DE2161835C3

DE2161835C3 - Guide device for a powdery developer mixture

Info

Publication number: DE2161835C3
Application number: DE2161835A
Authority: DE
Inventors: Louis Warren Rochester N.Y. Reichart jun.
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1970-12-14
Filing date: 1971-12-13
Publication date: 1982-04-29
Also published as: FR2118728A5; NL7116956A; DD99026A5; NL172095C; AR200109A1; IT943876B; DE2161835A1; DK132048C; NL172095B; CH557554A; ES397852A1; DE2161835B2; BE776661A; GB1372731A; DK132048B; AT322982B; JPS545688B1; AU3687371A

Description

Die Erfindung betrifft eine Führungseinrichtung für ein in einer elektrophotographischen Entwicklungsstation in flächenhafter Strömung auf- und abwärts umlaufendes pulverförmiges Entwicklergemisch.The invention relates to a guide device for an electrophotographic development station Powdery developer mixture circulating upwards and downwards in a planar flow.

Elektrophotographische Druckmaschinen, in denen ein pulverförmiges Entwicklergemisch zur Entwicklung elektrostatischer latenter Bilder verwendet wird und in denen Magnetbürsten zum Aufbringen des Entwicklergemisches auf das jeweilige latente Bild auf einem Aufzeichnungsmaterial vorgesehen sind, arbeiten mit einer Umlaufbewegung des Entwicklergemisches in einem Strömungsweg. Ein Teil diese« Strömungsweges wird durch ein Gehäuse für die Magn>etbürsten gebildet, in dem auch ein oder mehrere Förderelemente o, ä. Vorgesehen sind, die sich in zueinander entgegengeseiz·' ten Richtung bewegen können und das Entwicklerge^ mischmaterial Von einer Seite des Gehäuses zur anderen transportieren. Dadurch wird eine Homogenität der Mischung gewährleistet und eine Ansammlung Von Tonerteilchen in gewissen Bereichen der Entwich lungsvorrichtung vermieden. Die Verwendung solcher Förderelemente erfordert eine Antriebsvorrichtung, Rollen, Bänder, Lagerungen und eine Gehäuseausführung, die eine relativ große Ansammlung von Entwicklergemischmaterial erlaubt, auf das die Förderelemente zur bestmöglichen Ausnutzung einwirken können. Solche Fördervorrichtungen und ähnliche andere Anordnungen sowie die zugeordneten Antriebsvorrichtungen sind relativ kostspielig und bestimmen die Gestaltung des Entwicklungsgehäuses. Bei ihrer Anwendung tritt das Problem auf, daß das Entwicklergemisch zusammenbackt, wodurch eine vollständige und gute Durchmischung aller Teilchen eines Entwicklergemisches verhindert wird.Electrophotographic printing machines in which a powdery developer mixture is used for development electrostatic latent images are used and in which magnetic brushes are used to apply the developer mixture are provided on the respective latent image on a recording material, work with an orbital movement of the developer mixture in a flow path. Part of this «flow path is formed by a housing for the magnetic brushes, in which one or more conveying elements, etc. Are provided that are opposed to each other. th direction can move and the developer mixture material from one side of the housing to transport others. This ensures a homogeneity of the mixture and an accumulation Avoided toner particles in certain areas of the developing device. The use of such Conveyor elements require a drive device, rollers, belts, bearings and a housing design, which allows a relatively large accumulation of developer mixture material on which the conveying elements can act for the best possible utilization. Such conveyors and the like others Arrangements as well as the associated drive devices are relatively expensive and determine the Design of the development housing. When using them, the problem arises that the developer mixture cakes together, as a result of which all particles of a developer mixture are completely and thoroughly mixed is prevented.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine Einrichtung der eingangs genannten Art zu schaffen, ■durch die auf einfache Weise eine gute Durchmischung des Entwicklergemischmaterials erreicht wird und die mit geringen Kosten hergestellt werden kann.The object of the invention is to create a device of the type mentioned above, ■ through which a good mixing of the developer mixture material is achieved in a simple manner and which can be manufactured at a low cost.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß in dem der Schwerkraft folgenden abwärts gerichteten Strömungsabschnitt Leitflächen und Führungskanäie angeordnet sind, weiche die Strömung in mindestens zwei Teilströme aufteilen, wobei die jeweils einen der Teilströme aufnehmenden Führungskanäle sich kreuzend derart verlaufen, daß den Teilströmen horizontale entgegengesetzte Richtungskomponenten verliehen werden und am Ausgang der "ührungskanäle die Teilströme seitlich gegeneinander versetzt wieder zu einer flächenhaften Strömung zusammengefügt werden, so daß nach spätestens mehreren Umläufen auf- und abwärts durch die Entwicklungsstation eine Umsetzung des Entwicklergemischmaterials innerhalb der flächenhaften Strömung in horizontaler Richtung erfolgt ist.According to the invention this object is achieved in that in the downward following the force of gravity directed flow section guide surfaces and guide channels are arranged, which divide the flow into at least two partial flows, each of which one of the partial streams receiving guide channels cross each other in such a way that the partial streams horizontal opposite directional components are imparted and at the exit of the "guide channels the partial flows laterally offset against each other are reassembled to form a planar flow so that after several revolutions at the latest up and down through the development station a Implementation of the developer mixture material within the planar flow in the horizontal direction is done.

