DE2363352C3 - Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen - Google Patents
Bad zum elektrolytischen Ablösen von MetallenInfo
- Publication number
- DE2363352C3 DE2363352C3 DE2363352A DE2363352A DE2363352C3 DE 2363352 C3 DE2363352 C3 DE 2363352C3 DE 2363352 A DE2363352 A DE 2363352A DE 2363352 A DE2363352 A DE 2363352A DE 2363352 C3 DE2363352 C3 DE 2363352C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- iodide
- bath
- baths
- soluble
- salts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title claims description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical class [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical class OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC=C(C)C=2)O)=C1 XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MTXLZKBRQPGYOR-UHFFFAOYSA-N Cl.Br.I.I Chemical compound Cl.Br.I.I MTXLZKBRQPGYOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXUYXFJRAQUVMW-UHFFFAOYSA-N I.Br.Cl Chemical compound I.Br.Cl ZXUYXFJRAQUVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical class CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Chemical class [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- -1 copper-I-iodide Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002171 ethylene diamines Chemical class 0.000 description 1
- CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N hypobromous acid Chemical class BrO CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F5/00—Electrolytic stripping of metallic layers or coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
30
Vorliegende Erfindung betrifft ein Bad zum elektrolytischen Ablösen von Überzugsmetallen, nämlich Nickel,
Chrom, Zink, Zinn, Kupfer, Cadmium oder Silber, von Stahl, das in wäßriger Lösung Salpetersäure und/oder
deren Salze mit anorganischen und/oder organischen Basen, ferner organische Säuren und/oder deren Salze
sowie eine wasserlösliche Halogenverbindung enthält.
Das Ablösen eines galvanisch aufgebrachten Metallüberzuges von Stahl wird z. B. dann erforderlich, wenn
er fehlerhaft aufgebracht wurde oder selektiv wieder entfernt werden soll. Ein weiteres Anwendungsgebiet
solcher Bäder ist die Instandhaltung und Säuberung von Galvanisiergestellen. Bedingt durch den galvanischen
Metallabscheidungsprozeß entstehen an den Kontaktie· rungshaken Aufwachsungen verschiedener Metallschichten,
die in regelmäßigen Zeitabständen mechanisch entfernt werden müssen, um den einwandfreien
Stromübergang zum Werkstück zu erhalten.
Für diesen Verwendungszweck sind bereits Bäder verschiedener Zusammensetzung bekannt. So wird in
der DE-OS 19 63 415 ein elektrolytisches Entmetallisierungsbad
beschrieben, das Amine, Nitrate, organische Säuren und wasserlösliche Chlorverbindungen enthält.
Ferner ist aus der DE-OS 21 46 828 ein Elektrolyt bekannt, der im wesentlichen aus Aminen, Nitraten, r>
organischen Säuren und wasserlöslichen Bromverbindungen besteht.
Diese bekannten Bäder können Amine oder Aminoalkohole, insbesondere solche mit bis zu 10 C-Atomen,
enthalten, wobei es sich um primäre, sekundäre oder
tertiäre Amine handeln kann, wie z. B. Trimethylamin, Diäthyl- und Triäthylamine, Äthylendiamine, Mono-, Di-
und Triäthanolamine. Vorzugsweise wird das Neutralisationsprodukt von Triäthanolamin und Salpetersäure
eingesetzt. hi
Als organische Säuren sind in den genannten Bädern Ameisen-, Essig-, Propion-, Oxal-, Malori-, Milch- und
Zitronensäure beschrieben, bzw. die Alkali- und/oder
Außerdem sind in diesen Bädern noch in Wasser sehr leicht lösliche Chlor- bzw. Bromverbindungen enthalten,
wie Ammoniumchlorid bzw. Bromide, Hypobromite und Bromate der Alkalimetalle oder des Ammoniums.
Diese Chlor- bzw. Bromverbindungen werden als Beschleuniger benötigt, um in einer angemessenen Zeit
die Metallschichten, insbesondere Halbglanznickel, zu
entfernen. Durch Verwendung dieser Aktivatoren erhöht sich der Grundmaterialangriff erheblich. Eine
völlige Ausschaltung des Angriffes auf das Basismaterial ist jedoch kaum möglich, da es sich bei dem
Ablösevorgang um einen anodischen-elektrolytischen Prozeß handelt
Erstrebenswert ist es aber, diesen Angriff auf das Grundmaterial auf ein Minimum zu beschränken. Um
diesem Ziel näher zu kommen, wurde da»'-sr schon
versucht, die als Beschleuniger wirkenden Verbindungen in nur sehr geringen Mengen zu verwenden.
