DE2354141A1 - Verfahren zum untersuchen einer oberflaeche und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens - Google Patents
Verfahren zum untersuchen einer oberflaeche und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrensInfo
- Publication number
- DE2354141A1 DE2354141A1 DE19732354141 DE2354141A DE2354141A1 DE 2354141 A1 DE2354141 A1 DE 2354141A1 DE 19732354141 DE19732354141 DE 19732354141 DE 2354141 A DE2354141 A DE 2354141A DE 2354141 A1 DE2354141 A1 DE 2354141A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- image
- imaging element
- beam path
- diaphragm
- imaging
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/50—Optics for phase object visualisation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
Aktenzeichen der Anmelderin: SA 972 018
Verfahren zum untersuchen einer Oberfläche und Vorrichtung
zur Durchführung dieses Verfahrens
Auf vielen Gebieten der Technik, beispielsweise bei der Herstellung
von integrierten Schaltungen, ist es erforderlich, die Oberflächen
großer Zahlen von Körpern, beispielsweise von Halbleiterplättchen,
auf das Vorliegen von Unebenheiten oder Verwerfungen
bis herunter zu Größenordnungen von 10 bis 20 pm zu untersuchen.
Wegen der großen Anzahl der in der Zeiteinheit zu untersuchenden Flächen und wegen der hohen Anforderung an die Genauigkeit, sind
Fühlhebelverfahren, Moireeverfahren und interferrometrische Verfahren
zur Lösung dieser Aufgabe nicht geeignet. Das gleiche gilt
wegen des hohen erforderlichen Zeitaufwandes und der Schwierigkeit
einer quantitativen Abwertung auch für mikroskopische Hellfeld-,
Dunkelfeld- und Phasenkontrastverfahren.
Die Erfindung geht von der Aufgabenstellung aus, ein Verfahren
und eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens anzugeben,
die bei einfachem Aufbau die Möglichkeit bietet, große Anzahlen
von Flächen mit großer Genauigkeit und nicht nur qualitativen,
sondern auch quantitativen Auswertergebnissen zu untersuchen.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung durch ein Verfahren zum
409819/0360
"^ Ca mm
untersuchen einer Oberfläche gelöst, das dadurch gekennzeichnet
ist, daß die zu untersuchende Oberfläche mit einer eine bestimmte
Winkelverteilung der Richtungen ihrer Strahlen aufweisenden
Strahlung beleuchtet, die von der Oberfläche ausgehende Strahlung einem abbildenden Element zugeführt und ein Teil des Abbildungsstrahlengangs
ausgeblendet wird, derart, daß in der Bildebene eine Helligkeitsverteilung auftritt, die eine Funktion der Beschaffenheit
der untersuchten Oberfläche und der Winkelverteilung der beleuchtenden Strahlung ist.
Weitere Merkmale der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Figuren näher erläutert.
Es zeigen;
Fig. 1, 2 verschiedene Ausführungsbeispiele der Er- und 3 findung,
Fig. 4 eine schematische Darstellung des Strahlenverlaufes von der zu untersuchenden Oberfläche
zur Brennebene der abbildenden Linse,
Fign. 5a-c 'schematische Darstellungen der Lichtintensität
als Funktion der Lage der Blende in der Brenn-.
ebene der abbildenden Linse,
Fign. 6, 7 _ ... nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte
Abbildungen der Oberflächen von gedrehtem Aluminium und polierten Kunststoff in 10-facher Ver-,
größerung. \ _ -..·-.■ ?
