DE2852787A1

DE2852787A1 - Verfahren zur ausbildung eines bildes

Info

Publication number: DE2852787A1
Application number: DE19782852787
Authority: DE
Inventors: Tomoaki Ikeda; Masao Kitajima; Fumiaki Shinozaki; Hiromichi Tachikawa
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1977-12-06
Filing date: 1978-12-06
Publication date: 1979-06-07
Also published as: GB2009953A; JPS5479034A; US4396700A; GB2009953B

Description

PATENTANWÄLTE

DR. E. WIEGAND DIPL-ING. W. NIEMANN

DR. M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT 2852787

MÖNCHEN (J HAMBURG

TELEFON: 55547i 8000 MD N CH EN 2,

C- :;.MME: karpatent herzog-Wilhelm-Str. 16

4-3 34-3/78 - Ko/Ue 6.Dezember 19 78

Euji Photo PiIm Co., Ltd. Minami, Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)

Verfahren zur Ausbildung eines Bildes

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, insbesondere ein Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes, welches die bildweise Belichtung eines lichtempfindlichen Bildungsausbildungsmaterials und Behandlung desselben mit Trockenentwicklung umfasst.

Gemäss der Erfindung wird ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes vorgeschlagen, worin ein lichtempfindliches Bildungsausbildungsmaterial, das eine Diazoniumverbindung oder eine Azidverbindung enthält, belichtet und nach

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einem Abschälentwicklungsverfahren entwickelt wird, wobei ein Entwicklerträgerbogen mit einer darauf befindlichen Schicht einer Klebmasse an das Bildausbildungsmaterial vor oder nach der Belichtung angehaftet wird und nach der Belichtung von dem Bildausbildungsmaterial abgeschält wird, wobei die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht an dem Trägerbogen anhaften, so dass ein Reliefbild ausgebildet wird, während die unbelichteten Bereiche an dem Träger angehaftet verbleiben und gleichfalls ein Reliefbild ergeben.

Die Erfindung befasst sich mit einem Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, wobei bildweise ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches aus einem Träger mit einer darauf ausgebildeten Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse, welche eine Diazoniumverbindung oder eine aromatische Azidverbindung und einen thermoplastischen Binder enthält, aufgebaut ist, bildweise belichtet wird und die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse eng an einen Entwicklerträgerbogen mit einer Schicht einer klebenden Masse angehaftet wird oder bildweise das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial in innigem Kontakt mit dem Trägerbogen belichtet wird und dann das Bildausbildungsmaterial und der Trägerbogen voneinander- unter Übertragung und Anhaftung der belichteten Bereiche der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse an dem Trägerbogen und dadurch erfolgende Ausbildung eines Reliefbildes hierauf und gleichzeitig unter Ausbildung eines Seliefbildes entsprechend dem nicht-übertragenen nicht-belichteten Bereich der lichtempfindlichen Masse auf den Träger voneinander abgeschält werden.

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Zahlreiche Verfahren zur Herstellung von Bildern nach der Trockenverfahren-Entwicklung von lichtempfindlichen Massen wurden bereits vorgeschlagen, die beispielsweise die Entwicklung eines belichteten lichtempfindlichen Materials durch Erhitzen nach einem Thermoentwicklungsverfahren mit einer geeigneten Strahlung, mit einem Gas, mit einer elektrostatischen Behandlung und durch Anwendung von Druck umfassen.

Ein typisches Trockenentwickl längsverfahren ist das sogenannte Ab schälen twickl längsverfahren, wobei ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches aus einem Träger, einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse auf dem Träger und einer auf der lichtempfindlichen Schicht aufgebrachten Deckschicht, wobei sich die Haftung der lichtempfindlichen Schicht zu dem Träger und zu der Deckschicht bei der Belichtung ändert, aufgebaut ist und nach der Belichtung der Träger und das Deckblatt von der lichtempfindlichen Schicht abgeschält werden, so dass lediglich der belichtete Bereich auf dem Träger oder dem Deckblatt und der unbelichtete Bereich auf dem anderen Teil, jeweils als Reliefbild, hinterbleiben.

Das Verfahren der Bildausbildung durch Abschälentwicklung arbeitet im trockenen Zustand und der Betrieb ist einfacher als die gewöhnliche Flüssigkeitsentwicklung unter Anwendung einer grossen Menge von Wasser oder Lösungsmittel. Ferner wird lediglich der Bildbereich der lichtempfindlichen Bildausbildungsmasse, der auf dem Träger nach der Abschälung verbleibt, entwickelt, während der Nicht-Bildbereich von dem Träger beim Abschälarbeitsgang entfernt wird. Das Verfahren hat deshalb den Vorteil, dass die Stabilisierung

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des Nicht-Bildbereiches, die für lichtempfindliche, nach gewöhnlichen Flüssigkeitsentwicklungsverfahren oder thermischen Entwicklungsverfahren entwickelte Massen wesentlich ist, d.h., deren Fixierung, gleichzeitig mit dem Entwicklungsarbeit sgang ausgeführt werden kann. Da beim Abschälentwicklungsverfahren die lichtempfindliche Masse im Nicht-Bildbereich auf dem Abschälbogen als feste Schicht fixiert wird, kann sie leicht verworfen werden und dies ist günstig vom Gesichtspunkt der Umgebungsverschmutzung. Falls die Masse brauchbare Bestandteile enthält, können diese vollständig zurückgewonnen werden und leicht wieder verwendet werden. Dieses Behandlungsverfahren ist insofern auch vorteilhaft aufgrund der Einsparung von Energiequellen oder Rohstoffen.

Seit das allgemeine Verfahren zur Bildausbildung durch Abschälung in der japanischen Patent-Veröffentlichung 9663/63 veröffentlicht wurde, wurden eine Anzahl spezifischer Verfahren vorgeschlagen. Diese Verfahren lassen sich nach ihren Grundeigenschaften klassifizieren und sind nachfolgend kurz aufgeführt.

Eine aus einem Träger, einer lichtempfindlichen Schicht hierauf, die ein photopolymerlsierbares Monomeres enthält, und einen auf der lichtempfindlichen Schicht aufgeschichteten Deckbogen aufgebaute Drei-Schichtstruktur stellt ein sehr wichtiges Material auf dem Fachgebiet dar. Die Abschälentwicklung dieses lichtempfindlichen Materials wird durch Ausnützung der Tatsache ausgeführt, dass die Polymerisation im belichteten Bereich des Materials fortschreitet und deshalb die Haftung der lichtempfindlichen Schicht am Träger und am Deckbogen sich zwischen dem belichteten Bereich und dem nicht-belicht eten Bereich unterscheidet. Beispielsweise ist in der japanischen Patentveröffentlichung 3193/62 (US-Patentschrift

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3 060 024), der japanischen Patent-Veröffentlichung 22901/68 (US-Patentschrift 3 353 955), der Japanischen Patentanmeldung 7728/72 (US-Patentschrift 3 770 438) und den US-Patentschriften 3 060 023 und 3 525 615 ein derartiges Verfahren beschrieben. Die US-Patentschriften 3 627 529, 3 591 377 und 3 607 264 und dgl. beschreiben ähnliche abschälentwicklungsfähige lichtempfindliche Materialien, die im wesentlichen aus einem Träger, einer lichtempfindlichen Schicht und einem transparenten Deckbogen bestehen, worin die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse einen photohärtbaren Polyester (US-Patentschrift 3 591 377), eine photohärtbare Olefinverbindung (US-Patentschrift 3 607 264) oder einen photohärtbaren Katalysator und ein thiolhaltiges Olefinpolymeres (US-Patentschrift 3 627 529) enthalten.

Die vorstehend aufgeführten Verfahren führen die Abschälentwicklung durch,Ausnutzung der Änderungen der Haftung auf Grund der photochemischen Umsetzung des photopolymerisierbaren Monomeren oder einer photohärtbaren Verbindung aus.

Verfahren unter Anwendung weiterer lichtempfindlicher Verbindungen sind gleichfalls bekannt. Beispielsweise ist in der japanischen Patentanmeldung 57819/77 ein Verfahren angegeben, welches die Anwendung einer Schichtstruktur umfasst, die aus einer Bahn aus einem Träger und einer hierauf ausgebildeten Schicht aus einer haftenden Masse und einem transparenten, mit einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt eines Diazoniumsalzes und einem Binder aufgezogenen Kunststoffilm besteht, Belichtung der Schichtstruktur und anschliessende Abschälung des Filmes umfasst, wobei der unbelichtete Bereich der Schicht aus der licht-

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empfindlichen Masse auf dem transparenten Kunststoffilm hinterbleibt und der belichtete Bereich auf dem Träger verbleibt.

In der japanischen Patentanmeldung 3215/78 ist ein Verfahren beschrieben mit einem ähnlichen Bogen, der aus einem Träger und einer hierauf ausgebildeten Schicht aus einer klebenden Masse besteht. Eine dünne Filmschicht aus einem Metall oder Chalcogen ist weiterhin zwischen dem Träger und der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse zur Bildung einer Fünf-Schichtstruktur ausgebildet. Es wird dabei die Erscheinung ausgenützt, dass die Abschälentwicklung nach der Belichtung eine selektive Trennung an der Grenzfläche zwischen der nicht-empfindlichen dünnen Filmschicht und dem Träger einleitet.

Gemäss der japanischen Patentanmeldung 23632/78 wird eine lichtempfindliche Masse aus einer Polyhalogenverbindung und einem Polymeren mit einem Phenolkern verwendet und durch Abschälung eines transparenten filmartigen _t an der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse anhaftenden Materials vor oder nach der Belichtung wird ein Bild entsprechend dem belichteten Bild auf dem Träger erhalten.

In der britischen Patentschrift 1 319 295 ist ein Abschälentwicklungsverfahren beschrieben, welches die Aufschichtung einer wärmeerweichbaren polymeren Schicht und eines Pulvers, das zur Absorption von Infrarotstrahlen fähig ist, auf einem Träger, Belichtung des erhaltenen Materials mit Infrarotstrahlen zur Erzielung einer bildweisen Klebrigkeit der wärmeerweichbaren polymeren Schicht und Abtrennung der polymeren Schicht von dem Träger unter Ausbildung eines Bildes auf dem Träger umfasst.

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Soweit wurden die Eigenschaften der bekannten Verfahren hinsichtlich, der Bildausbildung durch Abschälung beschrieben. Bisher wurde als Grundprinzip der Abschälentwicklung angenommen, dass dies in der Änderung der Haftung zwischen der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Träger durch Einwirkung von Licht liegt. Beispielsweise wird bei der Abschälentwicklung eine photopolymerisierbare oder photohärtbare lichtempfindliche Masse verwendet und durch eine photochemische Zusammensetzung im belichteten Bereich wird die Haftung der lichtempfindlichen Schicht am Träger gegenüber derjenigen vor der Belichtung gesenkt oder erhöht, wodurch belichtete Bereiche und unbelichtete Bereiche als getrennte Bilder auf unterschiedlichen Trägern ausgebildet werden. Demzufolge wurde ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes vorgeschlagen, welches die Belichtung einer lichtempfindlichen Masse in innigem Kontakt mit einem Deckblatt und Abschälung des Deckblattes unter Ausnützung der Tatsache umfasst, dass die lichtempfindliche Haftungsschicht eine geeignete Klebrigkeit bei Raumtemperatur besitzt.

Andererseits ist in den japanischen Patentanmeldungen 57819/77 und 141003/76 und 3215/78 (US-Patentanmeldung Serial No. 810 828 vom 28. Juni 1977) beispielsweise ein Verfahren beschrieben, bei dem die Haftungsqualität der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse selbst nicht wesentlich ist. Die für die Abschälentwicklung erforderliche Haftung wird durch Ausbildung eines Deckblattes mit einer druckempfindlichen Haftungsschicht erreicht. Das haftende Deckblatt wird innig an der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse vor oder nach der bildweisen Belichtung angehaftet und dann abgetschält. Infolgedessen ist ein breiterer Bereich der Auswahl für die Eigenschaften der lichtempfind-

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lichen Masse möglieh als bei den vorstehenden Verfahren, welche eine photopolymerisierbare Verbindung als Material verwenden und die Klebrigkeit der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse selbst bei gewöhnlichen Temperaturen ausnützen.

Es wurden auch einige Verfahren, bei denen die Abtrennung eines Bildes wirksam durch Erhitzung des Bildausbildung smaterials zum Zeitpunkt der Abschalung ausgeführt wird, angegeben. Zum Beispiel in der US-Patentschrift 3 060 023 ist ein Verfahren beschrieben, wobei ein Gemisch aus einem photopolymerisierbaren Monomeren und einem thermoplastischen Polymeren als Schicht einer lichtempfindlichen Masse verwendet wird und nach der Belichtung die lichtempfindliche Schicht in innigem Kontakt mit einem Aufnahmeblatt bei einer Temperatur von mindestens 4-0° C gebracht wird, so dass der unbelichtete Bereich, d. h. der unpolymerisierte Bereich des photopolymerisierbaren Monomeren, selektiv erweicht wird und das Bild thermisch auf das Aufnahmeblatt übertragen wird. Aus den Angaben der Beschreibung ergibt sich klar, dass bei diesem Verfahren die Übertragung des unbelichteten Bereiches (unpolymerisierten Bereiches) der thermoplastischen photopolymerisierbaren Masse auf das Trägerblatt unter Erwärmen ausgenützt wird und eine Anzahl von Kopien geliefert werden, wenn die belichtete Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse in Kontakt mit einem geeigneten Träger zur Übertragung des unbelichteten Bereiches unter Erwärmen gebracht wird. Da bei diesem Verfahren ein aus dem unpolymerisierten Bereich aufgebautes Übertragungsbild stets als Bild ausgenützt wird, ist es, wenn man die Ausnützung des auf dem Träger erhaltenen Bildes weiterhin für eine Druckplatte oder einen Photowiderstand auszunützen wünscht, notwendig, eine zu-

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sätzliche Stufe der Härtung des übertragenen Bildes durch eine Nachbehandlung, wie Belichtung, anzuwenden.

In der japanischen Patentanmeldung 39025/76 ist ein Verfahren beschrieben, welches die bildweise Belichtung eines drei-schichtigen Bildausbildungsmaterials, das aus einem Metallsub strat, einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt eines additionspolymerisierbaren Monomeren und Polyvinylbutyral und einem Deckblatt aufgebaut ist, und die Abschälung des belichteten Materials unter Erhitzen desselben umfasst, so dass eine Kohäsionszerstörung des unbelichteten Bereiches, d. h. des unpolymerisierten Bereiches der lichtempfindlichen Schicht eingeleitet wird und das gleiche positive Bild erhalten wird, wie es bei der bildweisen Belichtung auf dem Metallsubstrat verwendet wurde, wobei dieses Bild als Photowiderstandsbild ausgewertet wird.

Es handelt sich dabei um Beispiele, bei denen das Erhitzen zum Zeitpunkt der Abschälung ausgeführt wird. Bei diesen sämtlichen Beispielen wird eine Schicht aus einer photopolymerisierbaren Masse verwendet und die Übertragung des Bildes auf ein Bildaufnahmeblatt wird durch Erhöhung der Fliessfähigkeit des unbelichteten Bereiches durch Erwärmen erleichtert.

Die vorliegende Erfindung befasst sich hingegen mit einem Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, welches die bildweise Belichtung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials, das aus einem Träger und einer hierauf ausgebildeten Schicht einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt einer Diazoniumverbindung oder einer aromatischen Azidverbindung und einem thermoplastischen Binder aufgebaut

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ist, und die anschliessende Anhaftung der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse eng an eine Trägerbahn mit einer darauf befindlichen Schicht einer klebenden Masse oder die bildweise Belichtung des lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials in innigem Kontakt mit dem Trägerblatt sowie die anschliessende Abschälung des Bildausbildungsmaterials und der Trägerbahn voneinander unter Übertragung und Anhaftung des belichteten Bereiches der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse an dem Entwicklungsträgerblatt unter Bildung eines Reliefbildes hierauf und der gleichzeitigen Ausbildung eines Reliefbildes entsprechend dem nichtübertragenen nicht-belichteten Bereich der lichtempfindlichen Masse auf dem Träger umfasst.

In der japanischen Patentanmeldung 57819/77 ist ein Verfahren zur Bildausbildung durch einen Abschälarbeitsgang beschrieben, wobei eine Diazoniumverbindung als lichtempfindliche Substanz verwendet wird. Diese Verfahren beruht auf einem lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterial, welches aus einem Träger, einer lichtempfindlichen Schicht, einer Schicht aus einer Haftungsmasse und einem transparenten Kunststoff schichtfilm aufgebaut istjUnd umfasst die Abschälung des Kunststoffilmes von dem Schichtgebilde nach der bildweisen Belichtung, wodurch der unbelichtete Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse an der Haftungsschicht anhaftet und der belichtete Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auf dem- Träger anhaftet. Während die bei den üblichen Bildausbildungsverfahren durch Abschälarbeitsgänge eingesetzten lichtempfindlichen Massen auf photopolymerisierbare oder photohärtbare Massen beschränkt sind, befasst sich diese japanische Patentanmeldung mit einem Film mit einer Schicht aus einer haftenden Masse als Mittel

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zur Erzielung von Reliefbildern bei der Abschälentwicklung einer Schicht aus der lichtempfindlichen Masse, welche aus einer Kombination von 4-(D-Tolylthio)-2,5-dibutoxybenzoldiazoniumchlorid/Zinkchlorid-Doppelsalz oder einer aromatischen Azidverbindung und einem Binderpolymeren aufgebaut ist. Hierbei verbleiben die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Masse auf dem Träger und die entsprechenden unbelichteten Bereiche der Schicht aus der haftenden Masse haften auf dem Trägerblatt als getrenntes Reliefbild an.

Die Hauptaufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Ausbildung eines Reliefbildes durch eine Abschälentwicklung, worin lichtempfindliche Materialien, die bisher als ungeeignet für Abschälentwicklungsverfahren betrachtet wurden, eingesetzt werden.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Abschälentwicklung, wobei die lichtempfindliche Masse bei Raumtemperatur nicht haftend oder klebrig ist.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Ausbildung von Bildern, wobei ein lichtempfindliches Material, welches Diazoniumverbindungen oder Azidverbindungen enthält, belichtet und nach einem Abschälentwicklungsverfahren entwickelt wird.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Ausbildung von Bildern, wobei es nicht erforderlich ist, das Bildausbildungsmaterial mit einem Abdeckblatt vor der Belichtung abzudecken, so dass ein inniger Kontakt zwischen dem Bildausbildungsmaterial und dem Originalbilddia erzielt werden kann.

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. Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Ausbildung von Reliefbildern, welche zur Anwendung bei der Ausbildung von Druckplatten, gedruckten Schaltungen und-dgl· geeignet sind. ■

Im Rahmen der Erfindung wurden ausgedehnte Untersuchungen vorgenommen und gefunden, dass durch bildweise Belichtung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials, welches aus einem Träger und einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse, die aus einer Diazoniumverbindung oder einer aromatischen Azidverbindung besteht, und einen Binder aufgebaut ist, durch ein positives Dia eines Originalbildes, enge Anhaftung des belichteten Materials an ein Entwicklungsträgerblatt, welches eine Schicht einer haftenden Masse enthält und anschliessende Abschalung der beiden Materialien voneinander ein positives Reliefbild von.guter Qualität auf dem Träger ausgebildet werden kann* Darauf beruht die vorliegende Erfindung.

Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen erläutert.

In der Zeichnung stellen

Fig. Λ die Belichtung des lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials gemäss der Erfindung durch ein Dia eines Originalbildes,

Fig. 2 das belichtete Bildausbildungsmaterial in inniges Kontakt mit dem Abschälentwicklungsträgerblatt und

Fig. 3 die Trennung des Abschältentwicklungsträgerblattes von dem Bildausbildungsmaterial dar.

Im Rahmen der ausführlichen Beschreibung der Erfindung umfasst die erfindungsgemäss eingesetzte lichtempfindliche

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Masce eine Diazoniumverbindung oder eine aromatische Azidverbindung und einen Binder. Gewünschtenfalls kann sie Zusätze zur Konservierung und Stabilisierung der lichtempfindlichen Substanzen, zur Färbung des Bildes, zur Erhöhung des Verhaltens bei der Abschälentwicklung und zur Sichtbarmachung des Bildes oder für weitere Zwecke enthalten.

Ein charakteristisches Merkmal der Erfindung liegt in der Anwendung eines Trägerblattes, das eine Schicht aus einer klebenden Masse aufweist, bei der Abschälentwicklung.

Die Anwendung einer Schicht aus einer klebenden Masse zur Abschälentwicklung ist in der japanischen Patentanmeldung 57819/77 aufgeführt. Bei diesem Verfahren hat das Bildausbildungsmaterial eine Vier-Schichtstruktur aus Träger, lichtempfindlicher Bildausbildungsschicht, Schicht aus haftender Masse und Trägerfilm für die haftende Schicht. Das Verfahren liefert positive Bilder auf dem Träger bei Kombination einer spezifischen Diazonium- oder Azidverbindung und eines Binders und bei Anwendung eines negativen Dias.

Gemäss dem erfindungsgemässen Verfahren kann ein breiterer Bereich an Diazoniumverbindungen oder aromatischen Azidverbindungen als lichtempfindliche Verbindungen durch geeignete Wahl des Trägers eingesetzt werden.

Ein weiteres charakteristisches Merkmal der vorliegenden Erfindung, welches sich von der japanischen Patentanmeldung 57819/77 unterscheidet, liegt darin, dass die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse eine feste Schicht ist und bei gewöhnlichen Temperaturen, beispielsweise etwa 5 bis etwa 40° C, nicht klebrig wird. Da sie nicht klebrig ist, ist es

nicht notwendig, das Deckblatt vor oder während der Belichtung anzuwenden, wie es wesentlich bei Anwendung einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse ist, die ein bei Raumtemperatur fliessfähiges oder klebriges photopolymerisierbares Monomeres enthält. Infolgedessen können das Dia und die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse in vollständig innigem Kontakt während der Belichtung gehalten werden. Infolgedessen können Streuung, Reflexion und dgl., die durch die Anwesenheit eines Deckblattes verursacht werden, auf einem Minimum gehalten werden. Somit wird eine markante Verbesserung hinsichtlich der Auflösung der Bilder hervorgebracht, die als grösster Fehler bei den üblichen Abschälentwicklungsverfahren zu betrachten ist. Nach dem erfindungsgemassen Verfahren können beispielsweise Bilder mit einer Linienbreite von 15/im ohne grosse Schwierigkeiten aufgelöst werden.

Die brauchbaren aromatischen Diazoniumverbindungen gemäss der Erfindung werden durch die allgemeine Formel

ArN₂ ⁺X "

wiedergegeben, WOrJnN₂ die Diazoniumgruppe (-N=N⁺) und Ar eine den Fachleuten zur Bildung stabiler lichtempfindlicher Diazoniumverbindungen brauchbare aromatische Gruppe bedeuten. Diese Gruppe ist Fachleuten geläufig und im einzelnen in Kosar, Light-Sensitive Systems, John Wiley & Sons, Inc., New York, N.Y. (1965), Seite 202 bis 214, und Glafkides, Photographic Chemistry, Band 11, Fountain Press, London, England (1960), Seite 709 bis 725, beschrieben. Unter Stabilität wird hier verstanden, dass eine Verbindung unter nicht-aktinischem Licht, d. h. sichtbarem Licht und nahem Infrarotlicht, stabil ist.

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Die erfindungsgemäss einsetzbaren Diazoniumsalze lassen sich durch ihre Strukturen klassifizieren und sind nachfolgend aufgeführt.

Die vorstehenden Diazoniumsalze umfassen Verbindungen, worin die Gruppe Ar der vorstehenden allgemeinen Formel eine N-substituierte 4-Aminobenzoldiazoniumgruppe, eine Ν,Ν-substituierte 4-aminosubstituierte Benzoldiaz-oniumgruppe oder eine S-substituierte 4-Mercaptobenzoldiazoniumgruppe und X ein Anion bedeuten. Zu den H-substituierten Aminogruppen gehören beispielsweise Dialkylaminogruppen, Dialkylaminogruppen mit voneinander unterschiedlichen zwei Alkylgruppen, wobei Beispiele für Alkylgruppen Methyl, Äthyl, Isopropyl und dgl. sind, Phenylaminogruppen oder heterocyclische Gruppen, wie Morpholino-, Piperidino-, Piperazinyl- oder Pyrrolidinylgruppen. Der Benzolring kann weiterhin mit einer Alkyl-, Alkoxy-, Phenoxy- oder Trifluormethylgruppe oder einem Halogenatom substituiert sein. Die substituierte Mercaptogruppe kann eine Alkylthio- oder Arylthiogruppe sein, wobei Beispiele für die Alkylgruppen bereits vorstehend für die Alkylaminogruppen gegeben sind und Beispiele für die Arylgruppen Phenyl-, Tolyl-, Äthylphenyl-, Naphthylgruppen und dgl. umfassen.

Beispiele für das Anion (X) sind solche Metallhalogenide, wie Zinkchlorid oder Zinnchlorid, Borverbindungen, wie Tetrafluorborat oder Tetraphenylborat, Perchlorsäure, organische Säuren, wie p-Toluplsulfonsäure, Hexafluorphosphat, Hexafluorarsenat und Hexafluorantimonat. Diese bilden Doppelsalze mit den vorstehenden Diazoniumverbindungen und tragen zu einer Erhöhung von deren Stabilität bei.

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Einige Diazoniumsalze der allgemeinen Formel ^ sind spezifisch nachfolgend aufgeführt, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise auf die Anwendung dieser spezifischen Verbindungen beschränkt.

Diazoniumsalze mit einer Dialkylaminogruppe als N-substituierter Aminogruppe im vorstehenden Rest umfassen 4—(N,N-Diäthylamino)-benzodiazoniumsalze, 4—(^,N-Dimethylamino^benzoldiazoniuinsalze, 2-Methyl-4—(N,N-diäthylamino)-benzoldiazoniumsalze und 2-Chlor-4—(N,N-diäthylamino)-benzoldiazoniumsalze. Diazoniumsalze mit einer Dialkylaminogruppe als N-substituierte Aminogruppe in dem vorstehenden Rest, wobei die beiden Alkylgruppen voneinander unterschiedlich sind, umfassen 4—(N-Methyl-N-äthylamino)-benzoldiazoniumsalze. Diazoniumsalze mit einer Phenylaminogruppe als N-substituierte Aminogruppe in dem vorstehenden Rest umfassen 4-(N-Äthyl-N-benzylamino)-benzoldiazoniumsalze und 4-Anilinbenzoldiazoniumsalze. Diazoniumsalze mit einer heterocyclischen Gruppe als N-substituierte Aminogruppe im vorstehenden Rest umfassen 4-Morpholinobenzoldiazoniumsalze, 2,5-Dibutoxy-4-morpholinobenzoldiazoniumsalze, 2,5-Diäthoxy-4-morpholinobenzoldiazoniumsalze, Z^^-Diäthoxy-A—morpholinobenzoldiazoniumsalze und 3-Methyl-4~pyrrolidinylbenzoldiazoniumsalze. Diazoniumsalze mit einer S-substituierten 4-Mercaptogruppe umfassen 4-Äthylmercapto-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumsalze und 4— Tolylmercapto-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumsalze.

Die erfindungsgemäss eingesetzten Diazoniumsalze umfassen auch Polymere, welche durch Polykondensation von Diazodiphenylamin und Formaldehyd erhalten wurden. Ein spezifisches Beispiel ist ein Polymeres der folgenden Struktur:

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λΰ

η > 1

Die Diazoniumsalze umfassen auch ortho- oder para-Chinondiazide. Spezifische Beispiele sind die folgenden:

Naphthalin-1,2-diazooxid-4— sulfonsäure

^2

0 Il

SO₇-N-R₁

Il

.^N2

worin R^, ein Wasserstoff atom, eine Alkylgruppe, beispielsweise Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Isopropylgruppe und dgl., oder eine Aralkylgruppe, beispielsweise Benzyl-,.Phenäthylgruppe und dgl., und Rg eine Arylgruppe, beispielsweise Phenyl-, Tolyl-, Äthylphenyl-, Haphthylgruppe und dgl., bedeuten;

SO₃R₃

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worin R^ eine Alkoxygruppe, beispielsweise Methoxy-, gthoxy-, Propoxygruppe und dgl., eine Aryloxygruppe, beispielsweise Phenoxy-, Tolyloxygruppe und dgl., eine Alkylaminogruppe, beispielsweise Methylamino-, Äthylamino-, Dimethylamino-, Diäthylaminogruppe und dgl., eine Aralkylaminogruppe, beispielsweise Benzylamino-, Dibenzylaminogruppe und dgl., oder eine Carboxyalkoxyalkylgruppe, beispielsweise eine Carboxymethoxymethylgruppe und dgl., bedeuten,

SO₂-N-Y-Z-SO₂

worin Xy. und X~ <*ie Gruppen If₂ oder 0 und Y eine Arylengruppe, beispielsweise Phenylen-, Naphthylengruppe und dgl, oder eine Alkylengruppe, beispielsweise Methylen-, Äthylen-, Trimethylen-, Tetramethylengruppe und dgl., Z eine Gruppe 0 oder -IiR₂,, wobei E^, ein Wasserstoff atom, eine Alkylgruppe, beispielsweise Methyl-,. Äthyl-, Propyl-, Isopropylgruppe und dgl., oder eine Arylgruppe, beispielsweise Phenyl-, Tolyl-, Äthylphenyl-, Naphthylgruppe und dgl., darstellt, bedeuten.

Besonders brauchbare Diazoniumsalze zur Anwendung beim erfindungsgemassen Verfahren sind solche, die relativ hohe Löslichkeiten in organischen Lösungsmitteln besitzen und die in relativ hohen Konzentrationen bezüglich des Binders zur Bildung einer Lösung in einem organischen Lo-

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sungsmittel der lichtempfindlichen Bildausbildungsmasse zusammen mit dem Binder verwendet werden können, wie nachfolgend beschrieben.

Üblicherweise sind zwei Massnahmen verfügbar, um diese Bedingungen zu erreichen. Die erste Massnahme besteht darin, das Diazoniumkation der Formel ArITp ⁱⁿ der allgemeinen Formel ArNp®-^ oleophil oder weniger hydrophil^beispielsweise durch Einfügung einer Alkoxygruppe in den aromatischen Ringjzu machen. Die zweite Massnahme besteht darin, den anionischen Anteil T* oleophil oder weniger hydrophil zu machen und zu diesem Zweck werden Tetraphenylborat, Tetrafluorborat, Hexafluorphosphat, Hexafluorarsenat, p-Toluolsulfonsäure und Hexafluorantxmonat anstelle der Metallhalogenide eingesetzt, die üblicherweise angewandt werden. Diese Verbindungen bilden Doppelsalze zusammen mit den Diazoniumkationen und erhöhen deren Löslichkeit in orgenischen Lösungsmitteln.

Weil die Diazoniumsalze oleophil gemacht werden, kann, selbst wenn ein in einem organischen Lösungsmittel lösliches Polymeres als Binder verwendet wird, das Verhältnis des Diazoniumsalzes zu dem Binder auf beispielsweise 1 : 5 oder bis 1 : 1 erhöht werden, und es kann eine hohe Konzentration des lichtempfindlichen Materials erreicht werden. Dadurch wird die leichte Bildausbildung markant erhöht.

Die erfindungsgemäss einsetzbaren aromatischen Azidverbindungen sind solche der allgemeinen Formel M^-R,--CH*CH-R worin R₁- eine Phenylengruppe, und Rg eine Acylgruppe, z. B. Acetyl-, Benzoylgruppe, oder eine Azidarylgruppe bedeuten. Derartige Verbindungen sind den Fach-

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leuten beispielsweise aus Kosar, Light-Sensitive Systems, John Wiley & Sons, Inc., New York, N.I. (1965) Seite 33O bis 336, geläufig.

Weiterhin brauchbar sind Azidverbindungen, die zu einer weiteren Gruppe gehören, die auf den Seiten 93 bis 97 von Takahiro Tsunoda, Photo-Sensitive Resins, Revised Edition, Publishing Department of the Society of Printing (1975)ν W.S. De Forest, Photoresist: Materials and Processes, Seite 19 bis 62 (1975), McGraw-Hill Book Co., New York, beschrieben sind. Spezifisch gehören hierzu 2,6-Dichlor-4-nitroazidobenzol, Az i do diphenyl amin, 3»3'-Dimethoxy-4,4'-di azido diphenyl, ^-'-Methoxy-^—azidodiphenylamin, 4-,4-'-Diazidodiphenylamin, ^-,^-'-Diazidodiphenylmethan, V-Nitrophenylazobenzol-4-azid, 1-Azidopyren, 3?3^l-Dimethyl-4,4^tdiazidodiphenyl, 4,4'-Diazidophenylazonaphthalin, p-Phenylenbisazid, p-Azidobenzophenon, 4,4'-Diazidobenzophenon, ^-,V-Diazidochalcon, 2,6-Di-(^¹-azidobenzal)-cycMiexan und 2,6-Di-(4^l-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon.

Als Binder können in den Schichten aus der lichtempfindlichen Masse gemäss der Erfindung sämtliche verwendet werden, die keine Klebrigkeit bei gewöhnlichen Temperaturen ergeben, jedoch beim Erhitzen erweicht werden. Verschiedene filmbildende. Verbindungen stehen zur Verfügung, jedoch sind Polymere mit guter Filmbildungseigenschaft besonders brauchbar. Wie nachfolgend erläutert wird, liegt ein charakteristisches Merkmal des erfindungsgemässen Verfahrens darin, dass ein sehr breiter Bereich polymerer Verbindungen eingesetzt werden kann. Jedoch ist es notwendig, einen am besten für den speziellen Zweck geeigneten Binder auszuwählen, für-den das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial verwendet werden soll, wobei als Leitfaden ein Satz

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von Faktoren unter Einschluss der Verträglichkeit des Binders mit der Diazonium- oder aromatischen Azidverbindung als lichtempfindlicher Verbindung, der Stabilität der lichtempfindlichen Schicht,der Haftung der lichtempfindlichen Schicht an dem Träger und andere Eigenschaften des lichtempfindlichen Materials angewandt werden kann.

Beispiele für geeignete polymere Binder im Eahmen der Erfindung umfassen thermoplastische lineare Polymere, wie Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Polystyrol, Poly-(methylmethacrylat), Polyvinylacetat, Polyester, Polyamine, Polyurethans und Polyamide, binäre Copolymere, wie Vinyliden/Acrylonitril-Copolymere, Styrol/Acrylnitril-Copolymere, Vinylmethyläther/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Vinylchlorid/ Vinylacetat-Copolymere oder Vinylchlorid/Styrol-Copolymere, und ternäre und quaternäre Copolymere, die andere dritte oder vierte Comonomere enthalten. Teilweise vernetzte, wasserlösliche Polymere, wie Gelatine, Polyvinylalkohol oder Polyvinylpyrrolidon und Verbindungen, die von sich aus nicht thermoplastische sind, wie Epoxyharze, können verwendet werden, falls sie durch Vermischen mit thermoplastischen Bindern oder anderen Zusätzen verbessert werden, so dass praktisch eine Wärmeerweichbarkeit an die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse erteilt wird.

Polyäthylenglykol, Naturharze oder Kolophonium und Wachse, die eine schlechte Pilmbildungseignung besitzen, können als Binder verwendet werden, sollten jedoch vorzugsweise zusammen mit anderen polymeren Bindern zur Erhöhung der Wärmeerweichbarkeit der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse verwendet werden. Diese polymeren Substanzen können auf einen Träger als Dispersion in einem wässrigen oder organischen Lösungsmittel als Latex aufgezogen werden.

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Beispiele für thermoplastische Polymere, die für die in den lichtempfindlichen Massen gemäss der Erfindung verwendeten Binder besonders geeignet sind, umfassen Vinylidenchlorid, Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymere, Polyvinylbutyral und dgl., Falls die Klebkraft der Binder an dem Abschälentwicklungsträgerblatt bei der angewandten AbschälentWicklungsbehandlungstemperatur zu schwach ist, können gute Ergebnisse erhalten werden, wenn weiterhin auf der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse ein Material angewandt wird, das bei relativ niedriger Temperatur thermoplastisch ist und Klebrigkeit oder Klebwirkung zeigt, beispielsweise Polyvinylbutyral.

Ferner kann vorteilhaft Polyvinylalkohol, der einen hydrophilen Binder darstellt, verwendet werden, wenn die verwendete lichtempfindliche Substanz hydrophil ist. In diesem Fall kann ein hydrophobes Polymeres zum Aufziehen in Latexform verwendet werden.

Plastifizieren die bei Raumtemperatur flüssig oder viskos sind, können in Mengen zugefügt werden, welche die Form der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse nicht verschlechtern.

Der Abschälentwicklungseffekt gemäss der Erfindung kann auch durch Zusatz von organischen oder anorganischen feinen Pulvern, wie kolloidaler Kieselsäure, Stärke, Russ, Glaspulver und Metallpulvern, erhöht werden.

Entsprechend dem Zweck der Anwendung der nach der Abschälentwicklung erhaltenen Reliefbilder kann die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auch Pigmente oder Farbstoffe, feine Metallpulver und magnetische Materialien oder fluo-

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reszierende Substanzen in Form eines molekulardispergierten Zustandes oder in Form von Kristallen oder feinen Pulvern enthalten.

Die Stärke der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse beträgt allgemein 0,5/um bis 500 /um, vorzugsweise 1/um bis 100 /um.

Der zum Tragen der lichtempfindlichen Masse beim erfindungsgemassen Verfahren verwendete Träger kann aus irgendeinem flachen Material bestehen, beispielsweise aus Metallen, wie Aluminium, Stahl, Zink, Eisen, rostfreiem Stahl und Messing und harten nicht-flexiblen Materialien, wie Glas, Keramik, Holz oder Kunststoff, und flexiblen Materalien, wie Papier, Kunststoffolien, Fasermaterialien und vakuumabgeschiedenen Filmen- Die Oberflächen dieser Träger können weiterhin durch Überziehen, Vakuumabscheidung, Beschichtung, Polieren, Aufrauhen, Elektrodenreaktion, Entladung, Erwärmung und andere bekannte Massnahmen bearbeitet sein.

Der Träger kann transparent, nicht-transparent oder mit Farbstoffen oder Pigmenten gefärbt sein, was davon abhängig ist, ob das erhaltene lichtempfindliche Material als transparentes sichtbares Bild, als Reflexionsbild, als Druckplattenherstellungsmaterial und dgl. verwendet wird.

Es besteht keine spezielle Beschränkung hinsichtlich der Stärke oder der Gestalt des Trägers. Im Fall eines Filmes oder eines Bogens liegt die Stärke im allgemeinen im Bereich von 10/um bis einige Zentimeter. Materialien mit Stärken ausserhalb dieses Bereiches können ebenfalls verwendet werden, falls sie ein Aufziehen und Binden und eine Abschälung zum Zeitpunkt des Erhitzens erlauben.

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Die auf dem erfindungsgemäss eingesetzten Trägerblatt verwendete haftende Masse kann eine Hasse sein, die ein polymeres Material und einen Klebrichmacher als wesentliche Bestandteile enthält. Das polymere Material umfasst synthetischen Kautschuk,- polymere Cellulosematerialien oder Polymere vom Vinyltyp. Beispiele für Kautschuke sind Naturkautschuk, Butadien-Styrolkautschuk, Isobutylen-Isoprenkautschuk, Polychloropren, Polybutylen, Polybutydien, PoIyi sopren, Butadien-Äcrylnitrilkaut schuk, chlorierter Kautschuk und Siliconkautschuk. Beispiele für Cellulosepolymere sind ÄthyleelIuIοse, Butylcellulose, Benzylcellulose, Nitrocellulose, Gellulosediacetat, Cellulo sepropionat, Celluloseacetatpropionat und Celluloseacetatbutyrat. Beispiele für Polymere von Vinyltyp umfassen Polyvinylchlorid, Polyacrylsäure, -Poly-(methyl acryl at)-, Poly-(äthylacrylat), Poly-(butylacrylat), Polymethacrylsäure, Po Iy-(me thy 1 me thacrylat), Polyvinyläther, Polyvinylacetal und Copolymere hiervon.

Spezifische Beispiele für Klebrigmacher umfassen Gummi, Kolophonium oder Naturharze, Holzharze, hydrierte Naturharze, Methylabietat, hydriertes Methylabietat, Diäthylenglykolabietat, Diäthylenglykol-2-hydroabietat, Monoäthylenglykolester von Kolophonium, Pentaerythritester von Kolophonium, Glycerinester von Kolophonium, Methanolester von Kolophonium, Hydrierungsprodukte dieser TKolophoniurnester, Cumaron-Indenharze, Alkydharze, Terpenharze, z. B. PoIy-(1,8-p-menthadien, Xylenharze, Epoxyharze, Terpen-Phenolharze, Polybuten, Polypenten, Dammer, Copal, tierische Öle und Fette, pflanzlische Öle und Fette und Mineralöle.

Wenn ein Kautschukpolymeres oder ein Polymeres vom Vinyltyp verwendet wird, muss gleichzeitig ein Plastifizierer

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in die Klebstoffmasse einverleibt werden. Beispiele für Plastifizierer sind Dimethylphthalat, Diäthylphthalat, Dibutylphthalat, Dioctylpb.tb.alat, Dicycloh.exylph.th.alat, Dimethylglykolphthalat, Butylphthalylbutylglycolat, Triäthylenglykol, chloriertes Diphenyl, Diisobutyladipat und Dimethylsebacat.

Erforderlichenfalls kann die Klebstoffmasse weiterhin Antioxidationsmittel, Eärbungsmittel und anorganische oder organische Füllstoffe enthalten. Allgemein wird die Klebstoff masse in einem Lösungsmittel gelöst und typische Beispiele sind aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Benzol, Toluol, Äthylbenzol oder Xylol, aliphatisch^ Kohlenwasserstoffe, wie Pentan, Cyclohexan, Octan oder Methylcyclohexan, Äther, wie Methyläther, Äthyläther oder Tetrahydrofuran, oder halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie Chloroform, Tetrachlorkohlenstoff, Dichlormethan, Dichloräthan oder Chlorbenzol. Die Lösung wird auf das Trägerblatt aufgezogen und in bekannter Weise getrocknet. Die Stärke der Schicht aus der klebenden Masse nach der Entfernung des Lösungsmittels beträgt allgemein 0,5 /um bis 50/um, vorzugsweise 1/um bis 20/Um.

Beispiele für Trägerblätter, die am günstigsten verwendet werden können, sind handelsübliche, druckempfindliche Klebbänder oder -blätter, Papierbänder oder -blätter, Tuchbänder, Polyesterbänder oder -blätter und Polyvinylchloridbänder oder -blätter.

Wie sich klar aus der vorstehenden Beschreibung ergibt, sind zur Bildausbildung durch Abschälung die Materialien und der Aufbau von Träger, lichtempfindlicher Schickt und Abschalentwicklungsblatt und die Kombinationen hiervon

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sehr wichtig. Die Entwicklungsbedingungen können jedoch nicht einfach definiert werden, sondern lassen sich leicht von dem Fachmann ohne übermässige Versuche bestimmen. Allgemein ist jedoch die Temperatur, bei der ein Blatt mit einer Schicht aus einer Klebmasse geschichtet wird, eine Temperatur zwischen gewöhnlicher Temperatur bis zu 150° C, vorzugsweise von gewöhnlicher Temperatur bis 100° C.

Das Abschälentwicklungsblatt und das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial, die in dieser Weise wärmebeschichtet wurden, werden voneinander durch einen Abschälarbeitsgang getrennt. Die Temperatur zum Zeitpunkt der Abschälung ist gleichfalls sehr wichtig.

Allgemein tritt, falls die Abschältemperatur höher als die Erweichungstemperatur der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse ist, eine Kohäsionszerstörung der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auf, wodurch ein Teil des Bereiches der lichtempfindlichen Schicht, der durch Abschälentwicklung abzutrennen ist, an dem Träger anhaftet und ein Teil des Bereiches, der verbleiben soll, an dem Abschältentwicklungsblatt anhaftet. Das erhaltene Reliefbild wird dadurch unvollständig. Falls die Abschäl— temperatur höher als die Erweichungstemperatur der klebenden Oberfläche des Abschälentwicklungsblattes mit der Klebschicht ist, reisst die klebende Schicht oder erleidet eine Kohösionszerstörung. Deshalb können Reliefbilder guter Qualität nicht erhalten werden.

Selbstverständlich beeinflußt die Haftungsfestigkeit zwischen der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Träger die Ausbildung der Reliefbilder bei der Abschälung.

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ίο

Diejenige Abschältemperatur, die für das erfindungsgemässe Verfahren optimal ist, variiert auch im weiten Umfang in Abhängigkeit von der Kombination des Trägers, der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und der Klebschicht des Abschälentwicklungsblattes. Allgemein liegt die Abschältemperatur zwischen Raumtemperatur und 100° C, vorzugsweise von Raumtemperatur bis 60° C.

Ausführungsformen des Aufbaus des erfindungsgemäss eingesetzten lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials und des Verfahrens der Bildausbildung gemäss der Erfindung sind unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung erläutert, worin die Pig. 1 bis 3 eine Ausführungsform des Bildausbildungsverfahrens geraäss der Erfindung zeigen.

Die Fig. Ί zeigt die Belichtung des lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials gemäss der Erfindung durch ein Dia. Das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial umfasst einen Träger 1 und eine lichtempfindliche Schicht 2 und wird bildweise durch ein Dia 3 des Originalbildes belichtet.

Die Fig. 2 zeigt das belichtete Bildausbildungsmaterial in innigem Kontakt mit dem Abschalentwicklungstragerblatt mit der Klebschicht 4·.

Pig. 3 zeigt die Trennung des Abschälentwicklungsträgerblattes von dem Bildausbildungsmaterial. Der belichtete Bereich 2¹ der lichtempfindlichen Schicht wird übertragen und haftet an dem Abschälentwicklungstragerblatt an und der unbelichtete Bereich 2 verbleibt auf dem Träger,

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so dass jeweils ein Reliefbild gebildet wird.

Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung im einzelnen, ohne die Erfindung hierdurch zu begrenzen.

Beispiel 1

2 g 4—Morpholinobenzoldiazonium/Bortetrafluorid-Doppelsalz und 2 g Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymeres (Saran F-220, Produkt der Asahi Dow Co., Ltd.) wurden in 20 ml N,N-Dimethylformamid zur Bildung der lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die lichtempfindliche Lösung wurde auf ein gekörntes und anodisiertes Aluminiumsubstrat mit einer Stärke von 0,24· /um unter Anwendung eines Auf Streichers aufgezogen und ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial gebildet. Die Trockensträke der lichtempfindlichen Schicht betrug etwa 4yum. Das Material wurde während 20 Sekunden an Licht aus einer 2 kw-Quecksilber-Superhochdrucklampe (Jet Light, Produkt der Ore Manufacturing Co., Ltd.), die in einem Abstand von 50 cm angebracht war, durch ein photographisches positives Dia, das innig mit dem Material kontaktiert war, belichtet. Nach der Belichtung wurde ein Klebband aus Polyäthylenterephthalat mit einer darauf befindlichen Schicht einer haftenden Masse (Band 31B, Produkt der Nitto Denko Co., Ltd.) eng mit der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse unter Anwendung von Walzen pressverbunden und dann wurden die beiden Elemente bei Raumtemperatur voneinander getrennt. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf der Aluminiumplatte gebildet und das entsprechende negative Reliefbild wurde auf dem abgeschälten Klebband ausgebildet.

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Beispiel 2

Das Verfahren nach. Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch 2 g eines Novolakharzes vom m-Cresoltyp (PR 50904-, Produkt der Arakawa Einsan Co., Ltd.) als Binder anstelle des in Beispiel 1 verwendeten Sarans verwendet wurden. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Alurainiumsubstrat ausgebildet.

Beispiel 5

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch 2 g des Kondensationsproduktes aus 4-N-Phenylaminobenzoldiazonium und Formaldehyd (Polymerisationsgrad 2 bis 8) anstelle der in Beispiel 1 eingesetzten Diazoniumverbindung verwendet wurden. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat gebildet und das entsprechende negative Bild wurde auf dem Klebband gebildet.

Beispiel 4

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch 1 g ^NjN-Dimethylaminobenzoldiazonium/Tetraphenylbor-Doppelsalz anstelle der in Beispiel 1 verwendeten Diazoniumverbindung verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat gebildet.

Beispiel 5

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch 1 g 2,6-Di-(4-'-azidobenzal)-4—methylcyclohexan anstelle der in Beispiel 1 eingesetzten Diazoniumverbindung verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat gebildet.

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Beispiel 6

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch 0,5 g 1-Diazo-2,5-dimethoxy-1-p-tolylmercaptobenzolphosphorhexafluorid-Doppelsalz anstelle der in Beispiel 1 eingesetzten Diazoniumverbindung verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.

Beispiel 7

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch 2 g 2-Diazo-1-naphthol-5-sulfonsäureäthyläther anstelle der in Beispiel 1 eingesetzten Diazoniumverbindung verwendet wurden. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.

Beispiel 8

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch ein aus Polyäthylenterephthalat mit darauf zu einer Stärke von etwa 1000 A vakuumabgeschiedenen Aluminium anstelle des in Beispiel 1 verwendeten Trägers eingesetzt Wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf der Aluminiumschiclit erhalten.

Beispiel 9

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch ein aus einer Polyäthylenterephthalatfolie und einer Grundierschicht aus Gelatine aufgebauter Träger anstelle der in Beispiel Λ eingesetzten Aluminiumplatte verwendet wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf dem Träger erhalten.

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Beispiel 10

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch ein aus einem Aluminiumsubstrat und einer hierauf ausgebildeten 1 um dicken Schicht aus Polyvinylalkohol aufgebauter Träger anstelle des in Beispiel 1 eingesetzten Aluminiumsubstrats verwendet wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf dem Träger erhalten.

Beispiel 11

2 g 4-Morpholino-2,5-dibutoxybenzoldiazonium/Bortetrafluorid-Doppelsalz und 2 g Polyvinylbutyral wurden in 40 ml Äthylalkohol zur Bildung der lichtempfindlichen Masse gelöst. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat, das gekörnt, anodisiert und mit Hatriumsilicat behandelt worden war, zur Herstellung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials aufgezogen. Das Bildausbildungsmaterial wurde bildweise wie in Beispiel 1 belichtet und dann in innigem Kontakt unter Erwärmen mit einem Klebfilm (31E, Produkt der Nitto Denko Co., ^Ltd.), der aus einer Polyäthylenterephthalatfolie und einer hierauf ausgebildeten Haftungsmassenschicht umfasste, mittels eines Warmebeschichters (Fuji Laminater D-13, Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.), wobei die Walzentemper&tur bei 80 C gehalten wurde, gebracht. Dann wurden die beiden Elemente voneinander abgeschält. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.

Die Erfindung wurde vorstehend anhand spezifischer Ausführungsformen erläutert, ohne dass die Erfindung hierauf begrenzt ist.

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Claims

:.)2787

Patentansprüche

f Λ. Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, dadurch

gekennzeichnet, dass ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches aus einem Träger mit einer darauf ausgebildeten Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt einer Diazoniumverbindung oder einer aromatischen Azidverbindung und einem Binder aufgebaut ist_;bildweise belichtet wird und dann die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse eng mit einem Entwicklungsträgerblatt mit einer darauf befindlichen Schicht einer haftenden Masse angehaftet wird oder bildweise das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial in innigem Kontakt mit dem Trägerblatt belichtet wird und dann das Bildausbildungsmaterial und das Trägerblatt voneinander unter Übertragung und Anhaftung des belichteten Bereiches der lichtempfindlichen Schicht an"dem Trägerblatt und Ausbildung eines Reliefbildes auf dem Trägerblatt abgeschält wird, während der nicht-übertragene nicht-belichtete Bereich der lichtempfindlichen Masse auf dem Träger gleichfalls unter Bildung eines Reliefbildes verbleibt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial vor der Aufbringung des Trägerblattes belichtet wird, wobei das Bildausbildungsmaterial in innigem Kontakt mit dem Dia des Originalbildes steht.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine weniger hydrophil gemachte Diazoniumverbindung verwendet wird.

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4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3* dadurch gekennzeichnet, dass eine Diazoniumverbindung entsprechend der Formel

ArN=N⁺X"

verwendet wird, worin Ar einen in der 4—Stellung mit einer Alkylaminogruppe,einer Phenylaminogruppe, einer N-heterocyclisehen Gruppe oder einer Me reaptogruppe substituierten aromatischen Ring und X ein Anion bedeuten.
5- Verfahren nach Anspruch 1 bis 3> dadurch gekennzeichnet, dass eine Azidverbindung der Formel

N₅-R₅-CH=CH-R₆

verwendet wird, worin Rj- eine Phenylengruppe und Rg eine Acylgruppe oder eine Azidarylgruppe bedeuten.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, dass die haftende Masse einen Kautschuk, ein polymeres Cellulosematerial oder ein Vinylpolymeres enthält,
7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschälentwicklung bei einer Temperatur unterhalb des Erweichungspunktes der lichtempfindlichen Masse und der haftenden bzw. klebenden Masse auf dem Abschälentwicklungsträgerblatt durchgeführt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1 bis 7» dadurch gekennzeichnet, dass die Abschälentwicklung bei einer Temperatur zwischen Raumtemperatur und 100° C durchgeführt wird.

i, 7 9

9· Verfahren nach Anspruch Λ bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass eine Schicht aus der lichtempfindlichen Masse mit einer Dicke von 0,5/um bis 500/um angewandt wird»

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