DE2125447A1 - Printed circuit cleaning medium - based on toluene etc and used for removing surplus flux etc - Google Patents
Printed circuit cleaning medium - based on toluene etc and used for removing surplus flux etcInfo
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Abstract
Description
Toluol enthaltende Waschflüssigkeit zur Reinigung von Oberflächen gedruckter Schaltungen Zusatz zu Patent ... (Patentanmeldung P 19 58 875.1-45) Die Erfindung bezieht sich auf eine Toluol enthaltende Waschflüssigkeit zur Reinigung von Oberflächen gedruckter Schaltungen, die mit einer nach dem Löten zurückgebliebenen Flußmittelschicht auf Harz- bzw. Kolophoniumbasis überzogen sind und bei der die Waschflüssigkeit aus Toluol und Essigsäure - n - bulester besteht, nach Patent ... (Patentanmeldung P 19 58 875.1-45). Washing liquid containing toluene for cleaning surfaces printed circuits addendum to patent ... (patent application P 19 58 875.1-45) The The invention relates to a washing liquid containing toluene for cleaning of printed circuit board surfaces that have been left with a surface after soldering Flux layer based on resin or rosin are coated and in which the Washing liquid consists of toluene and acetic acid - n - bulester, according to patent ... (Patent application P 19 58 875.1-45).
Gedruckte Schaltungen bestehen aus Isolierstoffplatten, die Leiterzüge zum Aufbau elektronischer Schaltungen tragen. Außerdem sind sie noch mit elektronischen Bauelementen bestückt. Die Verbindung zwischen den Leiterzügen und den Anschlüssen der Bauelemente wird in den weitaus häufigsten Fällen durch Löten geschaffen. Beim Löten ist der Einsatz von Flußmitteln erforderlich. Flußmittel werden durch die Erwärmung beim Löten in ihrem chemischen Aufbau verändert, wobei Spaltprodukte und Metallsalzs entstehen, die nach dem Löten in der Trägersubstanz des FTüßmittels eingeschmolzen und in dieser Phase nicht sichtbar sind. -De Zweck der Reinigung von gedruckten Schaltungen ist, die nach dem Löten verbleibenden Rückstände des Flußmittels zu entfernen.Printed circuits consist of sheets of insulating material, the conductor tracks to build electronic circuits. Plus they are still using electronic Assembled components. The connection between the conductor tracks and the connections the components are created in the by far most common cases by soldering. At the Soldering requires the use of flux. Fluxes are made by the Heating during soldering changes their chemical structure, with fission products and Metal salt is formed, which after soldering in the carrier substance of the F sweetener melted down and are not visible at this stage. -The purpose of cleaning of printed circuit boards is the residue of the after soldering Remove flux.
Da die Spaltprodukte chemisch instabil sind und starke Alterungserschetaungen als Swnktion von Lager-Temperatur und Zeit aufweisen, gestaltet sich die Reinigung nach bisher üblichen Verfahren schwierig und ist teilweise sogar unmöglich, Es ist bekannt, bei in Wasser unlöslichen Flußmitteln, insbesondere Flußmittel auf Kolophoniumbasis, Lösungsmittel oder deren Gemische einzusetzen, um die Flußmittelrückstände abzulösen.Because the cleavage products are chemically unstable and have severe aging effects as a function of storage temperature and time, the cleaning takes place difficult and sometimes even impossible according to the usual procedures. It is known for fluxes insoluble in water, especially rosin-based fluxes, Use solvents or their mixtures to remove the flux residues.
Derartige Lösungsmittel sind z.B.: Trichloräthylen; Perchloräthylen; 1,1,1 Trichloräthän; 1,1,2 Trichlor - 1,2,2 trifluor-äthan; Toluol; Alkohole: Äthyl-, Methyl-, Isopropyl-, Butyl-, usw.Examples of such solvents are: trichlorethylene; Perchlorethylene; 1,1,1 trichloroethane; 1,1,2 trichloro - 1,2,2 trifluoroethane; Toluene; Alcohols: ethyl, Methyl, isopropyl, butyl, etc.
Ferner ist aus den Uz-Patentschriften 2,999,816 und 3,340,199 bekannt, zum Reinigen von gedruckten Schaltungen Gemische aus Isopropylalkohol und Toluol, aus 1,1,2 Trichlor - 1,2,2 trifluor-äthan und Methylalkohol sowie aus 1,1,2 Trichlor - 1,2,2 trifluor-äthan und Isopropylalkohol zu verwenden.It is also known from Uz patents 2,999,816 and 3,340,199, for cleaning printed circuits mixtures of isopropyl alcohol and toluene, from 1,1,2 trichloro - 1,2,2 trifluoroethane and methyl alcohol and from 1,1,2 trichloro - Use 1,2,2 trifluoroethane and isopropyl alcohol.
Diese Lösungsmittel haben den Nachteil, daß die Spaltprodukte der Aktivatoren und die Metallsalze aus der Lösung ausgefällt werden und daß auf den gedruckten Schaltungen nach dem Zutritt von feuchter Luft weiße Niederschläge entstehen. Diese Niederschläge sind sehr schwer zu entfernen.These solvents have the disadvantage that the cleavage products of the Activators and the metal salts are precipitated from the solution and that on the printed circuits produce white precipitates after exposure to moist air. These precipitates are very difficult to remove.
Dem Hauptpatent lag die Aufgabe zugrunde, Waschflüssigkeiten zum Reinigen von Oberflächen von gedruckten Schaltungen anzugeben, bei dem die in der abzuwaschenden Schicht enthaltenen Spaltprodukte und Metallsalze keine unerwünschten Folgeerscheinungen hervorrufen. Sie wurde mit einer Waschflüssigkeit aus Toluol und Essigsäure-n-butylester gelöst.The main patent was based on the task of washing liquids for cleaning of surfaces of printed circuits, in which the in the to be washed off The fission products and metal salts contained in the layer do not have any undesirable consequences cause. It was washed with toluene and n-butyl acetate solved.
Ausgangspunkt für diese Lösung war die Beobachtung, daß die beim Löten entstandenen Spaltprodukte und Salze ebenso wie die Aktivatoren in der Xolophoniumschicht eingeschmolzen und außerdem offenbar auch darin gelöst sind. Dementsprechend bestehen also Wechselwirkungen zwischen dem Eolophonium einerseits und den Spaltprodukten, Salzen sowie den Aktivatoren andererseits. Daraus kann auf das Vorhandensein entsprechender kolloidaler Teilchen in der nach dem Löten zurückgebliebenen, erstarrten- Schicht geschlossen werden.The starting point for this solution was the observation that the soldering resulting cleavage products and salts as well as the activators in the xolophonium layer melted down and apparently also dissolved in it. Accordingly exist so Interactions between the eolophonium on the one hand and the decomposition products, salts and the activators on the other hand. From this it can be appropriate to the presence colloidal particles in the solidified layer that remained after soldering getting closed.
Weiter ist es bekannt, daß die Gegenwart von Ionen die Beständigkeit insbesondere lyophober $kolloide stark beeinträchtigt.It is also known that the presence of ions increases the durability especially lyophobic colloids are severely impaired.
Obwohl in der beim Löten zurückgebliebenen Schicht auch Salze und Spaltprodukte eingeschmolzen sind, ist in diesem Fall noch keine Beeinträchtigung der Beständigkeit der Kolloide gegeben, da Salze und Spaltprodukte nicht dissoziiert sind. Außerdem ist Kolophonium nicht in Wasser löslich. Eine Dissoziation und damit auch eine entsprechende Ionenbildung kann jedoch leicht beim Reinigen der Oberfläche einer gedruckten Schaltung mittels Abwaschen auftreten und dann zu den eingangs angegebenen Schwierigkeiten führen. Diese Schwierigkeiten treten aber bei Verwendung einer Waschflüssigkeit nicht auf, die einerseits die Grundsubstanz der Schicht löst, andererseits aber gegenüber den Klloiden lyophobes Verhalten zeigt. Eine derartige lyophobe Waschflüssigkeit besitzt eine nur sehr geringe elektrische Leitfahigkeit. Mit einer solchen lyophoben Waschflüssigkeit ist es möglich, eine nach dem Löten zurückgebliebene Kolophoniumschicht derart abzuwaschen, daß mit den Spaltprodukten und Metallsalzen gebildete Kolloide erhalten bleiben und daß die kolloidale Lösung verdünnt wird. Unerwünschte, durch das ausfallen von Spaltprodukten und Metallsalzen bedingte Folgeerscheinungen werden dadurch vorteilhafterweise vermieden.Although there are also salts and in the layer left behind during soldering Fission products are melted down, in this case there is still no impairment the resistance of the colloids, since salts and cleavage products do not dissociate are. In addition, rosin is not soluble in water. A dissociation and with it However, a corresponding formation of ions can easily occur when cleaning the surface a printed circuit occur by means of washing and then to the initially indicated difficulties. However, these difficulties arise with use a washing liquid does not appear, which on the one hand dissolves the basic substance of the layer, on the other hand, however, shows lyophobic behavior towards the clloids. Such a one lyophobic washing liquid has only a very low electrical conductivity. With such a lyophobic washing liquid, it is possible to do one after soldering Wash off the remaining rosin layer in such a way that with the cleavage products Colloids formed and metal salts are preserved and that the colloidal solution is diluted. Unwanted due to the precipitation of fission products and metal salts consequential consequences are thereby advantageously avoided.
