DE2100971B2 - Verfahren und Bad zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Zwischenschichten - Google Patents
Verfahren und Bad zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über ZwischenschichtenInfo
- Publication number
- DE2100971B2 DE2100971B2 DE2100971A DE2100971A DE2100971B2 DE 2100971 B2 DE2100971 B2 DE 2100971B2 DE 2100971 A DE2100971 A DE 2100971A DE 2100971 A DE2100971 A DE 2100971A DE 2100971 B2 DE2100971 B2 DE 2100971B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- intermediate layers
- layers
- nickel
- deposition
- bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 8
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 7
- -1 chlorine ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QVYYOKWPCQYKEY-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co] Chemical compound [Fe].[Co] QVYYOKWPCQYKEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical class Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropionic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1 XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- XNERWVPQCYSMLC-UHFFFAOYSA-N phenylpropiolic acid Chemical compound OC(=O)C#CC1=CC=CC=C1 XNERWVPQCYSMLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
- C25D5/14—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/625—Discontinuous layers, e.g. microcracked layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
50
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Nickel-, Kobalt-,
Nickel-Eisen-, Nickel-Kobalt-, Eisen-Kobalt-Zwischenschichten, wobei zunächst die Zwischenschichten aus
Ionen eines oder mehrerer dieser Metalle sowie Ammonium- und Chlorionen enthaltenden Bädern bei
Temperaturen von 35 bis 70° C, insbesondere 40 bis 5O0C, und Stromdichten von 3 bis 20 A/dm2, insbesondere
5 bis 10 A/dm2, elektrolytisch abgeschieden werden und hierauf die Chromschichten aus für die Abscheidung
von Chromschichten mit hoher innerer Spannung und niedriger Bruchdehnung üblichen
Chrombädern aufgebracht werden.
Mit einem bekannten Verfahren der genannten Gat· tung (vgl. GB-PS 11 48 433) können etwa 120 bis 1200
Risse/cm erzeugt werden. Die Zwischenschichten weisen innere Spannungen von nur etwa 280 N/mm2 auf,
so daß der RiObildungsprozeß praktisch nicht spontan, sondern erst nach einer zusätzlichen Wärmebehandlung
eintritt. Diese zusätzliche Wärmtbehandlung läßt sich reproduzierbar nicht führen, folglich ist die Rißverteilung
sehr ungleichmäßig und das Korrosionsschutzverhalten nur mäßig. .
Zur Herstellung spannungsreicher Nickelschichten
sind Nickelelektrolyte bekannt (vgl. DT-Q- 14 96 974
und 16 21 151), welche aliphatische, ein- och üehrbasische
organische Säuren bzw. deren Nickelsalze und außerdem Alkalisalze von starken Säuren, z.B. Fluoride
Fluoborate, Sulfamate und Sulfate des Natriums, Kaliums oder Ammoniums neben Nickelchlorid, Nikkeisulfat
oder Nickelfluoborat enthalten. Die aus derartigen Nickelbädern erzeugten Nickelzwischenschichten
besitzen zwar höhere, aber immer noch nicht ausreichende innere Spannungen in einer Größenordnung
von etwa 980 N/mm2. Auch die Bruchdehnung der Zwischenschichten
liegt mit etwa 0.5% noch vergleichsweise hoch. Hinzu kommt, daß das Potential der Zwischenschicht
(in einer Corrodkote-Lösung nach DIN 50 958 ohne Kaolin gegen eine gesättigte Kalomelelektrode
gemessen) - 300 bis - 500 mV beträgt, was bei gewis sen Korrosionsvorgängen einen eindeutig negativen
Einfluß haben kann.
Ein weiterer Nachteil ist darin zu sehen, daß die sich niederschlagenden Nickelschichten an Stellen hoher
Stromdichte oftmals milchig-trüb werden, wenn eine für die Rißbildung ausreichende Schichtdicke erzeugt
Bekannt ist es auch (vgl. B rugger »Die galvanische
Vernicklung«, [1967], S. 150/51 bzw. Zeitschrift »Chemisches Zentralblatt«, Nr. 41 [1967], S. 255, Ref.