Die in den Fign. 1, 2 und. 3 dargestellten Ausführungsbeispiele !;
der Erfindung funktionieren aufgrund des gleichen Prinzips,., unterscheiden
sich aber bezüglich ihres... Aufbaues. Die, in Fig.. 1. dargestellte
Vorrichtung besteht aus einer, punktformigen Lichtquelle^,IP,
409819/0360 ·,-λ
SA 972 018 SiH -^p Ar:
einer Lochblende 1-3, einem halbdurchlässigen Spiegel 12, einer
sowohl als Kollimator als auch als abbildendes Element wirkenden Linse 14 und einer im bildseitigen Brennpunkt dieser Linse angeordneten
Blende 18. Für den Fall,! daß die Lichtquelle 10 in guter
Annäherung eine punktförmige Lichtquelle ist, kann auf die Lochblende
13 verzichtet werden. Die von der Lichtquelle 10 ausgehenden
Strahlen 11 werden am halbdurchlässigen Spiegel 12 in Richtung
auf die als Kollimator wirkende Linse 14 abgelenkt. Der
Winkelbereich der diese Linse verlassenden Strahlen wird durch
die Gleichung tang δ = d/f, definiert wobei d = der Durchmesser
der Lochblende und f = die Brennweite der als Kollimator wirkenden
Linse 14 ist* Die Blende 13 liegt, wie aus Fig. 1 ersichtlich,
in der Brennebene dieser Linse.
Die von der Linse 14 ausgehenden kollimierten Strahlen fallen auf die zu untersuchende Oberfläche 15 des Objektes 16. Das reflektierte
Licht gelangt erneut zur Linse 14, die die Oberfläche 15 in ihrer Bildebene 17 abbildet. Die Lage der Bildebene 17 wird
durch die bekannte Beziehung
T = ü + E, definiert
wobei a der Abstand der Linse 14 von der Oberfläche 15 und b der
Abstand dieser Linse von der Bildebene ist. ■
In der anderen Brennebene der Linse 14 ist eine zweite Blende 18
angeordnet, deren Wirkungsweise später im Zusammenhang mit der
Beschreibung der Fig. 4 erläutert wird. Bei der in Fig. 1 dargestellten
Vorrichtung dient die Linse 14 sowohl als Kollimator, als
auch als abbildendes Element. Bei der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung
ist ebenfalls eine punktförmige Lichtquelle 10 und eine
Lochblende 13 zur Beleuchtung der zu untersuchenden Fläche vorgesehen. Die Lochblende 13 kann, wie im Zusammenhang mit der Beschreibung
der Fig. 1 erläutert, unter bestimmten Umständen, weggelassen
werden. Das von der Lichtquelle 10 und der Lochblende
ausgehende Licht gelangt zu einer als Kollimator wirkenden Linse
409819/0360
SA 972 018 - -'■■·. '■ ' ·*
-A-
20, von wo es über einen Spiegel 21 und einen halbdurchlässigen
Spiegel 22 zu einer zu untersuchenden Oberfläche 15 eines Objektes 16 gelangt. Das an dieser Oberfläche reflektierte Licht durchsetzt
den halbdurchlässigen Spiegel 22 und wird mit Hilfe einer als abbildendes
Element wirkenden Linse 23 in einer Bildebene 24 fokusiert.
In der Brennebene der Linse 23 ist eine Blende 18 vorgesehen. Durch die Verwendung von zwei Linsen können die einzelnen
an der Abbildung der Oberfläche 15 in der Bildebene 24 beteiligten
Parameter, beispielsweise die Winkelverteilung des beleuchtenden Lichtes und die Lage der Bildebene freier gewählt werden. Auf
diese Weise besteht auch für die Wahl der Vergrößerung der Abbildung mehr Freizügigkeit.
Bei der in Fig. 3 dargestellten Anordnung ist, wie im vorhergehenden
Ausführungsbeispiel, eine Lichtquelle 10, eine Lochblende 13, eine Kollimatorlinse 20, ein Strahlenteiler 22 und eine
Blende 18 vorgesehen. Zusätzlich weist diese Vorrichtung einen zweiten Strahlenteiler 25, einen Detektor 26, einen Analysator
und eine auf die Bildebene 24 eingestellte Fernsehkammer 28 auf.
Darüberhinaus kann ein Fernsehempfänger 29 vorgesehen werden, durch den die gleichzeitige Beobachtung der zu untersuchenden
Oberfläche und der elektronischen Analysiersignale möglich ist.
Es ist bekannt, daß bei einer im Brennpunkt einer Kollimatorlinse angeordneten punktförmigen Lichtquelle das die Linse verlassende
Licht eine Winkelverteilung hat, die durch die Beziehung
δ = arctang d/f ist, wobei d der Durchmesser der öffnung der Lochblende
und f die Brennweite der Kollimatorlinse ist.
Wird dieses Licht auf ein Objekt gerichtet, so fällt auf jeden
Objektpunkt Licht mit einer Winkelverteilung = 6. Jeder Objektpunkt
wird dann Licht in Abhängigkeit von der Neigung des betreffenden Flächenbereiches in Übereinstimmung mit dem Reflexionsgesetzen
zurückwerfen. Das vom Objekt kommende Licht wird, wie beispielsweise in Fig. 4 dargestellt durch eine Linse
in der Brennebene fokusiert. Von dort gelangt das Licht zur Bild-
sA 972 0X8 409819/0360
ebene in der in bekannter Weise eine Abbildung entsteht, die in
geeigneter Weise beobachtet werden kann. Bei dem in Fig. 5a
als Funktion der Winke!verteilung dargestellten Intensifcätsverlauf
ist ersichtlich, daß bei Abwesenheit einer Blende alle vom
Objekt kommenden Strahlen zur Bildebene gelangen. Ihre Winkelverteilung
liegt theoretisch zwischen -β und +ß, wobei der Nullpunkt willkürlich mit der optischen Achse der Linse zusammenfällt,
Die Krümmung der.Kurve im Bereich der Ecken weist auf das Vorliegen
von in optischen Systemen unvermeidbare Streuungs- und
Randeffekten hin. Wie aus der Figur fcu ersehen, ist die Intensität
über das gesamte Feld einheitlich. In Fig. 5b werden die Verhältnisse wiedergegeben, wenn eine schneidenförmige Blende
50 % des Lichtes ausblendet. Da jeder Bereich der zu untersuchenden
Oberfläche Licht als Funktion seiner eigenen Abweichung von
der Objektebene und als Funktion der Winke!verteilung des beleuchtenden
Strahls reflektiert, wird Licht auch in den hinter
der Blende liegenden Bereich der Bildebene gelangen. Daher
wird die Intensität des Lichtes von links nach rechts zunächst
gleichmäßig verlaufen, um dann im Bereich zwischen -3 und +ß
aufgrund von Streulicht und Rauscheffekten abzufallen und auf
einen bestimmten Punkt auszulaufen* Zwischen β Minimum und
β Maximum liegt jedoch ein Bereich vor, der tatsächlich die Neigung der Oberfläche des Objektes wiedergibt, unter Neigung
wird die erste Ableitung der Oberflache verstanden.
Die Empfindlichkeit des Systems hängt von der Winkelverteilung
des einfallenden Lichtes ab. Wird beispielsweise die Winkelverteilung verkleinert; so wird die in Fig. 5b dargestellte Kurve
steiler. Ist die Winkelverteilung gleich Null, so wird die in
Fig. 5c dargestellte Kurve entstehen, die in ihrem abfallenden
Bereich praktisch senkrecht verläuft» In den Fig. 6 und 7 werden
gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellte Kontrastbilder
wiedergegeben.
Die.Bezeichnungen β Minimum und β Maximum haben eine bestimmte
Bedeutung, wobei (ß Maximum - β Minimum) den Bereich der
4098T9/Q36Q
SA 972 018
Winkelverteilung der Neigungen d.h. der Abweichungen der Oberfläche
von einer vollkommenen Ebene darstellt. Der Mittelpunkt fällt bei der vorliegenden Darstellung der einfachheit halber mit
der optischen Achse zusammen, da die Blende 50 % des Lichtes unterdrückt was bedeutet, daß sie bis zur optischen Achse reicht.
Dieser Mittelpunkt stellt die Änderung der Neigung in einem bestimmten Punkt der Fläche dar. Daher wird in dieser Darstellung,
bei der der Mittelpunkt bei einem 50 % Kontrastniveau liegt, jeder Punkt der Abbildung, der einen 5O % Kontrast in bezug auf den
Hintergrund aufweist einen Punkt darstellen, indem die Intensität sich ändert, d.h. eine Änderung der Neigung in der Objektebene
vorliegt. Da eine kontinuierliche Grauskala von einer Intensität von angenähert Null bis zu 100 % für einzelne 100 % spiegelnde
Bereiche der Objektoberfläche vorliegt, ist es möglich» durch Vergleich
der Intensität gemäß der Kurve mit der gemessenen Intensität die Änderung der Neigung an jedem beliebigen Punkt der Objektoberfläche
zu bestimmen. Auf diese Weise kann nicht nur die Neigung sondern auch die Richtung der Änderung in Abhängigkeit von
der Intensität bestimmt werden. Die tatsächliche Neigung der Oberfläche an einem bestimmten Punkt.wird durch die Intensität in
diesem Punkt dargestellt.