Zur Durchführung des vorstehend beschriebenen Reinigungsverfahrens sind verschiedene, im Hauptpatentangegebene, Waschflüssig keiten geeignet. Die beim Aufbau bzw. bei der Zusammenstellung einer derartigen Waschflüssigkeit zu beachtenden Gesichtsp-kte sollen im folgenden kurz beschrieben werden.To carry out the cleaning procedure described above various washing liquids specified in the main patent are suitable. The at Structure or to be observed when putting together such a washing liquid Aspects are briefly described in the following.
Beim Aufbau der Wasehflüssigkeit wird von einem Baslslosungsmittelgemisch ausgegangen, in dem die zu entfernen-de Schicht, im allgemeinen ein Flußmittel zum Löten auf Kolophoniumbasis, löslich ist und die gegenüber in der Schicht enthaltene Kolloide lyophobes Verhalten aufweist. Als besonders geeignet hat sich dazu ein Gemischaus zwei Komponenten A, B erwiesen, wobei für die Komponente A reines Toluol und für Komponente B Essigsäure -n-butylester bevorzugt werden, da sich in diesem Fall praktisch keine Oxydation des Lotmaterials gezeigt hat. Für die Komponente B sind aber auch Essigsäure-thylester bzw. Essigsäure-Methylester geeignet. Die bei der Auswahl der Stoffe für die Kom ponente B zu beachtenden Probleme werden nachstehend am Beispiel des Essigsäure-Äthylester erläutert.A basic solvent mixture is used to build up the washing liquid assumed in which the layer to be removed, in general a rosin-based soldering flux which is soluble and which is opposite in the colloids contained in the layer exhibits lyophobic behavior. As particularly suitable For this purpose, a mixture of two components A, B has been found, with for the component A pure toluene and, for component B, n-butyl acetate are preferred, since in this case there was practically no oxidation of the solder material. For but component B are also ethyl acetate or methyl acetate suitable. The problems to be considered when selecting the substances for component B. are explained below using the example of ethyl acetate.
Essigsäure-Äthylester besitzt eine größere Löslichkeit fpr Wasser. Bei Verwendung dieses Stoffes ist daher mit einem bestimmten Wasseranteil zu rechnen. Der Wasseranteil wiederum bedingt eine Dissoziation. Man erhält dadurch eine Waschflüssigkeit, die ein saures Verhalten zeigt. - Da bekanntlich lyophobe kolloidale Lösungen durch Elektrolyte zum Ausflocken gebracht werden können und in den im Kolophonium gelösten kolloiden Salze enthalten sind, entstehen somit Störungen, deren Grad von der Ionenionzentration des Elektrolyten und dementsprechend von dem im Basis-Lösungnittelgemisch gelösten Wasser abhängt. Für eine Waschflüssigkeit wird daher Essigsäure-n-butyle,ctrr bevorzugt, der ebenso wie Toluol eine zu vernachlässigende Hasserlöslichkeit besitzt. Ein Verlust des lyophoben Verhaltens des Basis-Lösungsmittelgemisches ist in diesem Fall ausgeschlossen.Ethyl acetate has a greater solubility for water. When using this substance, a certain amount of water is to be expected. The water content in turn causes a dissociation. This gives a washing liquid, which shows acid behavior. - As is well known, lyophobic colloidal solutions through Electrolytes can be made to flocculate and dissolved in the rosin colloidal salts are contained, thus disturbances arise, the degree of which depends on the ion concentration of the electrolyte and, accordingly, of that dissolved in the basic solvent mixture Water depends. For a washing liquid, acetic acid-n-butyl, ctrr is therefore preferred, which, like toluene, has a negligible solubility in water. A loss the lyophobic behavior of the basic solvent mixture is excluded in this case.
