DE2719731A1 - Mehrschichtschaltung - Google Patents
MehrschichtschaltungInfo
- Publication number
- DE2719731A1 DE2719731A1 DE19772719731 DE2719731A DE2719731A1 DE 2719731 A1 DE2719731 A1 DE 2719731A1 DE 19772719731 DE19772719731 DE 19772719731 DE 2719731 A DE2719731 A DE 2719731A DE 2719731 A1 DE2719731 A1 DE 2719731A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- layer circuit
- conductor material
- layers
- circuit according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/388—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of a metallic or inorganic thin film adhesion layer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4673—Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
- H05K3/4676—Single layer compositions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D86/00—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates
- H10D86/80—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates characterised by multiple passive components, e.g. resistors, capacitors or inductors
- H10D86/85—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates characterised by multiple passive components, e.g. resistors, capacitors or inductors characterised by only passive components
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/901—Printed circuit
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12542—More than one such component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12597—Noncrystalline silica or noncrystalline plural-oxide component [e.g., glass, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
Patentanwälte
E. Prinz - Dr. G. Hauser - G. Leiser
8 München 60
3. Mai 1977
COMPAGNIE INTERNATIONALE POUR L'INPORMATIQÜE
CII- HONEYWELL BULL
94, Avenue Gambetta
PARIS (20) / Frankreich
94, Avenue Gambetta
PARIS (20) / Frankreich
Unser Zeichen: C 3137
Mehrschichtschaltung
Die Erfindung betrifft eine verbesserte Struktur von Mehrechichtschaltungen,
die in wesentlichen für den Aufbau von miniaturisierten elektronischen Bauelementen bestimmt
sind.
Derartige Mehrschichtschaltungen sind normalerweise aus einem Stapel von abwechselnd leitenden und isolierenden
dünnen Schichten gebildet, die auf irgendeine geeignete Weise (chemisch, aus wässriger Lösung, im Vakuum oder dergl.)
übereinanderliegenä gebildet werden; mit der Erfindung sollen Mängel beseitigt werden, die bei jeder der herkömmlichen
Arten der Bildung der Schichten entstehen.
70OfH G/1019
Lei/Gl
Die dünnen Schichten können je nach Bedarf im Verlauf ihrer Ausbildung bei der Herstellung des Stapels so geformt
werden, daß die gewünschten Konfigurationen einer
räumlichen elektrischen Schaltung erhalten werden. Der Ausdruck "dünne Schicht" ist hier im Sinne der üblichen
Dünnschichttechnik zu verstehen: Es handelt sich um Schichten, deren Dicken zwischen einigen hundert Angström
und einigen Mikron (weniger als 10 Mikron) liegen können.
Ein besonderes Problem bei Dünnschichtschaltungen ist die Entstehung von Kurzschlüssen sowohl im Verlauf der
Fertigung als auch im Betrieb. Dieses Problem ist von besonderer Bedeutung, weil es nicht nur die Fertigungsrentabilität beeinflußt, sondern auch die Zuverlässigkeit
der Produkte.
Ganz allgemein ist es erwünscht, daß die leitenden Sohichten in den Mehrschichtschaltungen möglichst dick
und die dazwischenliegenden Isolierschichten möglichst dünn sind, damit der elektrische "Wirkungsgrad" möglichst
groß ist. Kurzschlüsse treten umso häufiger auf, je dünner
die isolierenden Schichten sind, was unmittelbar zu verstehen ist. Es ist aber auch festzustellen, daß die
Häufigkeit von Kurzschlüssen mit der Dicke der leitenden Sohichten wächst, was eine Erklärung erforderlich machen
kann:
Unabhängig von der angewendeten Technik für die Bildung der Schichten verschlechtert sich der Oberflächenzustand
einer leitenden Schicht umso mehr, je mehr ihre Dicke wächst. Das Dickenwachstum ist nämlich in allen Fällen
kristallin, und die Größe der Kristalle nimmt mit der Dicke schnell zu, insbesondere unter der Wirkung der
709846/ 1 0 1 9
darin entstehenden Zwillingskristalle und der Anhäufung von Fehlern im mikroskopischen Maßstab, die in den meisten Fällen
von kleinen kristallinen Verwachsungen stammen. Eine sehr dünne Schicht reproduziert aber sehr getreu den
Oberflächenzustand des "Substrats", auf das sie aufgebracht ist. Wenn also eine sehr dünne isolierende Schicht
auf einer dicken leitenden Schicht gebildet wird, die aus den zuvor angegebenen Gründen einen schlechten Oberflächenzustand
hat, gibt die sehr dünne Isolierschicht alle Mängel der leitenden Schicht wieder, und sie weist Dickenänderungen
auf, die sehr leicht bis zum Entstehen von Mikroporositäten führen können, was das Erscheinen von
Kurzschlüssen zur Folge hat.