Diese Maßnahmen führten zwar zu einer gewissen Verminderung des Angriffs der Bäder auf das
Grundmaterial, doch war die damit erzielte Verbesserung keineswegs befriedigend, zumal es sich auch als
schwierig erwies, diese geringen Mengen an Chlor- und Bromverbindungen während des Ablösevorganges
laufend zu kontrollieren und zu regeln.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Bad für die elektrolytische Entmetallisierung zu schaffen, das
neben einer zumindest gleich schnellen Entfernung metallischer Überzüge von Gegenständen aus Stahl,
insbesondere von Halbglanznickelschichten, einen erheblich geringeren Angriff auf das Grundmetall ausübt
als die bekannten Bäder und das sich, im Gegensatz zu diesen, bezüglich seiner Zusammensetzung leichter
einstellen und kontrollieren läßt
Überraschenderweise wurde gefunden, daß sich diese Aufgabe durch Bäder lösen läßt, die als Halogenverbindung
ein Jodid, in Mengen von 0,05 bis 1,0 g/l, vorzugsweise von 0,4 bis 0,6 g/I, berechnet als Jod, als
gelöstes Jodid enthalten, wobei beispielsweise ein Alkali- oder Ammoniumjodid eingesetzt werden kann.
Vorzugsweise verwendet man jedoch Bäder, die ein schwerlösliches Jodid, wie z. B. Kupfer-I-jodid, enthalten.
Dabei ist es empfehlenswert, den Bädern die schwerlöslichen Jodide in insgesamt einer Menge
zuzusetzen, die größer ist als diejenige, welche der Löslichkeit der betreffenden Jodide in den Bädern
entspricht, so daß ein Teil dieser Jodide in den Bädern als Festkörper vorliegt
Ferner enthalten die erfindungsgemäßen Bäder in bekannter Weise Salpetersäure und/oder deren Salze
mit einem Alkalihydroxid oder mit Ammoniumhydroxid oder mit einem aliphatischen Amin oder mit einem
Aminoalkohol oder Gemische aus diesen Salzen, vorzugsweise in Mengen von 15 bis 60 g/l, sowie
organische Säuren, wie Ameisen-, Essig-, Propion-, Oxal-, Malon-, Milch- oder Zitronensäure bzw. Gemische
dieser Säuren, deren Salze oder Gemische dieser Salze in Mengen von vorzugsweise 10 bis 40 g/l.
Es empfiehlt sich, einen pH-Wert von 6,5 bis 7,5 in den
Bädern einzustellen.
Die schwerlöslichen Jodide können — wie schon erwähnt — entweder in Form eines Bodenkörpers
vorliegen, oder aber durch Einhängevorrichtungen, z. B. Anodenbeutel, mit dem Elektrolyten ständig in Berührung
gebracht werden. Da der Zusatz der Halogenverbindungen für die elektrolytische Ablösung von
entscheidender Wichtigkeit ist und eine Überdosierung
mit Halogen zum Verwerfen des Bades führen muß, erhält man durch die Verwendung von schwerlöslichen
Jodiden, z.B, Kupfer-I-Jodid, ein Bad, das eine
analytische Kontrolle und Regelung seines Jodgehaltes überflüssig macht Die Gefahr der Überdosierung des
Jodes ist ausgeschlossen, da man durch Zusatz der schwerlöslichen Jodide ein sich selbstregulierendes
Entmetallisierungsbad erhält, das sich durch erheblich
vereinfachte Handhabung auszeichnet
Bäder, welche lösliche Jodide enthalten, zeichnen sich gegenüber entsprechenden Bädern, die Chlor- oder
Bromverbindungen enthalten, dadurch aus, daß in ihnen der von dem Stahl zu entfernende Metallüberzug mit
zumindest der gleichen Geschwindigkeit abgelöst wird, der Stahl selbst aber dabei wesentlich weniger
angegriffen wird.
Eine Gegenüberstellung der Wirkung von Bädern, die leichtlösliche Chlor- oder Bromverbindungen einerseits
10
15
und lösliche Jodide andererseits enthalten, verdeutlicht diese vorliegende Erfindung.
Der Grundelektrolyt hatte folgende Zusammensetzung:
80 g/l Triethanolamin
48 g/l HNO3 63 gewichtsprozentig und
20 g/l NH4-acetat
Der pH-Wert wurde mit ca. 10 gewichtsprozentiger
HNO3 genau auf 7,1 eingestellt Danach wurden dem Grundelektrolyt verschiedene Mengen an Halogenverbindungen
zugesetzt und jeweils der Grundmaterialangriti
nach 60 min Elektrolysezeit bei 5 A auf 0,5 dm2
Oberfläche eines Tiefziehbleches (DIN-Buzeichnung MRST 4 LG/GBK) gemessen.
(als NaCl) (als KBr) (als CuJ) (als KJ)
| 0,1 g/L | 7,1mg | 4,1 mg | 3,3 mg | 2,0 mg |
| l,0g/I | 420 mg | 41 mg | 5 mg | 6,9 mg |
| 5,0g/I | 2420 mg | 1723 mg | 210 mg | 801mg |
| 10,0g/l | 40i0mg | 2870 mg | 268 mg | 2455 mg |
Das Beispiel zeigt deutlich, daii durch Verwendung
von löslichen, insbesondere von schwerlöslichen, Jodiden der Grundmaterialangriff stark verringert wird. In
Bädern, die schwerlösliche Jodide als Festkörper enthalten, wird verbrauchtes Jodid durch das sich
einstellende Lösungsgleichgewicht aus dem Festkörper nachgeliefert, so daß sie die Jodidkonzentralien in
Bädern von selbst regelt.
Der Grundelektrolyt wurde wie im Beispiel 1 gewählt, außerdem wurden die gleichen Elektrolysebedingungen
eingehalten. Lediglich als Grundmaterial wurde rostfreier Stahl der Werkstoff-No. 1.4571 (DIN-Bezeichnung
X 10CrNiMoTi 1810)gewählt.
■ti
Abgelöste Stahlmcngc pro Stunde Elektrolysezeit bei Zusatz von
(als NaCI) (als KBr) (als CuJ)
0,1 g/l
5 g/l
lOg/l
lOg/l
7,3 mg
174 mg
272 mg
272 mg
8,4 mg
151mg
291mg
151mg
291mg
4,3 mg
34 mg
38 mg
38 mg
Auch aus diesem Beispiel ist ersichtlich, daß schwerlösliches CuJ den Angriff auf rostfreien Stahl
erheblich mindert.
Nickelschicht von 10 μπι überzogen. Dem Grundelek- Minuten beurteilt,
trolyten wurden wiederum verschiedene Mengen von
| 5 | Chlorid (als NaCI) |
23 63 352 | Jodid (als KJ) |
6 | Jodid (als CuJ) |
|
| Halogenmenge im Bad |
teilweise entfernt |
Bromid (als KBr) |
teilweise entfernt |
teilweise entfernt |
||
| 0,1 g/l | vollständig entfernt |
kein Abtrag sichtbar |
vollständig entfernt |
vollständig entfernt |
||
| I1Og/! | vollständig entfernt |
kein Abtrag sichtbar |
vollständig entfernt |
vollständig entfernt |
||
| 5,0 g/l | vollständig entfernt |
teilweise entfernt |
vollständig entfernt |
vollständig entfernt |
||
| 10,0 g/l | vollständig entfernt |
|||||
Claims (4)
1. Bad zum elektrolytischen Ablösen von Überzugsmetallen, nämlich Nickel, Chrom, Zink, Zinn,
Kupfer, Cadmium oder Silber, von Stahl, das in wäßriger Lösung Salpetersäure und/oder deren
Salze mit anorganischen und/oder organischen Basen, ferner organische Säuren und/oder deren
Salze sowie eine lösliche Halogenverbindung ent- ι ο hält, dadurch gekennzeichnet, daß das
Bad als Halogenverbindung ein Jodid enthält, welches als gelöstes Jodid in einer Menge von 0,05
bis 1,0 g/l, berechnet als Jod, vorliegt
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es das gelöste Jodid in einer Menge von 0,4 bis
0,6 g/l, berechnet als Jod, enthält
3. Bad nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es ein schwerlösliches
Jodid in einer Menge enthält, die größer ist als die, weiche der Löslichkeit dieses Jodids in dem Bad
entspricht, so daß ein Teil dieses schwerlöslichen Jodids in dem Bad als Festkörper vorliegt
4. Bad nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es als schwerlösliches Jodid Kupfer-I-jodid
enthält
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2363352A DE2363352C3 (de) | 1973-12-20 | 1973-12-20 | Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen |
| CH1648374A CH603833A5 (de) | 1973-12-20 | 1974-12-11 | |
| US533719A US3912603A (en) | 1973-12-20 | 1974-12-17 | Electrolytic bath for the removal of metals |
| SE7415930A SE7415930L (de) | 1973-12-20 | 1974-12-18 | |
| IT54626/74A IT1026066B (it) | 1973-12-20 | 1974-12-18 | Bagno per il distacco elettroliti co di metalli |
| GB5461474A GB1444699A (en) | 1973-12-20 | 1974-12-18 | Electrolytic bath for the removal of metals |
| NL7416696A NL7416696A (nl) | 1973-12-20 | 1974-12-20 | Bad voor het elektrolytisch losmaken van metalen. |
| FR7442318A FR2255397B1 (de) | 1973-12-20 | 1974-12-20 | |
| BE151780A BE823676A (fr) | 1973-12-20 | 1974-12-20 | Bain electrolytique destine a l'elimination de metaux |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2363352A DE2363352C3 (de) | 1973-12-20 | 1973-12-20 | Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2363352A1 DE2363352A1 (de) | 1975-10-02 |
| DE2363352B2 DE2363352B2 (de) | 1980-04-17 |
| DE2363352C3 true DE2363352C3 (de) | 1980-12-11 |
Family
ID=5901294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2363352A Expired DE2363352C3 (de) | 1973-12-20 | 1973-12-20 | Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3912603A (de) |
| BE (1) | BE823676A (de) |
| CH (1) | CH603833A5 (de) |
| DE (1) | DE2363352C3 (de) |
| FR (1) | FR2255397B1 (de) |
| GB (1) | GB1444699A (de) |
| IT (1) | IT1026066B (de) |
| NL (1) | NL7416696A (de) |
| SE (1) | SE7415930L (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004053135A1 (de) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Siemens Ag | Verfahren zum Abtragen einer Beschichtung von einem Bauteil |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4090935A (en) * | 1977-07-12 | 1978-05-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Process for recovering silver, copper and stainless steel from silver brazed stainless steel sections |
| US4264419A (en) * | 1979-10-09 | 1981-04-28 | Olin Corporation | Electrochemical detinning of copper base alloys |
| US4264420A (en) * | 1979-10-29 | 1981-04-28 | Oxy Metal Industries Corporation | Electrolytic stripping bath and process |
| US4233124A (en) * | 1979-10-29 | 1980-11-11 | Oxy Metal Industries Corporation | Electrolytic stripping bath and process |
| US4400248A (en) * | 1982-03-08 | 1983-08-23 | Occidental Chemical Corporation | Electrolytic stripping process |
| US4404074A (en) * | 1982-05-27 | 1983-09-13 | Occidental Chemical Corporation | Electrolytic stripping bath and process |
| US4664763A (en) * | 1985-05-08 | 1987-05-12 | M&T Chemicals Inc. | Process for stripping nickel or nickel-alloy plating in a chromic acid solution |
| BE1001539A3 (nl) * | 1988-03-17 | 1989-11-21 | Bekaert Sa Nv | Metaalvezels verkregen door gebundeld trekken. |
| USRE34227E (en) * | 1989-11-27 | 1993-04-20 | Motorola, Inc. | Non-cyanide electrode cleaning process |
| US4968397A (en) * | 1989-11-27 | 1990-11-06 | Asher Reginald K | Non-cyanide electrode cleaning process |
| RU2104339C1 (ru) * | 1994-08-05 | 1998-02-10 | Научно-производственное предприятие "Завод им.В.Я.Климова" | Раствор из электрохимического удаления медного покрытия |
| WO2011044340A1 (en) * | 2009-10-08 | 2011-04-14 | First Solar, Inc. | Electrochemical method and apparatus for removing coating from a substrate |
| JP6142408B2 (ja) * | 2015-03-13 | 2017-06-07 | 奥野製薬工業株式会社 | 治具用電解剥離剤 |
| CN106367803A (zh) * | 2016-09-05 | 2017-02-01 | 上海瑞尔实业有限公司 | 一种塑料电镀挂具铜镍铬镀层剥离方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2371529A (en) * | 1941-09-20 | 1945-03-13 | Dow Chemical Co | Removal of electrodeposited metals |
| US2581490A (en) * | 1947-03-11 | 1952-01-08 | Gen Motors Corp | Electrolytic process of stripping metallic coatings from a ferrous metal base |
| US3151049A (en) * | 1958-09-29 | 1964-09-29 | Union Carbide Corp | Electrolytic method of and bath for stripping coatings from bases |
| US3819494A (en) * | 1973-03-29 | 1974-06-25 | Fountain Plating Co Inc | Method of removing braze |
-
1973
- 1973-12-20 DE DE2363352A patent/DE2363352C3/de not_active Expired
-
1974
- 1974-12-11 CH CH1648374A patent/CH603833A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-12-17 US US533719A patent/US3912603A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-12-18 IT IT54626/74A patent/IT1026066B/it active
- 1974-12-18 GB GB5461474A patent/GB1444699A/en not_active Expired
- 1974-12-18 SE SE7415930A patent/SE7415930L/xx unknown
- 1974-12-20 BE BE151780A patent/BE823676A/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-12-20 FR FR7442318A patent/FR2255397B1/fr not_active Expired
- 1974-12-20 NL NL7416696A patent/NL7416696A/xx not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004053135A1 (de) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Siemens Ag | Verfahren zum Abtragen einer Beschichtung von einem Bauteil |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2363352B2 (de) | 1980-04-17 |
| NL7416696A (nl) | 1975-06-24 |
| FR2255397A1 (de) | 1975-07-18 |
| FR2255397B1 (de) | 1980-11-07 |
| US3912603A (en) | 1975-10-14 |
| GB1444699A (en) | 1976-08-04 |
| CH603833A5 (de) | 1978-08-31 |
| BE823676A (fr) | 1975-06-20 |
| IT1026066B (it) | 1978-09-20 |
| SE7415930L (de) | 1975-06-23 |
| DE2363352A1 (de) | 1975-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2363352C3 (de) | Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen | |
| DE3043571A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur durchfuehrung eines elektrolytischen prozesses | |
| DE1908625A1 (de) | Bad zum elektrolytischen Abloesen von Metallueberzuegen von Grundkoerpern aus rostfreien Staehlen und gehaerteten und nitrierten Staehlen | |
| DE3318598A1 (de) | Bad und verfahren fuer die elektrolytische entfernung von ueberzuegen aus kupfer, kupferlegierung oder chrom von einem eisenhaltigen grundmetall | |
| DE2430501A1 (de) | Beizverfahren fuer metallische gegenstaende | |
| DE3033961C2 (de) | Wäßriges Bad zum anodischen Entfernen von Metallüberzügen von einem davon verschiedenen Grundmetall sowie ein Verfahren zum anodischen Entfernen von Metallüberzügen unter Verwendung dieses Bades | |
| DE587807C (de) | Verfahren zum elektrolytischen Niederschlagen von Palladium | |
| DE2208327A1 (de) | Verfahren zur galvanischen Metallplattierung | |
| DE3307834A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen entfernung von ueberzuegen aus nickel oder nickel-eisen-legierungen von grundmetallen aus kupfer oder kupferlegierungen | |
| DE2539618C3 (de) | ||
| DE2527151C2 (de) | Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen | |
| DE2527152C2 (de) | Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen | |
| DE2414650C3 (de) | Stromlos arbeitendes wässriges Verkupferungsbad | |
| AT393513B (de) | Verfahren zur einseitigen elektrolytischen beschichtung flaechiger werkstuecke aus stahl | |
| DE2600699C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von chromatisierten, galvanisch verzinkten Stahlblechen | |
| DE2117802A1 (de) | Vorrichtung zur kontinuierlichen Elektroplattierung von Drahten und Streifen | |
| DE2251442C3 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Entgiftung von Cyanid | |
| DE562561C (de) | Verfahren zur Behandlung von Gegenstaenden, die mit einer Rostschutzschicht ueberzogen werden sollen | |
| DE1194674B (de) | Verfahren zum Regenerieren von Chromatierungsloesungen | |
| DE1032636B (de) | Ergaenzungsloesung zur Verringerung der Zunahme der Alkalitaet in cyanidischen Baedern zur galvanischen Abscheidung von Goldlegierungen | |
| DE3413905A1 (de) | Verfahren zur ueberwachung fluoridhaltiger baeder zur oberflaechenbehandlung von metallen | |
| DE283548C (de) | ||
| DE2442016C3 (de) | Wässrige Lösung für die Aktivierung von Oberflächen vor der stromlosen Metallabscheidung | |
| DE117054C (de) | ||
| DE2146828B2 (de) | Bad zum elektrolytischen abloesen von metallen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| AG | Has addition no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2527152 Format of ref document f/p: P |
|
| AG | Has addition no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2527151 Format of ref document f/p: P |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |