DE2204467A1 - Vorrichtung zum Aufdampfen einer Oberflächenmetallschicht oder eines Metallüberzuges auf eine langgestreckte Unterlage mit Hilfe wenigstens einer Elektronenkanone - Google Patents
Vorrichtung zum Aufdampfen einer Oberflächenmetallschicht oder eines Metallüberzuges auf eine langgestreckte Unterlage mit Hilfe wenigstens einer ElektronenkanoneInfo
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Description
Patentanwälte Dipl.-Ing. F. Weickmann, 2204487
Dipl.-Ing. H.Weickmann, D1PL.-PHYS. Dr. K. Fincke
Dipl.-Ing. F. Ä.Weickmann, Dipl.-Chem. B. Huber
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Leo Belcaertstraat 1
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Vorrichtung zum Aufdampfsn einer Oberflächenmetallschicht
oder eines Metallüberzuges auf eine langgestreckte Unterlage mit Hilfe uenigstens
einer Elektronenkanone.
Die Erfindung betrifft eine Aufdampfvorrichtung mit einem
Tiegel mit dam aufzudampfenden Metall, uobei die Vorrichtung
mit einer oder mehreren Elektronenkanonen ausgestattet ist; mit einer Einrichtung, um uenigstens eine langgestreckte
Unterlage, uie etua einen Reifen, einen Streifen oder einen Draht kontinuierlich durch den Tiegel und die Aufdampfv/orrichtung
zu bewegen, und mit einer Einrichtung, uie etua l/akuumpumpen, zur Erzeugung des geu.ünschten Vakuums in der
Aufdampfvorrichtung und dem Tiegel.
Derartige Vorrichtungen zum Aufdampfen eines Metalls, die mit Elektranenkanonen zum Aufheizen und zum Verdampfen des
Metalls ausgestattet sind, sind bekannt. Dar große Vorteil
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bei der l/eruendung von Elektronenkanone!! besteht darin, daß
die Wahl der aufzudampfenden Metalle praktisch unbegrenzt
ist. Es ist in der Tat möglich, Metalle mit einem hohen Siedepunkt
mit einer Elektronenkanone aufzudampfen. Ein weiterer Vorteil der Elektronenkanone besteht darin, daß auf der zu
bedampfenden Metalloberfläche örtlich hohe Energiedichten erhalten werden können.
Ein großer Nachteil der soweit bekannten Aufdampfvorrichtungen, die mit Elektronenkanonen ausgestattet sind, besteht in
ihrem niedrigen Materialwirkungsgrad. Unter dem Ausdruck "Wirkungsgrad·1 wird hier das l/erhältnis des Gewichtes des
auf der Unterlage kondensierten Metalldampfes zu dem Gewicht
des auf der Unterlage kondensierten Metalldampfes und dem
Gewicht des verlorengegangenen Metalls verstanden. Der wesentlichste Grund für diesen niedrigen Wirkungsgrad liegt
in dem Vorhandensein eines unzureichend abgeschlossenen Tiegels. Ein anderer Nachteil, der sich aus dem Vorhandensein
eines unzureichend abgeschlossenen Tiegels ergibt, besteht darin, daß es sehr schwierig ist, in dem Tiegel oder in dem
Raum über dem zu verdampfenden Metall einen ausreichend hohen Dampfdruck des verdampften Metalls zu erhalten. Da in dem
—4 Raum um den Tiegel herum ein hohes Vakuum von z. B. 10 Torr
vorherrscht| fließt das verdampfte Metall in diesen Raum hin
ab und schlägt sich auf den Wänden dieses Vakuumraums nieder. Die Größe dieses Leckflusses ist unter anderem proportional
zu der Fläche der Öffnung in dem Tiegel und der vorhandenen Druckdifferenz. Wenn nunmehr eine langgestreckte Unterlage,
z. B. ein Draht, mit einer Oberflächenschicht aus einem gegebenen Metall mit einer gegebenen Dicke überzogen werden
soll, so sollte diese Unterlage mit einer gegebenen Geschwindigkeit, die von der Größe des Dampfdruckes in dem
Tiegel abhängt, durch diesen Tiegel bewegt werden. Es ist klar, daß die Geschwindigkeit, mit der die Unterlage durch
den Tiegel geführt wird, um so niedriger sein muß, je niedriger dar Dampfdruck in dem Tiegel ist. Folglich können
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mit den bisher bekannten Vorrichtungen nur niedrige Einführgeschuindigkeiten
erhalten werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die oben erwähnten Nachteile zu beseitigen.
Aus diesem Grunde uird eine Aufdampfvorrichtung der eingangs
beschriebenen Art vorgesehen, die dadurch gekennzeichnet ist, daß jede Elektronenkanone mit stark fokussierenden Elementen,
uie etwa Magnetlinsen oder -spulen und/oder Einrichtungen, uie etua einem hohen Beschleunigungspotential, versehen ist,
um einen stark fokussierten Elektronenstrahl zu erhalten, daß der Tiegel nahezu vollständig verschlossen ist und lediglich
für jede Elektronenkanone eine kleine Öffnung aufweist, wobei der Abstand zwischen dieser Öffnung in dem Tiegel und
den Fokussierungselementen so bestimmt ist, daß diese Öffnung in oder in der Nähe des Fokus oder Fokussierungspunktes des
gebildeten Elektronenstrahls liegt, und daß Einrichtungen vorgesehen sind, um den ausgebildeten Elektronenstrahl in dem
Tiegel mit einer geeigneten Geschwindigkeit über die Oberfläche des zu bedampfenden Metalls zu bewegen.
Der große Vorteil der gemäß der Erfindung ausgebildeten Vorrichtung
besteht darin, daß praktisch kein verdampftes Metall
weiterhin aus dem Tiegel über die Öffnungen entweichen kann,
durch die der Elektronenstrahl auf das zu bedampfende Metall in dem Tiegel fällt. Auf diese Ueise wird eine beträchtliche
Erhöhung des Wirkungsgrades erhalten, und es wird möglich, in dem Tiegel einen hohen Dampfdruck aufzubauen, was zu
hohen Aufdampfungsgeschwindigkeiten führt. Ein weiterer Vorteil
besteht darin, daß homogene Oberflächenschichten oder Überzüge erhalten werden.
Im folgenden soll die Erfindung näher anhand von in der Zeichnung dargestellten vorzugsweisen Ausführungsbeispielen
erläutert werden. In ύβτ Zeichnung zeigen:
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Fig. 1 in perspektivischer Ansicht eine Ausführungsfarm
einer gemäß der Erfindung ausgebildeten Bedampfungsvorrichtung,
Fig.· 2 einen Teil dieser Vorrichtung in einer Vorderansicht,
Fig, 3 eine Seitenansicht des in die Bedampfungsvorrichtung eingesetzten Tiegels, und
Fig. 4 und 5 Seitenansichten abgewandelter Ausführungsformen
des in Fig. 3 gezeigten Tiegels mit schematisch dargestellten Elektranenkanonen.
Die Aufdampfvorrichtung besteht aus einer Kammer 1, in der
ein nahezu völlig abgeschlossener Tiegel 2 mit dem aufzudampfenden Metall 3 angeordnet ist. Der Tiegel 2 besitzt eine
innere Auskleidung, die aus einem feuer- bzw. hitzebeständigen Material besteht, wie etwa Graphit, feuerbeständige Backsteine,
ein hitzebeständiges Metall, uie etua Uolfram, Tantal
usw., das nicht durch das geschmolzene Metall angegriffen uird,
Um diese innere Auskleidung herum uird gegebenenfalls ein Isoliermantel angeordnet, der aus einem geeigneten Material
hergestellt ist. Der Tiegel erhält vorzugsweise eine solche Form, daß das aufzudampfende Metall in dem Tiegel um die
Unterlage herum vorhanden ist. Dies ist wichtig, um etwa bei Drähten, Blättern usu. eine homogene Schicht zu erhalten.
Es können gleichfalls Einrichtungen vorgesehen werden, um das zu verdampfende Metall kontinuierlich in den Tiegel 2 einzuführen.