2351) daß Clanzzusätze zu Nickelbädern in der Regel die inneren Spannungen erhöhen und ein derartiger
Glanzzusatz aus einer wäßrigen ungesättigten Carbonsäure, wie Phenylpropiolsäure, und/oder einem Ester
und/oder einem Amid bestehen kann. Das hat jedoch auf die Entwicklung von einwandfreien mikrorissigen
Chromschichten bisher keinen Einfluß ausgeübt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, reproduzierbare mikrorissige Chromüberzüge mit einwandfreiem
Korrosionsschutzverhalten zu erzeugen.
Die Erfindung besteht darin, daß für die Abscheidung der Zwischenschichten zusätzlich noch wenigstens eine
aromatische Carbonsäure oder deren Salze in Mengen von 5 bis 70 g/l bzw. bis zur Löslichkeitsgrenze der jeweils
eingesetzten Verbindung enthaltende Elektrolyten eingesetzt werden. Gegenstand der Erfindung ist
auch ein Bad entsprechender Zusammensetzung zum elektrolytischen Abscheiden der beschriebenen Zwischenschichten.
Die aromatischen Carbonsäuren — beispielsweise Benzolsäure, o-, m- und p-Terephthalsäure sowie Benzylessigsäure
— können dem Elektrolytbad als solche oder aber auch in Form von Anhydrid zugesetzt werden.
Besonders gute Ergebnisse werden mit 20 bis 60 g/l Phthalsäure erzielt.
Die Metallionen sind in den Zwischenschichtbädern vorzugsweise in Mengen von 30 bis 100 g/l enthalten,
wobei die Metalle Nickel, Kobalt und Eisen als Sulfate,-Sulfamate,
Chloride, Fluoborate, Fluoride und/oder Acetate eingesetzt werden können. Bevorzugt wird die
Abscheidung einer Nickelzwischenschicht. Die Bäder sollten weiterhin 10 bis 150 g/l Chlorid als Nickel-, Kobalt-
bzw. Eisenchlorid oder als Chlorid des Ammoniums, Magnesiums oder der Alkalimetalle und - gegebenenfalls
neben Borsäure in üblichen Mengen — 10
21 OO
bis 100 g/i Ammonium enthalten. Es empfiehlt sich, bei
einem pH-Wert von 2,5 bis 6, insbesondere 3,5 bis 3,9 zu arbeiten und eine Expositionszeit von 1 bis 10 Minuten,
vorzugsweise 1 bis 3 Minuten, zu wählen.
Durch die Erfindung werden folgende Vorteile er-
reicht:
Auch bei vergleichsweise hohen Arbeitstemperaturen liegen die inneren Spannungen der Zwischenschichten
mit über 1960 N/mm2 sehr hoch und die Bruchdehnungszahlen mit Werten unter 0,1% äußerst
niedrig; die Rißbildung erfolgt spontan und ist extrem gleichmäßig. Eintrübungen der Zwischenschichten werden
nicht beobachtet. Die Potentiale (in Corrodkote-L.ösung gegen eine gesättigte Kalomelelektrode gemessen)
haben eine Größenordnung von -100 bis — 15OmV und greifen "somit nicht nachteilig in das
Korrosionsschutzverhalten ein.
Aus einem Bad mit 50 bis 60 g/l Nickel, 20 bis 30 g/l Ammonium, 90 bis 100 g/l Chlorid sowie 30 bis 50 g/l
Phthalsäure wurde bei einem pH-Wert zwischen 3,0 und 3,9, einer Temperatur von 40 bis 500C und einer
Stromdichte von 5 bis 10 A/dm2 eine Nickelzwischenschicht aufgebracht Anschließend wurde aus einem
Bad mit 300 g/l Chromsäure, 2,5 g/l Schwefelsäure und 1 bis 3 g/l Aluminiumsilicofluorid bei 300C und 6 A/dm2
verchromt. Die Chromschicht wies überall eine sehr gleichmäßige Rißverteilung mit 300 bis 850 Rissen/cm
auf.
Claims (6)
1. Verfahren zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Nickel-, Kobalt-, Nickel-Eisen-,
Nickel-Kobalt-, Eisen-Kobalt-Zwischenschichten, wobei zunächst die Zwischenschichten
aus Ionen eines oder mehrerer dieser Metalle sowie Ammonium- und Chlorionen enthaltenden Bädern
bei Temperaturen von 35 bis 70°C, insbesondere 40 bis 50°C, und Stromdichten von 3 bis 20 A/dm2, insbesondere
5 bis 10 A/dm2, elektrolytisch abgeschieden werden und hierauf die Chromschichten aus für
die Abscheidung von Chromschichten mit hoher innerer Spannung und niedriger Bruchdehnung üblichen
Chrombädern aufgebracht werden, d a durch gekennzeichnet, daß für die Abscheidung
der Zwischenschichten zusätzlich wenigstens eine aromatische Carbonsäure oder deren Salze
in Mengen von 5 bis 70 g/l bis zur Löslichkeitsgrenze der jeweils eingesetzten Verbindung enthaltende
Elektrolyten eingesetzt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für die Abscheidung der Zwischenschichten
die aromatische Carbonsäure als Zusatz in Form von Anhydrid enthaltende Elektrolyten
eingesetzt werden.
3. Verfahren nach Anspruch! oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß für die Abscheidung der Zwischenschichten 20 bis 60 g/l Phthalsäure enthaltende
Elektrolyten eingesetzt werden.
4. Bad zum elektroiytischen Abscheiden von Zwischenschichten
bei einem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, welches die jeweiligen Metallionen
sowie Ammonium- und Chlorionen enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich noch wenigstens
eine aromatische Carbonsäure oder deren Salze in Mengen von 5 bis 70 g/l bzw. bis zur Löslichkeitsgrenze
der jeweils eingesetzten Verbindung enthält.
5. Bad nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß es die aromatische Carbonsäure in Form von
Anhydrid enthält.
6. Bad nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß es 20 bis 60 g/l Phthalsäure enthält.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2100971A DE2100971B2 (de) | 1971-01-11 | 1971-01-11 | Verfahren und Bad zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Zwischenschichten |
| FR717128455A FR2123246B1 (de) | 1971-01-11 | 1971-08-03 | |
| SE7200113A SE401209B (sv) | 1971-01-11 | 1972-01-05 | Forfarande for framstellning av ett kromskikt med mikrosprickor over ett mellanskikt av nickel, kobolt, nickel-jern, nickel-kobolt eller jern-kobolt samt bad for avskiljning av mellanskiktet |
| GB83772A GB1371172A (en) | 1971-01-11 | 1972-01-07 | Process and bath for electrolytically producing micro-fissured chrome layers |
| IT19189/72A IT946426B (it) | 1971-01-11 | 1972-01-10 | Procedimento e bagno per la prepa razione di strati di cromo micro fessurati |
| US00216724A US3753872A (en) | 1971-01-11 | 1972-01-10 | Method of and bath for producing microcrack chromium coatings |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2100971A DE2100971B2 (de) | 1971-01-11 | 1971-01-11 | Verfahren und Bad zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Zwischenschichten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2100971A1 DE2100971A1 (de) | 1972-07-13 |
| DE2100971B2 true DE2100971B2 (de) | 1975-04-17 |
Family
ID=5795549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2100971A Pending DE2100971B2 (de) | 1971-01-11 | 1971-01-11 | Verfahren und Bad zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Zwischenschichten |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3753872A (de) |
| DE (1) | DE2100971B2 (de) |
| FR (1) | FR2123246B1 (de) |
| GB (1) | GB1371172A (de) |
| IT (1) | IT946426B (de) |
| SE (1) | SE401209B (de) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2237807C3 (de) * | 1972-08-01 | 1978-04-27 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss | Verfahren zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Zwischenschichten |
| US5871641A (en) * | 1996-05-30 | 1999-02-16 | H-Tech, Inc. | Fluid filter with pleated septum |
| US20060096868A1 (en) * | 2004-11-10 | 2006-05-11 | Siona Bunce | Nickel electroplating bath designed to replace monovalent copper strike solutions |
| US9315736B2 (en) | 2010-12-16 | 2016-04-19 | Energia Technologies, Inc. | Methods of fuel production |
| EP2651557A4 (de) | 2010-12-16 | 2014-07-02 | En Technologies Inc | Katalysatoren, verfahren zur herstellung eines katalysators, sauerstoffentfernungsverfahren und systeme zur kraftstoffherstellung |
| JP2021503560A (ja) * | 2017-11-20 | 2021-02-12 | ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエアＢａｓｆ Ｓｅ | レベリング剤を含んだコバルト電気メッキ用組成物 |
| WO2020126687A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Basf Se | Composition for cobalt plating comprising additive for void-free submicron feature filling |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3471271A (en) * | 1965-08-16 | 1969-10-07 | Udylite Corp | Electrodeposition of a micro-cracked corrosion resistant nickel-chromium plate |
-
1971
- 1971-01-11 DE DE2100971A patent/DE2100971B2/de active Pending
- 1971-08-03 FR FR717128455A patent/FR2123246B1/fr not_active Expired
-
1972
- 1972-01-05 SE SE7200113A patent/SE401209B/xx unknown
- 1972-01-07 GB GB83772A patent/GB1371172A/en not_active Expired
- 1972-01-10 US US00216724A patent/US3753872A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-01-10 IT IT19189/72A patent/IT946426B/it active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2100971A1 (de) | 1972-07-13 |
| FR2123246A1 (de) | 1972-09-08 |
| GB1371172A (en) | 1974-10-23 |
| SE401209B (sv) | 1978-04-24 |
| FR2123246B1 (de) | 1974-06-21 |
| US3753872A (en) | 1973-08-21 |
| IT946426B (it) | 1973-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2555834A1 (de) | Verfahren zum vergueten von metalloberflaechen durch galvanische abscheidung der verguetungsmetalle mit hohen stromdichten | |
| DE2846568A1 (de) | Korrosionsbestaendiges beschichtetes stahlrohr | |
| DE616812C (de) | ||
| DE2100971B2 (de) | Verfahren und Bad zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Zwischenschichten | |
| DE3223630A1 (de) | Oberflaechenbehandlung von legiertem stahl mit hohem nickelgehalt | |
| DE2600654B2 (de) | Verfahren zur gleichzeitigen kathodischen abscheidung einer chromschicht und einer darueberliegenden schicht aus hydratisierten chromoxiden auf stahlblechen | |
| DE2633212C3 (de) | Verfahren zur Erzeugung einer grün gefärbten Oxidschicht auf Aluminium oder Aluminiumlegierungen | |
| DE2838294A1 (de) | Verfahren zur herstellung beschichteter, zinnfreier stahlbleche | |
| DE882168C (de) | Bad und Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Zinkueberzuegen | |
| DE1621060B2 (de) | Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von schwarzchromueberzuegen | |
| DE2237807C3 (de) | Verfahren zur Erzeugung mikrorissiger Chromschichten über Zwischenschichten | |
| CH370612A (de) | Verfahren zur Herstellung galvanischer Kupferüberzüge | |
| DE706592C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Nickelueberzuegen | |
| DE102014019753A1 (de) | Borsaurefreies Nickel-Bad | |
| DE102014118614A1 (de) | Borsäurefreies Nickel-Bad | |
| DE1496862A1 (de) | Verfahren zur Erzeugung von schwarzen anodischen Oxydueberzuegen auf Aluminium | |
| DE692124C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Oxydation von Eisen und Stahl | |
| DE973986C (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Indium, insbesondere Indiumueberzuegen | |
| DE2355396C3 (de) | Kathodische Abscheidung von harten Überzügen auf Sintercarbidgegenständen | |
| DE398054C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von metallischem Chrom | |
| DE1771554A1 (de) | Verfahren zum Verzinnen von Eisen | |
| DE584550C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Raffination von Chrom und Ferrochrom sowie zur Erzeugung von Chromsaeure | |
| DE568471C (de) | Verfahren zum Erzeugen festhaftender, porenfreier, haemmerbarer Nickelschichten auf Eisen und Stahl | |
| DE1061150B (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Eisen-Chrom-Legierungen | |
| AT206716B (de) | Bäder zur Herstellung galvanischer Kupferüberzüge |