Bei der Eichung der Vorrichtung zur Erzeugung einer Vergleichskurve, wie sie beispielsweise in Fig. Sb dargestellt ist, wird
eine "vollkommene" Spiegelfläche als Objektoberfläche verwendet.
Im Zusammenhang mit einer bestimmten Winke !verteilung des einfallenden
Lichtstrahls wird eine der Fig. 5b entsprechende Kurve erzeugt. Diese ist dann die Bezugskurve für die Winkelverteilung <S
des einfallenden Lichtes, Es ist ohne weiteres einleuchtend, daß durch die Änderung von δ die Empfindlichkeit der Vorrichtung beeinflußt
wird. Durch Kippen des Spiegels wird β Maximum und
£ Minimum für den betreffenden Wert von δ bestimmt. Es soll angestrebt werden, daß <ß Maximum - 3 Minimum) größer ist als der
Bereich, der bei der untersuchung einer bestimmten Oberfläche zu
erwartenden Oberflächenabweichungen. Auf diese Weise wird sichergestellt,
daß alle Abweichungen der Oberfläche durch die Nei-
409819/0360
SA 972 018 * ..--.-
_7-._ ; " ■. 2354U1
gung der Kurve im Bereich zwischen 3 Maximum und β Minimum untersucht
werden können. . -
Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel wird eine-Blende mit
einer öffnung von 2 - 3 ran bei Linsenbrennweiten von 240 - 760 mm
verwendet.
Wird die Blende nicht im Bereich der optischen Achse der abbildenden
Linse angeordnet, so wird der Punkt verschoben, in dem die
in Fig. 5b dargestellte Kurve nach links oder nach rechts abfällt,
je nachdem wie weit die Blende im System verschoben wurde. Selbstverständlich kann die Blende nicht so angeordnet werden, daß
das gesamte Licht unterdrückt wird. Es hat sich gezeigt, daß eine
Anordnung der Blende in der Brennebene im Bereich der optischen Achse, d.h. in einem Punkt in dem 50 % der Strahlung unterdrückt
werden, am vorteilhaftesten ist. 2ur Erzeugung eines Kontrastbildes
genügt es jedoch im allgemeinen, die Blende in den Strahlengang überhaupt einzuführen, so daß mindestens ein Teil derselben
innerhalb des Strahlenganges liegt, um wenigstens einen Teil des
an der zu untersuchenden Oberfläche reflektierten, eine bestimmte Winkelverteilung aufweisenden Lichtes zu unterdrücken, und um eine
Kontrastabbildundung zu erzeugen, die einen Kontrast zwischen zwei
in der Bildebene liegenden Bereichen von mindestens 2 % aufweist.
Eine derartige Abbildung kann mit bloßem Auge aber auch mit
elektronischen Hilfsmitteln, wie beispielsweise in Fig. 3 dargestellt, aufgelöst werden.
In Fig. 6 wird die Abbildung einer gemäß der vorliegenden Erfindung
erzeugten gedrehten Aluminiurafläche mit zehnfacher Vergrößerung wiedergegeben, wobei der Winkelbereich der beleuchtenden
Strahlung δ = ^ .0125 (d - 3 mm und f = 240 mm) und wobei die
größten und kleinsten Winkel der Oberfläche β Maximum und β Minimum
<20·' sind. Fig. 4 stellt die Abbildung einer polierten Kunststoff
fläche bei zehnfacher Vergrößerung und den gleichen Randbedingungen
wie bei Fig. 6 beschrieben dar.
Λ 0 9819/0360
SA 9 72 Ο18
Das erfindungsgemäße Verfahren kann beispielsweise mit Hilfe eines
geringfügig umgebauten handelsüblichen Mikroskops durchgeführt werden. Dazu kann es schon genügen, vor dem Mikroskopobjektiv
einen Strahlenteiler anzuordnen, über den dem System eine beleuchtende
Strahlung mit einer Winkelverteilung δ zugeführt wird. Es ist einfach, die Brennebene des Objektivs festzustellen und dort
eine Blende einzuführen, so daß das gewünschte Kontrastbild in der Bildebene entsteht. Es können auch andere Blenden mit
kreisförmigen oder halbkreisförmigen öffnungen und Schlitzen verwendet werden. Bei Verwendung derartiger Blenden muß das
ganze System anders eingestellt werden. Sind die beiden Blenden nicht symmetrisch zur optischen Achse angeordnet, so wird die
Form der in Fig. 5b dargestellten Kurven auch von den Richtungen der Blendenguerschnitte abhängig sein.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann, wie oben beschrieben, sowohl
mit Hilfe einer einzigen Linse als auch mit mehreren Linsen durchgeführt werden. Die Beobachtung kann entweder mit dem
Auge oder mit Hilfe von Fernsehkameras und anderen elektrooptischen Hilfsmitteln durchgeführt werden. Neben der Beobachtung
kann auch gleichzeitig eine Analyse der Abbildungen durchgeführt werden. Es hat sich gezeigt, daß sowohl der Beleuchtungsstrahlengang
als auch der Abbildungsstrahlengang senkrecht zur Objektebene bzw. zur Bildebene liegen soll. Auch andere Auftreffwinkel
sind möglich, jedoch werden dann komplizierte Umjustierun
gen erforderlich.
SA 972 018 4098!9/036O
Claims (14)
- ü'jVerfahren zumUntersuchen einer Oberfläche, dadurch gekennzeichnet, daß die zu untersuchende Oberfläche mit einer eine bestimmte Winkelverteilung der Richtungen ihrer Strahlen aufweisenden Strahlung (11) beleuchtet, die von der Oberfläche (15) ausgehende Strahlung einem abbildenden Element (14, 23) zugeführt und ein Teil des Abbildungsstrahlenganges ausgeblendet wird/ derart, daß in einer Bildebene (17) eine Helligkeits^rteilung auftritt, die eine Funktion der Besehaffenhei-t?" der ürrcers^ehten Oberfläche und der Wirikelverteilung der beleuchtenden Strahlung ist.
- 2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, gekennzeichnet düreh eine in der Brennebene eines Kollimators (14, 20) angeordnete angenähert punktförmige Licht^ quelle (10), deren Größe die Winkelverteiluhg der den Kollimator verlassenden und auf die zu untersuchende Oberfläche (15) fällenden Strahlung bestimmt, durch ein die von der beleuchteten Oberfläche ausgehende Strahlung aufnehmendes abbildendes Element (14, 23) und durch eine im bildseitigen Strahlengang dieses Elements angeordnete Blende (18).
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die im bildseitigen Strahlengang des abbildenden Elements (14, 23) angeordnete Blende (18) eine schneidenförmige Blende ist.
- 4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die im bildseitigen Strahlengang des abbildenden Elements (14, 23) angeordnete Blende (16) eine kurvenförmige Begrenzung oder eine Öffnung in Form eines Vielecks, eines Kreises, einer Ellipse oder dergleichen, aufweist.
- 5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekehnzeichnet, daß die im bildseitigen Strahien-- 4098 19/0380SÄ 972 018 , ■ .gang angeordnete Blende (18) in der Brennebene des abbildenden Elements (14, 23) liegt.
- 6. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Begrenzung der im bild—seitigen Strahlengang des abbildenden Elements (14, 23) angeordneten Blende (18) die optische Achse schneidet.
- 7. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Lichtquelle eine in der Brennebene einer Kollimatorlinse (14, 20) angeordnete, durch eine Lichtquelle (10} beleuchtete Lochblende (13) vorgesehen ist, deren Durchmesser die Winkelverteilung der den Kollimator (14, 20) verlassenden Strahlung bestimmt.
- 8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis7, dadurch gekennzeichnet, daß die im bildseitigen Strahlengang angeordnete Blende (18) zur Bestimmung einer Winkelvertei lung von ßMaxiltlum - ^mnimmi vorgesehen ist, wobei Zmnixmm = arctang dMaximuin/f und ßMinimum = arctang d^. . ,f ist' mit f.- = Brennweite des abbildenden Elements, cL· . = Abstand des Blendenrandes von der optischen Achse des abbildenden Elements, bei dem in der Bildebene eine Abbildung mit 5O % der maximalen Intensität entsteht und d^. . = Abstand des Blendenrandes von der optischen Achse um 180° gegenüber d Maximum vers®tzt' bei dem unabhängig von d^ χ. eine Abbildung mit 5O % der maximalen intensität entsteht, derart, daß die entstehende Kontrastabbildung eine quantitativ messbare Oberflächenkontur zwischen ßMaximum und ß.MinimuiR darstellt.
- 9. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche. 1 bis8, dadurch gekennzeichnet, daß der Kollimator (14) gleichzeitig als abbildendes Element dient.409-819/0360SA 972 018
- 10. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche Ϊ bis 9,, gekennzeichnet durch in der Bildebene angeordnete elektronische Auswerteinrichtungen.
- 11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die elektronische Auswerteinrichtung aus einer Fernsehkamera besteht.
- 12. Vorrichtung nach Anspruch 10, und/oder 11, gekennzeichnet durch einen im Bereich der Bildebene des abbildenden Elementes zusätzlich angeordneten Photodetektor.
- 13. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Element (23) in der Bildebene eines sammelnden Elements angeordnet ist, das das vom Objekt ausgehende Licht nahezu vollständig aufnimmt und durch eine in der Brennebene des sammelnden Elements angeordnete Blende,
- 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die im bildseitigen Strahlengang angeordnete Blende (18) zur Bestimmung einer Winkelverteilung von ßM . —■ '■ ' ^Minimum vorgesehen ist, wobei ßMaximuin = arctang <Wmum/f _/2 und ßMinimum = arctang <^nimu^f . ist, mit f- = Brennweite des abbildenden Elements, 'd.._„.mm = Abstand des Blendenrandes von der optischen MaximumAchse des abbildenden Elements, bei dem in der Bildebene eine Abbildung mit 50 % der maximalen Intensität entsteht^Minimum = ^°s tan^ ^es Blendenrandes von der optischen Achse um 180 gegenüber dM ^. versetzt, bei dem unabhängig von ä Maximum eine Abbildung mit 50 % der maximalen Intensität entsteht, derart, daß die entstehende Kontrastabbildung eine quantitative messbare Oberflächenkontur zwischen ßMa^mim und.ßMinimum darstellt. .4098 19/0360SA 972 018
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US00302337A US3815998A (en) | 1972-10-30 | 1972-10-30 | Surface contrast system and method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2354141A1 true DE2354141A1 (de) | 1974-05-09 |
| DE2354141C2 DE2354141C2 (de) | 1987-04-23 |
Family
ID=23167334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2354141A Expired DE2354141C2 (de) | 1972-10-30 | 1973-10-29 | Optisches Meßverfahren zum Untersuchen von Oberflächen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3815998A (de) |
| JP (1) | JPS5728885B2 (de) |
| CA (1) | CA991844A (de) |
| DE (1) | DE2354141C2 (de) |
| FR (1) | FR2217670B1 (de) |
| GB (1) | GB1449246A (de) |
| IT (1) | IT1001555B (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4215939A (en) * | 1977-12-22 | 1980-08-05 | Owens-Illinois, Inc. | Glue drop detector |
| DE102005061834A1 (de) * | 2005-12-23 | 2007-08-09 | Ioss Intelligente Optische Sensoren & Systeme Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum optischen Prüfen einer Oberfläche |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1492114A (en) * | 1975-01-31 | 1977-11-16 | Coal Ind | Measurement of flow of particulate material |
| US4339745A (en) * | 1980-05-14 | 1982-07-13 | General Electric Company | Optical character recognition |
| US4390277A (en) * | 1980-07-31 | 1983-06-28 | Mcdonnell Douglas Corporation | Flat sheet scatterometer |
| US4428670A (en) | 1980-08-11 | 1984-01-31 | Siemens Corporation | Fingerprint sensing device for deriving an electric signal |
| US4340300A (en) * | 1980-08-11 | 1982-07-20 | Siemens Corporation | Input sensor unit for a fingerprint identification system |
| JPS6313446Y2 (de) * | 1981-02-17 | 1988-04-16 | ||
| US4547073A (en) * | 1981-02-17 | 1985-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Surface examining apparatus and method |
| US4854708A (en) * | 1987-01-13 | 1989-08-08 | Rotlex Optics Ltd. | Optical examination apparatus particularly useful as a Fizeau interferometer and schlieren device |
| US5075562A (en) * | 1990-09-20 | 1991-12-24 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for absolute Moire distance measurements using a grating printed on or attached to a surface |
| US5075560A (en) * | 1990-09-20 | 1991-12-24 | Eastman Kodak Company | Moire distance measurements using a grating printed on or attached to a surface |
| JPH06317532A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-15 | Kazumi Haga | 検査装置 |
| JP3385442B2 (ja) * | 1994-05-31 | 2003-03-10 | 株式会社ニュークリエイション | 検査用光学系および検査装置 |
| JP3404134B2 (ja) * | 1994-06-21 | 2003-05-06 | 株式会社ニュークリエイション | 検査装置 |
| US5523846A (en) * | 1994-11-21 | 1996-06-04 | New Creation Co., Ltd. | Apparatus for detecting marks formed on a sample surface |
| US5737074A (en) * | 1995-12-05 | 1998-04-07 | New Creation Co., Ltd. | Surface inspection method and apparatus |
| US5686987A (en) * | 1995-12-29 | 1997-11-11 | Orfield Associates, Inc. | Methods for assessing visual tasks to establish desirable lighting and viewing conditions for performance of tasks; apparatus; and, applications |
| JP4105256B2 (ja) * | 1997-07-29 | 2008-06-25 | 株式会社ナノシステムソリューションズ | 光照射装置及び表面検査装置 |
| US7095763B2 (en) * | 2001-12-17 | 2006-08-22 | Cyberoptics Semiconductor, Inc. | Semiconductor wafer carrier mapping sensor |
| DE102006054148B4 (de) * | 2006-11-16 | 2009-07-09 | Ioss Intelligente Optische Sensoren & Systeme Gmbh | Vorrichtung zum optischen Erfassen von Störungen an Körpern aus transparentem Material mit wenigstens einer ebenen Grenzfläche optischer Güte |
| KR101114362B1 (ko) * | 2009-03-09 | 2012-02-14 | 주식회사 쓰리비 시스템 | 결점검사를 위한 검사장치 |
| US10509931B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-12-17 | Hand Held Products, Inc. | Methods, systems, and apparatuses for scanning and decoding direct part marking indicia |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1298306B (de) * | 1959-11-02 | 1969-06-26 | Ppg Industries Inc | Verfahren und Vorrichtung zum Feststellen von Fehlern in Flach- oder Tafelglas |
| DE2100304A1 (de) * | 1970-01-06 | 1971-07-15 | Commissariat Energie Atomique | Verfahren und Vorrichtung zum zer störungsfreien Messen von Oberflachen zuständen |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2604809A (en) * | 1948-06-01 | 1952-07-29 | Mitchell Reginald Fawn | Optical means for evaluating surface finish by measurement of differential light scattering in a schlieren type optical system |
| FR1504402A (fr) * | 1963-06-05 | 1967-12-08 | Onera (Off Nat Aerospatiale) | Perfectionnements à la strioscopie |
| FR1543704A (fr) * | 1966-11-10 | 1968-10-25 | Leitz Ernst Gmbh | Procédé optique de détermination des défauts géométriques d'une surface de forme imposée, et dispositif pour la mise en oeuvre de ce procédé |
-
1972
- 1972-10-30 US US00302337A patent/US3815998A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-08-22 FR FR7330997A patent/FR2217670B1/fr not_active Expired
- 1973-09-21 JP JP10606573A patent/JPS5728885B2/ja not_active Expired
- 1973-09-25 IT IT29346/73A patent/IT1001555B/it active
- 1973-10-10 GB GB4719873A patent/GB1449246A/en not_active Expired
- 1973-10-26 CA CA184,361A patent/CA991844A/en not_active Expired
- 1973-10-29 DE DE2354141A patent/DE2354141C2/de not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1298306B (de) * | 1959-11-02 | 1969-06-26 | Ppg Industries Inc | Verfahren und Vorrichtung zum Feststellen von Fehlern in Flach- oder Tafelglas |
| DE2100304A1 (de) * | 1970-01-06 | 1971-07-15 | Commissariat Energie Atomique | Verfahren und Vorrichtung zum zer störungsfreien Messen von Oberflachen zuständen |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| DE-Buch ABC der Optik, Hanau 1961, S. 770-773 * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4215939A (en) * | 1977-12-22 | 1980-08-05 | Owens-Illinois, Inc. | Glue drop detector |
| DE102005061834A1 (de) * | 2005-12-23 | 2007-08-09 | Ioss Intelligente Optische Sensoren & Systeme Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum optischen Prüfen einer Oberfläche |
| DE102005061834B4 (de) * | 2005-12-23 | 2007-11-08 | Ioss Intelligente Optische Sensoren & Systeme Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum optischen Prüfen einer Oberfläche |
| US7577353B2 (en) | 2005-12-23 | 2009-08-18 | Intelligente Optische Sensoren Und Systeme Gmbh | Device and method for optically inspecting a surface |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3815998A (en) | 1974-06-11 |
| JPS5728885B2 (de) | 1982-06-19 |
| IT1001555B (it) | 1976-04-30 |
| DE2354141C2 (de) | 1987-04-23 |
| JPS5053060A (de) | 1975-05-10 |
| FR2217670A1 (de) | 1974-09-06 |
| GB1449246A (en) | 1976-09-15 |
| FR2217670B1 (de) | 1976-10-01 |
| CA991844A (en) | 1976-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2354141A1 (de) | Verfahren zum untersuchen einer oberflaeche und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens | |
| EP0162120B1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Oberflächenprüfung | |
| DE3204876C2 (de) | Vorrichtung zur Bestimmung des Refraktionszustandes des menschlichen Auges | |
| DE10127284A1 (de) | Autofokussiereinrichtung für ein optisches Gerät | |
| CH678663A5 (de) | ||
| EP1607738A1 (de) | Verfahren und System zur Inspektion eines Wafers | |
| EP0152894B1 (de) | Anordnung zur optischen Erfassung räumlicher Unebenheiten in der Struktur eines zu untersuchenden Objekts | |
| EP3948392B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum erfassen von verlagerungen einer probe gegenüber einem objektiv | |
| DE3926349A1 (de) | Optische fehlerinspektionsvorrichtung | |
| DE69927367T2 (de) | Optoelektronische Formerfassung durch chromatische Kodierung mit Beleuchtungsebenen | |
| DE10204367B4 (de) | Autofokusmodul für mikroskopbasierte Systeme und Autofokusverfahren für ein mikroskopbasiertes System | |
| EP1287397A2 (de) | Anordnung zur konfokalen autofokussierung | |
| WO2002075424A1 (de) | Mikroskop mit autofokussiereinrichtung | |
| DE102018201211B4 (de) | Chromatisch konfokaler Multispotsensor zur Bestimmung von Koordinaten eines Messobjekts | |
| DE102021118327B4 (de) | Messkamera zur zweidimensionalen Vermessung von Gegenständen | |
| DE4012513C2 (de) | ||
| DE19632829A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung von Linsenparametern | |
| DE102019109832B3 (de) | Lichtblattmikroskop und Verfahren zum Erfassen einer Messgröße | |
| DE2306764A1 (de) | Mikroschwaerzungsmessverfahren und mikroschwaerzungsmesser bzw. mikrodensitometer | |
| DE10024135B4 (de) | Mikroskop | |
| DE102016219632A1 (de) | Chromatisch konfokaler Sensor zur Bestimmung von Koordinaten mindestens eines Messobjekts | |
| EP3374755A1 (de) | Lichtmikroskop und verfahren zum bestimmen einer wellenlängenabhängigen brechzahl eines probenmediums | |
| DE3926633C2 (de) | ||
| DE102023205077B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung einer objektabhängigen Fokusablage, Verfahren zur Vermessung eines Objekts und Koordinatenmessgerät | |
| DE60101335T2 (de) | Vorrichtung zur opto-elektronischen vermessung einer dreidimensionalen form |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OD | Request for examination | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |