DE2122475B2 - Multi-layer printed circuit board using thick film technology for wiring integrated semiconductor components - Google Patents
Multi-layer printed circuit board using thick film technology for wiring integrated semiconductor componentsInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine mehrlagige in so Dickfilmtechnik ausgeführte Leiterplatte nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Eine derartige Leiterplatte wird als bekannt vorausgesetzt (»Der Elektroniker«, Nr. 2, 1970, S. 57 bis 71).The invention relates to a multi-layer in such a thick film technology printed circuit board executed according to the preamble of claim 1. Such a circuit board is assumed to be known ( "The electronics", no. 2, 1970, pages 57 to 71).
Halbleiterspeicher bestehen aus einer großen Anzahl von monolithischen Halbleiterbausteinen, die miteinander und mit Ansteuerschaltungen verbunden werden müssen. Dazu werden die Halbleiterbausteine oder Chips auf Leiterplatten angeordnet, auf die Leiterbahnanordnungen aufgebracht sind. Die Leiterbahnen verlaufen dabei gewöhnlich außerhalb der Halbleiterbausteine. Zur Verdrahtung der Halbleiterbausteine ist aber eine verhältnismäßig große Anzahl von Leiterbahnen notwendig, der Platzbedarf für die Leiterbahnen also sehr groß. Das bedeutet aber, daß die Anzahl der 6S zu kontaktierenden Halbleiterbausteine auf der Leiterplatte klein sein wird.Semiconductor memories consist of a large number of monolithic semiconductor components that have to be connected to one another and to control circuits. For this purpose, the semiconductor modules or chips are arranged on circuit boards to which conductor track arrangements are applied. The conductor tracks usually run outside of the semiconductor components. To wire the semiconductor components, however, a relatively large number of conductor tracks is necessary, so the space requirement for the conductor tracks is very large. However, this means that the number of 6 S semiconductor components to be contacted on the circuit board will be small.
Aus der US-Patentschrift 34 47 038 ist eine Leiterbahnanordnung bekannt, bei der die Leiterbahnen zu mindest zum Teil unterhalb der Halbleiterbausteini verlaufen. Dies wird dadurch ermöglicht, daß auf dei Leiterbahnen Erhöhungen vorgesehen sind, die al· Kontaktflächen für die Halbleiterbausteine verwende werden. Die Leiterbahnen können sich auf der Leiter platte kreuzen, sie sind jedoch an den Kreuzungssteller gegeneinander isoliert Ein Nachteil dieser Leiterbahn anordnung besteht darin, daß die Leiterbahnen aus schließlich auf der Oberfläche der Leiterplatte verlau fen. Dadurch ist die Anzahl der zur Kontaktierung mil den Halbleiterbausteinen verwendbaren Leiterbahner begrenzt.From US patent specification 34 47 038 a conductor track arrangement is known in which the conductor tracks to run at least partially below the semiconductor modules. This is made possible by the fact that on dei Raised conductor tracks are provided which use as contact areas for the semiconductor modules will. The conductor tracks can cross on the circuit board, but they are at the crossing plate isolated from each other A disadvantage of this conductor track arrangement is that the conductor tracks finally verlau fen on the surface of the circuit board. This means that the number of mil the semiconductor components usable conductor tracks limited.
Es ist weiterhin bekannt, Leiterbahnen in verschiedenen Leitungsebenen anzuordnen (z. B. englische Pa tentschrift 11 37 907, französische Patentschrifi 15 64 787). Dazu können in Halbleitermaterial Leiterbahnen angeordnet sein, die sich auch kreuzen können. Die Leiterbahnen werden dabei in das Halbleitermaterial hineindiffundiert. Die Herstellung einer derart aufgebauten mehrlagigen Leiterplatte ist aber sehr aufwendig. Weiterhin ist es möglich, für die sich auf der obersten Leitungsebene der Leiterplatte kreuzenden Leiterbahnen Überbrückungsglieder vorzusehen. Diese Überbrückungsglieder können ebenfalls aus Halbleitermaterial bestehen. Auch in diesem Falle werden die Leiterbahnen in das Halbleitermaterial eindiffundiert, so daß die oben angegebenen Nachteile auch hier auftreten. It is also known to arrange conductor tracks in different line levels (e.g. English Pa tentschrift 11 37 907, French patent specification 15 64 787). For this purpose, conductor tracks, which can also cross, can be arranged in the semiconductor material. The conductor tracks are diffused into the semiconductor material. The manufacture of a multilayer circuit board is very expensive. It is also possible for those on the Provide bridging links for the uppermost line level of the printed circuit board crossing conductor tracks. These Bridging links can also be made of semiconductor material. In this case too, the Conductor tracks diffused into the semiconductor material, so that the above-mentioned disadvantages also occur here.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht dagegen darin, eine mehrlagige, in Dickfilmtechnik ausgeführte Leiterplatte gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 anzugeben, bei der die Kontaktflächen und deren Verbindungen zu den teilweise auch innenliegenden Leiterbahnen einfach hergestellt werden können und bei der es möglich ist, die Halbleiterbausteine in sehr engen Teilungsrastern anzuordnen. Diese Aufgabe wird durch die Kombination der im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst.The object on which the invention is based, on the other hand, is to provide a multilayer, using thick film technology specified printed circuit board according to the preamble of claim 1, in which the contact surfaces and their connections to the partially internal conductor tracks can be easily established can and with which it is possible to arrange the semiconductor components in very narrow pitch grids. These The object is achieved by the combination of the features specified in the characterizing part of claim 1.
Mit Hilfe der erfindungsgemäßen Leiterplatte, bei der ein Teil der Leiterbahnanordnung in an sich bekannter Weise unterhalb der Halbleiterbausteine verläuft, kann die Packungsdichte der Halbleiterbausteine erheblich erhöht werden. Ein weiterer Vorteil ist, daß die Kontaktflächen für die Haibleiterbausteine mechanisch bearbeitet werden können. Das ist z. B. wichtig, wenn Rückstände auf den Kontaktflächen beim Auswechseln von Halbleiterbausteinen entfernt werden müssen. Die Verbindungsleitungen von Leiterbahnen der innenüegenden Leitungsebenen zu den Kontaktflächen, die ja in der äußersten Leitungsebene liegen, können außerhalb der Bausteinfläche angeordnet werden und für elektrische Messungen benutzt werden.With the help of the circuit board according to the invention, in which part of the conductor track arrangement is known per se Way below the semiconductor components, the packing density of the semiconductor components can can be increased significantly. Another advantage is that the contact surfaces for the semiconductor modules are mechanical can be edited. This is e.g. B. important if there are residues on the contact surfaces when replacing must be removed from semiconductor components. The connecting lines of conductor tracks the internal line levels to the contact surfaces, which are located on the outermost management level can be arranged outside of the module area and used for electrical measurements.
Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.Further developments of the invention emerge from the subclaims.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung, das in verschiedenen Stadien seiner Herstellung in den Figuren dargestellt ist, wird im folgenden erläutert. Es zeigt in vergrößertem MaßstabAn embodiment of the invention shown in various stages of its manufacture in the figures is illustrated is explained below. It shows on an enlarged scale
F i g. 1 die erste auf einem Substrat aufgebrachte Leitungsebene,F i g. 1 the first line level applied to a substrate,
F i g. 2 einen Schnitt durch die Leitungsebene und das Substrat,F i g. 2 a section through the line level and the substrate,
F i g. 3 die erste Isolationsebene,F i g. 3 the first level of isolation,
Fig.4 einen Schnitt durch die Anordnung der F i g. 3,4 shows a section through the arrangement of the F i g. 3,
F i g. 5 eine zweite aufgebrachte Leitungsebene,F i g. 5 a second management level,
Fig.6 einen Schnitt durch die Anordnung der6 shows a section through the arrangement of the
1515th
F i g. 7 eine perspektivische Ansicht eines Teiles der Leiterplatte.F i g. 7 is a perspective view of part of the circuit board.
