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DE2166578A1 - Verfahren zur vervielfaeltigung eines magnetisierungsmusters - Google Patents

Verfahren zur vervielfaeltigung eines magnetisierungsmusters

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DE2166578A1
DE2166578A1 DE19712166578 DE2166578A DE2166578A1 DE 2166578 A1 DE2166578 A1 DE 2166578A1 DE 19712166578 DE19712166578 DE 19712166578 DE 2166578 A DE2166578 A DE 2166578A DE 2166578 A1 DE2166578 A1 DE 2166578A1
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DE
Germany
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plating
magnetic
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magnetization pattern
plated
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DE19712166578
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Masashi Aonuma
Kazuhiro Kawaziri
Tatsuji Kitamoto
Kanagawa Odawara
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Description

PATENTANWÄLTE
DR. E. WIEGAND DIPL-ING. W. NIcMANN DR. M. KÖHLER DIPL-ING. C GERNHARDT
MÖNCHEN HAMBURG 2 I.DDO /ö
TELEFON: 55547« __ 8000 M Q N C H E N 2,
TELEGRAMME: KARPATENT MATH I LDENSTRASSE 12
TELEX: 529068 KARPD
12. September 1974
w. 41997/74 Pe(Ko) P 21 66 578.1
Fuji Photo Film Co., Ltd. Ashigarä-Kamigun, Kanagawa (Japan)
Verfahren zur Vervielfältigung eines Magnetisierungsmusters
Die Erfindung "befaßt sich mit einem Verfahren zur Vervielfältigung eines auf einem Aufzeichnungsträger aufgebrachten Magnetisierungsmusters durch Elektroplattierung und/oder stromlose Plattierung.
Wenn ein Metallelement, welches normalerweise magnetisch ist und im ionisierten Zustand in einem Plattierbad beim elektrischen Plattieren oder stromfreien Plattieren ist, plattiert wird, wachsen die Kristalle auf dem Träger und die Größe der Teilchen oder die Stärke des Films nimmt zu. Wenn das Metall einem äußeren Magnetfeld im Übergangszustand von dem paramagnetischen Zustand zum ferromagnetischen Zustand unterworfen wird, ändert sich das Verhältnis der verbleibenden magnetischen Plußdichte zu der gesättigten verbleibenden magnetischen Plußdichte der plattierten Schicht entsprechend der Intensität des Magnetfeldes.
409883/0465
Der Effekt des Plattierens wird deutlich, falls das Plattieren unter dem Einfluß des Magnetisierungsmusters der Unterlage durchgeführt wird, bis die Stärke der plattierten Schicht mindestens 50 8 erreicht.
Die Stärke der plattierten Schicht eis Endprodukt soll mindestens 0,1/u, vorzugsweise etwa 1/u, im Hinblick auf die Empfindlichkeit der Wiedergabevorrichtung sein. TJm diese Stärke zu erhalten, ist ein Zeitraum von etwa 50 Sekunden notwendig, um eine plattierte Schicht von 0,1/U Stärke bei einer Stromdichte von 0,6 A/dm unter gewöhnlichen Plattierbedingungen zu bilden. Für eine Stärke von 1 αχ ist es notwendig, sowohl die Vorlage und den Träger zu plattieren, dann in ein Plattierbad während etwa 500 Sekunden einzutauchen, während sie in. inniger Berührung miteinander stehen.
Aufgabe der Erfindung iat die Schaffung eines Verfahrens zur leichteren Vervielfältigung von Aufzeichnungsträgern,, wie Magnetbändern, durch Plattieren, wobei die benötigte Zeit, um das Magnetband mit den darauf aufgezeichneten Signalen in Innigen Kontakt mit dem plattierten Band, auf das die Signale zu übertragen sind, zu bringen, abgekürzt wird und infolgedessen lange Kontaktzeiträume zwischen denselben in eine» Plattierbad vermieden werden.
409883/0465
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Vervielfältigung eines Magnetisierungsmusters durch Elektroplattierung und/oder stromlose Plattierung ist dadurch gekennzeichnet, daß auf einem magnetischen Aufzeichnungsmaterial, das das zu vervielfältigende Magnetisierungsmuster aufweist, eine magnetische Plattierungsschicht bis zu einer mittleren Schichtdicke von mehr als 50 8 gebildet wird, daß die magnetische Plattierungsschicht mit einem mit einer Klebstoffschicht versehenen Träger auf dessen Klebstoffoberfläche in Berührung gebracht, von dem magnetischen Aufzeichnungsmaterial getrennt wird, und daß anschließend das Plattieren der magnetischen Plarttierungsschicht ohne den Einfluß eines äußeren Magnetfeldes fortgesetzt wird. Gemäß einer besonderen Ausführungsform wird dabei auf der Oberfläche des magnetischen Aufzeichnungsmaterials mit dem zu vervielfältigenden Magnetisierungsmuster eine dünne Ablöseschicht vorgesehen und auf deren Oberfläche die Plattierungsschicht gebildet.
Vorzugsweise wird der Aufzeichnungsträger in Form eines Bandes, einer Karte, einer Scheibe oder einer Trommel angewandt .
Ein Vorteil der Erfindung beruht darauf, daß es nicht notwendig ist, die Plattierung bis zur erforderlichen Schichtdicke in Gegenwart des Magnetfeldes des zu kopierenden Magnetisierungsmusters auszuführen, sondern das gewünschte Ergebnis kann erhalten werden, wenn die Plattierung unter dem Magnetfeld des Magnetisierungsmusters so lange ausgeführt wird, bis die durchschnittliche Stärke der plattierten Schicht mindestens 50 8 erreicht hat.
409883/CU65
ES ergibt sich hierdurch ein rasches und einfaches Verfahren zur Vervielfältigung von Signalen auf einem Magnetband oder von magnetischen Bildern, beispielsweise durch Magnetographie. Es werden lange Kontaktzeiträume zwischen dem Aufzeichnungsträger und der Vorlage beim Plattieren vermieden. Dies ist besonders vorteilhaft im Hinblick auf die Tatsache, daß im allgemeinen das Plattierbad eine starke Acidität oder Alkalinität oder Oxidationseigenschaften aufweist und deshalb, wenn die Materialien hierin während längerer Zeiträume eingetaucht werden, Ä'nderungen der magnetischen Aufzeichnungsschicht der Vorlage beobachtet werden.Veiterhin treten beim kontinuierlichen Plattieren Schwierigkeiten in Folge der Feuchtigkeitsabsorption auf, die durch die verkürzte Kontaktzeit beim erfindungsgemäßen Verfahren vermieden werden.
Mit dem hier angewandten Ausdruck "Plattieren" wird ein Verfahren bezeichnet, durch das ein dünner Film eines ferromagnetischen Metalles, beispielsweise Eisen, Kobalt oder Nickel, oder einer ferromagnetischen Legierung, wie Co-Ni, Fe-Co-Ni, Co-Ni-Cu, Co-(P), Co-Ni(P), Ni-Co-Ag, Ni-Co-Nd, Ni-Co-Ce, Ni-Co-Zn, Ni-Co-B oder Co-B elektrisch (elektrische Plattierung) oder chemisch (stromlose Plattierung) oder durch eine Kombination von elektrischer und stromloser Plattierung gebildet wird.
Beispiele für Elektroplattierbäder sind Sulfatbäder, Chloridbäder, SuIfaminsäurebäder, Borfluoridbäder, Pyrophosphorsäurebäder oder Sulfat/Chlorid-Bäder. Beispiele für stromlose Plattierungsbäder umfassen Sulfatbädejr, Chloridbäder, Hypophosphorsäurebäder, Acetatbäder und Formiatbäder. Als Reduziermittel können Hypophosphite, Borhydridverbindungen und Derivate hiervon, Hydrazin und dergleichen verwendet werden.
409883/0465
Beispiele für Magnetisierungsmuster, die im Rahmen der Erfindung verwendet werden können, sind solche, welche durch Dispersion von γ-Ρβ,,Ο,-Pulver, mit Co versetztem Y-Ie2O,-Pulver, Magnetitpulver, mit Co oder einem anderen Metall versetztes Magnetitpulver, CrO2, Pe-Co-Ki oder Legierungen von anderen Zusammensetzungen in einem organischen Binder, wie Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymerem, Cellulosederivaten, Phenolharzen, Epoxyharzen oder Polyurethanharzen, Aufziehen der Dispersion auf einen Träger zur Bildung der magnetischen Aufzeichnungsschicht auf einem Magnetband, einer Magnetkarte, einer Magnetscheibe oder einer Magnettrommel oder durch Ausbildung einer magnetischen Aufzeichnungsschicht aus Pe-Co, Co-Ni, Co-P, Co-Ni-P oder Co-Ni-Cu durch Plattierung auf einem Magnetband, einer Magnetkarte, einer Magnetscheibe oder einer Magnettrommel anstelle der Anwendung eines pulverförmigen magnetischen Materials und Aufzeichnung der Informationen, wie Ton, Bild- oder elektrischen Signalen, auf derartigen magnetischen Aufzeichnungsmaterialien erhalten wurden.
Die Piattierungssubstratschicht, auf welcher das Magnetisierungsmuster repro-duziert werden soll, hat eine nicht magnetische Trägerschicht oder ablösbare Schicht, durch die die Piattierungssubstratschicht in innige Berührung mit dem Magnetisierungsmuster gebracht werden soll, und eine Plattierungsschicht wird darauf durch Plattieren gebildet, bis die mittlere Dicke der Plattierungsschicht einen brauchbaren Wert von oberhalb 50 8 erreicht. Auf diese Weise besitzt die sich ergebende Plattierungsschicht durch das auf " dem Magnetisierungsmuster erzeugte Magnetfeld ein Magnetisierungsmuster, das dem ersteren entspricht.
409883/0465
Wenn der Abstand zwischen der Oberfläche des magnetischen Aufzeichnungsmaterials mit dem zu reproduzierenden Magnetisierungsmuster und der magnefcischen plattierten Schicht etwa im Bereich der Aufzeichnungswellenlänge des Magnetisierungsmusters liegt, kann eine besonders wirksame Reproduktion erhalten werden. Die Aufzeichnungswellenlänge wird dabei wie folgt definiert: Wenn die Laufgeschwindigkeit eines magnetischen Aufzeichnungsbandes durch "v(cm/sek)M und die Frequenz des aufzu-
w zeichnenden Signals durch "f (Cyclen/sek.)" dargestellt werden, wird die Aufzeichnungswellenlänge durch "v/f(cm)" wiedergegeben. Falls der Abstand wesentlich stärker als die Aufzeichnungswellenlände wird, wird die Auflösungsstärke an den Stellen mit einer hohen Aufzeichnungsdichte verringert. Zur Anwendung bei der Aufzeichnung von magnetischen Bildern, elektrischen Signalen von relativ niedriger Aufzeichnungsdichte oder Tonsignalen wird ein geeigneter Träger durch Yakuumabscheidunff des elektrisch leitenden Metalls, wie Kupfer, auf 6inem Polyesterträger mit einer Stärke von 10 bis 100/u oder durch Behandlung dieses Trägermaterials mit Zinn-(II)-chlorid zur Aktivierung für
t die stromfreie Plattierung erhalten.
Die Wellenlänge eines elektrischen Signals oder eines Video-Signals hoher Aufzeichnungsdichte erreicht 1 bis 2/U, und beim Plattieren in Berührung mit einem Träger einer Stärke von 10 bis 100 Ai, wie z.B. bei einem Tonsignal, ist der Abstand zwischen der Oberfläche des magnetischen Aufzeichnungsmaterials mit dem Magnetisierungsmuster und der magnetischen plattierten Schicht wesentlich größer als die Aufzeichnungswellenlänge, was eine verringerte Reproduktionsleistung zur Folge hat. Bei einer derartigen Anwendung ist es erwünscht, eine plattierte
409883/CU65
Schicht direkt oder erforderlichenfalls nach Aufbringen einer Trennschicht einer Dicke, die kleiner als die Aufzeichnungswellenlänge ist, auf der Oberfläche des magnetischen Aufzeichnungs· materials zu bilden, und dann die magnetische plattierte Schicht, die in Berührung mit einem Klebstoff versehenen Träger vorliegt, allein abzutrennen.
In der Zeichnung wird ein Kurvendiagramm gezeigt, das die Stärke der unter dem Einfluß des äußeren Magnetfeldes erhaltenen plattierten Schicht bezüglich des Verhältnisses der verblieben nen Plußdichte zu der verbliebenen Sattigungsflußdichte zeigt.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Beispielen näher erläutert.
Beispiel 1 «
50/U dicke elektrolysierte Kupferplatten wurden in ein Plattierbad der"nachstehenden Zusammensetzung eingetaucht und während verschiedener Zeitdauern (entsprechend verschiedener Dicken von Plattierungsschichten) unter den folgenden Bedingungen elektrisch plattiert.. Das Plattierbad wurde in dem äußeren Gleichstrommagnetfeld konstant bei 100 Oe gehalten.
409883/CK65
Zusammensetzung; des Plattierbades.
NiSO^ · iHgO
NiCl2'"6H2O
60 g
10 g
CoSO4 '7H2O 60 g
CoCl2'6H2O 10 g
CuSO^·5H2O 5 g
H3BO5
Formalin
15 g
2 g
Natrium-1,5-naphthalin-
disulfonat
3 R
Wasser Rest auf 1 Liter
Elektroplattierbedingungen
Temperatur des Plattierbades hO° C
pH des Plattierbades 5,0
Stromdichte 0/6 A/dm2
Die je Sekunde unter den vorstehenden Bedingungen
abgeschiedene Stärke der plattierten Schicht betrug 10 8.
Eine 50/U dicke Polyäthylenterephthalatgrundlage mit einer Klebstoffschicht vom Nitrilkautschuktyp wurde auf die plattierte Oberfläche aufgebracht,und eine magnetische plattierte Schicht wurde durch die Klebstoffschicht von dem Plattierungssubstrat abgetrennt und auf die Oberfläche des Polyäthylenterephthalatfilmes Übertragen.
Die sich ergebende plattierte Schicht wurde im wesentlichen in Abwesenheit des äußeren Magnetfeldes einer weiteren Elektroplattierung unterworfen. Dabei wurde eine Gesamtplattierungszeit, einschließlich der Plattierungszeit unter Einwirkung des äußeren Magnetfeldes, von 5 Minuten vorgesehen. Das Verhältnis Br/Brs (verbliebene Flußdichte/verbliebener Sättigungsflußdichte) wurde mit Bezug auf jede Probe bestimm^. Die
409883/0465
Beziehung der Br/Brs-Werte zur. Elektroplattierungszeit unter Einwirkung des äußeren Magnetfeldes und zur Dicke der plattierten Schicht sind'in der Zeichnung dargestellt.
Aus den Ergebnissen, die in der Zeichnung dargestellt sind, ist es ersichtlich, daß die plattierte Schicht,selbst in einem sehr schwachen Magnetfeld,vollständig magnetisiert ist. Ferner ist, wenn die plattierte Schicht dem Magnetfeld unterworfen wird,-bis <äie mittlere Dicke der plattierten Schicht wenigstens 10 8 erreicht, die plattierte Schicht nach der Übertragung auf das andere Substrat mittels Klebstoff selbst in Abwesenheit eines äußeren Magnetfeldes in Richtung des Ausgangsmagnetfeldes vollständig magnetisiert.
Beispiel 2
Zeichen wurden auf einem 25/u starkem Polyäthylenterephthalatträger mit einem magnetischen Anstrich, der ein thermisch härtbares Polyurethanharz enthielt, geschrieben. Nach der Trocknung und Härtung wurde der Träger gleichförmig mit einem Gleichstrom bei 1000 Volt zur Bildung der Plattierunterlage- oder Vorlage magnetisiert.
Die so erhaltene Vorlage wurde zunächst in ein Bad eingetaucht, das aus 4 Volumenteilen Hydrochinon, 1 Volumenteil Brenzkatechin und 40 Teilen Aceton bestand, und zwar während 15 Sekunden. Anschließend wurde die Oberfläche mit einem Bad sensibilisiert, das aus 100 g/l SnCl2, 150 g/l NaOH und 175 g/l Rochelle-Salz bestand. Die Oberfläche wurde dann mit einem Bad aktiviert, das aus 1 g PdCl2, 100 cm5 HCl und 4000 cm3 Wasser bestand.
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- ίο -
Anschließend wurde die Unterlage einer stromfreien Plattierung aus einem Bad mit der folgenden Zusammensetzung unterworfen. Nach einer Minute wurde die Plattierung unterbrochen und eine 25/U starke Polyäthylenterephthalatgrundlage mit einer Klebstoffschicht vom Nitrilkautschuktyp auf die plattierte Oberfläche aufgebracht und die plattierte Schicht von der Plattiervorlage abgetrennt. Die durchschnittliche Stärke der plattierten Schicht betrug etwa 350 Ä.
Die erhaltene plattierte Schicht wurde weiterhin einer stromlosen Plattierung während 13 Minuten zur Erhöhung der Gesamtstärke der plattierten Schicht auf etwa 0,5/u unterworfen.
Zusammensetzung des Plattierbades
CoCl2'6H2O 9,5 g/l.
NiCl2'6H2O
NaH2PO2'H2O 5,3 g/l
NH.CL 10,7 g/l
H3BO5 30,9 g/l
C6H8O7-H2O 26,5 g/l
Bed indungen
pH-Wert des Bades 8,0 (eingestellt mit
NaOH-LSsung)
Temperatur 8OPC
Die abgeschiedene plattierte Schicht wurde mit einem Toner entwickelt, der Magnetit als Pigment enthielt, wobei die mit dem Magnetanstrich auf der Plattiervorlage geschriebenen Buchstaben im umgekehrten Zustand entwickelt werden konnten.
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Beispiel 3
Eine plattierte Unterlage wurde durch Aufzeichnen von Videο-Signalen einer Aufzeichnungswellenlänge von 1,9/U auf einem Video-Band, welches mit CrOp-Teilchen beschichtet war, nachdem diese in einem Bindemittel dipergiert worden waren, her gestellt..Die magnetische Oberfläche der vorstehenden Unterlage wurde in einem aus 30 g/l SnCl2'2HpO und 10 ml/1 HCl bestehenden Bad sensibilisiert und danach in einem Bad aus 0,75 g/l PdCIp und 10 ml/1 HCl aktiviert. Danach wurde das Substrat in einem. Bad der nachstehenden Zusammensetzung der stromlosen Plattierung unterworfen, bis die Dicke der Plattierungsschicht 100 erreichte.
Zusammensetzung des Plattierbades CoCl2-OH2O 11,9 g/l
OH2O 0,35 g/l
NaH2PO2-H2O 4,2 g/l
NH4Cl > 12,8 g/l
Na5C6H5O7-H2O 18,9 g/l
Bedingungen
pH-Wert des Bades 7*5
Temperatur . 850 C
Eine 22/U dicke Polyäthylenterephthalatgrundlage mit einer Klebstoffschicht vom Nitrilkautschuktyp wurde auf die plattierte Oberfläche aufgebracht, und eine magnetische plattierte Schicht wurde mittels der Klebstoffschicht von dem plattierten Substrat abgetrennt und auf die Oberfläche des Polyäthylenterephthalatfilmes Übertragen.
409883/0465
Zur Herstellung einer Schicht von 0,2/U der Gesamtdicke der magnetischen plattierten Schicht wurde die sich ergebende plattierte Schicht einer weiteren stromlosen Plattierung unterworfen. Das so erhaltene magnetische .plattierte Band wurde unter Verwendung eines Video-Band-Aufzeichnungsgerätes gemessen und es wurde gefunden, daß die gleiche Ausgangsleistung wie diejenige von Video-Signalen, die auf dem Original-CrOp-Band aufgezeichnet worden waren, erhalten werden konnte.
40 98 83/0465

Claims (2)

Patentansprüche
1. Verfahren zur Vervielfältigung eines Magnetisierungsmusters durch Elektroplattierung und/oder stromlose Plattierung, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem magnetischen Aufzeichnungsmaterial, das das zu vervielfältigende Magnetisierungsmuster aufweist, eine magnetische Plattierungsschicht bis zu einer mittleren Schichtdicke von mehr als 50 S. gebildet wird, daß die magnetische Plattierungsschicht mit einem, mit einer Klebstoffschicht versehenen Träger auf dessen Klebstoffoberfläche in Berührung gebracht t von dem magnetischen Aufzeichnungsmaterial getrennt wird,und daß anschließend das Plattieren der magnetischen Plattierungsschicht ohne den Einfluß eines äußeren Magnetfeldes fortgesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet , daß auf der Oberfläche des magnetischen Aufzeichnungsmaterials mit dem zu vervielfältigenden Magnetisierungsmuster eine dünne Ablöseschicht vorgesehen wird und auf deren Oberfläche die Plattierungsschicht gebildet wird.
409883/0465
Leerseite
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