Aufgrund der erfindungsgemäßen Einrichtung ist es auf einfache und kostensparende Weise möglich, eine gute Durchmischung des Entwickiergemischmateriais zu erreichen. Dadurch, daß die umlaufende Strömung des Entwicklergemisches im Teüströmungen aufgeteilt wird, die seitlich gegeneinander versetzt wieder zusammengeführt werden, erfolgt eine Umsetzung des Entwickiergemischmateriais quer zu dessen Strömungsrichtung. Durch diese Umsetzung wird beispielsweise ein Entwicklergemischvolumen, welches reich an Tonerteilchen ist, zu einem Entwicklergemischvolumen geführt, welches beispielsweise reich an Trägerteilchen ist, wobei dann anschließend diese beiden Volumina gemischt werden, so daß eine homogene Mischung aus Tonerteilchen und Trägerteilchen entsteht. Ist eine homogene Mischung noch nicht nach einem Umlauf erzielt, so wird diese jedoch nach spätestens einigen Umläufen erfolgen.Due to the device according to the invention, it is possible in a simple and cost-saving manner, a to achieve good mixing of the developer mixture material. Because the circulating current of the developer mixture is divided into part currents, which are laterally offset against each other again are brought together, a conversion of the developer mixture takes place transversely to its flow direction. Through this implementation, for example a developer mixture volume which is rich in toner particles to a developer mixture volume out, which is, for example, rich in carrier particles, then then these two volumes be mixed so that a homogeneous mixture of toner particles and carrier particles is formed. Is a homogeneous mixture has not yet been achieved after one circulation, but this will be achieved after a few at the latest Circulations take place.

In vorteilhafter Weise werden bei der erfindungsgemäßen Führungseinrichtung keine sich bewegenden Elemente benötigt, so daß auch keine Halterungen und Antriebsvorrichtungen für solche Elemente erforderlich sind.Advantageously, in the invention Guide device does not require any moving elements, so that no brackets and Driving devices for such elements are required.

Bei einer Weiterbildung der Erfindung sind zwei benachbarte Reihen jeweils paralleler Führungskanäle vorgesehen, welche die Strömung in jwei Reihen von Teilströmungen aufteilen, wobei die Führungskanäle jeweils einer Reihe die der anderen Reihe kreuzend derart verlaufen, daß an ihrem Ausgang die Teilsirö* müngen der einen Reihe, seitlich versetzt und mit denIn a further development of the invention, there are two adjacent rows of parallel guide channels are provided, which the flow in jwei rows of Divide partial flows, with the guide channels of one row crossing those of the other row run in such a way that at their exit the partial sirö * one row, laterally offset and with the

entgegengesetzt versetzten Teüströmungen der ande* ren Reihe abwechselnd aneinandergefügt wieder eine flächefihäfte Strömung ergeben. In vorteilhafter Weise wird hierdurch erreicht, daß jede Teilströmung inoppositely offset partial flows of the other row alternately joined together again one result in surface flow. In an advantageous manner this ensures that each partial flow in

mehrere Einzelströmungen aufgeteilt wird, wodurch eine besonders wirkungsvolle Umsetzung des Entwicklergemischmaterials während seines Umlaufes durch die Entwicklungsstation erreicht wird.several individual flows is divided, whereby a particularly effective conversion of the developer mixture material is reached during its circulation through the development station.

Bei einer anderen Weiterbildung der Erfindung verläuft die letzte Teilströmung der jeweils einen Reihe derart versetzt, daß das in ihr strömende Entwicklergemischmaterial nach einem Umlauf die erste Teilströmung der jeweils anderen Reihe bildet Durch diese Weiterbildung wird erreicht, daß ein Entwicklergemischteilchen, welches während mehrerer Umläufe quer zur Umlaufrichtung verlagert worden ist und sich nun am Rande der Teilströmung befindet, der zweiten Teilströmung bei seinem nächsten Umlauf zugeordnet wird, wodurch das Entwicklergemischteilchen während der folgenden Umläufe in entgegengesetzter Richtung quer zur Umlaufrichtung verlagert wird, bis es in den gegenüberliegenden Randbereich gelangt ist Dort wird es der ersten Teilströmung erneut zugeordnet, so daß es nun anschließend zu dem anderen Randbereich verlagert wird.In another development of the invention, the last partial flow of each row runs offset in such a way that the developer mixture material flowing in it after one cycle the first partial flow of the other row forms through this Further development is achieved that a developer mixture particle, which transversely during several revolutions has been shifted to the direction of rotation and is now at the edge of the partial flow, the second Partial flow is allocated on its next revolution, causing the developer mixture particles during of the following revolutions is shifted in the opposite direction transversely to the direction of rotation until it reaches the has reached the opposite edge area There it is reassigned to the first partial flow so that it is now subsequently relocated to the other edge area.

Man erkennt, daß in vorteilhafter Weise durch diese Ausbildung die Entwicklergemischteilchen von dem ersten Randbereich zum zweiten und wiedsr zurück zum ersten Randbereich und so fort verlagert werden. Infolgedessen wird eine sehr gute Durchmischung und damit eine gute Homogenität des pulverförmigen Entwicklergemisches erzielt.It can be seen that in an advantageous manner by this design, the developer mixture particles of the first edge area to the second and again back to the first edge area and so on. As a result, there is very good mixing and therefore good homogeneity of the powdery Developer mixture achieved.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden anhand der Figuren beschriebes. Es i.eigtEmbodiments of the invention are described below with reference to the figures. It tends to

F i g. 1 ein Umlaufsystem für ein elektrophotographisches Entwicklergemischmaterial,F i g. 1 a circulation system for an electrophotographic developer mixture material,

F i g. 2 eine Darstellung eines Teils der in F i g. 1 gezeigten Führungseinrichtung in teilweise geschnittener Ansicht,F i g. FIG. 2 is a representation of part of the FIG. 1 shown guide device in partially sectioned Opinion,

F i g. 3 eine schematische Darstellung von Strömungswegen eines Teils der in F i g. 2 gezeigten Führungseinrichtung, F i g. 3 is a schematic representation of flow paths of a portion of the circuit shown in FIG. 2 guide device shown,

F i g. 4 eine perspektivische Darstellung einer zweiten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Führungseinrichtung, unuF i g. 4 shows a perspective illustration of a second embodiment of the guide device according to the invention, unu

F i g. 5 eine Aufsicht auf die Führungseinrichtung der Fig. 4.F i g. 5 shows a plan view of the guide device of FIG. 4.

In F i g. 1 ist eine elektrophotographische Aufzeichnungstrommel 10 dargestellt, die einer mit Umlaufbewegung arbeitenden Entwicklungsvorrichtung zugeordnet ist. Die an der Aufzeichnungstrommel angeordneten elektrophotographischen Arbeitsstationen sind mit A, B. D und E bezeichnet. Das mit ihnen durchzuführende Verfahren ist bekanntIn Fig. 1, there is shown an electrophotographic recording drum 10 associated with a rotary developing device. The electrophotographic work stations arranged on the recording drum are designated A, B. D and E. The procedure to be carried out with them is known

Die Arbeitsstationen an der elektrophotographischen Aufzeichnungstrommel 10 können eine Ladevorrichtung A zur elektrostatischen Aufladung der Trommeloberfläche, eine Belichtungsvorrichtung B zum Belichten mit einer wiederzugebenden Vorlage, eine Entwicklungsvorrichtung C zum Aufbringen von Toner auf die Oberfläche der elektrophotographischen Trommel und Entwicklung des zuvor erzeugten latenten elektrostatischen Bildes, eine Übertragungsvorrichtung D zur Übertragung des entwickelten Tonerbildes auf ein Bildempfangsmaterial, eine Fixiervorrichtung D' zum Einschmelzen des Tonerbildes auf dem Bildempfänger material, eine Reinigungsvorrichtung E zur Reinigung def Trommeloberfläche Und eine Antriebsvorrichtung F zur Drehung der Aufzeichnungstrommel 10 sowie Magnetbürstenvorrichtungen 14 und 20 zur Entwick* king des elektrostatischen latenten Bildes umfassen.The workstations on the electrophotographic recording drum 10 may include a charger A for electrostatically charging the drum surface, an exposure device B for exposing an original to be reproduced, a developing device C for applying toner to the surface of the electrophotographic drum and developing the previously formed latent electrostatic image, a Transfer device D for transferring the developed toner image to an image receiving material, a fixing device D ' for fusing the toner image on the image receiving material, a cleaning device E for cleaning the drum surface and a drive device F for rotating the recording drum 10 and magnetic brush devices 14 and 20 for developing the electrostatic latent image.

Das Entwicklergemisihmateriai 11 ist in einem Vorratsbereich eines Entwicklungsgehäuces 12 angeordnet Dieses Gehäuse umgibt das Umlaufsystem für das Entw'cklergemischmaterial. An der Oberseite des Gehäuses 12 kann eine Öffnung 13 und/oder eine auswechselbare Abdeckung (nicht dargestellt) vorgesehen sein. Es kann ferner eine Tonereingabevorrichtung über dieser Öffnung angeordnet sein, die in regelmäßigen Abständen Toner in das Gehäuse 12 eingibt
Das Umlaufsystem kann derart arbeiten, daß Toner und/oder ein Toner-Trägermaterial durch eine Bedienungsperson oder bei der Wartung der Maschine in regelmäßigen Abständen eingegeben wird.The developer mixture material 11 is arranged in a storage area of a development housing 12. This housing surrounds the circulation system for the developer mixture material. An opening 13 and / or a replaceable cover (not shown) can be provided on the top of the housing 12. Furthermore, a toner input device can be arranged above this opening, which inputs toner into the housing 12 at regular intervals
The circulation system can operate in such a way that toner and / or a toner carrier material is introduced at regular intervals by an operator or during maintenance of the machine.

Das Umlaufsystem für den Entwicklerstoff enthält eine Magnetbürste 14, die sich auf einer Achse 15 dreht, welche mit einem Antrieb F gekoppelt ist Die Magnetbürste 14 kann eine einzelne Bürste sein, es können jedoch auch mehrere Magnetbürsten vorgesehen sein. Ein Magnet aus permanent magnetischem Material ist bei 16 dargestellt Dieser Magnet 16 ist an einer Halterung 17 befestigt, die in nicht dargestellter Weise befestigt ist Eine zweite Maf. ..-tbürste 20 ist über der Magnetbürste 14 angeordnet Dies"- Magnetbürste 20 kann gleichartig wie die Magnetbürste 14 ausgeführt sein, d. h. sie kann entweder einen einzigen Magneten oder mehrere Magnete enthalten. Der Magnet 21 an der Halterung 22 ist unter einem Winkel zu dem Magneten 16 angeordnet, so daß die Magnetbürste 20 Material von der Magnetbürste 14 an einer Stelle aufnehmen kann, die außerhalb des maximalen Wirkungsbereiches des Magneten 16 liegt. Die Magnetbürste 20 empfängt übertragenes Entwicklergemischmaterial und fördert dieses entlang der umlaufenden Strömung zu einer mehrteiligen Führungseinrichtung.The circulation system for the developer contains a magnetic brush 14 that rotates on an axis 15, which is coupled to a drive F The magnetic brush 14 can be a single brush, it however, several magnetic brushes can also be provided. A magnet made of permanently magnetic Material is shown at 16. This magnet 16 is attached to a holder 17, which is not shown in FIG Way is attached a second maf. ..- brush 20 is over the magnetic brush 14 arranged this "- magnetic brush 20 can be designed in the same way as the magnetic brush 14, i. H. they can either be a single magnet or contain several magnets. The magnet 21 on the bracket 22 is at an angle to the magnet 16 arranged so that the magnetic brush 20 can pick up material from the magnetic brush 14 at one point, which is outside the maximum effective range of the magnet 16. The magnetic brush 20 receives transferred developer mixture material and promotes this along the circulating flow to a multi-part guide device.