Auf einem Substrat SLZ(F i g. 1), das z. B. aus Aluminium-Oxyd bestehen kann, wird nach bekannten Verfahren der Dickfilmtechnik die erste Leitungsebene aufgebracht, die aus Leiterbahnen L1 besteht. Gleichzeitig mit dem Aufbringen der Leiterbahnen L1 wird auch der Unterbau für die Kontaktflächen geschaffen, der in dem Ausführungsbeispiel aus Flecken FL aus !eitendem Material besteht. Da die Kontaktflächen im Ausführungsbeispiel nicht oberhalb von Leiterbahnen L1 der ersten Leitungsebene angeordnet sind, müssen ebenso viele Flecken FL vorgesehen werden, wie es Kontaktflächen in der äußersten Leitungsebene gibtOn a substrate SLZ (Fig. 1), the z. B. can consist of aluminum oxide, the first line level is applied by known methods of thick film technology, which consists of conductor tracks L1. Simultaneously with the application of the conductor tracks L1, the substructure for the contact surfaces is also created, which in the exemplary embodiment consists of patches FL of conductive material. Since the contact areas in the exemplary embodiment are not arranged above conductor tracks L1 of the first line level, as many spots FL must be provided as there are contact areas in the outermost line level
F i g- 2 zeigt einen Schnitt durch die Anordnung der Fig. 1. SLZ ist wiederum das Substrat, Li sind die Leiterbahnen und FL sind die Flecken für den Kontaktunterbau. FIG. 2 shows a section through the arrangement of FIG. 1. SLZ is again the substrate, Li are the conductor tracks and FL are the spots for the contact substructure.
Auf die erste Leitungsebene wird nun lsolationsmaterial aufgebracht. Das lsolationsmaierial ist — wie F i g· 3 ζε'8ι "~ mlt ^ bezeichnet. Auf die erste Leitungsebene folgt also eine erste Isolationsebene. Überall dort, wo eine elektrische Verbindung zwischen der ersten Leitungsebene und der zweiten Leitungsebene hergestellt werden soll, wird das Isolationsmaterial der ersten Isolationsebene freigelassen. Die Durchkontaktierungen durch die erste Isolationsebene sind mit D bezeichnet.Insulation material is then applied to the first line level. The insulation layer is - as shown in Fig. 3 ζε '8 ι "~ mlt ^ . The first line level is followed by a first insulation level Insulation material of the first insulation level left free The vias through the first insulation level are denoted by D.
F i g. 4 zeigt einen Schnitt durch die Anordnung der F i g 3. Aus ihr ist ersichtlich, daß nun die Leiterplatte aus einem Substrat SLZ, der ersten Leitungsebene und der ersten Isolationsebene besteht.F i g. 4 shows a section through the arrangement of FIG. 3. It can be seen from it that the circuit board consists of a substrate SLZ, the first line level and the first insulation level.
Auf die Isolationsebene wird — wie F i g. 5 und 6 darstellen — d>e zweite Leitungsebene aufgebracht. Die Leiterbahnen der zweiten Leitungsebene verlaufen senkrecht zu den Leiterbahnen der ersten Leitungsebene. Sie sind mit L 2 benannt. Da die zweite Leitungsebene gleichzeitig die äußerste Leitungsebene sein soll, sind in oder auf ihr auch die Kontaktflächen zur Kontaktierung mit den Halbleiterbausteinen angeordnet, sind zur leichteren Erkennbarkeit flächen KF zur Erleichterung in einer Zeichnung gezeigt. Bei der Realisierung einer Leiterplatte können selbstverständlich diese verschiedenen Möglichkeiten nichi gleichzeitig verwendet werden.As shown in FIG. 5 and 6 represent - the second line level applied. The conductor tracks of the second line level run perpendicular to the conductor tracks of the first line level. They are named L 2. Since the second line level should also be the outermost line level, the contact areas for contacting the semiconductor components are also arranged in or on it, areas KF are shown in a drawing for easier recognition. When realizing a printed circuit board, of course, these different possibilities cannot be used at the same time.
