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DE2124431A1 - Gaslaseranordnung - Google Patents

Gaslaseranordnung

Info

Publication number
DE2124431A1
DE2124431A1 DE19712124431 DE2124431A DE2124431A1 DE 2124431 A1 DE2124431 A1 DE 2124431A1 DE 19712124431 DE19712124431 DE 19712124431 DE 2124431 A DE2124431 A DE 2124431A DE 2124431 A1 DE2124431 A1 DE 2124431A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gas laser
electrodes
arrangement according
electron
laser arrangement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19712124431
Other languages
English (en)
Inventor
Barton Livermore Calif. Krawetz (V.StA.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
US Atomic Energy Commission (AEC)
Original Assignee
US Atomic Energy Commission (AEC)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by US Atomic Energy Commission (AEC) filed Critical US Atomic Energy Commission (AEC)
Publication of DE2124431A1 publication Critical patent/DE2124431A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/09707Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using an electron or ion beam

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

Anmelderin: United States Atomic Energy Commission Washington D. G., USA
Gaslaseranordnung
Die Erfindung betrifft eine Gaslaseranordnung, in der das Lasermittel durch eine vermittels Elektronenstrahlen ausgelöste elektrische Entladung stimuliert wird.
Gaslaser sind in hohem Energiebereich besonders günstig, weil das Lasermittel durch den intensiven Lichtstrahl nicht beschädigt wird. Es ist aber sehr schwierig oder unmöglich, in dem für den Lasereffekt erforderlichen Energiezustand des Lasermittels eine grosse Besetzungsinversion zu erzeugen und aufrechtzuerhalten.
Optische Pumpen, z. B. Blitzlichtlampen, können die hierfür erforderliche hohe Energie in dem erforderlichen kurzen Zeit-
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raum nicht übertragen. Für die Stimulierung des Lasermittels wird daher eine elektrische Entladung verwendet. Diese stimuliert das Lasergas unmittelbar durch Elektronenkollision und indirekt durch Resonanzübertragung von einem zweiten, durch Elektronenkollision unmittelbar stimulierten Gas. Da eine gleichmässige, stabile elektrische Ladung aber nur bei sehr niedrigem Druck bzw. im Vakuum zu erreichen war, blieb die Energiedichte der bekannten Gaslasersysteme auf sehr niedrigem Niveau.
Die Erfindung hat eine Gaslaseranordnung mit hohem Gasdruck und grosser, gleichmässiger Energieleistung bei sehr kleiner, freier ElektroneEverdii'ängung und sehr kurzer Impulsdauer zur Aufgabe.
Die Aufgabe wird durch die Gaslaseranordnung der Erfindung ^ mit einer durch Elektronenstrahlen ausgelösten elektrischen
Entladung gelöst, in der ein wenigstens ein Paar gegenüberliegende Elektroden enthaltender optischer Resonator ein unter hohem Druck stehendes, gasförmiges Lasermittel enthält, eine Spannungsquelle an die Elektroden eine etwas unter der Durchschlagsspannung des Lasermittels liegende Spannung legt, und ein Elektronenbeschleuniger über einen die Elektronenimpulse desselben auf die Querschnittsfläche des optischen
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Resonators bringenden Elektronenstreuer an den Resonator angeschlossen ist.
Infolge der sehr kurzen Zeitdauer und grossen Gleichmässigkeit der Impulse geladener Teilchen und der ausgelösten Entladung wird das Lasermittel bei sehr geringer freier Elektronenverdrängung mit sehr hohen und gleichmässigen Energiemengen beaufschlagt.
Die Zeichnung zeigt die erfindungsgemässe Gaslaseranordnung in einer Oszillatorschaltung.
Die Gaslaseranordnung in Oszillatorschaltung 10 mit einer durch Elektronenstrahlung ausgelösten elektrischen Entladung enthält einen Elektronenimpulsbesehleimiger 12 und ein Druckgefäss oder -gehäuse 15- Dieses wird durch die beiden Plattenelektroden mit grosser Wirkfläche 14-, die gegenüberliegenden, isolierenden Seitenwände 15 z. B. aus Natriumchlorid, die gegenüberliegenden, für Elektronen hoher Energie durchlässigen Endwände 16, z. B. aus einer druckfesten Metallfolie wie Aluminium, gebildet· Das Gehäuse 13 enthält ein unter hohem Druck stehendes, gasförmiges Lasermittel 11 wie z. B. eine OOp-Np-He-Mischung. Ein Paar Spiegel 17 ist in der gezeigten Ausbildung zu beiden Seiten des Gehäuses im Abstand von den Seitenwänden 15 angeordnet und begrenzt mit den
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Elektroden 14 einen optischen Hohlraum oder Resonator. Die Spiegel können auch in dem Gehäuse einstückig mit diesem ausgebildet oder aussen an den Gehäusewänden befestigt werden. Der eine Spiegel hat z. B. eine 100%ige Reflektivität, während die Reflektivität des anderen Spiegels für eine maximale Laserleist\ing eingestellt ist.
Das Gehäuse wird in dem durch die Pfeile 18 angedeuteten Strah lengang eines Beschleunigers 12 angeordnet. Zwischen den Beschleuniger und das Gehäuse wird z. B. mit Magnetfeldern oder streuenden Filmschichten arbeitender Elektronenverteiler 19 geschaltet. Dieser streut den Elektronenstrahl, so dass er den gleichen Querschnitt wie das Gehäuse 15 annimmt. Hierzu kann auch noch ein verjüngter Zwischenteil 20 vorgesehen werden. Eine Kondensatorenbank 21 ist über die Leitungen ·&£-, mit den Plattenelektroden 14 verbunden und kann durch die ^ über die Leitung 25 angeschlossene Kraftquelle 24 aufgeladen werden.
Die Arbeitsweise der Anordnung ist wie folgt: Zunächst wird die Kondensatorenbank 21 aufgeladen, bis die an die Elektroden 14 gelegte Spannung etwas unter der Durchschlagsspannung des gasförmigen Lasermittels 11 in dem Gehäuse 13 liegt. Der Beschleuniger 12 erzeugt einen kurzen Elektronenimpuls oder -strahl hoher Energie (etwa der Energie-
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stufe der Elektronenruheenergie entsprechend). Dieser durchdringt annähernd mit Lichtgeschwindigkeit das gasförmige Lasermittel 11, ionisiert es dabei leicht durch Elektronenkollision und löst zwischen den Plattenelektroden 14 eine starke aber gleichmässige elektrische En13adung aus. Der Elektronenimpuls 18 und die elektrische Entladung stimulieren das Lasermittel und erzeugen eine grosse Besetzungsinversion. Diese verläuft in einer aus GO2-N2-He bestehenden Lasermischung (beispielsweise 40% GO2, 50% N2 und 10% He, Jeweils in Volumen-%) etwa in der Weise, dass das stimulierte N2 durch Resonanz Energie auf das unstimulierte CO2 überträgt, wodurch der Energiezustand der GOp Moleküle eine Besetzungsinversion erfährt. Die spontane Emission des stimulierten CO2 löst den Lasereffekt aus. Das von den Kondensatoren zwischen den Elektroden aufgebaute elektrische leid besitzt z.B. eine Spannung von 5 KV/cm und die Impulsenergie des Beschleunigers beträgt etwa 300 Joule. Es lassen sich hierdurch Laserimpulse mit einem Gesamtenergiegehalt von etwa 20.000 Joule erzeugen, die in etwa 0,5 /u-Sek. mit einer Nennleistung von ca. 10 Megawatt abgegeben werden.
Im Gegensatz zu bekannten Gaslasersystemen ist in der erfindungsgemässen durch Elektronenstrahlen bzw. -impulse ausgelösten Anordnung das das Lasermittel bildende Hochdruckgas zwischen Plattenelektroden angeordnet und wird durch Auslösen
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einer gleiohmässigen Entladung durch den Elektronenstrahlimpuls hoher Energie gepumpt. Infolgedessen ist die Laserenergie pro Impuls um wenigstens 3 Grössenordnungen höher als in bekannten Lasersystemen.
Der in der erläuterten Ausbildung senkrecht zum optischen Strahlengang zwischen den Spiegeln verlaufende Elektronenstrahl kann auch stattdessen parallel zu diesem geführt werden.
Anstelle flacher Elektrodenplatten können auch an Ballast gelegte, miteinander verbundene Feldemissxonsspxtzen verwendet werden.
Die als Oszillator gezeigte Anordnung kann auch unter Fortfall der Spiegel als Verstärker verwendet werden. Das Licht wird dann durch die durchsichtigen Wände 15 und das Lasermittel 11 geführt. Bei Auftreten eines Energiezuwachses wird ein äusserer Oszillatorinipuls durch das Lasermittel geführt und dadurch verstärkt.
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Claims (8)

  1. Pat ent an spräche
    flJ Gaslaseranordnung mit einer durch Elektronenstrahlen ausgelösten elektrischen Entladung, dadurch gekennzeichnet, dass ein wenigstens ein Paar gegenüberliegende Elektroden enthaltender optischer Resonator ein unter hohem Druck stehendes, gasförmiges Lasermittel enthält, eine Spannungsquelle an die Elektroden eine etwas unter der Durchschlagespannung des Lasermittels liegende Spannung legt, und ein Elektronenbeschleuniger (12) über einen die Elektronenimpulse desselben auf die Querschnittsfläche des optischen Resonators bringenden Elektronenstreuer (19) an den Resonator angeschlossen ist.
  2. 2. Gaslaseranordnung gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die gegenüberliegenden Elektroden (M) mit lichtdurchlässigen, isolierenden, gegenüberliegenden Seitenwänden (15) und für Elektronen hoher Energie durchlässigen Endwänden (16) ein das Lasermittel enthaltendes Gehäuse (13) bilden, an dessen Seitenwänden die mit den Elektroden den optischen Resonator begrenzenden Spiegel (1?) vorgesehen sind·
  3. 3. Gaslaseranordnung gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden aus Kupfer, die Seitenwände aus NaOl und die Endwände aus einer geeigneten Metallfolie bestehen.
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  4. 4. Gaslaseranordmrng gemäss Anspruch. 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Spiegel eine Eeflektivität von 100% hat und die Reflektivität eines weiteren Spiegels für eine maximale Laserleistung eingestellt ist.
  5. 5. Gaslaseranordnung gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektronenstreuer Magnetfelder oder streuende Filmschichten enthält.
  6. 6. Gaslaseranordnung gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die ßpannungsquelle aus einer Kondensatorenbank (21) besteht.
  7. 7. Gaslaseranordnung gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Lasermittel aus einer Hischung von GOg, IU und He besteht.
  8. 8. Gaslaseranordnung gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden aus Platten mit grosser Wirkfläche bestehen.
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DE19712124431 1970-05-25 1971-05-17 Gaslaseranordnung Pending DE2124431A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US4003770A 1970-05-25 1970-05-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2124431A1 true DE2124431A1 (de) 1971-12-09

Family

ID=21908744

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19712124431 Pending DE2124431A1 (de) 1970-05-25 1971-05-17 Gaslaseranordnung

Country Status (4)

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US (1) US3641454A (de)
DE (1) DE2124431A1 (de)
FR (1) FR2090266B1 (de)
GB (1) GB1289655A (de)

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Also Published As

Publication number Publication date
GB1289655A (de) 1972-09-20
US3641454A (en) 1972-02-08
FR2090266A1 (de) 1972-01-14
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