2 soll ein mittlerer Teil eines langgestreckten Werkstücks 8 durch Glimmentladung behan-
delt werden, wobei sich dieser mittlere zu behandelnde Teil des Werkstücks 8 innerhalb einer zylindrischen Innenelektrode 4 befindet Auch hier kann das Aufheizen direkt oder indirekt vorgenommen werden.
Gemäß F i g. 3 ist durch eine Öffnung in der Wandung des Rezipienten 1 eine Zuführung 5 geführt die rohrförmig ausgebildet ist und mittels einer Schraube 10 verspannt ist
Die Zuführung 5 ist von einem Keramikrohr 11 umgeben, das sich in einer Metallhülse 12 befindet, die sich über eine Scheibe 13 gegenüber der Wandung des Rezipienten 1 und über einen flanschförmigen Ansatz 14 gegenüber dem Behälter 3 abstützt Die Verspannung erfolgt durch die Schraube 10 mit Hilfe eines Ansatzes 15 der Durchführung 5. Aufgrund des Keramikrohres 1 ί ist der Behälter 3 gegenüber der Zuführung 5 isoliert, jedoch mit der Wandung des Rezipienten 1 über die Hülse 12 und die Scheibe 13 verbunden. Dichtungen 16 sorgen für eine vakuumdichte Durchführung der Zuführung 5. Zwischen der Innenseite des Behälters 3 benachbart dem Keramikrohr 11 und der Außenwandung der Innenelektrode 4 befindet sich ein Spaltsystem 17 aus durch Glimmerscheiben 18 voneinander getrennten Teilen 19, die auf schwimmendem Potential liegen. Das Spaltsystem 17 verhindert, daß sich ein leitender Metallfilm zwischen der Innenelektrode 4 und dem Behälter 3 ausbildet, der zu einem galvanischen Kurzschluß führen würde. Der Behälter 3 besitzt ein nach innen gerichtetes Rohrstück 20, in daß das zu behandelnde Werkstück 8 eingeschoben und von diesem gehalten werden kann, während sich der zu behandelnde Teil des Werkstücks 8 in den Topf 7 der Innenelektrode 4 hineinerstreckt und auf diese Weise behandelt werden kann. Die Schraube 10, die zusammen mit einer Hülse 21 den elektrischen Kontakt zwischen
so der Zuführung 5 und der Innenelektrode 4 herstellt sowie die Verspannung gewährleistet, besitzt entsprechend der rohrförmigen Zuführung 5 eine Bohrung, um den Eintritt von Behandlungsgas in den Innenraum der Innenelektrode 4 benachbart dem zu behandelnden Teil des Werkstücks 8 zu gewährleisten.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

Patentansprüche:
1. Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung mit einem Rezipienten und einer Gleichstromquelle, die mit dem Werkstück und dem Rezipienten verbindbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Wandung des Rezipienten (1) wenigstens eine Durchtrittsöffnung für das Werkstück (8) aufweist, während innerhalb des Rezipienten (1) ein metallischer Behälter (3) angeordnet ist, der zusammen mit dem Rezipienten (1) und dem Werkstück (8) geerdet und in den der zu behandelnde Teil des Werkstücks (8) einführbar ist, wobei sich innerhalb des Behälters (3) eine Innenelektrode (4) befindet, die mit dem anderen Pol der Gleichstromquelle (2) verbindbar ist
2. Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Polarität von Werkstück (8), Rezipient (1) und Behälter (3) einerseits und der Innenelektrode (4) andererseits umschaltbar ist, wobei Werkstück (8), Rezipient (1) und Behälter (3) geerdet bleiben.
3. Anlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Behälter (3) öffnungen für den Durchtritt von Gas aufweist
4. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Inneneiektrode (4) einen Zylinder (7) aufweist der den zu behandelnden Teil des Werkstücks (8) wenigstens teilweise mit Abstand umgibt
5. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet daß die Stromzuführung (5) für die Innenelektrode (4) rohrförmig und an die Zufuhr für das Behandlungsgas angeschlossen ist.
DE2803331A 1978-01-26 1978-01-26 Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung Expired DE2803331C3 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2803331A DE2803331C3 (de) 1978-01-26 1978-01-26 Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung
CH1153878A CH634604A5 (de) 1978-01-26 1978-11-09 Anlage zum teilweisen behandeln von langgestreckten werkstuecken durch stromstarke glimmentladung.
JP14491278A JPS5514884A (en) 1978-01-26 1978-11-22 Apparatus for partial treating of long size structure by heavy current glow discharge
US06/004,837 US4221972A (en) 1978-01-26 1979-01-19 Apparatus for the partial treatment of elongated articles by current intensive glow discharge

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2803331A DE2803331C3 (de) 1978-01-26 1978-01-26 Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2803331A1 DE2803331A1 (de) 1979-08-02
DE2803331B2 true DE2803331B2 (de) 1980-10-09
DE2803331C3 DE2803331C3 (de) 1981-09-03

Family

ID=6030428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2803331A Expired DE2803331C3 (de) 1978-01-26 1978-01-26 Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4221972A (de)
JP (1) JPS5514884A (de)
CH (1) CH634604A5 (de)
DE (1) DE2803331C3 (de)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4484809B1 (en) * 1977-12-05 1995-04-18 Plasma Physics Corp Glow discharge method and apparatus and photoreceptor devices made therewith
DE3026164A1 (de) * 1980-07-08 1982-01-28 Europäische Atomgemeinschaft (EURATOM), Kirchberg Verfahren und vorrichtung zur entladungschemischen behandlung empfindlicher werkstuecke durch einsatz der glimmentladung
DE3101351C2 (de) * 1981-01-17 1982-10-14 Klöckner Ionon GmbH, 5090 Leverkusen Vorrichtung zum Härten von metallischen Werkstücken mit einer evakuierbaren Kammer
US4878570A (en) * 1988-01-25 1989-11-07 Dana Corporation Surface hardened sprags and rollers
WO1990002414A1 (de) * 1988-08-18 1990-03-08 Klöckner Ionon Gmbh Vorrichtung zur glimmbehandlung, insbesondere zum ioncarburieren
US5039357A (en) * 1990-06-15 1991-08-13 Dynamic Metal Treating, Inc. Method for nitriding and nitrocarburizing rifle barrels in a fluidized bed furnace
US5300266A (en) * 1992-05-27 1994-04-05 Scientific Products Corporation Electrical apparatus and method for generating antibiotic
ES2210480T3 (es) * 1997-04-18 2004-07-01 Plasma Metal S.A. Proceso de nitruracion y horno de nitruracion para su realizacion.
DE19807742A1 (de) * 1998-02-24 1999-10-21 Ruediger Haaga Gmbh Vorrichtung zum Sterilisieren eines Behälters mittels eines Niederdruck-Plasmas
US7638727B2 (en) * 2002-05-08 2009-12-29 Btu International Inc. Plasma-assisted heat treatment
DE102013203648A1 (de) * 2013-03-04 2014-09-04 INP Greifswald Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e. V. Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von hohlkörpern
JP6354149B2 (ja) 2013-12-18 2018-07-11 株式会社Ihi プラズマ窒化装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3308049A (en) * 1963-03-06 1967-03-07 Gen Electric Glow discharge apparatus for treating workpieces
US3654108A (en) * 1969-09-23 1972-04-04 Air Reduction Method for glow cleaning
CH519588A (de) * 1970-02-13 1972-02-29 Berghaus Elektrophysik Anst Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstückes mittels einer Glimmentladung und Apparatur zur Durchführung des Verfahrens
CH551496A (de) * 1970-09-21 1974-07-15 Berghaus Bernhard Elektrophysi Verfahren zur verfestigung der oberflaeche von werkstuecken aus eisen und stahl.

Also Published As

Publication number Publication date
DE2803331A1 (de) 1979-08-02
DE2803331C3 (de) 1981-09-03
JPS5514884A (en) 1980-02-01
US4221972A (en) 1980-09-09
CH634604A5 (de) 1983-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3234100C2 (de) Plasmalichtbogeneinrichtung zum Auftragen von Überzügen
DE2803331C3 (de) Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung
DE2601288A1 (de) Gasaetzvorrichtung, insbesondere zur herstellung von halbleitervorrichtungen
DE2314681B2 (de) Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines strahlenbuendels energiereicher, geladener teilchen
DE1141850B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Verbesserung einer thermisch-chemischen Oberflaechenbehandlung von Rohren
DE2229825A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Vorhangs aus energiereichen Elektronen
DE976529C (de) Anordnung zur Durchfuehrung technischer Prozesse mittels Glimmentladung
DE2847861A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur randschichtbehandlung von metallischen werkstuecken in einer vakuumkammer
DE1440263A1 (de) Vorrichtung zum Herstellen von Bohrungen geringen Durchmessers mittels Elektroerosion
DE2146862A1 (de) Verfahren zur Verfestigung der Oberfläche von Werkstücken aus Eisen und Stahl
DE1539691C2 (de) Verfahren zur Inbetriebnahme des Lichtbogens eines Plasmastrahlerzeugers und Vorrichtung zu seiner Durchführung
DE1690663C3 (de) Einrichtung zur elektrischen Glimmnitrierung der Innenflächen von Bohrungen in Werkstücken aus Eisen oder Stahl
DE1764684A1 (de) Kaltkathoden-Entladevorrichtung
DE1907920A1 (de) Vorrichtung zum Gluehen von Rohren
DE19635404C2 (de) Verfahren und Elektrode zum Entgraten und/oder Einrunden von scharfkantigen Übergängen in Rauchabzugsbohrungen in Waffenrohren
DE4306896C2 (de) Heizrohr für einen Industrieofen und Verwendung des Heizrohres in einem Industrieofen
DE1240199B (de) Entladungsvorrichtung zum Erzeugen einer energiereichen Bogenentladung
DE2849777C3 (de) Hochfrequenz-Heizgerät
DE3622203C2 (de)
DE1232433B (de) Verfahren zum Betrieb einer elektrischen Glimmentladung und Entladungsgefaess hierfuer
DE1946123A1 (de) Gaslaser
DE4206851A1 (de) Heizrohr fuer einen industrieofen, industrieofen und verfahren zur beheizung des ofens
DE4432982C2 (de) Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit Elektronen
AT340735B (de) Vorrichtung zum elektroplattieren
DE3205084C1 (de) Verfahren zur anodischen Oxidation eines supraleitenden Niobhohlkörpers

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee