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DE2704367A1 - Verfahren zum herstellen von scheibenfoermigen siliciumkoerpern, insbesondere fuer solarzellen - Google Patents

Verfahren zum herstellen von scheibenfoermigen siliciumkoerpern, insbesondere fuer solarzellen

Info

Publication number
DE2704367A1
DE2704367A1 DE19772704367 DE2704367A DE2704367A1 DE 2704367 A1 DE2704367 A1 DE 2704367A1 DE 19772704367 DE19772704367 DE 19772704367 DE 2704367 A DE2704367 A DE 2704367A DE 2704367 A1 DE2704367 A1 DE 2704367A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
autoclave
silicon
pressure
rolled
solar cells
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19772704367
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Dr Rer Nat Keller
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Priority to DE19772704367 priority Critical patent/DE2704367A1/de
Publication of DE2704367A1 publication Critical patent/DE2704367A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
    • H10F71/121The active layers comprising only Group IV materials
    • H10F71/1221The active layers comprising only Group IV materials comprising polycrystalline silicon
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/546Polycrystalline silicon PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

  • Verfahren zum Herstellen von scheibenförmigen Siliciumkörpern,
  • insbesondere für Solarzellen. ~ ~ Die Hauptanmeldung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von scheibenförmigen Siliciumkörpern, wie 3ie insbesondere für Solarzellen verwendet werden, bei dem zunächst polykristallines Silicium aufgeschmolzen und durch Walzen in die Form eines die gewünschte Dicke der scheibenförmigen Siliciumkörper aufweisenden Bandes zum Erstarren gebracht und dann dieses Band entsprechend den gewünschten Abmessungen der Siliciumkörper zerteilt wird.
  • Bei dem in der Hauptanmeldung beschriebenen Verfahren entstehen Siliciumbänder bzw. -scheiben, welche bezüglich ihrer Kristallstruktur eine nur mäßige Kristallperfektion aufweisen. Um die in den gewalzten Siliciumkörpern auftretenden gestörten Kristallstrukturen auszuheilen bzw. zu regenerieren, ist in der DT-PS 1.155.916 bereits vorgeschlagen worden, diese Körper einem Temperprozeß bei hohen Temperaturen (größer 11000C) auszusetzen. Dadurch wird eine Verbesserung der Kristallperfektion erreicht und es werden damit höhere Wirkungsgrade bei den aus diesen Bändern gefertigten Bauelementen erzielt.
  • Die Aufgabe, die der Erfindung zugrundeliegt, besteht in einer weiteren Verbesserung der Kristallperfektion in Richtung Kornvergrößerung von durch Walzen hergestellten Siliciumbändern.
  • Diese Aufgabe wlrd dadurch gelöst, daß der gewalzte Siliciumkörper vor oder nach der Zerteilung in einem Autoklaven einer Druckbelastung von größer 500 bar bei gleichzeitiger Wärmeeinwirkung ausgesetzt wird.
  • Die Erfindung geht dabei von der Erkenntnis aus, daß die durch das Walzen im Kristallinneren entstandenen sehr zahlreichen kleinen Gitterverbände durch die Druckanwendung und die gleichzeitig zugeführte Wärme wieder zusammengebracht werden und dadurch eine Kornvergrößerung herbeigeführt wird.
  • Es liegt im Rahmen der Erfindung, daß der Druck im Autoklaven auf einen Bereich von 1 kbar bis 100 kbar eingestellt wird.
  • Dabei kann der Druck im Autoklaven hydraulisch erzeugt oder auch durch ein Silicium nicht benetzendes Metall, welches vorzugsweise geschmolzen wird, hergestellt werden. Wichtig ist, daß der Ausdehnungskoeffizient des verwendeten Metalles wesentlich größer als der vom Silicium und der des Autoklavenmaterials ist.
  • In einer Weiterbildung des Erfindungsgedankens ist vorgesehen, das gewalzte Siliciumband während der Druckbelastung auf einer Temperatur im Bereich von 700 - 14000C (Schmelzpunkt Silicium 14300C) zu halten. Dabei wird die Temperatur von außen mittels eines den Autoklaven umgebenden Widerstandsofens erzeugt. Die Dauer der Druckbelastung wird auf mindestens 30 Minuten eingestellt.
  • Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den in der Zeichnung befindlichen Figuren 1 und 2 noch näher erläutert.
  • In Fig. 1 befindet sich auf einer wärmeisolierenden Unterlage 7 ein mit einem Widerstandsofen 2 all#seitig umschlossener Autoklav 3 aus Titan, in dessen Inneren die gewalzten Siliciumkörper 4 dicht gepackt ibereinander gestapelt sind. Dieser Siliciumkörperstapel 4 wird über einen aus Aluminiumoxyd bestehenden Block 5 mit einem Druckstempel 6 belastet und für eine Zeitdauer von 60 Minuten ein Druck p von etwa 5 kbar eingestellt. Während dieser Druckbelastung werden die Siliciumkörper 4 durch den Widerstandsofen 2 auf ca. 10000C aufgeheizt.
  • Fig. 2 zeigt schematisch die Druckerzeugung auf den Siliciumstapel 14 durch Erhitzen mittels eines festen bzw. flüssigen Metalls 8 im geschlossenen Autoklaven 13. Im Ausführungsbeispiel wird ein Autoklav 13 aus Titan (#= 9 10-6/°c ) und als Druck erzeugendes Metall 8 Blei (α= 28 ~ 10-6 verwendet. Durch die Wärmeeinwirkung (y12000C) geht das Blei in den geschmolzenen Zustand über und bewirkt eine erhebliche Druckerhöhung gegenüber dem festen Zustand. Der Widerstandsofen ist mit dem Bezugszeichen 12, die wärmeisolierende Unterlage mit 17 bezeichnet. Der Autoklav 13 besteht aus einem Topf- 15 und einem Deckelteil 16, welche durch Schraubverbindungen 18 verbunden sind.
  • Das Verfahren nach der Lehre der Erfindung ist besonders gut geeignet für die Herstellung von Solarzellen aus kristallinem Silicium, die z. Zt. noch wegen ihrer Kornetruktiar nur ingenügende Energieausbeuten liefern. Das Verfahren ist aber ebenso anwendbar für alle anderen Materialien mit körnigem Kristallgefüge, bei denen eine Kornvergrößerung angestrebt wird.
  • 2 Figuren 9 Patentansprüche L e e r s e ite