Etwas gegenübe·· der Magnetbürste 20 versetzt und außerhalb der stärksten magnetischen Wirkung des Magneten 21 ist die Führungseinrichtung 25 vorgesehen. Sie ist innerhalb des Entwicklungsgehäuses mit Einstellschrauben an einer Gleitfläche 26 montiert. Diese ist so angeordnet, daß sie En tw,ekler, toffgemischmaterial aufnimmt, das durch die Magnetbürste 20 von der Magnetbürste 14 weiterbewegt wirdSomewhat opposite ·· the magnetic brush 20 and offset outside of the strongest magnetic effect of the magnet 21, the guide device 25 is provided. It is mounted on a sliding surface 26 within the development housing with adjustment screws. This is arranged in such a way that it contains a tw, disgusting, mixed material receives, which is moved by the magnetic brush 20 from the magnetic brush 14

,Venn sich die Magnetbürste 20 dreht, wird das Entwicklergemischmaterial aus dem Wirkungsbereich des Magneten 21 herausgeführt und auf der Oberfläche der Gleitfläche 26 abgelagert. Das Entwicklergemischmaterial gleitet auf dieser glatten Fläche zu öffnungen der Führungseinrichtung 25 hin, in die es eintreten kann. Die Gleitfläche 26 ist gegenüber der Magnetbürste 20 so angeordnet, daß sie mit deren Umfang tangentialWhen the magnetic brush 20 rotates, it will Developer mixture material led out of the area of action of the magnet 21 and on the surface the sliding surface 26 deposited. The developer mix material slides towards openings on this smooth surface the guide device 25 out into which it can enter. The sliding surface 26 is opposite to the magnetic brush 20 arranged that they are tangential to their circumference

so verläuft, und zwar an einer Stelle, an der die Wirkung des Magneten 2i minimal ist. Die Mischung aus Tonerteilchen und Trägerteilchen gleitet längs de;r schräg angeordneten G'eitfläche zu den Eintrittsöffnungen ''ei Führungseinrichtung.so runs, namely at a point where the effect of the magnet 2i is minimal. The mixture of toner particles and carrier slides along de r obliquely arranged G'eitfläche to the entry openings '' egg guiding means.

Die Komponenten des aus Tonerteilchen und Trägerteilchen bi-stehenden Entwicklerge'nischmaierials werden reibungselektrisch geladen, wenn diu Tonerteilchen und die Trägerteilchen gegeneinander bewegt werden, so daß die Tonerteilchen an der Oberfläche der Ti ägerteilchen anhaften. Die Trägerteilchen sind vorzugsweise sehr klein und bestehend aus eisenhaltigem Material. Sie werden durch das Tdnerpul-Ver beschichtet, und diese Materialmischung wird dem Vorratsbereich des Behälters 12 zugeführt, so daß sie durch Anziehung des eisenhaltigen Materials durch die Magnetbürste 14 aufgenommen wird und erneut in ÜmläUfbewegung gerät.
In Fig.2 ist die Führungseinrichtung 25 genauerThe components of the developer mixture consisting of toner particles and carrier particles are charged triboelectrically when the toner particles and the carrier particles are moved towards one another, so that the toner particles adhere to the surface of the titanium particles. The carrier particles are preferably very small and consist of ferrous material. They are coated by the Tdnerpulver, and this material mixture is fed to the storage area of the container 12, so that it is taken up by the attraction of the ferrous material by the magnetic brush 14 and starts to flow again.
In Figure 2, the guide device 25 is more precise

dargestellt, wobei einzelne Teile weggelassen sind, um ihren inneren Aufbau zu zeigen. Die Gleitfläche 26 ist mit ihren Befestigungen 31 und 32 dargestellt, mit denen sie im Gehäuse 12 montiert ist. Es ist nur ein Ende der Gleitfläche 26 dargestellt, ihr anderes Ende ist jedoch gleichartig ausgebildetwith individual parts omitted to show their internal structure. The sliding surface 26 is shown with its fastenings 31 and 32 with which it is mounted in the housing 12. It's just an end to that Sliding surface 26 is shown, but its other end is designed in the same way

Die Gleitfläche 26 hat einen Schlitz 33, durch den hindurch eine Befestigungsschraube 34 geführt ist, welche die Führungseinrichtung mit der Gleitfläche koppelt. Die Gleitfläche 26 hat mehrere Öffnungen 35, die jeweils über einem Eintritt eines jeden Führungskanals der Führungseinrichtung angeordnet sind.The sliding surface 26 has a slot 33 through which a fastening screw 34 is guided, which couples the guide device to the sliding surface. The sliding surface 26 has several openings 35, which are each arranged above an inlet of each guide channel of the guide device.

Die mit mehreren Kanälen arbeitende Führungseinrichtung 25 besteht aus zwei Reihen von Führungskanälen, wobei eine Reihe im hinteren Gehäuse 36, die andere im vorderen Gehäuse 37 vorgesehen ist. Beide Gehäuse sind durch eine Trennplatte 38 voneinander getrennt. Die Trennplatte 38 bildet die vierte Seite eines jeden Führungskanals für jede Reihe von Führungskanälen. Die Führungskanäle des hinleren Gehäuses 36 verlaufen im dargestellten Ausführungsbeispiel jeweils schräg zum rechten Ende des Gehäuses versetzt, wie dies für die Führungskanäle 40 und 41 beispielsweise dargestellt ist. Die Führungskanäle im vorderen Gehäuse 37 verlaufen schräg zur linken Seite versetzt, wie dies für die Führungskanäle 42 und 43 dargestellt ist. Die öffnungen eines jeden Führungskanals jeder Reihe von Führungskanälen ist zum benachbarten Führungskanal so angeordnet, daß ein Abstand entsteht, der praktisch gleich der Breite des Führungskanals selber ist. Alle Fühningskanäle verlaufen parallel zueinander, mit Ausnahme des letzten Führungskanals einer jeden Reihe von Führungskanälen in Versetzungsrichtung.The guide device 25, which operates with several channels, consists of two rows of guide channels, one row in the rear housing 36 and the other in the front housing 37. Both Housings are separated from one another by a partition plate 38. The partition plate 38 forms the fourth side of one each guide channel for each row of guide channels. The guide channels of the rear housing 36 run in the illustrated embodiment in each case obliquely offset to the right end of the housing, such as this is shown, for example, for the guide channels 40 and 41. The guide channels in the front Housings 37 run obliquely offset to the left, as shown for the guide channels 42 and 43. The openings of each guide channel of each row of guide channels is to the adjacent guide channel arranged so that a distance is created which is practically equal to the width of the guide channel itself is. All Fühningskanal run parallel to each other, with the exception of the last guide channel of each row of guide channels in the offset direction.

An den Führungskanälen 40 und 41 des in F i g. 2 offen dargestellten Bereiches ist zu erkennen, daß die Führungskanäle nach rechts derart versetzt sind, daß die Austrittsöffnung direkt unter der Eintrittsöffnung des jeweils benachbarten Führungskanals in Versetzungsrichtung liegt On the guide channels 40 and 41 of the FIG. 2 open area, it can be seen that the Guide channels are offset to the right in such a way that the outlet opening is directly below the inlet opening of the each adjacent guide channel lies in the displacement direction

Verfolgt man den Weg eines einzelnen Teilchens durch mehrere Umläufe, so wird dieses im Idealfall mit der Magnetbürste 14 dem Vorratsbereich entnommen und danach durch die Magnetbürste 20 übernommen, wenn vorausgesetzt wird, daß das Teilchen nicht an der Trommel 10 anhaftet Dann gelangt es zur Oberfläche der Gleitfläche 26. Das Teilchen gleitet dann längs der Gleitfläche 26 und tritt der Schwerkraft folgend in einen Strömungsweg in einen der Führungskanäle ein, beispielsweise in den Führungskanal 40. Der Weg des Teilchens wird dabei z. B. nach rechts verlagert, so daß es gegenüber seiner Ausgangsstellung im vorherigen Umlauf etwas versetzt in den Vorratsbereich zurückgelangt Das Teilchen wird dann von der Magnetbürste 14 aufgenommen und nach oben transportiert Die Übertragung des Teilchens auf die Magnetbürste 20 bewirkt dann wieder den Weitertransport auf die Gleitfläche 26. Diesmal gleitet das Teilchen an der Gleitfläche 26 etwas rechts gegenüber seinem vorherigen Gleitweg entlang, so daß es in die Öffnung des Führungskanals 41 gelangt Hierbei wird es wiederum nach rechts verlagert und gelangt an einer Stelle in den Vorratsbereich, die gleichfalls gegenüber dem vorhergehenden Umlauf verlagert ist Durch die Wiederholung dieses zyklischen Vorganges wird das jeweilige Entwicklerstoffteilchen praktisch von einem Ende der Reihe von Führungskanälen zu deren anderem Ende hin verlagertIf you follow the path of a single particle through several revolutions, this will ideally be with the magnetic brush 14 removed from the storage area and then taken over by the magnetic brush 20, if the particle is assumed not to adhere to the drum 10, then it will come to the surface the sliding surface 26. The particle then slides along the sliding surface 26 and enters one following the force of gravity Flow path into one of the guide channels, for example into the guide channel 40. The path of the Particle is z. B. shifted to the right, so that it returned to the storage area slightly offset from its starting position in the previous cycle The particle is then picked up by the magnetic brush 14 and transported upwards Transfer of the particle to the magnetic brush 20 then causes the further transport to the Sliding surface 26. This time the particle slides on the sliding surface 26 somewhat to the right of its previous one Glide path along so that it gets into the opening of the guide channel 41. Here it is again shifted to the right and arrives at a point in the storage area, which is also opposite the previous one Circulation is shifted By repeating this cyclical process, the respective Developer particles practically from one end of the Row of guide channels towards the other end relocated

Fig.3 zeigt den Zusammenhang zwischen dem Schrägverlauf der Führungskanäle einer Reihe von Führungskanälen gegenüber dem jeweils benachbarten Führungskanal sowie den Zusammenhang des Schrägverlaufes des letzten Führungskanals einer Reihe gegenüber dem ersten Führungskanal der anderen Reihe von Führungskanälen. Die Führungskanäle 46,47 und 48, die durchgezogen dargestellt sind, sind die Führungskanäle der einen Reihe von Führungskanälen, beispielsweise der vorderen. Die gestrichelt dargestellten Führungskanäle 49,50 und 51 sind die Führungskanäle der hinteren Reihe von Führungskanälen. Die kurzen Pfeile zeigen den Strömungsweg der Teilchen durch die hintere Reihe von Führungskanälen, während die langen Pfeile den Strömungsweg der Teilchen durch die vordere Reihe von Führungskanälen zeigen. Die gekrümmten Pfeile geben an. daß die Strömung, unterstützt durch die rotierenden Magnetbürsten, während des Umlaufes fortgesetzt wird. Dies ist in F i g. 1 !eicht zu erkennen.Fig.3 shows the relationship between the The guide channels of a number of guide channels are inclined relative to the adjacent one in each case Guide channel and the relationship between the incline of the last guide channel in a row opposite the first guide channel of the other row of guide channels. The guide channels 46, 47 and 48, which are shown in solid lines, are the guide channels of the one series of guide channels, for example the front one. The guide channels 49, 50 and 51 shown in dashed lines are the guide channels the back row of guide channels. The short arrows show the flow path of the particles through the back row of guide channels, while the long arrows show the flow path of the particles show the front row of guide channels. The curved arrows indicate. that the current supported by the rotating magnetic brushes, while the cycle continues. This is in F i g. 1! Easy to recognize.

In Fig.3 sind unterschiedliche Liniendarstellungen zur besseren Klarheit verwandt. Die Strömungspfeile in Fig. 3 zeigen, wie die Strömung des umlaufenden Entwicklergemischmaterials zyklisch verlagert oder von einem Führungskanal zum anderen derselben Reihe von Führungskanälen versetzt wird, wonach bei Erreichen des letzten Führungskanals der einen Reihe eine Versetzung auf den ersten Führungskanal der andere^ Reihe erfolgt. Es sei angenommen, daß ein umlaufendes Teilchen an der Gleitfläche 26 entlanggleitet und in den Führungskanal 46 gelangt, wie es durch den Pfeil 60 dargestellt ist. Das Teilchen folgt dem Führungskanal 46 nach rechts wobei seine durch Schwerkraft verursachte Strömung verlagert wird, und gelangt am Austrittsende des Führungskanals 46 in den Vorratsbereich. Der Pfeil 61 zeigt die durch den Umlauf verursachte Rückkehr des Teilchens nach dem Anheben durch die Magnetbürsten. Das Teilchen gelangt dann in den Führungskanal 47, dargestellt durch den Pfeil 62 und tritt aus dem Führungskanal 47 wieder aus, wie es der Pfeil 63 zeigt Dabei gelangt es in einen erneuten Umlauf. Das Teilchen gleitet dann in den Führungskanal 48, dargestellt durch den Pfeil 64. Der Führungskanal 48 ist der letzte Führungskanal der hinteren Reihe von Führungskanälen in Versetzungsrichtung. Es ist zuIn Figure 3, different line representations are used for better clarity. The flow arrows in Fig. 3 show how the flow of the circulating developer mixture material shifts or cyclically is moved from one guide channel to the other of the same row of guide channels, after which at Reaching the last guide channel of a row an offset to the first guide channel of the another ^ series takes place. It is assumed that a rotating particle slides along the sliding surface 26 and enters the guide channel 46, as is shown by the arrow 60. The particle follows that Guide channel 46 to the right with its gravity flow being displaced, and reaches the storage area at the outlet end of the guide channel 46. The arrow 61 shows the through circulation caused return of the particle after being lifted by the magnetic brushes. The particle then gets in the guide channel 47, represented by the arrow 62 and emerges from the guide channel 47 again, as it is the Arrow 63 shows it starts another cycle. The particle then slides into the guide channel 48, represented by the arrow 64. The guide channel 48 is the last guide channel of the back row of FIG Guide channels in the direction of displacement. It's closed

-45 erkennen, daß der Führungskanal 48 weniger versetzt ist als die anderen Führungskanäle der hinteren Reihe von Führungskanälen, so daß die Austrittsstelle dieses Führungskanals 48 unter der Eintrittsstelle des ersten Führungskanals 49 der vorderen Reihe von Führungskanälen liegt Das Teilchen wird durch den Führungskanal 48 geführt und gelangt gemäß dem Pfeil 65 in einen erneuten Umlauf. Es ist dabei nur um den halben Betrag in Versetzungsrichtung der hinteren Reihe von Führungskanälen versetzt Das so verlagerte Teilchen gleitet dann in den ersten Führungskanal 49 der vorderen Reihe von Führungskanälen, wie es durch den Pfeil 66 dargestellt ist Der Führungskanal 49 ist in Versetzungsrichtung der erste Führungskanal der vorderen Reihe von Führungskanälen. Die Versetzung der durch Schwerkraft verursachten Strömung des Teilchens ist nun gegenüber der anderen Reihe von Führungskanälen entgegengesetzt, und eine Rückkehr des Teilchens bei Austritt aus dem Führungskanal 49 gemäß dem Pfeil 67 bewirkt, daß sich das Teilchen an der Eintrittsstelle des Führungskanals 50 befindet, dargestellt durch den Pfeil 68. Das Teilchen wird nun nach links verlagert und gelangt gemäß dem Pfeil 69 in einen erneuten Umlauf, wobei es gemäß dem Pfeil 70 in-45 recognize that the guide channel 48 is less offset is than the other guide channels of the rear row of guide channels, so that the exit point of this Guide channel 48 under the entry point of the first guide channel 49 of the front row of guide channels The particle is guided through the guide channel 48 and reaches a according to the arrow 65 renewed circulation. It is only half the amount in the direction of displacement of the rear row of guide channels offset The particle displaced in this way then slides into the first guide channel 49 of the front row of guide channels as shown by arrow 66. Guide channel 49 is shown in FIG Displacement direction of the first guide channel of the front row of guide channels. The dislocation the gravity flow of the particle is now opposite to the other set of Opposite guide channels, and a return of the particle when exiting the guide channel 49 according to the arrow 67 causes the particle to be at the entry point of the guide channel 50, represented by arrow 68. The particle is now shifted to the left and according to the arrow 69 in a new circuit, it according to the arrow 70 in

den Führungskanal 51 eintritt. Durch Verringerung des Versetzungsgrades des letzten Führungskanals 48 der einen Reihe von Führungskanälen kann also ein Teilchen in den ersten Führungskanal 49 der anderen Reihe von Führuhgskanälen gelangen Dei letzte Führungskanal dieser anderen Reihe von Führungskanälen ist ebenfalls um eine geringere Strecke als seine benachbarten Führungskanäle versetzt und bewirkt de'sWlb, daß ein Teilchen im weiteren Umlauf in den ersten Führungskanal der anderen Reihe von Führungskanälen gelangt. Es ist also zu erkennen, daß strömendes Entwicklergemischmaterial in einem Urnaufsystem mit einer Finrichtung der beschriebenen Art zyklisch innerhalb des Entwicklungsgehäuses von einer Seite zur anderen und zurück bewegt werden kann, so daß es im Gehäuse gleichmaßig verteilt und dabei durchgerührt wird. Dabei entstehen reibungselektrische Kräfte zwischen den Teilchen des Entwicklergemischmaterials.the guide channel 51 enters. By reducing the degree of displacement of the last guide channel 48 of A series of guide channels, therefore, one particle can enter the first guide channel 49 of the other The last row of guide channels leads to the end The guide channel of this other series of guide channels is also a lesser distance than his offset adjacent guide channels and causes de'sWlb that a particle in the further circulation in the first guide channel of the other row of guide channels arrives. So it can be seen that flowing Developer mixture material in an Urnauf system with a fin direction of the type described cyclically can be moved from side to side and back within the development housing so that it is in the Housing is evenly distributed and stirred. This creates triboelectric forces between the particles of developer mix material.

Am Boden der Führungseinrichtung ist eine Ablenkplatte 54 angeordnet. Die nach innen abgebogene Kante 55 dieser Platte bewirkt eine Führung der strömenden Teilchen in den Vorratsbereich nahe der Magnetbürste 14, so daß die Teilchen leicht durch die Magnetbürste aus dem Vorratsbereich wieder entnommen werden können.A deflector plate 54 is arranged at the bottom of the guide device. The edge bent inwards 55 of this plate causes a guidance of the flowing Particles in the storage area near the magnetic brush 14 so that the particles can easily pass through the magnetic brush can be removed from the storage area again.

Falls erwünscht, kann die Gleitfläche 26 mehrere mit Abstand zueinander angeordnete öffnungen 56 aufweisen, die in Strömungsrichtung des Entwicklergemischmaterials wetter vorn angeordnet sind und zwischen den Eintrittsöffnungen 35 der Führungskanäle liegen. Dadurch wird eine Ansammlung des Entwicklergemiachmaterials auf der Gleitfläche 26 vermieden. Es ist auch möglich, wenn dieses erwünscht ist, eine Befestigungsplatte in Form einer Gleitfläche mit einem offenen Schlitz vorzusehen, der allen Eintrittsöffnungen der Führungseinrichtung zugeordnet ist.If desired, the sliding surface 26 can have several Have openings 56 arranged at a distance from one another, which are arranged wetter in the flow direction of the developer mixture material in front and between the Inlet openings 35 of the guide channels are located. This creates a build-up of the developer disposable material on the sliding surface 26 avoided. It is also possible, if this is desired, to use a Provide mounting plate in the form of a sliding surface with an open slot, the all inlet openings is assigned to the guide device.

Den Figuren kann man entnehmen, daß die Eintrittsöffnungen einer jeden Reihe von Führungskanälen abwechselnd und mit Abstand zueinander angeordnet sind, so daß praktisch das gesamte strömende Entwicklergemischmaterial, das aus dem Wirkungsbereich der Magnetbürste 20 austritt und über die Gleitfläche bewegt wird, durch die eine oder die andere Reihe von Führungskanälen erfaßt wird, wenn alle Eintrittsöffnungen frei liegen. Die Gleitplatte 26 begrenzt die in die Eintrittsöffnungen eintretende Menge an Entwicklergemischmaterial, so daß eine Blockierung der Führungskanäle vermieden wird, wenn ein großer Durchsatz an Entwicklergemischmaterial auftritt In einem solchen Falle dienen die öffnungen 56, um die überschüssige Menge an Entwicklergemischmaterial in den Vorratsbereich am Boden des Entwicklungsgehäuses abzuleiten.It can be seen from the figures that the inlet openings of each row of guide channels are arranged alternately and at a distance from one another, so that practically the entire flowing developer mixture material that emerges from the effective area of the magnetic brush 20 and over the sliding surface is moved, is detected by one or the other row of guide channels when all entry openings are free. The sliding plate 26 limits the entering into the inlet openings Amount of developer mixture material, so that a blockage of the guide channels is avoided when a large throughput of developer mixture material occurs. In such a case, the openings 56, the excess amount of developer mix material to drain into the storage area at the bottom of the development housing.

In Fig.4 und 5 ist eine zweite Ausführungsform der Erfindung dargestellt, bei der ein Führungsprofil 82 aus einem einzigen Metall- oder Kunststoffstück beispielsweise in einem Fonnungsvorgang gebildet ist Dieses Führungsprofil ist mit einem zentral angeordneten Längswandelemeni 84 versehen, das an einer tragenden Wand 80 gegenüber der Vertikalen leicht geneigt mit Abstand zu dieser befestigt ist Die Vorderseite des zentralen Längswandelements 84 bzw. die den Magnetbürsten zugewandte Seite ist mit mehreren Ablenkplatten 85 ausgebildet, die senkrecht von dem Längswandelement abstehen und gegenüber der Vertikalen geneigt sind. Im dargesteDten Ausführungsbeispiel sind sechs Ablenkplatten vorgesehen, die sechs offene Kanäle für die Strömung des Entwicklergemischmaterials an dieser Seite des Führüngsprofils bilden. In ähnlicher Weise ist die Rückseite der Wand 84 ebenfalls mit Ablenkplatten 86 versehen, die nach unten und seitlich unter einem Winkel gegenüber der Vertikalen verlaufen, der gleich,In Fig.4 and 5 is a second embodiment of the Invention shown in which a guide profile 82 from a single piece of metal or plastic, for example This is formed in a formation process The guide profile is provided with a centrally arranged longitudinal convertible element 84, which is attached to a load-bearing Wall 80 is attached slightly inclined with respect to the vertical at a distance from this the front of the central longitudinal conversion element 84 or the side facing the magnetic brushes is provided with several deflector plates 85 formed, which protrude perpendicularly from the longitudinal wall element and inclined relative to the vertical are. In the illustrated embodiment, six baffles are provided, the six open channels for form the flow of the developer mixture material on this side of the guide profile. In a similar way it is the back of the wall 84 is also provided with baffles 86, the down and sides under a At an angle to the vertical which is equal to

jedoch entgegengesetzt zum Winkel der Ablenkplatten 85 ist. Vorzugswelse sind ausreichend viele Ablenkplatten 85 vorgesehen, so daß sieben Führungskanäle auf der Rückseite der Wand 84 durch die Ablenkplatten, die Wand 84 und die Gehäusewand 80 gebildet sind und einbut opposite to the angle of the baffles 85. A sufficient number of baffles are preferred 85 is provided so that seven guide channels on the back of the wall 84 through the baffles that Wall 84 and the housing wall 80 are formed and a

jo · gleichmäßiges Strömen in beiden Versetzungsrichtungen gewährleistet istjo · uniform flow is guaranteed in both directions of displacement

Am oberen Ende des so geformten Führungsprofils 82 ist als integraler Bestandteil eine Anordnung aus mehreren U-förmigen Führungselementen gebildet, die einen Teil des Entwicklergemischmaterials zur Vorderseite des Führungsprofils 82 hin ablenken. Eines dieser Führungselemente 87 nimmt einen Teil des Entwicklergemischmaterials bei seiner Strömung längs einer Gleitfläche auf und leitet dieses Entwicklergemischma-At the upper end of the guide profile 82 formed in this way, an arrangement is made as an integral part formed a plurality of U-shaped guide elements, which a part of the developer mixture material to the front deflect the guide profile 82 towards. One of these guide members 87 takes part of the developer mixture material in its flow along a sliding surface and directs this developer mixture ma-

2ö teriai iangs des Führungskanais E, der durch die beiden benachbarten Ablenkplatten 85 nahe der einen Seite der Wand gebildet ist In ähnlicher Weise ist ein weiteres Führungselement 88 an der Oberseite des Führungsprofils 82 vorgesehen, welches das Entwicklergemischmate-2ö teriai along the guide channel E, which is formed by the two adjacent deflector plates 85 near one side of the wall.

rial längs eines Führungskanals F leitet. Über seine Länge hinweg ist dieses Führungsprofil ferner mit zusätzlichen U-förmigen Führungselementen 69,71,72, 73 versehen, die das Entwicklergemischmaterial sammeln und es in entsprechende Kanäle C, H, J und K rial along a guide channel F conducts. Over its length, this guide profile is also provided with additional U-shaped guide elements 69, 71, 72, 73, which collect the developer mixture material and feed it into corresponding channels C, H, J and K.

leiten. Über das Führungselement 73 hinaus ist eine öffnung 74 vorgesehen, die einen Teil des Entwicklergemischmaterials in den durch die benachbarten Ablenkplatten 86 und die Wand 80 gebildeten Führungskanal führt Diese Entwicklergemischmaterialströmung erfolgt von links nach rechts bezüglich der Darstellung in F i g. 4 und 5, im Gegensatz zu der Bewegung von rechts nach links, die durch die Führungskanäle an der Vorderseite des Führungsprofils erzeugt wird. Zwischen den Führungen 72-73, 71-72, 69-71, 88-69 und 87—88 sind Öffnungen vorgesehen, die ähnlich wie die öffnungen 74 wirken und den Durchgang de' Entwicklergemischmaterials zu dessen Leitung in die durch die beiden einander gegenüberliegenden Ablenkplatten 86 gebildeten Führungskanäle ermöglichen.conduct. In addition to the guide element 73, an opening 74 is provided which forms part of the developer mixture material into the guide channel formed by the adjacent baffles 86 and wall 80 This developer mixture material flow occurs from left to right with respect to the illustration in FIG F i g. 4 and 5, in contrast to the right-to-left movement provided by the guide channels on the Front of the guide profile is generated. Between guides 72-73, 71-72, 69-71, 88-69 and 87-88 openings are provided which act similarly to the openings 74 and open the passage of the ' Developer mixture material to conduct it into the two opposing baffles 86 formed guide channels allow.

Aus der vorhergehenden Beschreibung ergibt sich somit, daß das über eine Gleitfläche herabgleitende Entwicklergemischmaterial längs der oberen Längskante des Führungsprofils 82 fällt und dann willkürlich in praktisch gleichen Anteilen durch die Führungselemente 87, 88, 69, 71, 72 und 73 gelangt wobei es durch die dazwischen vorgesehenen Öffnungen fällt Die Entwicklergemischmengen werden durch das Führungsprofil 82 auf beiden Seiten der Wand 84 geleitet Das Entwicklergemischmaterial, das durch die Ablenkplatten 85 an der Vorderseite der Wand 84 abgelenkt wird, wird dabei in aufeinanderfolgenden Umläufen aufgrund der Wirkung der Schwerkraft von rechts nach links verlagert Dasjenige Entwicklergemisch, welches zwischen dem Wandelement 84 und der Wand 80 längs der Führungskanäle geführt wird, erfährt in entsprechender Weise eine Verlagerung von ünks nach rechts.From the foregoing description it follows that the slide sliding down over a sliding surface Developer mixture material falls along the upper longitudinal edge of the guide profile 82 and then randomly practically equal proportions through the guide elements 87, 88, 69, 71, 72 and 73 passes through the Openings provided in between falls. The amounts of developer mixture are guided by the guide profile 82 The developer mix material passed through the baffles on both sides of the wall 84 85 is deflected at the front of wall 84, is in successive revolutions due to the effect of gravity from right to left The developer mixture displaced between the wall element 84 and the wall 80 along the Guide channels is guided, experiences a shift in a corresponding manner from ünks to the right.

Die in Fi g. 4 und 5 dargestellte Führungseinrichtung mit sechs Führungskanälen an der Vorderseite der Wand 84 und sieben Führungskanälen an der Rückseite dieser Wand zeigt, daß die Austrittsstellen der Führungskanäle auf die Eintrittsstellen der nächstfolgenden Führungskanäle ausgerichtet sind. Während eines kontinuierlichen Umlaufes des Entwicklerge-The in Fi g. 4 and 5 shown guide device with six guide channels on the front of wall 84 and seven guide channels on the rear this wall shows that the exit points of the guide channels on the entry points of the next Guide channels are aligned. During a continuous cycle of the developer

mischmaterials entstehen dabei solche Bewegungszyklen, daß das Entwicklergemischmaterial über das gesamte Führungsprofil 82 von einer Seite zur anderen und zurück bewegt wird, wie es bereits anhand der F i g> 1 bis 3 beschrieben wurde.Mixing material arise such movement cycles that the developer mixture material over the entire guide profile 82 is moved from one side to the other and back, as it is already based on the F i g> 1 to 3 has been described.

Hierzu 3 Blatt ZeichnungenFor this purpose 3 sheets of drawings

Claims

Patent claims:

1. Guide device for one in an electrophotographic Development station in a planar flow, circulating powdery material up and down Developer mixture, characterized in that it follows the force of gravity downward flow section guide surfaces (26, 38, 84) and guide channels (e.g. 40, 43) are arranged, which divide the flow into at least two partial flows, each one of the partial streams receiving guide channels (40, 43) cross each other in such a way that the Partial flows are given horizontal opposite directional components and am Exit of the guide channels the partial flows laterally offset against each other again to form a planar Flow are merged, so that after several revolutions at the latest up and down by the development station a conversion of the development mixture material within the areal Flow has occurred in the horizontal direction

2. Device according to claim 1, characterized by two adjacent rows each parallel Guide channels (46, 47; 50, 51), which the flow in two rows / on partial flows the guide channels of one row (46, 47) and those of the other row (50, 51) run crossing such that at their exit the partial flows of one row are laterally offset and with the. oppositely offset partial flows of the other ° .eihe alternately joined together to produce a two-dimensional flow again.

3. Device according to claim 2, characterized in that the last partial flow (64) of each a row is offset in such a way that the developer mixture material flowing in it after a Circulation forms the first partial flow (66) of the respective other row.