Mit SU ist wiederum das Substrat benannt, auf dem dann abwechselnd eine Leitungsebene und eine Isolalionsebene angeordnet ist. Im folgenden sollen nun die verschiedenen Möglichkeiten des Unterbaues der Kontaktflächen ACFbeschrieben werden: SU is again the name of the substrate on which a line level and an isolation level are arranged alternately. In the following, the various options for the substructure of the ACF contact surfaces will now be described:
Die Kontaktfläche ACF4 liegt direkt über einer Leiterbahn der ersten Leitungsebene. Aus diesem Grunde kann die Leiterbahn L 1 für den Kontaktunterbau verwendet werden. Auf die Leiterbahn L 1 folgt selbstverständlich eine Isolationsebene IS, dann eine Verbindung der Kontaktfläche ACF4 in der äußersten Leitungsebene. Diese besteht in diesem Falle aus einer Verbindungsleitung VL zu einer Verbindungsstelle VS, durch die die Verbindungsleitung VL mit einer Leiterbahn L 1 der ersten Leitungsebene verbunden ist. Die Kontaktfläche KF4 ist als zusätzlicher Fleck auf die Verbindungsleitung VL aufgesetzt, d. h. die Kontaktfläche KF4 liegt höher als die Leitungsbahnen L 2 der zweiten Leitungsebene.The contact area ACF4 lies directly over a conductor track of the first line level. For this reason, the conductor track L 1 can be used for the contact substructure. Of course, the conductor track L 1 is followed by an insulation level IS, then a connection of the contact area ACF4 in the outermost line level. This consists in this case of a connection line VL to a connection point VS, through which the connection line VL is connected to a conductor track L 1 of the first line level. The contact surface KF4 is placed on the connecting line VL as an additional spot, ie the contact surface KF4 is higher than the conductor tracks L 2 of the second line level.
Die Koiitaktflächen KF5, KFb sind ebenfalls oberhalb der Leiterbahn L 1 der ersten Leitungsebene angebracht. Bei der Kontaktfläche KF5 ist jedoch als Unterbau ein Flecken FL aus leitendem Material direkt auf die Leiterbahn L 1 der ersten Leitungsebene aufgebracht. Zwischen dem Flecken FL und der Kontaktfläche KF5 liegt eine Isolierschicht. Bei der Kontaktfläche ACF6 wird direkt auf die Verbindungsleitung zu der Leiterbahn L 2 der zweiten Leitungsebene ein Flecken aufgesetzt.The contact surfaces KF5, KFb are also attached above the conductor track L 1 of the first line level. In the case of the contact surface KF5 , however, a patch FL made of conductive material is applied directly to the conductor track L 1 of the first line level as a substructure. An insulating layer lies between the patch FL and the contact surface KF5. In the case of the contact area ACF6, a patch is placed directly on the connection line to the conductor track L 2 of the second line level.
Die Kontaktflächen KF4, /CF5, KF6 liegen alle neben den Leiterbahnen L 2 der zweiten Leitungsebene. Die Kontaktfläche ACF7 ist dagegen über der Leiterbahn L 2 der zweiten Leitungsebene angeordnet. Der sonstige Aufbau des Unterbaues, der unter der Kontaktfläche ACF liegt, entspricht demjenigen unterhalb der Kontaktfläche ACF6.The contact areas KF4, / CF5, KF6 are all next to the conductor tracks L 2 of the second line level. The contact area ACF7, on the other hand, is arranged above the conductor track L 2 of the second line level. The rest of the structure of the substructure, which lies under the contact surface ACF, corresponds to that under the contact surface ACF6.
Die Kontaktflächen ACF4, ACF5, ACF6, ACF7 besitzen alle mindestens einen Flecken aus leitendem Material,The contact surfaces ACF4, ACF5, ACF6, ACF7 all have at least one patch of conductive material,
4040
Ausführung der Leiterplatte die Leiterbahnen L 1 und KF1. Da unterhalb der KontaktflächeExecution of the circuit board the conductor tracks L 1 and KF 1. Da below the contact surface
AUSfzu eimern Teil unterhalb des Ha.bleiterbausu.ns 50 ba^r, einer Lemingsebene -^,^-^rer AUSf to a bucket part below the semiconductor building 50 ba ^ r, a Lemings level - ^, ^ - ^ rer
wendig.agile.
aus F ifrom F i
und 6 daß die Kontaktflächen auch auf der 55 Kontaktunterbau vorgesehen werden. Dasselbe giltand 6 that the contact surfaces are also provided on the 55 contact substructure. The same is true
In dem Ausführungsbeispiel der F i g. 1 bis 6 besteht die Leiterplatte aus einem Substrat, zwei Leitungsebenen und einer Isolationsebene. Die Leiterplatte kann selbstverständlich auch aus mehr Leitungsebenen und entsprechend mehr Isolaiionsebenen aufgebaut sein. Die Herstellung einer derartigen Leiterplatte in Dickfilmtechnik ist allgemein bekannt und kann der Literatur entnommen werden.In the embodiment of FIG. 1 to 6 consists the circuit board consists of a substrate, two line levels and an insulation level. The circuit board can Of course, it can also be made up of more management levels and correspondingly more insulation levels. The production of such a printed circuit board using thick film technology is generally known and can be found in the literature can be removed.
In F i g. 7 ist ein Teil der Leiterplatte in perspektivischer Ansicht dargestellt. Dabei sind verschiedene 1 des Kontaktunterbaues für die Kontakt-In Fig. Fig. 7 is a part of the circuit board in perspective View shown. There are different 1 of the contact substructure for the contact
KF wird erreicht, daß die Kontaktflächen alle auf gleicher Höhe liegen und daß die Kontaktflächen mindestens dieselbe Höhe haben wie die Leiterbahnen der äußersten Leitungsebene. Somit können die Halbleiterbausteine HBS auf die Kontaktflächen aufgesetzt werden und kontaktiert werden und trotzdem unterhalb der Halbleiterbausteine Leiterbahnen verlaufen. KF ensures that the contact surfaces are all at the same height and that the contact surfaces have at least the same height as the conductor tracks of the outermost line level. Thus, the semiconductor modules HBS can be placed on the contact surfaces and contacted and still run underneath the semiconductor modules conductor tracks.
Die übrigen Kontaktflächen ACF8, ACF12 sind nur im Prinzip angedeutet, ebenso wie ein Teil der Leiterbahnen der Leitungsebenen durch strichlierte Linien schematisch dargestellt sind. Mit M ist ein Teil der Leiter-The remaining contact areas ACF8, ACF12 are only indicated in principle, just as part of the conductor tracks of the line levels are shown schematically by dashed lines. With M is part of the ladder
bahnen der äußersten Leitungsebene bezeichnet, der als Meßpunkt für Prüfzwecke verwendet werden kann. Dieser Meßpunkt M liegt außerhalb der Bausteingeometrie. KFT, KFS', KF9' sind Kontaktflächen für einen benachbart liegenden Halbleiterbaustein.tracks of the outermost line level, which can be used as a measuring point for test purposes. This measuring point M lies outside the block geometry. KFT, KFS ', KF9' are contact areas for an adjacent semiconductor component.
Hierzu 4 Blatt ZeichnungenFor this purpose 4 sheets of drawings
Claims (5)
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Legal Events
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