Die Wahl der Anteile der Komponenten A, B ist nicht besonders kritisch. Die Grenzfälle, annähernd 1CO A bzw. 13 sind jedoch auszuschließen. Zweckmäßigerweise werden jedoch etwa gleich große Anteile der Komponenten A, 3 gewählt. Als Versuchsbeispiele wurden Basis-Lösungsmittelgemische,bestehend aus 40 Vol %, 50 Vol % und 60 Vol % der Komponente A sowie entsprechend 60 Vol %, 50 Vol %, 40 Vol °) der Komponente B gewählt. Bei der Wahl von 40 Vol % A und 60 7.ol °X0 B sowie 60 Vol % A und 40 Vol % B ergeben sich beim Waschen bereits zufriedenstellende Ergebnisse.The choice of the proportions of components A, B is not particularly critical. The borderline cases, approximately 1CO A or 13, are, however, to be excluded. Appropriately however, approximately the same proportions of components A, 3 are selected. As test examples were basic solvent mixtures, consisting of 40% by volume, 50% by volume and 60% by volume of component A and correspondingly 60% by volume, 50% by volume, 40% by volume) of the component B chosen. When choosing 40 vol% A and 60 7.ol ° X0 B and 60 vol% A and 40 Vol% B already gives satisfactory results when washing.
Mit einer nur aus dem Basis-Lösungsmittelgemisch bestehenden Waschflüssigkeit läßt sich zwar das vorstehend beschriebene Reinigungsverfahren bereits ausführen; in der praktischen Anwendung treten allerdings zwei Probleme auf: 1. Bei nicht wasserlöslichen, jedoch besonders gut geeigneten Komponenten A, B treten bei Wasserabscheidungen Phasengrenzen auf und im Wasser scheiden sich Salze sowie Spaltprodukte ab. Damit entsteht wiederum - wenn auch in geringerem Umfange - die Gefahr einer Verunreinigung der zu waschenden Oberflächen.With a washing liquid consisting only of the basic solvent mixture the cleaning process described above can already be carried out; In practical use, however, there are two problems: 1. In the case of non-water-soluble, however, particularly suitable components A, B occur in the event of water separations Phase boundaries on and in the water separate out salts and fission products. In order to there is in turn - albeit to a lesser extent - the risk of contamination the surfaces to be washed.
2. Von den Komponenten A, B der gut geeigneten Toluol-Essigsäure-n-butJlester-Lösung werden Kunststäffe leicht angegriffen. 2. Of components A, B of the very suitable toluene-acetic acid n-butyl ester solution plastics are easily attacked.
Diese Problems wurden dadurch gelöst, daß eine zusätzliche organische Substanz vorgesehen ist, die mit dem Basis-Lösungsmittelgemisch beliebig mischbar ist und die eine größere Affinität als das Basis-Lösungsmittelgemisch gegenüber Wasser aufweist. Der Volumennnteil der zusätzlichen organischen Substanz ist derart gewählt, daß das lyophobe Verhalten gegenüber in der abzuwaschenden Schicht enthaltenen Kolloiden erhalten bleibt.This problem has been solved by adding an additional organic Substance is provided which can be mixed as desired with the basic solvent mixture and which has a greater affinity than the base solvent mixture Has water. The volume fraction of the additional organic substance is such chosen that the lyophobic behavior compared to contained in the layer to be washed off Colloids is preserved.
Für die zusätzliche organische Substanz wird vor allem Isopropylalkohol bevorzugt. Es sind jedoch auch andere Alkohole wie z.B. Athyl-, Methyl- oder Butylalkohol geeignet.Isopropyl alcohol is mainly used for the additional organic substance preferred. However, there are also other alcohols such as ethyl, methyl or butyl alcohol suitable.
Durch die Einführung der zusätzlichen organischen Substanz wird das Auftreten einer Phasengrenze Wasser/organische Lösung und damit das Abscheiden von Salzen und Spaltprodukten in Wasser verhindert. Darüberhinaus wird auch eine Beeinträchtigung von Kunststoffen weitgehend unterbunden. Ein Gemisch mit der nachstehend angegebenen usammensetzung ht sich dabei in der Praxis seit längerer Zeit bewährt: 30 Vol o Toluol 32,6 Vol % Essigsäure-n-butylester 37,4 Vol % Isopropylalkohol.By introducing the additional organic matter, that becomes Occurrence of a phase boundary water / organic solution and thus the separation of Prevents salts and decomposition products in water. In addition, there is also an impairment largely prevented by plastics. A mixture with the one given below The composition has proven itself in practice for a long time: 30th Vol o toluene 32.6 vol% n-butyl acetate 37.4 vol% isopropyl alcohol.