Diese Gefahr des Entstehens von Kurzschlüssen bei der Fertigung erzwingt also eine nicht vernachlässigbare
Begrenzung des Verhältnisses der Dicken der leitenden und der isolierenden Schichten in den Mehrschichtschaltungen.
Die Mehrschichtschaltungen müssen aber auch während des Betriebs der Anlagen, in die sie eingebaut sind, oft beträchtliche
Temperaturerhöhungen aushalten, die beispielsweise etwa 450° C erreichen können. Die Leitermaterialien,
die wegen ihres für die Übertragung elektrischer Ströme günstigen geringen spezifischen Widerstandes
in den Mehrschichtschaltungen üblicherweise verwendet werden, sind die vier Metalle Kupfer, Aluminium, Silber
und Gold. Alle diese üblichen Metalle weisen einen verhältnismäßig großen Wärmeausdehnungskoeffizienten auf
(der beispielsweise bei Kupfer 14 · 10 /0C beträgt), und sie kristallisieren bei erhöhter Temperatur leicht
aus, wobei die Korngröße schnell zunimmt. Die Gitter der kristallinen Struktur erleiden daher beträchtliche
709846/1019
-4 -
mechanische Spannungen, wodurch Risse und Sprünge entstehen
können. Somit kann eine Metall-Isoliermaterial-Metall-Struktur ein Kurzschluß werden, wenn sie einer
Temperaturerhöhung ausgesetzt war, welche die kristalline Eigenstruktur des Metalls verändert hat.
Das Ziel der Erfindung ist die Beseitigung dieser Nachteile und insbesondere die Schaffung von Mehrschichtschaltungen,
die jedes gewünschte, beliebig große Verhältnis zwischen den Dicken der leitenden Schichten und
der Isolierschichten aufweisen können. Das Problem der Temperaturerhöhungen ist gegenüber den Isolierschichten
nicht in Betracht zu ziehen, da die üblichen Materialien der Isolierschichten bei den Temperaturen, die für die
Betriebssicherheit der Schaltungen in Betracht zu ziehen sind, eine sehr große Wärmefestigkeit haben.
Zur Lösung der zuvor angegebenen Aufgabe weisen die Mehrschichtschaltungen
nach der Erfindung eine neuartige Struktur auf, die im wesentlichen darin besteht, daß zwischen
jeder dicken Schicht aus einem Leitermaterial mit geringem spezifischem Widerstand und verhältnismäßig großem Wärmeausdehnungskoeffizient
und wenigstens der Isolierschicht, die die Leiterschicht von der nächsten dicken Leiterschicht
im Stapel trennen soll, eine dünne Leiterschicht aus einem metallischen Leitermaterial eingefügt ist, dessen spezifischer
Widerstand im Vergleich zu demjenigen des die eigentlichen Leiter der Mehrschichtschaltung bildenden Leitermaterials
mit geringem spezifischen Widerstand verhältnismäßig groß ist, dessen Wärmeausdehnungskoeffizient wenigstens
im Bereich der Anwendungstemperaturen der Schaltung klein ist, und dessen Kristallgitter und Kristallform denjenigen
des Leitermaterials mit geringem spezifischem Widerstand wenigstens ähnlich sind.
709846/1019
Die zusätzliche dünne leitende Schicht mit den zuvor
angegebenen Eigenschaften kann entweder nur auf einer Seite der dicken leitenden Schicht aufgebracht werden,
nämlich auf der Seite, an der anschließend eine dünne Isolierschicht "bei der fortlaufenden Bildung des Stapels
angebracht wird; es kann jedoch für das endgültige Ergebnis auch als günstiger angesehen werden, jede dicke leitende
Schicht zwischen zwei derartige zusätzliche dünne Schichten einzufügen, insbesondere im Hinblick auf die
Erwärmungen bei der Anwendung der Schaltungen.
Die Ausbildung der zusätzlichen dünnen leitenden Schichten gewährleistet, daß jede sehr dünne Isolierschicht im
Stapel auf ein "Substrat" mit sehr gutem Oberflächenzustand aufgebracht wird und somit in diesem Stadium keine
merkliche Mikroporosität aufweist, ungeachtet der Tatsache, daß das Verhältnis ihrer Dicke im Vergleich zu derjenigen
der Leiterschicht mit geringem spezifischem Widerstand, über der sie sich befindet, so groß ist, wie dies für den
gesuchten Zweck erwünscht sein kann, d.h. für die Stromstärke, welche die Schaltung im Betrieb führen muß. Die
Wahl des Materials der zusätzlichen leitenden Schichten gewährleistet zumindest, ja verstärkt sogar, die mechanische
Homogenität der Mehrschichtschaltung wegen der kristallographischen Verwandtschaft zwischen den Leitermaterialien
der dicken und dünnen Schichten. Wenn ferner die Bildung der Schichten unter Wärmeanwendung erfolgt,
was insbesondere beim Aufdampfen im Vakuum oder in kontrollierter Atmosphäre der Fall ist, kann die Bildung
einer zusätzlichen Leiterschicht, die in kristalliner Hinsicht thermisch stabiler ist, in gewissem Grade eine
Verringerung der Fehlstellen gewährleisten, die bei der Bildung der darunterliegenden Lederschicht mit geringerem
709846/1019
fr
27Ί9731
spezifischem Widerstand entstehen konnten: Das "zusätzliche" Material wird nämlich von dem Material der darunterliegenden
Leiterschicht über eine gewisse, vorhersehbare Dicke "dotiert", und im Verlauf dieser Dotierung werden die
Zwillingskristalle an der Oberfläche der aufgebrachten Schicht dadurch zerstört, daß ihr Material sich beim Dotieren
mit den Kristallen des zusätzlichen Leitermaterials über die erwähnte Dicke kombiniert. Ferner ergibt die Einfügung
des zusätzlichen Leitermaterials einen weiteren Vorteil: Die Möglichkeit der Oxidation des Leitermaterials mit geringem
spezifischem Widerstand ist ganz allgemein sehr viel größer als diejenige des Materials der Zwischenschicht
mit großem spezifischem Widerstand. Bei der Bildung der Isolierschicht, die bei dem Aufbringen durch Aufdampfen
in kontrollierter Atmosphäre auf der Grundlage eines Oxids erfolgt, konnte der erforderliche Sauerstoff eine Oberflächenoxidation
der Schicht aus dem Leitermaterial mit geringem spezifischem Widerstand verursachen, und dies trat
auch ein. Dieser Nachteil wird durch die zusätzliche Schicht vermieden.
Die Ausbildung der zuvor erwähnten "Sandwich"-Struktur ergibt eine weitere Verringerung der Häufigkeit der angegebenen
Mängel, die bei den "normalen" Leiterschichten von Mehrschichtschaltungen auftreten.
Wenn dann bei der Verwendung eine Mehrschichtschaltung
nach der Erfindung eine beträchtliche Erwärmung erleidet, die beispielsweise, wie erwähnt, bis zu 4500C gehen kann
(was in der Praxis als Grenzwert angesehen wird), ergibt diese Erwärmung keine Zerstörung der elektrischen Isolation,
sondern sie verhält sich wie eine einfache "Wärmebehandlung", die lediglich die zuvor erwähnte Dotierung
verstärkt und die Mehrschichtanordnung als Ganzes gegenüber Kurzschlüssen stabilisiert, also auch gegenüber
709846/ 1019
s'päteren Erwärmungen. Die "nutzbare" Dicke der Schichten
mit geringem spezifischem Widerstand kann für die normale Stärke der elektrischen Ströme bei der Anwendung der
Mehrschichtschaltungen in Abhängigkeit von einem in der Praxis bekannten Wert berechnet werden, nämlich der
Leichtigkeit der Dotierung des zusätzlichen Materials durch das in thermischer Hinsicht weniger stabile Material,
das somit in das zusätzliche Material eindiffundiert,
Man kann also beispielsweise vorsehen, daß vor jeder Auslieferung und praktischen Anwendung eine nach der Erfindung
ausgebildete Mehrschichtschaltung systematisch einer Wärmebehandlung bei dieser maximalen Temperatur unterzogen
und dann geprüft wird; wenn dann kein Kurzschluß aufgetreten ist, besteht eine sehr große Wahrscheinlichkeit
für die Zuverlässigkeit der Mehrschichtanordnung im Verlauf der späteren Verwendung.
Zum besseren Verständnis kann ein Beispiel betrachtet werden, bei dem das Leitermaterial mit geringem spezifischem
Widerstand, das die leitenden "dicken" Schichten bilden soll, Kupfer ist, das Material der zusätzlichen
Schichten Chrom ist, und das Isoliermaterial Siliciumdioxid ist. Chrom und Kupfer haben "ähnliche" kristallographische
Bezugsgrößen: Kupfer kristallisiert kubisch flächenzentriert, Chrom kristallisiert kubisch raumzentriert,
und die Gitterabstände sind bei den beiden Materialien ähnlich. Chrom dehnt sich bekanntlich bei einer
Temperatur, die etwa 450° C nicht überschreitet, nicht merklich aus. Es oxidiert nur wenig unterhalb dieser
Temperaturgrenze, wenn es in oxidierender Atmosphäre erwärmt wird.
709846/1019
Man stellt dann eine gewisse Anzahl von Mustern der Mehrschichtschaltung, beispielsweise zweihundert, in
zwei Serien her. In der ersten Serie wird nur die übliche Struktur angewendet: regelmäßig abwechselnde
"dicke" Kupferschichten mit einer Dicke von 1 bis 4 Mm
und "dünne" Isolierschichten mit einer Dicke in der Größenordnung von wenigstens 800 Ä aus Siliciumdioxid.
In der zweiten Serie wird die Erfindung dadurch angewendet, daß jede "dicke" Schicht der zuvor angegebenen
Art von jeder dünnen Isolierschicht durch eine dünne Zwischenschicht aus Chrom mit einer Dicke in der Größenordnung
von 2000 Ä getrennt wird.
Man kann dann feststellen, daß bei den Mehrschichtanordnungen
der ersten Serie der Ausschuß nach der Fertigung in der Größenordnung von 8 <f» liegt und auf wenigstens
96 i* geht, wenn man anschließend eine "Wärmebehandlung"
der zuvor angegebenen Art vornimmt. Bei den Mehrscfciichtanordnungen
der zweiten Serie liegt dagegen der Ausschuß anfänglich in der Größenordnung von 2 $, und er geht nach
der'Wärmebehandlung" nur auf etwa 15 $>·
Das zuvor angegebene Beispiel, bei dem die Leitermaterialien Kupfer und Chrom sind, ist natürlich nur zur Erläuterung
angegeben. Es kann sowohl in kristallograptiischer Hinsicht als auch in elektrischer und thermischer Hinsicht
eine verhältnismäßig große Auswahl zur Verfügung stehen, doch treten dann gewisse Einschränkungen bei dieser
Auswahl auf:
einerseits je nach dem gewählten Verfahren zum Aufbringen
der Schichten;
andrerseits in Abhängigkeit davon, ob die Verwendung von magnetischen Materialien im Stapel zulässig ist oder nicht,
709846/1019
Von dem zweiten Gesichtspunkt aus werden nämlich alle magnetischen Materialien ausgeschieden, die sonst verwendbar
wären, wie Beta-Kobalt oder Nickel, außer wenn, im Verlauf der Herstellung eine derartige Dotierung vorgenommen
wird, daß diese Materialien in der endgültigen Form unmagnetisch sind, was gegebenenfalls durch Einführung
eines zusätzlichen dotierenden Elements erfolgen kann, das*eine solche Umwandlung bewirkt.
Für die Herstellung der MehrSchichtschaltungen durch Aufdampfen
in kontrollierter Atmosphäre werden natürlich die Stoffe ausgeschieden, die "schlecht verdampfen"; dies
gilt insbesondere für Metalloide, wie Strontium, Kalzium, Thallium, Rhodium, auch wenn ihre übrigen Eigenschaften
mit der praktischen Anwendung der Erfindung bei anderen Auftragsverfahren vereinbar wären.
Von den (einfachen) Stoffen, die wie Kupfer oder auf ähnliche Weise kristallisieren, verbleiben nach Anwendung
der zuvor erwähnten Ausscheidungskriterien nur Chrom, in der Beta-Form aufgebrachtes Titan und Vanadium bei einer
Fabrikation, die das Aufdampfen in konditionierter Atmosphäre
anwendet, wenn Kupfer als das "normale" Leitermaterial in den Mehrschichtanordnungen verwendet wird.
Dagegen wird die Verwendung von Aluminium als Material mit geringem spezifischem Widerstand erleichtert, da es
nach Bedeckung mit den zusätzlichen dünnen Schichten gemäß der Erfindung beim anschließenden Aufbringen der
Schichten aus Siliciumdioxid nicht mehr oxidiert, was bisher die Verwendung von Aluminium erschwert hat.
Es ist zu bemerken, daß die Verwendung von Stoffen oder
Legierungen, deren Kristallographie derjenigen der
709846/ 1019
Materialien mit geringem spezifischem Widerstand ähnlich,
aber nicht damit identisch ist, dadurch ermöglicht wird, daß zumindest beim Aufdampfen im Vakuum die beim Aufbringen
dünner Schichten bekannte Erscheinung der Epitaxie eintritt; diese Erscheinung besteht darin, daß ein erneut aufgedampfter
Stoff die Gitterstruktur des dann das Substrat bildenden Stoffes zu "kopieren" sucht.
Die Dicken der zusätzlichen Schichten brauchen bei der
praktischen Anwendung der Erfindung etwa 5000 S nicht zu überschreiten, ebenso wie dies bei den Dicken der Isolierschichten
nicht erforderlich war und auch jetzt nicht erforderlich ist, und auf keinen Fall braucht eine Dicke
von einem Mikron überschritten zu werden; wenn auch die
Dicken dieser Schichten nicht kritisch sind, wird dadurch auf jeden Fall die Verschwendung von Material bei der industriellen
Herstellung vermieden.
709846/1019
Claims (1)
- Dipl.-Ing. Dipl.-Chem. Dipl.-Ing.E. Prinz - Dr. G. Hauser - G. LeiserErnsbergerstrasse 198 München 603. Mai 1977COMPAGNIE INTERNATIONALE POUR L1INFORMATIQUE CII- HONEYWELL BULL
94, Avenue Gambetta
PARIS (20) / FrankreichUnser Zeichen: C 3137Patentansprücheλ) Mehrschichtschaltung mit einem Stapel aus dünnen leitenden Schichten, die abwechselnd mit dünneren isolierenden Schichten angeordnet sind, wobei die Mehrschichtschaltung im Betrieb Temperaturänderungen in einem vorbestimmten Temperaturbereich ausgesetzt ist, dadurch gekennzeichnet, daß jede dünne leitende Schicht ihrerseits aus einem Stapel von übereinanderliegenden Schichten besteht, der wenigstens eine Schicht aus einem ersten Leitermaterial geringen spezifischen Widerstands mit in dem vorbestimmten Temperaturbereich merklicher Wärmeausdehnung und wenigstens eine dünnere Schicht aus einem zweiten Leitermaterial mit merklich höherem spezifischem Widerstand und in dem vorbestimmten Temperaturbereich praktisch vernachlässigbarer Wärmeausdehnung enthält, und daß die kristallographischen Bezugsgrößen der beiden Leitermaterialien hinsichtlich Kristallformen und Kristallgittern von sich aus und/oder epitaktisch kompatibel sind.709ΠΑΠ/1019ORIGINAL INSPECTED2. Mehrschichtschaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jede Schicht aus dem ersten Leitermatieral zwischen zwei Schichten aus dem zweiten Leitermaterial eingefügt ist.3. Mehrschichtschaltung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Leitermaterial Kupfer, Aluminium, Silber, Gold oder eine Legierung aus diesen Metallen ist, und daß das Isoliermaterial ein für Temperaturänderungen im vorbestimmten Temperaturbereich unempfindliches keramisches Material ist.4. Mehrschichtschaltung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Leitermaterial Chrom, Beta-Titan, Vanadium oder eine Legierung dieser Metalle ist.5. Mehrschichtschaltung nach Anspruch 3> dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Leitermaterial Nickel oder Kobalt ist, das mit einem Dotierungsmaterial dotiert ist, das die magnetischen Eigenschaften inhibiert6. Mehrschichtschaltung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Dotierungsmaterial das erste Leitermaterial ist.7. Mehrschichtschaltung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Dotierungsmaterial im Verlauf einer Wärmebehandlung in das zweite Leitermaterial eindiffundiert ist.709046/1019
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7613553A FR2350697A1 (fr) | 1976-05-06 | 1976-05-06 | Structure perfectionnee de circuits multicouches |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2719731A1 true DE2719731A1 (de) | 1977-11-17 |
Family
ID=9172768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19772719731 Ceased DE2719731A1 (de) | 1976-05-06 | 1977-05-03 | Mehrschichtschaltung |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US4189524A (de) |
| JP (1) | JPS52139958A (de) |
| DE (1) | DE2719731A1 (de) |
| FR (1) | FR2350697A1 (de) |
| GB (1) | GB1527199A (de) |
| IT (1) | IT1206367B (de) |
| NL (1) | NL7704945A (de) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4336088A (en) * | 1980-06-30 | 1982-06-22 | International Business Machines Corp. | Method of fabricating an improved multi-layer ceramic substrate |
| US4302625A (en) * | 1980-06-30 | 1981-11-24 | International Business Machines Corp. | Multi-layer ceramic substrate |
| JPS5826308A (ja) * | 1981-08-07 | 1983-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜素子部品 |
| US4479367A (en) * | 1981-12-28 | 1984-10-30 | Santa Barbara Research Center | Thermal filter |
| DE3321900C2 (de) * | 1982-06-16 | 1986-01-16 | Nitto Electric Industrial Co., Ltd., Ibaraki, Osaka | Substrat für eine Schaltung mit einer Widerstandsschicht und Verfahren zu dessen Herstellung |
| GB8304890D0 (en) * | 1983-02-22 | 1983-03-23 | Smiths Industries Plc | Chip-carrier substrates |
| JPS59232693A (ja) * | 1983-06-17 | 1984-12-27 | Ngk Spark Plug Co Ltd | セラミツクと金属等との接合用クラツドろう材及びこれを用いたセラミツクと金属等との複合体 |
| US4600658A (en) * | 1983-11-07 | 1986-07-15 | Motorola, Inc. | Metallization means and method for high temperature applications |
| US4937707A (en) * | 1988-05-26 | 1990-06-26 | International Business Machines Corporation | Flexible carrier for an electronic device |
| US4987100A (en) * | 1988-05-26 | 1991-01-22 | International Business Machines Corporation | Flexible carrier for an electronic device |
| JP2840271B2 (ja) * | 1989-01-27 | 1998-12-24 | キヤノン株式会社 | 記録ヘッド |
| US5175399A (en) * | 1989-08-29 | 1992-12-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wiring panel including wiring having a surface-reforming layer and method for producing the same |
| JPH03230552A (ja) * | 1990-02-05 | 1991-10-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体素子実装用接合材 |
| JP2630293B2 (ja) * | 1995-02-28 | 1997-07-16 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板 |
| US6331680B1 (en) | 1996-08-07 | 2001-12-18 | Visteon Global Technologies, Inc. | Multilayer electrical interconnection device and method of making same |
| US5888631A (en) * | 1996-11-08 | 1999-03-30 | W. L. Gore & Associates, Inc. | Method for minimizing warp in the production of electronic assemblies |
| US6085413A (en) * | 1998-02-02 | 2000-07-11 | Ford Motor Company | Multilayer electrical interconnection device and method of making same |
| US6380627B1 (en) * | 1998-06-26 | 2002-04-30 | The Regents Of The University Of California | Low resistance barrier layer for isolating, adhering, and passivating copper metal in semiconductor fabrication |
| US6110576A (en) * | 1998-10-16 | 2000-08-29 | Lucent Technologies Inc. | Article comprising molded circuit |
| WO2000079849A1 (en) * | 1999-06-18 | 2000-12-28 | Isola Laminate Systems Corp. | High performance ball grid array substrates |
| US7342373B2 (en) * | 2006-01-04 | 2008-03-11 | Nartron Corporation | Vehicle panel control system |
| WO2009044312A1 (en) * | 2007-10-01 | 2009-04-09 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | High voltage electrical connection line |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1258941B (de) * | 1963-01-21 | 1968-01-18 | Ibm | Verfahren zur Herstellung von mehrschichtigen Duennfilmschaltungsplatten |
| DE2164490A1 (de) * | 1970-12-25 | 1972-06-29 | Hitachi Ltd | Verfahren zur Herstellung eines Leiterbahnensystems |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3079282A (en) * | 1960-05-24 | 1963-02-26 | Martin N Halier | Printed circuit on a ceramic base and method of making same |
| US3189420A (en) * | 1962-10-01 | 1965-06-15 | Paul R Gould | Electrically conductive element |
| US3357856A (en) * | 1964-02-13 | 1967-12-12 | Electra Mfg Company | Method for metallizing openings in miniature printed circuit wafers |
| US3499218A (en) * | 1966-10-31 | 1970-03-10 | Electro Mechanisms Inc | Multilayer circuit boards and methods of making the same |
| US3461357A (en) * | 1967-09-15 | 1969-08-12 | Ibm | Multilevel terminal metallurgy for semiconductor devices |
| GB1218211A (en) * | 1968-01-13 | 1971-01-06 | Bosch Gmbh Robert | Improvements in or relating to the production of a plurality of coatings on an insulating carrier |
| USRE29326E (en) | 1969-10-28 | 1977-07-26 | Commissariat A L'energie Atomique | Integrated magnetic head having alternate conducting and insulating layers within an open loop of two magnetic films |
| BE758053A (fr) * | 1969-10-28 | 1971-04-01 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique integree et procede de fabrication de ladite tete |
| US3751292A (en) * | 1971-08-20 | 1973-08-07 | Motorola Inc | Multilayer metallization system |
| US3983284A (en) * | 1972-06-02 | 1976-09-28 | Thomson-Csf | Flat connection for a semiconductor multilayer structure |
| US3808049A (en) * | 1972-06-02 | 1974-04-30 | Microsystems Int Ltd | Multi-layer thin-film circuits |
| FR2191186B1 (de) * | 1972-07-03 | 1976-01-16 | Inf Ci Interna Fr | |
| US3844831A (en) * | 1972-10-27 | 1974-10-29 | Ibm | Forming a compact multilevel interconnection metallurgy system for semi-conductor devices |
| US4045594A (en) * | 1975-12-31 | 1977-08-30 | Ibm Corporation | Planar insulation of conductive patterns by chemical vapor deposition and sputtering |
| US4035276A (en) * | 1976-04-29 | 1977-07-12 | Ibm Corporation | Making coplanar layers of thin films |
| US4107726A (en) * | 1977-01-03 | 1978-08-15 | Raytheon Company | Multilayer interconnected structure for semiconductor integrated circuit |
-
1976
- 1976-05-06 FR FR7613553A patent/FR2350697A1/fr active Granted
-
1977
- 1977-04-29 US US05/792,210 patent/US4189524A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-05-03 DE DE19772719731 patent/DE2719731A1/de not_active Ceased
- 1977-05-04 JP JP5166577A patent/JPS52139958A/ja active Granted
- 1977-05-05 NL NL7704945A patent/NL7704945A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-05-05 IT IT7723191A patent/IT1206367B/it active
- 1977-05-06 GB GB19185/77A patent/GB1527199A/en not_active Expired
-
1979
- 1979-02-15 US US06/012,450 patent/US4311727A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-12-01 US US06/211,678 patent/US4350743A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1258941B (de) * | 1963-01-21 | 1968-01-18 | Ibm | Verfahren zur Herstellung von mehrschichtigen Duennfilmschaltungsplatten |
| DE2164490A1 (de) * | 1970-12-25 | 1972-06-29 | Hitachi Ltd | Verfahren zur Herstellung eines Leiterbahnensystems |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| "radiomentor-elektronik", 1968, S. 870 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1206367B (it) | 1989-04-21 |
| FR2350697B1 (de) | 1980-06-13 |
| FR2350697A1 (fr) | 1977-12-02 |
| NL7704945A (nl) | 1977-11-08 |
| GB1527199A (en) | 1978-10-04 |
| US4311727A (en) | 1982-01-19 |
| JPS617740B2 (de) | 1986-03-08 |
| JPS52139958A (en) | 1977-11-22 |
| US4350743A (en) | 1982-09-21 |
| US4189524A (en) | 1980-02-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2719731A1 (de) | Mehrschichtschaltung | |
| DE69031178T2 (de) | Oxidischer Supraleiter | |
| DE3856452T2 (de) | Herstellungsmethode für ein supraleitendes Bauelement | |
| DE69026301T2 (de) | Supraleitende Einrichtung und deren Herstellungsverfahren | |
| DE69119022T2 (de) | Supraleitende Einrichtung mit ultradünnem Kanal aus oxydisch supraleitendem Material und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE69115209T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Supraleitungsbauelements mit reduzierter Dicke der supraleitenden Oxidschicht und dadurch hergestelltes Supraleitungsbauelement. | |
| DE3650621T2 (de) | Supraleiter für Magnetfeldabschirmung und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| WO2000010208A1 (de) | Elektrisch stabilisierter dünnschicht-hochtemperatursupraleiter sowie verfahren zur herstellung eines solchen supraleiters | |
| DE69119190T2 (de) | Supraleitende Einrichtung mit extrem dünnen supraleitenden Kanal aus oxydischem supraleitendem Material und Methode zu deren Herstellung | |
| DE3833886A1 (de) | Magnetfeldabschirmung mit einem supraleitenden film | |
| DE69218348T2 (de) | Supraleitendes Bauelement mit extrem dünnen supraleitenden Kanal und Herstellungsverfahren | |
| DE2202520A1 (de) | Metall-Isolieraufbau | |
| DE2457488B2 (de) | Elektrische Verbindung zwischen Bauelementen aus verschiedenen Materialien, sowie Verfahren zur Herstellung | |
| DE3878884T2 (de) | Josephson-einrichtung, bestehend aus einer josephson-uebergangsstruktur, welche fuer einen oxidsupraleiter geeignet ist. | |
| DE69124697T2 (de) | Josephson-Einrichtung und Prozess zu deren Herstellung | |
| DE69015721T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer supraleitenden Schaltung. | |
| DE19953161A1 (de) | NTC-Thermistoren und NTC-Thermistorchips | |
| DE69300940T2 (de) | Josephson-Übergangseinrichtung aus oxidischem Supraleiter und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
| DE1590768A1 (de) | Duennfilmwiderstaende und Verfahren zum Herstellen derselben | |
| DE2931825C3 (de) | Magnetblasen-Speichervorrichtung | |
| DE2361804C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von supraleitenden Kontakten in Tieftemperatur-Schaltkreisen und Anwendung des Verfahrens bei der Herstellung von Tieftemperatur-Schaltkreisen mit Josephson-Elementen | |
| DE69316092T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer supraleitenden Einrichtung mit einem supraleitenden Kanal aus oxidisch supraleitendem Material | |
| DE69212670T2 (de) | Supraleitende oxydische Dünnschicht mit lokal unterschiedlichen Kristallorientierungen und ein Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE69130472T2 (de) | Ein dc SQUID Element und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| DE2916732A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines fadenfoermigen widerstandselementes fuer eine integrierte schaltung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: PRINZ, E., DIPL.-ING. LEISER, G., DIPL.-ING., PAT. |
|
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: H05K 3/46 |
|
| 8131 | Rejection |