In der Oberseite der Kammerd sind z. B, zwei Elektronenkanonen
4 und 5 vorgesehen. Diese Elektronenkanonen haben z. B. ein Leistungsvermögen von 3D kU und eine Spannung von 60 kV. De
höher diese Spannung oder das Beschleunigungspotential bei einer gegebenen Type von Elektronenkanone und gegebener
Leistungsfähigkeit ist, um so schmaler ist der emittierte
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Elektronenstrahl. Dia Elektronenkanonen sind mit der Kammer 1
derart verbunden, daß sie einen Teil der Kammer bilden. Die Kammer 1 kann mit Hilfe einer Trennwand 6 in zwei Räume unterteilt
werden, in denen jeueils eine Elektronenkanone und ein
^Tiegel vorhanden sind. Die Vakuumpumpen 7, die mit diesen
Räumen verbunden sind, dienen dazu, in diesen Räumen der Kammer 1 das
zu erzeugen.
zu erzeugen.
Kammer 1 das gewünschte l/akuum, z. B. in Höhe von 10"" Torr,
Die Uände des Tiegels erhitzen sich durch Zurückstreuung der
emittierten Elektronen ebenso wie durch die erzeugten heißen Metalldampfe, wodurch das hierauf auftreffende verdampfte
Metall zu einer Flüssigkeit kondensiert, die zurück in den Tiegel fließt oder sonstwo wieder verdampft. Uenn eine Uiederverdampfung
erreicht werden soll, so ist es gleichfalls möglich, den Tiegel mit Hilfe von bekannten Einrichtungen von
außen auf die erforderliche Temperatur zu bringen.
Mit Hilfe von nicht dargestellten Einrichtungen, wie etwa Aufwickelspulen, die mit einer geeigneten Geschwindigkeit
angetrieben werden,und losen Abwickelspulen, können die langgestreckten
Unterlagen 8, die bedampft werden sollen, wie etwa Drähte, Steifen, usw. durch die Kammer 1 und den Tiegel
2 bewegt werden. Zu diesem Zweck sind in dem Tiegel und der Kammer geeignete Einlaßöffnungen 9, 10 und 9', 10' vorgesehen.
Die Abmessungen dieser Öffnungen sind sehr klein und sie sind an die Abmessungen der zu beschichtenden Unterlagen
angepaßt. Durch (nicht dargestellte) Führungselemente wird sichergestellt, daß die Unterlagen während des Durchlaufs
durch den Tiegel und die Kammer praktisch keine seitlichen Bewegungen ausführen können.
Stark fokussierende Elemente, wie etwa Nagnetlinsen 11
(siehe Fig. 2), dienen dazu, den aus den Elektronenkanonen emittierten Elektronenstrahl zu fokussieren. Der Speisestrom
in diesen Magnetlinsen oder -spulen kann geändert werden, um
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die Fokussierung des Strahls zu ändern» Es ist gleichfalls möglich, in dem Kopf der Elektronenkanonen eine zusätzliche
Fokussierungslinse 11' vorzusehen.
Pro Elektronenkanone ist in dBm Tiegel 2 lediglich eine
kleine Öffnung 12 (siehe Fig. 2) vorgesehen. Der Abstand zwischen dieser Öffnung 12 in dem Tiegel 2 und den Fokussiarungselementen
11, 11! und dar Speisestrom in diesen Elementen
11, 11' sind so gewählt, daß diese Öffnung 12 in oder in der Nähe des Brennpunktes oder des Fokussierungspunktes des gebildeten
Elektronenstrahls liegt. Der Ausdruck Brennpunkt oder Fokussierungspunkt bezeichnet hier den Punkt, an dem der gebildete
Elektronenstrahl am stärksten gebündelt ist. Natürlich trifft dies nicht auf einen geometrischen Punkt zu. Es
ist in der Tat möglich und sogar erwünscht, daß der Elektronenstrahl mit Hilfe von geeigneten Magnetlinsen 11 über eine
bestimmte Länge zwischen der Elektronenkanone und der Oberfläche des zu bedampfenden Metalls gebündelt wird. Die Öffnung
12 kann so auf ein Minimum beschränkt werden, z.. B. auf eine
runde Öffnung mit einem Durchmesser von etwa 5 mm. Die Elektronenkanonen können auch an anderen Punkten als an der
Oberfläche der Kammer 1 angebracht werden (siehe Fig. 4 und 5) und der emittierte und gebildete Elektronenstrahl kann
elektrostatisch oder magnetisch in geeigneter Weise auf die Öffnung 12 des Tiegels 2 hir>4bgelenkt werden.
Dieser stark fokussierte Elektronenstrahl mit hoher Leistung trifft auf das zu bedampfende Metall 3 nur in einem sehr
kleinen Gberflächenbereich auf. Es ist deshalb notwendig,
daß an der Vorrichtung Einrichtungen vorgesehen werden, um diesen gebildsten Elektronenstrahl in dem Tiegel 2 mit ausreichend
hoher Geschwindigkeit über die Oberfläche des zu bedampfenden Metalls zu bewegen.
Um diesen Elektronenstrahl in dem Tiegel 2 über die Oberfläche des zu bedampfenden Metalls 3 mit geeigneter Geschwindigkeit
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zu bewegen, ist die gemäß der Erfindung ausgebildete Vorrichtung
mit einer Ragnetkette 13 versehen. Diese Kette 13 besteht aus einem nicht geschlossenen Kern 14 aus ferromagnetischsm
Material. Ein Leiter 15 ist um einen Teil dieses Kernes 14 gewickelt und mit einer Uechselstromquelle verbunden, und
diese Quelle erzeugt einen Strom, der in Bezug auf die Amplitude und die Frequenz gesteuert werden kann. Der Tiegel 2
ist zwischen den Enden oder den Polschuhen 16 dieser Magnetkette
13 (siehe Fig. 2) angeordnet. Das Material der Uände der Kammer 1 und des Tiegels 2 dürfen nicht aus einem ferromagnetischen
Material bestehen, und sie dürfen während der Verwendung dieser Vorrichtung auch keine ferromagnetischen
Eigenschaften aufweisen. Dies ist wesentlich, damit die Kraftlinien, die durch die Magnetkette 13 verlaufen, sich selbst in
dem Raum über dem zu bedampfenden Metall schließen können.
Wenn nunmehr ein Wechselstrom durch die Spule 15 geleitet
wird, so wird zwischen den Enden oder den Polschuhen 16 des Kerns 14 oder in dem Raum über dem zu bedampfender/ietall 3
in dem Tiegel 2 ein Magnetwechselfeld B erzeugt. Die Größe
des Magnetfeldes B hängt unter anderem von der Größe des Stromes in der Spule oder dem Leiter 15 ab. Der in den Tiegel
eintretende Elektronenstrahl wird nunmehr diesem Magnetwechselfeld ausgesetzt. Bei den in den Figuren dargestellten
Ausführungsformen verläuft die Richtung des Magnetfeldes B zwischen den Polen 16 senkrecht zu der Bewegungsrichtung ν
des gebildeten Elektronenstrahls. Uenn ein geladenes Teilchen Q einer gegebenen Geschwindigkeit ν in dieses Magnet—
Wechselfeld B eintritt, dessen Feldrichtung senkrecht zu der Bewegungsrichtung ν verläuft, dann wirkt auf das Teilchen Q
eine Kraft F = B · Q . v, wobei die Richtung der Kraft F senkrecht auf der Fläche steht, in der der Vektor B und die
Bewegungsrichtung ν liegen. Da die Kraft F immer senkrecht zu der Bewegungsrichtung ν gerichtet ist, beschreiben die geladenen
Teilchen des gebildeten Elektronenstrahls über die Oberfläche des zu bedampfenden Metalls 3 eine gebogene Bahn.
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Da nunmehr ein UQchsBlfeld B verwandt wird, wird diese Bahn
abwechselnd in beiden Richtungen hin und her geführt· Die Frequenz, mit der diese Bahn hin und her geführt uird, uird
durch die Frequenz des Stromes in dem Leiter/|5 bestimmt, die vorzugsweise bei 50 Hz liegt.
Die große Stärke bzw. Leistung des stark fokussierten Elektronenstrahls
wird auf diese Ueise gleichmäßig über die Oberfläche
des zu bedampfenden Metalls verteilt. Durch Einstellung der Grüße des Stromes in dem Leiter 15 kann natürlich das
Feld B und folglich die Kraft F geändert werden. Die Fig. 3 zeigt klar, daß der Strahl über die gesamte Oberfläche des
zu bedampfenden Metalls hin und her bewegt wird.
Die Figuren 4 und 5 zeigen zwei abgeänderte Ausführungsformen.
Hier ist es wesentlich, daß der Strahl, der in den Tiegel eintritt, zuerst um 90 bzw, 180 abgelenkt wird, um die Oberfläche
des zu bedampfenden Metalls 3 zu erreichen. Dies kann z. B. mit Hilfe von permanenten Magneten erreicht werden. Es
kann auch die Kette 13 mit Einrichtungen vorgesehen werden, wie etwa einem Leiter, der um den Kern 14 gewickelt und mit
einer einstellbaren Gleichstromquelle verbunden ist, so daß in dem Tiegel über dem zu bedampfenden Metall ein besonderes
Magnetfeld erregt wird. Eine weitere Möglichkeit besteht darin, durch den Leiter 15 einen Uechselstrom zu schicken,
der einem Gleichstrom überlagert ist. Es können viele bekannte elektronische Anordnungen zu diesem Zweck verwandt werden. Um
zu überprüfen, ob der einfallende und sich hin und her bewagende Elektronenstrahl auf das zu bedampfende Metall in'
dem Tiegel 2 auftrifft, werden in der Kammer 1 und im Tiegel 2 vorzugsweise Öffnungen vorgesehen, die verschlossen werden
können.
Eine andsre Einrichtung, um die durch den Elektronenstrahl erhaltene
Leistung gleichmäßig über die Oberfläche des zu bedampfenden Metalls zu verteilen besteht darin, den Elektronen-
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strahl in dem Tiegel zu defokussieren oder zu zerstreuen, indem man z. B. in dem Tiegel ein Streufeld erzeugt, obgleich
dies wesentlich schwieriger durchzuführen ist.
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Claims (3)
1. Aufdämpfvorrichtung mit einem Tiegel für das aufzudampfende
Metall, mit einer oder mehreren Elektronenkanonen, mit Einrichtungen, um wenigstens eine langgestreckte Unterlage,
uie etua ain Band, einen Streifen oder einen Draht kontinuierlich
durch den Tiegel und die Aufdampfvorrichtung zu bewegen und mit Einrichtungen, uie etua Vakuumpumpen, um
in der Aufdampfvorrichtung und dem Tiegel das gewünschte Vakuum zu erzeugen, dadurch gekennzeichnet ,
daß jede Elektronenkanone (4, 5) mit stark fokussieranden Elementen (iii wie etwa Magnetlinsen oder -spulen und/oder
Einrichtungen, uie etua einem hohen BeschleunigungspatentiaJ,
versehen ist, um einen stark fokussierten Elektronenstrahl zu erhalten, daß der Tiegel (2) nahezu vollständig geschlossen
ist und lediglich eine kleine Öffnung (12) für jede Elektronenkanone aufweist, wobei der Abstand zwischen
dieser Öffnung in dem Tiegel und den Fokussierungselementen (11) so bestimmt ist, daß diese Öffnung in oder in der
Nähe des Brennpunktes oder des Fokussierungspunktes des gebildeten Elektronenstrahls liagt, und daß Einrichtungen,
(13, 14, 15), vorgesehen sind, um den gebildeten Elektronenstrahl in dem Tiegel mit einer geeigneten Geschwindigkeit
übar dia Oberfläche des zu bedampfenden Metalls (3) zu bewegen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Tiegel (2) zwischen den Enden
der Polschuhe (16) einer Magnetkntta (14) angeordnet ist, die mit bekannten Einrichtungen zur Erzsugung eines in
der Amplitude und der Frequenz einstellbaren Hagnetwechselfeldes
in dem Tiegel übar dem zu bedampfenden Metall versehen ist.
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3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß an sich bekannte Einrichtungen zur
Erzeugung eines in der Amplitude einstellbaren Magnetfeldes
in dem Tiegel über dem zu bedampfenden Retall vorgesehen
sind.
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