Es hat sich jedoch gezeigt, daß vereinzelt Kunststoffe noch gequollen sind oder angelost wurden. Beispielsweise: Siliconzement als Hülle von Widerständen; mit roten Pigmenten versetztes Polykarbonat; Hartparaff in; Polystyrol als Hülle von Kondensatoren.It has been shown, however, that some plastics still swell are or have been looted. For example: silicone cement as a cover for resistors; polycarbonate mixed with red pigments; Hard paraff in; Polystyrene as a cover of capacitors.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, d-ie eingangs angegebene Waschflüssigkeit derart weiter zu entwickeln, daß auch gedruckte Schaltungen gewaschen werden können, die Bauelemente aufweisen, bei denen die vorstehend angegebenen Kunststoffe verwendet sind.The invention is based on the object specified at the beginning To further develop washing liquid in such a way that also washed printed circuits can be that have components in which the plastics specified above are used.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Waschflüssigkeit zusätzlich noch mindestens einen aliphatischen Kohlenwasserstoff der Zusammensetzung Cn H2n + 2 mit n = 6, 7, 8 enthält.According to the invention, this object is achieved in that the washing liquid additionally at least one aliphatic hydrocarbon of the composition Contains Cn H2n + 2 with n = 6, 7, 8.
Dieser Lösung liegt die Erkenntnis zugrur.de, daß der hohe AI1-teil von etwa 32 Vol % Essigsäure-n-butylester der im Hauptpatent vorgeschlagenen Maschflüssigkelt im wesentlichen die genannten Kunststoffe angreift. Eine Reduzierung der Konzentration des Essigsäure-n-butylesters war somit einerseits vrunschenswert, obwohl andererseits durch diese Komponente das lyophobe Verhalten der Waschflüssigkeit stark beeinflußt wird-. Durch das Hinzufügen eines aliphatischen gesättigten Kohlenwasserstoffes ergab sich die angestrebte vorteilhafte Lösung. ÄLs besonders geeignet erwies sich aufgrund-des Erstarrungspunktes und des Siedepunktes Heptan.This solution is based on the knowledge zugrur.de that the high AI1 part of about 32% by volume of n-butyl acetate of the Maschiquidkelt proposed in the main patent essentially attacks the plastics mentioned. A reduction in concentration of the acetic acid n-butyl ester was therefore desirable on the one hand, although on the other hand strongly influenced by this component the lyophobic behavior of the washing liquid will-. By adding an aliphatic saturated hydrocarbon the desired advantageous solution resulted. AL proved to be particularly suitable due to the freezing point and the boiling point of heptane.
Eine Waschflüssigkeit aus: Toluol - Essigsäure-n-butylester-Heptan weist ein lyophobes Lösungsverhalten gegenüber einer kolloidalen Schmelze -aus Kolophonium- Metallsalze - Aktivatoren auf, ohne dabei die reinigende Wirkung herabzusetzen und ohne die oben beschriebenen Kunststoffe anzugreifen. Zusätzlich sind durch den Zusatz von Heptan die lyophob gelösten Kolloide bis an den "Isoelektrischen Punkt" herangeführt, so daß die Kolloide Kolophonium - Metallsalze - Aktivatoren ohne Temperaturerniedrigung ausflocken und abfiltriert werden können. In Lösung bleibt lediglich der Kolophoniumüberschuß.A washing liquid made from: toluene - n-butyl acetate-heptane exhibits a lyophobic dissolution behavior compared to a colloidal melt Rosin- Metal salts - activators without reducing the cleaning effect and without attacking the plastics described above. In addition, by adding the lyophobically dissolved colloids are brought up to the "isoelectric point" by heptane, so that the colloids rosin - metal salts - activators without lowering the temperature flocculate and can be filtered off. Only the excess rosin remains in solution.
Eine vorzugsweise verwendete Waschflüssigkeit weist folgende Zusammensetzung auf: 30 Voi- % Toluol 5 Vcl % Essigsäure-n-butylester 27,5 Vol % Heptan 37,5 Vol % Isopropylalkohol.A washing liquid that is preferably used has the following composition on: 30% by volume toluene 5% by volume n-butyl acetate 27.5% by volume heptane 37.5% by volume % Isopropyl alcohol.
Diese Zusaiimensetzung wird im folgenden als verbessertes Basis-Lösungsmittelgemisch bezeichnet. Die angegebene Zusammensetzung braucht jedoch nur annähernd eingehalten werden. Abweichungen sind zulässig, sofern das lyophobe Verhalten der Wäschflüssigkeit gewahrt ist.This composition is hereinafter referred to as the improved base solvent mixture designated. However, the specified composition only needs to be adhered to approximately will. Deviations are permissible, provided that the laundry liquid is lyophobic is preserved.
Die im Hauptpatent angegebenen und in der Beschreibungseinleitung erwähnten sowie nach der Erfindung verbesserten Waschflüssigkeiten lassen sich durch Hinzufügen einer weiteren organischen Substanz vorteilhaft weiterbilden, die mit der Waschflüssigkeit beliebig mischbar ist und die gegenüber dem nicht kolloldal gebundenen Anteil der Schicht ein großes Lösungsvermögen aufweist. Dabei ist der Volumenanteil der weiteren organischen fiu bstanz derart gewählt, daß das lyophobe Verhalten gegenüber in aer Schicht enthaltenen Kolloiden bleibt. Als weitere organische Substanz wird 1,1,2 Trichlor - 1,2,2 trifluor-' äthan bevorzugt. Dabei ergibt sich außerdem der für industrielle Anwendzngen besondere Vorteil, daß dieses Gemisch nicht mehr entziindbar ist.Those specified in the main patent and mentioned in the introduction to the description and improved according to the invention Washing liquids can advantageously be further developed by adding a further organic substance which can be mixed with the washing liquid as required and which has a high dissolving power compared to the portion of the layer that is not bound in a colloid manner. The volume fraction of the further organic fiu substance is chosen such that the lyophobic behavior towards colloids contained in the layer remains. As a further organic substance, 1,1,2 trichloro - 1,2,2 trifluoroethane is preferred. This also has the particular advantage for industrial applications that this mixture can no longer be ignited.
Die nachstehend angegebene, aus fünf Komponenten bestehende Waschflüssigkeit hat sich bei der industriellen Verwendung als besonders günstig erwiesen: 40 Vol °% verbessertes Basis-Lösungsmittelgemisch 60 Vol % 1,1,2 Trichlor - 1,2 2 trifluor-äthan.The five-component washing liquid given below has proven to be particularly favorable for industrial use: 40 vol °% improved basic solvent mixture 60 vol% 1,1,2 trichlor - 1,2 2 trifluoroethane.
Die hbweichungen von dieser Zusammensetzung können plus -minus 15 Vol % betragen.The deviations from this composition can be plus-minus 15 Vol%.
Diese Waschflüssigkeit gestattet eine beliebige Verdünnung der kolloidalen Lösung: "Flu3mittel - Metallsalze - Aktivatoren".This washing liquid allows any dilution of the colloidal Solution: "Fluids - Metal Salts - Activators".
Sie hat außerdem ein inertes Verhalten und greift Kunststoffe und Isolationsmaterialien praktisch nicht an. Abwandlungen gegenüber der genannten günstigen Zusammensetzung sind möglich, sofern das lyophobo Verhalten der Waschflüssigkeit nicht gestört wird.It also has an inert behavior and attacks plastics and Insulation materials practically not available. Modifications to the mentioned favorable Composition are possible provided the lyophobo behavior of the washing liquid is not disturbed.
Die mit der Erfindung erzielten-Vorteile bestehen insbesondere darin, daß die bisherigen Waschverfahren mit selektiv auszumahlenden Waschflüssigkeiten nicht mehr benötigt werden. Darüberhinaus können sogar elektronische Bauelemente und Kontaktleisten aus Polykarbonat etc. gewaschen werden, was bei den bekannten Verfahren nicht möglich ist. Nach der Erfindung werden somit bisher nicht bestehende Reinigungsmöglichkeiten erschlossen. -Die lyophobe Reinigungsmethode wurde zwar für gedruckte Schaltungen entwickelt, sie ist aber nicht nur auf diese beschränkt. Sie kann allgemein eingesetzt werden. Bisher übliche Reinigungsanlagen können weitgeb.end mit Waschflüssigkeiten nach der Erfindung betrieben werden.The advantages achieved with the invention consist in particular in that the previous washing process with washing liquids to be selectively ground out are no longer needed. In addition, even electronic components and contact strips made of polycarbonate etc. are washed, which is the case with the known Procedure is not possible. According to the invention are thus not previously existing Cleaning possibilities opened up. -The lyophobic cleaning method was used though designed for, but not limited to, printed circuits. It can be used in general. Cleaning systems that have been used up to now can largely be operated with washing liquids according to the invention.
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