Claims (9)

  1. P a t e n t a n s p r ü c h e 1.
    Verfahren zum Herstellen von scheibenförmigen Siliciumkörpern, wie sie insbesondere für Solarzellen verwendet werden, bei dem zunächst polykristallines Silicium aufgeschmolzen und durch Walzen in die Form eines die gewünschte Dicke der scheibenförmigen Siliciumkörper aufweisenden Bandes zum Erstarren gebracht wird und dann dieses Band entsprechend den gewünschten Abmessungen der Siliciumkörper zerteilt wird, nach Patent . (DT-os 25.08.369 = VPA 75 P 1021), d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t daß der gewalzte Siliciumkörper vor oder nach der Zerteilung in einem Autoklaven einer Druckbelastung von größer 500 bar bei gleichzeitiger Wärmeeinwirkung ausgesetzt wird.
  2. 2.) Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß der Druck im Autoklaven auf einen Bereich von 1 kbar bis 100 kbar eingestellt wird.
  3. 3.) Verfahren nach Anspruch 1 und/oder 2, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t , daß der Druck im Autoklaven hydraulisch erzeugt wird.
  4. 4.) Verfahren nach Anspruch 1 und 2, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t , daß der Druck durch ein Silicium nicht benetzendes Metall erzeugt wird, dessen AusdehnungskoeffizientOC wesentlich größer als der vom Silicium und der des Autoklavenmaterials ist.
  5. 5.) Verfahren nach Anspruch 4, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß das Metall im geschmolzenen Zustand den Druck erzeugt.
  6. 6.) Verfahren nach Anspruch 5, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß zur Druckerzeugung Blei zum Schmelzen gebracht wird.
  7. 7.) Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t , daß das gewalzte Siliciumband während der Druckbelastung auf einer Temperatur im Bereich von 700 bis 14000C gehalten wird.
  8. 8.) Verfahren nach Anspruch 1 bis 7, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Temperatur mittels eines den Autoklaven umgebenden Widerstandsofens erzeugt wird.
  9. 9.) Verfahren nach Anspruch 1 bis 8, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Druckbelastung mindestens 30 Minuten aufrechterhalten wird.
DE19772704367 1977-02-02 1977-02-02 Verfahren zum herstellen von scheibenfoermigen siliciumkoerpern, insbesondere fuer solarzellen Withdrawn DE2704367A1 (de)

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DE2704367A1 true DE2704367A1 (de) 1978-08-03

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ID=6000199

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DE19772704367 Withdrawn DE2704367A1 (de) 1977-02-02 1977-02-02 Verfahren zum herstellen von scheibenfoermigen siliciumkoerpern, insbesondere fuer solarzellen

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DE (1) DE2704367A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3017842A1 (de) * 1980-05-09 1981-11-12 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen von platten- oder bandfoermigen siliziumkristallkoerpern mit einer der kolumnarstruktor gleichwertigen saeulenstruktur durch sintern
WO1986002493A1 (en) * 1984-10-16 1986-04-24 Todorof William J Multi-layer thin film, flexible silicon alloy photovoltaic cell

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NICHTS-ERMITTELT *

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WO1986002493A1 (en) * 1984-10-16 1986-04-24 Todorof William J Multi-layer thin film, flexible silicon alloy photovoltaic cell

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