DE2450261A1 - Verfahren zur herstellung von gitterelektroden fuer elektronenroehren - Google Patents
Verfahren zur herstellung von gitterelektroden fuer elektronenroehrenInfo
- Publication number
- DE2450261A1 DE2450261A1 DE19742450261 DE2450261A DE2450261A1 DE 2450261 A1 DE2450261 A1 DE 2450261A1 DE 19742450261 DE19742450261 DE 19742450261 DE 2450261 A DE2450261 A DE 2450261A DE 2450261 A1 DE2450261 A1 DE 2450261A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- grid
- mandrel
- pyrolytic graphite
- temperature
- graphite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 40
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000002500 effect on skin Effects 0.000 description 1
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005247 gettering Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 230000005226 mechanical processes and functions Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 tantalum, metal carbides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J19/00—Details of vacuum tubes of the types covered by group H01J21/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2893/00—Discharge tubes and lamps
- H01J2893/0001—Electrodes and electrode systems suitable for discharge tubes or lamps
- H01J2893/0012—Constructional arrangements
- H01J2893/0019—Chemical composition and manufacture
- H01J2893/0022—Manufacture
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Description
PHILIPS PATMTVERWALTUITG GMBH, 2 Hamburg 1, Steindamm 94
Verfahren zur Herstellung von Gitterelektroden für Elektronenröhren
Me Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Gitterelektroden
für Elektronenröhren, bei dem pyrolytischer Graphit durch thermische Zersetzung von kohlenstoffhaltigen
Gasen auf einem Dorn niedergeschlagen und der so gebildete Formkörper vom Dorn getrennt und mit gitterförmigen Öffnungen
versehen wird.
PHD 74-205
Jü - 2 -
609819/0450
245026]
Graphit wird als Werkstoff heim Bau gasgefüllter und hochevakuierter
Röhren bzw. Elektronenröhren schon weitgehend angewendet. Ausschlaggebend für die Anwendung auf diesem
speziellen Sektor sind vorzugsweise die Hochtemperatur-Eigenschaften, wie hoher Sublimations- bzw. Schmelzpunkt
(etwa 4200 K bei 105 bar), relativ niedriger Dampfdruck, hohe thermische Schockresistenz und gute thermische Leitfähigkeit
bei hohen Temperaturen. Yon den mechanischen Werten ist für den Betrieb in Röhren (z.B. Gleichrichterröhren
und Elektronenröhren) die mit steigender Temperatur zunehmende Festigkeit besonders wichtig, die im Bereich um
etwa 2500 K auf rund das Doppelte ihres Wertes bei 300 K ansteigt. Yon den elektronischen Werten ist das relativ hohe
Austrittspotential von etwa 4 Y hervorzuheben, d.h. die thermische Gitteremission, aber auch die Sekundärelektronenemission,
sind niedrig.
Bekannt sind auch Gitterelektroden aus Graphit, die mit pyrolytischen
Kohlenstoffschichten bedeckt sind, sowie mit Pyrokohlenstoff beschichtete Metallgitter-Elektroden. Aus der
DT-AS 1 194 988 sind Gitterelektroden bekannt, die aus reinem pyrolytischem Graphit bestehen und die gegenüber der normalen
Graphitgitter-Elektrode die besonderen Vorteile aufweisen, die mit der anisotropen Struktur des pyrolytischen Graphits verknüpft
sind. Hervorzuheben sind dabei die vergleichsweise wesentlich bessere mechanische Stabilität und die damit verbun-'
dene größere Betriebssicherheit,"die Möglichkeit, wesentlich
feinmaschigere Gitter herzustellen, die bessere Wärmeableitung in die Gittersockel aufgrund der sehr guten thermischen Leitfähigkeit
parallel zur Schichtung des pyrolytischen Graphits und die bessere Vakuumtauglichkeit aufgrund des Fehlens von
Poren (gut orientierter pyrolytischer Graphit hat fast die theoretische Dichte von 2,26 gem des idealen Graphiteinkristalls).
609819/0450
Aus der US-PS 3 462 522 ist "bekannt, daß die Oberflächenbeschaffenheit
des Doms, auf dem der pyxolytische Graphit
niedergeschlagen wird, die Struktur des gebildeten !Formkörpers mitbestimmt. Zur Verbesserung der Oberflächenbeschaffenheit
wird nach der US-PS ein Dorn aus Elektrographit zunächst mit Sauerstoff behandelt und dann mit einem dünnen Überzug
aus pyrolytischem Graphit versehen - ein relativ aufwendiges und kostspieliges Verfahren.
Aus der GB-PS 956 342 ist bekannt, mehrere Platten aus pyrolytischem
Graphit dadurch miteinander zu verbinden, daß in den Zwischenräumen zwischen den Platten pyrolytischer Graphit
abgeschieden wird. Andererseits geht aus J. Materials Sei. 3 (1968) 559-561 hervor, daß die Beschichtung von pyrolytischem
Graphit mit pyrolytischen Graphit nicht unproblematisch ist und z.B. auf (kristallographischen) c-Flächen mißlingt.
Den zuvor zitierten Druckschriften ist in keinem Falle zu entnehmen,
daß die Herstellung des pyrolytischen Graphits nach der in der DT-AS 1 667 649 und der DT-PS 1 667 650 beschriebenen
Verfahrensweise der Heißgaspyrolyse erfolgt ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von Gitterelektroden für Elektronenröhren der eingangs
erwähnten Art zu schaffen, durch das Gitterelektroden mit verbesserten mechanischen und elektrischen Eigenschaften
erzielt und zugleich die Ausschußraten bei der Herstellung vermindert
werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Formkörper nach dem Ausbilden des Gitters nochmals mit einer
dünnen Schicht aus pyrolytischem Graphit überzogen wird und daß das Abscheiden auf dem Dorn und das nochmalige Überziehen
des mit gitterförmigen Öffnungen versehenen Pormkörpers so
6 ü 9 8 1 9/0450
vorgenommen werden, daß die Temperatur des kohlenstoffhaltigen Gases höher, vorzugsweise mindestens 100 K höher, als
die Temperatur des Horns "bzw. des Formkörpers ist.
Bei den Untersuchungen, die zur Erfindung geführt haben, wurde gefunden, daß die Verfahrensweise nach der DT-AS 1 667 649 und
der DT-PS 1 667 650 bei der Herstellung von relativ dünnwandigen
Hohlkörpern aus pyrolytischem Graphit, wie sie im wesentlichen Gegenstand der Erfindung sind, besonders gut geeignet
ist. Diese besondere Eignung ergibt sich allein schon aus der Tatsache, daß die bei der Heißgaspyrolyse im gesamten Abscheidungssystem
auftretenden Temperaturdifferenzen maximal etwa
100 K betragen. Darüber hinaus erfolgt bei der Heißgaspyrolyse zwangsläufig eine verzögerte Abkühlung von Abscheidungstemperatur
auf Raumtemperatur, bedingt durch die Wärmeträgheit des Abscheidungssystems. Beide genannten Faktoren wirken sich
äußerst günstig auf den Abbau von inneren Spannungen im abgeschiedenen Pyrographitkörper aus.
Für die Herstellung von Hohlkörpern (Kappen) aus pyrolytischem Graphit, wie sie für unterschiedliche Typen von Elektronenröhren
benötigt werden, wurde folgende Verfahrensweise angewandt: Als Substrat für die genannten Objekte wurde normaler synthetischer
feinkörniger Graphit durch Drehen, Schleifen und Polieren in eine der Kappe entsprechende Form gebracht. Der pyrolytische
Graphit wurde bei 2300 K und einem Druck von etwa 2 mbar aus Propan (C-H8) abgeschieden. Die Abscheidungsgeschwindigkeit
lag bei diesen Parametern bei etwa 0,5 bis 1,0/um/min, d.h.
für eine Kappe mit der Wandstärke 100/um liegt die Beschichtungsdauer
bei etwa 2 bis 3 Stunden. Diese langsame Abscheidungsgeschwindigkeit ist vorteilhaft, wenn man die Abscheidung
selbst möglichst homogen, d.h. frei von größeren Kohlenstoffpartikeln (Cluster) haben möchte. Eine einwandfreie, d.h. möglichst
homogene Struktur der pyrolytischen Graphitschicht ist
für die spätere einwandfreie Funktion der Gitterelektrode von entscheidender Bedeutung.
- 5 bU9819/(M5 0
245026]
Um aus den Pyrographitkappen die benötigte Elektrodenform, nämlich ein Gitter, herzustellen, müssen erstere durch geeignete
Bearbeitungsprozesse zu einem Gitterwerk weiterverarbeitet werden. Generell kommen dafür Prozesse wie Elektroerosion,
Elektronenstrahlschneiden oder auch das sogenannte "Electro Chemical Machining (ECM)" in Betracht. Bevorzugt
wird das Schneiden mittels Laserstrahlen. Entscheidend für die Auswahl des geeigneten Schneide- bzw. Bearbeitungsverfahrens
ist die "Feinheit" des angestrebten Gitters. Wichtiger Parameter ist auch die Wandstärke der Kappe. Man muß davon ausgehen,
daß je nach Gegebenheit unterschiedliche Verfahren, darunter natürlich auch - evtl. bei grobmaschigem Gitterwerk rein
mechanische Prozesse (Schneiden, Schleifen) anzuwenden sind.
Mit COp-Lasern und Festkörper-Lasern wurden Gitter aus pyrolytischem
Graphit hergestellt, deren zylindrischer Teil mit etwa 2 χ 180 "Fenstern" von etwa 200 /um Breite und 0,7 cm Höhe versehen
worden war. Die Stegbreite zwischen je 2 Fenstern beträgt etwa 100/um. Dies ergibt bei einer Wandstärke von 100/um
' 4-2 -4. 2 '
einen Stegquerschnitt von 10 /um = 10 ^ cm .
Wie im REM (Raster-Elektronen-Mikroskop) angefertigte Aufnahmen zeigen, werden beim Schneiden der Kappen die Schichten des
hochorientierten pyrolytischen Graphits angeschnitten. Dadurch werden vakuumtechnisch und mechanisch ungünstige Oberflächen
geschaffen. Ersteres hinsichtlich der erhöhten Entgasungsneigung, - allerdings auch gegebenenfalls erhöhter Getterfähigkeit
für Fremdgase -, letzteres ist dahingehend zu verstehen, daß einmal die Gefahr des Ausbrechens kleiner Graphitpartikel erhöht
wird und Druckbelastungen infolge Temperaturwechsel im Betrieb zu Delamination des schichtenweise aufgebauten Pyrographits
führen können. Elektrisch ergibt sich eine ungünstige Nebenwirkung durch Elektronen emittierende Kanten und/oder
6098 1 9/0450
Spitzen und damit eine verminderte Hochspannungsfestigkeit.
Durch den erfindungsgemäßen Verfahrensschritt, die nach vorstehend
"beschriebenen Herstellungsverfahren angefertigten Gitterelektroden aus pyroly ti schein Graphit nach der Schneidbearbeitung
zur Bildung des Maschengitters nachträglich nochmals mit einer dünnen, vorzugsweise 1 bis 100/um dicken Schicht
aus pyrolytischem Graphit zu überziehen, wird bewirkt, daß die
angeschnittenen "ungünstigen" Flächen abgedeckt werden. Damit verbessern sich sowohl die mechanischen und elektrischen Eigenschaften,
als auch die Vakuumeigenschaften. Z.B. wird durch "Versiegeln" der Zwischengitterräume mit einer zweiten Schicht
aus praktisch impermeablem pyrolytischem Graphit die Delamination
blockiert. Sekundär werden zwangsläufig bei der Nachbeschichtung mit der Aufheizung auf Temperaturen im Bereich von
etwa 2300 K im Hochvakuum eventuell (beim Schneiden, z.B. an Luft) eingebrachte Fremdstoffe (O2, Np, Verunreinigungen) ausgetrieben
(verdampft) bzw. unwirksam gemacht. Ein weiterer Vorteil der Zweitbeschichtung ist darin zu sehen, daß mit zunehmender
Schichtdicke die Gittermaschenweite bzw. die Gitterlücken auf minimale Abstände verengt werden können, was für
Anwendung im UHF-Bereich von größter Bedeutung ist.
Es ist bekannt, daß neben den für die Homogenität einer pyrolytischen
Kohlenstoffschicht wichtigen Parametern Substrattemperatur, Pyrolysegasart (z.B. CH., C2 11O' C"5H8 UrLd ^■omo^-°Set
CpH-, C-zHg und Homologe, CpHp und Homologe, CgHg u.a. Aromaten)
und Pyrolysegasdruck die Beschaffenheit des Substrats, besonders dessen Oberfläche, sehr maßgeblich Homogenität und Orientierungsgrad
der abgeschiedenen Schicht bestimmen. In der Literatur sind diese Phänomene unter den Begriffen "coarse grained"
oder "fine grained" substrate nucleated pyrolytic graphite und "continuously nucleated" pyrolytic graphite beschrieben worden.
Bei E.R. Stover, G&C-Report-No. 62-RL-2991M, findet man eine
— 7 -
609819/0 450
24502B]
detaillierte Zusammenfassung der Phänomenologie des pyrolytisehen
Graphits.
Erfindungsgemäß kann die Homogenität im Sinne der Unterdrückung
einer sogenannten sekundären Anisotropie dadurch verbessert werden, daß man das Substrat, bestehend aus Elektrοgraphit,
hochschmelzendem Metall, wie Molybdän, Wolfram oder Tantal, Metallkarbiden, wie etwa WC, MoC, TaC oder FbC, vorzugsweise
aber aus glasartigem Kohlenstoff, möglichst gut poliert. Es hat sich dabei gezeigt, daß solche polierten Substrate sich
sehr leicht entformen lassen (d.h. die aufgeschichtete Pyrographitkappe läßt sich nach dem Abkühlen spielend leicht abziehen)
und die gesamte Oberfläche der Kappen sowohl innen als auch außen äußerst glatt bis hochglänzend wird. Besonders
für die Hochspannungs-Durchschlagsfestigkeit einer Röhre ist die letztgenannte Eigenschaft von besonderer Wichtigkeit
(keine Spitzen-Entladungen).
Pur den Betrieb von Hochfrequenzröhren wird die Frage der leitfähigkeit
der Elektrodenmaterialien mit zunehmender Frequenz immer kritischer, da sich der Mechanismus der Stromleitung
immer stärker im Oberflächenbereich des jeweiligen Leiters abspielt (skin-Effekt). Im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens
ist es zweckmäßig, die Anisotropie von sogenanntem "as deposited"-pyrolytischem Graphit durch eine Hochtemperatur-Nachbehandlung
bei 3000 bis 3800 K, insbesondere bei 3500 K, noch wesentlich zu verbessern. Diese thermische Nachbehandlung
kann unter dem Druck eines Inertgases von 10 bis 500 bar, insbesondere von 100 bar, vorgenommen werden.
Eine derartige Nachbehandlung wird so gehandhabt, daß man beispielsweise den abgeschiedenen pyrolytischen Graphit in
einem Inertgas (vorzugsweise Edelgase) von 300 bar etwa eine . Stunde lang auf 3300 K erhitzt, anschließend den Druck auf
etwa 10 bar reduziert und dabei die Temperatur für weitere 10 Minuten auf 3800 bis 3900 K erhöht.
- 8 60981 9/0450
24 5.02'βΊ
Durch die erfindungsgemäße thermische bzw. thermisch-mechanische Nachbehandlung lassen sich Leitfähigkeitswerte erreichen,
die in der Größenordnung derjenigen von Graphit-EinlagerungsYerbindungen (graphite intercalation compounds) mit
etwa 2 bis 3 . 10 Λ ~" cm" liegen. Damit kommt man in den
Bereich guter metallischer Leitfähigkeit (Leitfähigkeit von Kupfer etwa 5,8 . 105XX ~1cm"*1).
Die wesentlichen Kennzeichen des erfindungsgemäßen Verfahrens und seiner zweckmäßigen Ausgestaltungen lauten also zusammengefaßt:
a) Herstellung eines Hohlkörpers (Gitterkappe) aus pyrolytischem Graphit nach der Methode der Heißgaspyrolyse.
b) Nachbeschichtung des fertig bearbeiteten Gitters mit einer zweiten Schicht aus hochorientiertem
pyrolytischem Graphit mittels Heißgaspyrolyse.
c) Vorzugsweise Verwendung von möglichst glatten (polierten) Substratkernen. Dabei ist insbesondere
glasartiger Kohlenstoff zu verwenden, weil damit die besten Ergebnisse erzielt werden. Untersucht
wurden auch Substrate aus poliertem Tantal und Wolfram. Diese führen ebenfalls zu guten Ergebnissen,
müssen aber vor jeder Wiederverwendung nachpoliert werden.
d) Vorzugsweise Nachbehandlung der Elektrodenkappen bei hohen Temperaturen (3000 bis 3800 K) allein
oder kombiniert mit der simultanen Anwendung von hohen Drücken, z.B. in einem Hochdruckautoklaven
in Inertgas unter isostatischen Druckbedingungen;
ρ Drücke in der Größenordnung von 10 bar werden bevorzugt.
6 0 9 8 19/ D UH 0
e) Als Schneidverfahren für die Veiterverarbeitung der Gitterkappe zur Gitterelektrode vorzugsweise
das Schneiden mittels Laserstrahlen.
- 10 -
bO98 1 9/ 0A50
Claims (8)
- 245026]Patentansprüche:1 .J Verfahren zur Herstellung von Gitterelektroden für Elektronenröhren, bei dem pyrolytischer Graphit durch thermische Zersetzung von kohlenstoffhaltigen Gasen auf einem Dorn niedergeschlagen und der so gebildete Formkörper vom Dorn getrennt und mit gitterförmigen Öffnungen versehen wird, dadurch gekennzeichnet, daß der Formkörper nach dem Ausbilden des Gitters nochmals mit einer dünnen Schicht aus pyrolytischem Graphit überzogen wird und daß das Abscheiden auf dem Dorn und das nochmalige Überziehen des mit gitterförmigen Öffnungen versehenen Formkörpers so vorgenommen werden, daß die Temperatur des kohlenstoffhaltigen Gases höher als die Temperatur des Dorns bzw. des Formkörpers ist.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des kohlenstoffhaltigen Gases mindestens 100 K höher als die Temperatur des Dorns bzw. des Formkörpers ist.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Dorn vor dem Abscheiden des pyrolytischen Graphits poliert wird.
- 4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche bis 3» dadurch gekennzeichnet, daß ein Dorn aus glasartigem Kohlenstoff verwendet wird.
- 5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Formkörper nach dem Ausbilden des Gitters mit einer 1 bis 100 /um dicken Schicht aus pyrolytischem Graphit überzogen wird.- 11 -609819/0450
- 6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 "bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Gitterelektroden einer thermischen Nachbehandlung bei 3000 bis 3800 K unterzogen werden.
- 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die thermische Nachbehandlung unter dem Druck eines Inertgases von 10 bis 500 bar vorgenommen wird.
- 8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Formkörper mittels Laser mit gitterförmigen Öffnungen versehen wird.609819/0AbU
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2450261A DE2450261C3 (de) | 1974-10-23 | 1974-10-23 | Verfahren zur Herstellung von Gitterelektroden für Elektronenröhren |
| NL7511985.A NL166151C (nl) | 1974-10-23 | 1975-10-13 | Werkwijze voor het vervaardigen van roosterelektroden voor elektronenbuizen. |
| US05/622,999 US4034031A (en) | 1974-10-23 | 1975-10-16 | Method of manufacturing grid electrodes for electron tubes |
| CA237,765A CA1083310A (en) | 1974-10-23 | 1975-10-16 | Method of manufacturing grid electrodes for electron tubes |
| GB42925/75A GB1504784A (en) | 1974-10-23 | 1975-10-20 | Manufacturing grid electrodes for electron tubes |
| JP12547375A JPS5626097B2 (de) | 1974-10-23 | 1975-10-20 | |
| FR7532459A FR2290026A1 (fr) | 1974-10-23 | 1975-10-23 | Procede pour la realisation d'electrodes en forme de grille pour tubes electroniques |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2450261A DE2450261C3 (de) | 1974-10-23 | 1974-10-23 | Verfahren zur Herstellung von Gitterelektroden für Elektronenröhren |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2450261A1 true DE2450261A1 (de) | 1976-05-06 |
| DE2450261B2 DE2450261B2 (de) | 1979-10-04 |
| DE2450261C3 DE2450261C3 (de) | 1980-06-26 |
Family
ID=5928905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2450261A Expired DE2450261C3 (de) | 1974-10-23 | 1974-10-23 | Verfahren zur Herstellung von Gitterelektroden für Elektronenröhren |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4034031A (de) |
| JP (1) | JPS5626097B2 (de) |
| CA (1) | CA1083310A (de) |
| DE (1) | DE2450261C3 (de) |
| FR (1) | FR2290026A1 (de) |
| GB (1) | GB1504784A (de) |
| NL (1) | NL166151C (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52119058A (en) * | 1976-03-27 | 1977-10-06 | Philips Nv | Electronic tube grid electrode and method of fabricating same |
| EP0030405B1 (de) * | 1979-12-08 | 1983-12-28 | Philips Patentverwaltung GmbH | Verfahren zur Herstellung von Küvetten für die flammenlose Atom-Absorptions-Spektroskopie |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2623828A1 (de) * | 1976-05-28 | 1977-12-08 | Philips Patentverwaltung | Elektrode, insbesondere gitterfoermige elektrode fuer elektronenroehren, und verfahren zu deren herstellung |
| DE2825759A1 (de) * | 1978-06-12 | 1979-12-13 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von kuevetten fuer die flammenlose atom-absorptions-spektroskopie |
| DE2949275A1 (de) * | 1979-12-07 | 1981-06-25 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Kuevette fuer die flammenlose atom-absorptions-spektroskopie und verfahren zu deren herstellung |
| SU1149329A1 (ru) * | 1981-02-13 | 1985-04-07 | Организация П/Я Х-5263 | Сетчатый электрод дл электронного прибора и способ его изготовлени |
| US4650619A (en) * | 1983-12-29 | 1987-03-17 | Toshiba Ceramics Co., Ltd. | Method of machining a ceramic member |
| DE3879851D1 (de) * | 1987-10-15 | 1993-05-06 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von formkoerpern aus pyrolytischem graphit. |
| GB2222346B (en) * | 1988-08-24 | 1993-02-17 | Mitsubishi Pencil Co | Process for producing acoustic carbon diaphragm |
| DE59100763D1 (de) * | 1990-05-02 | 1994-02-10 | Siemens Ag | Elektrode für medizinische Anwendungen. |
| US5246576A (en) * | 1990-12-10 | 1993-09-21 | Ppg Industries, Inc. | Cathode in a layered circuit and electrochemical cell for a measurement of oxygen in fluids |
| JP2783927B2 (ja) * | 1991-11-29 | 1998-08-06 | 三菱鉛筆株式会社 | 電極用炭素材料およびその製造方法 |
| GB2299137B (en) * | 1995-03-20 | 1999-04-28 | Matra Marconi Space Uk Ltd | Ion thruster |
| US6856080B2 (en) | 2001-08-28 | 2005-02-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Carbonized resin coated anode |
| US7049614B2 (en) * | 2003-03-10 | 2006-05-23 | Intel Corporation | Electrode in a discharge produced plasma extreme ultraviolet source |
| US7563543B2 (en) * | 2003-07-16 | 2009-07-21 | The Kansai Coke And Chemicals Co., Ltd. | Negative electrode of lithium ion secondary battery obtained by isostatically pressing a spherical graphite to eliminate voids therein |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3138435A (en) * | 1961-06-26 | 1964-06-23 | Gen Electric | Deposition apparatus and method for forming a pyrolytic graphite article |
| US3265519A (en) * | 1962-02-01 | 1966-08-09 | Gen Electric | Article comprising several layers of pyrolytic graphite and substrate coated with said layers |
| FR1344220A (fr) * | 1962-03-02 | 1963-11-29 | Thomson Houston Comp Francaise | Grille pour tubes électroniques |
| US3351690A (en) * | 1962-04-18 | 1967-11-07 | Gen Electric | Heat treating pyrolytic graphite and boron nitride bodies with simultaneous application of multiaxial tension |
| GB956342A (en) * | 1962-10-25 | 1964-04-22 | Gen Electric | Pyrolytic graphite article |
| US3367826A (en) * | 1964-05-01 | 1968-02-06 | Atomic Energy Commission Usa | Boron carbide article and method of making |
| US3360398A (en) * | 1965-03-11 | 1967-12-26 | United Aircraft Corp | Fabrication of thin film devices |
| NL6609343A (de) * | 1966-07-05 | 1968-01-08 | ||
| NL6609344A (de) * | 1966-07-05 | 1968-01-08 | ||
| US3462522A (en) * | 1966-12-02 | 1969-08-19 | Gen Electric | Deposition of pyrolytic material |
-
1974
- 1974-10-23 DE DE2450261A patent/DE2450261C3/de not_active Expired
-
1975
- 1975-10-13 NL NL7511985.A patent/NL166151C/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-10-16 CA CA237,765A patent/CA1083310A/en not_active Expired
- 1975-10-16 US US05/622,999 patent/US4034031A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-10-20 GB GB42925/75A patent/GB1504784A/en not_active Expired
- 1975-10-20 JP JP12547375A patent/JPS5626097B2/ja not_active Expired
- 1975-10-23 FR FR7532459A patent/FR2290026A1/fr active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52119058A (en) * | 1976-03-27 | 1977-10-06 | Philips Nv | Electronic tube grid electrode and method of fabricating same |
| EP0030405B1 (de) * | 1979-12-08 | 1983-12-28 | Philips Patentverwaltung GmbH | Verfahren zur Herstellung von Küvetten für die flammenlose Atom-Absorptions-Spektroskopie |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5165871A (de) | 1976-06-07 |
| FR2290026B1 (de) | 1978-08-18 |
| CA1083310A (en) | 1980-08-12 |
| NL7511985A (nl) | 1976-04-27 |
| FR2290026A1 (fr) | 1976-05-28 |
| JPS5626097B2 (de) | 1981-06-16 |
| NL166151C (nl) | 1981-06-15 |
| DE2450261C3 (de) | 1980-06-26 |
| GB1504784A (en) | 1978-03-22 |
| NL166151B (nl) | 1981-01-15 |
| DE2450261B2 (de) | 1979-10-04 |
| US4034031A (en) | 1977-07-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2450261A1 (de) | Verfahren zur herstellung von gitterelektroden fuer elektronenroehren | |
| DE2728555C2 (de) | Vormaterial für kohlefaserverstärkte Metalle und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| EP0081270B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer thermionischen Kathode und nach diesem Verfahren hergestellte thermionische Kathode | |
| DE3509465C2 (de) | Verfahren zur Herstellung poröser, nicht-verdampfbarer Gettereinrichtungen, so hergestellte Gettereinrichtungen und ihre Verwendung | |
| EP0744472B1 (de) | Verbundkörper aus vakuumbeschichtetem Sinterwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE102018105115A1 (de) | Elektrode, Zelleneinheit und Elektrolyseur | |
| DE102007049930B4 (de) | Oberflächenmodifizierte Hohlraumstrukturen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung | |
| DE2623828C2 (de) | ||
| DE2928993C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Röntgenröhren-Drehanode | |
| DE2344936B2 (de) | Thermische Kathode für Elektronenröhren und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE10122889C2 (de) | Anorganische Kompositmembran zur Abtrennung von Wasserstoff aus Wasserstoff enthaltenden Gemischen | |
| EP0302552B1 (de) | Drehanode für Röntgenröhren | |
| DE3686870T2 (de) | Elektronen und ionen leitende elektroden fuer thermoelektrische generatoren. | |
| EP0087826B1 (de) | Thermionische Kathode und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE1194988B (de) | Gitterelektrode fuer Elektronenroehren | |
| DE102018208815A1 (de) | Verfahren zur Erzeugung von Wärmedämmschichten mit Vertikalrissen | |
| DE2655726C2 (de) | ||
| DE3205919C1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Festelektrolytschichten fuer galvanische Zellen | |
| DE1255207B (de) | Matrix- oder Schichtkathode fuer Gluehkathoden-Roehren | |
| DE10005124C2 (de) | Elektrode sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE102009002320B4 (de) | Verfahren zur Reduzierung des elektrischen Kontaktwiderstands einer Oberfläche eines metallischen Körpers und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
| AT525593B1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung dotierter Diamantschichten | |
| DE2613170A1 (de) | Verfahren zur herstellung von gitterelektroden fuer elektronenroehren | |
| DE3216387A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer absorberschicht auf einem grundkoerper, insbesondere fuer solarkollektoren | |
| DE2460827B2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer dielektrischen Schicht über einer Metallisierungsschicht |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |