DE202016008840U1

DE202016008840U1 - Metallblech

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Publication number: DE202016008840U1
Application number: DE202016008840.9U
Authority: DE
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2015-02-10
Filing date: 2016-02-05
Publication date: 2020-02-11
Anticipated expiration: 2026-02-06
Also published as: WO2016129533A1; JP2018104823A; JP2020020048A; EP3626852A1; CN106460150A; JP2016148111A; KR20180050766A; EP3626852B1; CN110965020A; EP3257964A4; KR101857382B1; CN106460150B; CN114774854B; TWI671411B; US20180023182A1; JP6553010B2; EP3257964A1; JP6079911B2; TW201706428A; TW201928089A

Abstract

Metallblech zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern, wobei das Metallblech aus einer Eisenlegierung hergestellt ist, die 30 bis 54 Massen-% Nickel enthält, wobei die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger beträgt, undwobei:wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; undin der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt;wobei das Verfahren zum Berechnen des Verhältnisses A1/A2 auf der Basis des Analyseergebnisses mittels des XPS-Verfahrens so durchgeführt wird, wie es in der Beschreibung angegeben ist; undwobei das Berechnen der Hintergrundlinie unter Verwendung des Shirley-Verfahrens durchgeführt wird, wie es in der Beschreibung angegeben ist.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Metallblech zur Verwendung bei der Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern.
STAND DER TECHNIK
Eine Anzeigevorrichtung, die in einer tragbaren Vorrichtung, wie z.B. einem Smartphone und einem Tablet-PC, verwendet wird, muss eine große Feinheit, wie z.B. eine Pixeldichte von 300 ppi oder mehr, aufweisen. Darüber hinaus gibt es einen größer werdenden Bedarf dahingehend, dass die tragbare Vorrichtung in einem Full High-Definition-Standard anwendbar ist. In diesem Fall muss die Pixeldichte der Anzeigevorrichtung z.B. 450 ppi oder mehr betragen.
Eine organische EL-Anzeigevorrichtung hat aufgrund von deren hervorragendem Ansprechverhalten und niedrigem Stromverbrauch Aufmerksamkeit erlangt. Ein bekanntes Verfahren zum Bilden von Pixeln einer organischen EL-Anzeigevorrichtung ist ein Verfahren, das eine Abscheidungsmaske nutzt, die Durchgangslöcher umfasst, die in einem gewünschten Muster angeordnet sind, und Pixel in dem gewünschten Muster bildet. Insbesondere wird zuerst eine Abscheidungsmaske in einen engen Kontakt mit einem Substrat für eine organische EL-Anzeigevorrichtung gebracht und dann werden das Substrat und die Abscheidungsmaske, die in einem engen Kontakt damit vorliegt, in eine Abscheidungsvorrichtung eingebracht, so dass ein organisches Material, usw., abgeschieden wird.
Eine Abscheidungsmaske kann im Allgemeinen durch Bilden von Durchgangslöchern in einem Metallblech durch Ätzen unter Verwendung einer photolithographischen Technik hergestellt werden (vgl. z.B. das Patentdokument 1). Beispielsweise wird zuerst ein erstes Photolackmuster auf einer ersten Oberfläche des Metallblechs gebildet und ein zweites Photolackmuster wird auf einer zweiten Oberfläche des Metallblechs gebildet. Dann wird ein Bereich der zweiten Oberfläche des Metallblechs, der nicht mit dem ersten Photolackmuster bedeckt ist, geätzt, so dass zweite Aussparungen in der zweiten Oberfläche des Metallblechs gebildet werden. Danach wird ein Bereich der ersten Oberfläche des Metallblechs, der nicht mit dem ersten Photolackmuster bedeckt ist, zur Bildung von ersten Aussparungen in der ersten Oberfläche des Metallblechs geätzt. Dabei können durch Ätzen der Bereiche, so dass jede erste Aussparung und jede zweite Aussparung miteinander in Verbindung stehen, Durchgangslöcher gebildet werden, die durch das Metallblech verlaufen.
In einem Abscheidungsschritt unter Verwendung einer Abscheidungsmaske werden eine Abscheidungsmaske und ein Substrat so angeordnet, dass die Seite einer zweiten Oberfläche der Abscheidungsmaske auf das Substrat gerichtet ist. Darüber hinaus ist ein Tiegel, der ein Abscheidungsmaterial, wie z.B. ein organisches Material, enthält, auf der Seite einer ersten Oberfläche der Abscheidungsmaske angeordnet. Dann wird das Abscheidungsmaterial erwärmt, so dass das Abscheidungsmaterial verdampft oder sublimiert wird. Das verdampfte oder sublimierte Abscheidungsmaterial haftet durch die Durchgangslöcher in der Abscheidungsmaske an dem Substrat. Als Ergebnis wird das Abscheidungsmaterial auf der Oberfläche des Substrats in einem gewünschten Muster entsprechend den Durchgangslochpositionen der Abscheidungsmaske abgeschieden.
Patentdokument 1: JP 2014-148740 A
OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
Mit zunehmender Pixeldichte einer organischen EL-Anzeigevorrichtung nehmen die Größe und der Anordnungsabstand von Durchgangslöchern einer Abscheidungsmaske ab. Wenn Durchgangslöcher in einem Metallblech durch Ätzen unter Verwendung der photolithographischen Technik gebildet werden, vermindert sich die Breite eines Photolackmusters, das auf einer ersten Oberfläche oder einer zweiten Oberfläche des Metallblechs bereitgestellt ist. Folglich ist es für einen Photolackfilm zur Bildung eines Photolackmusters erforderlich, dass er eine hohe Auflösung aufweist. Dass die Breite des Photolackmusters vermindert wird, bedeutet, dass ein Kontaktbereich zwischen dem Photolackmuster und dem Metallblech vermindert wird. Folglich ist es für den Photolackfilm zur Bildung eines Photolackmusters auch erforderlich, dass er eine hohe Haftkraft an dem Metallblech aufweist.
Die vorliegende Erfindung wurde im Hinblick auf die vorstehend genannten Umstände gemacht. Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung eines Metallblechs, auf dessen Oberfläche ein Photolackmuster mit einer geringen Breite stabil bereitgestellt werden kann, und eines solchen Metallblechs. Darüber hinaus betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske unter Verwendung eines solchen Metallblechs.
Die vorliegende Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs, das zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern verwendet wird, wobei das Verfahren einen Herstellungsschritt des Herstellens eines Blechelements, das aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, umfasst, wobei: wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs, das von dem Blechelement erhalten worden ist, unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt.
Das Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs gemäß der vorliegenden Erfindung kann ferner einen Anlassschritt des Anlassens des Blechelements zum Erhalten des Metallblechs umfassen.
In dem Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Anlassschritt in einer Inertgasatmosphäre durchgeführt werden.
In dem Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Herstellungsschritt einen Walzschritt des Walzens eines Basismetalls, das aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, umfassen.
In dem Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Herstellungsschritt einen Folienerzeugungsschritt des Erzeugens eines Plattierungsfilms durch die Verwendung einer Plattierungsflüssigkeit, die eine Lösung, die eine Nickelverbindung enthält, und eine Lösung umfasst, die eine Eisenverbindung enthält, umfassen.
In dem Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger betragen.
In dem Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs gemäß der vorliegenden Erfindung kann das Metallblech zur Herstellung der Abscheidungsmaske durch Belichten und Entwickeln eines trockenen Films, der an der ersten Oberfläche des Metallblechs angebracht ist, so dass ein erstes Photolackmuster gebildet wird, und durch Ätzen eines Bereichs der ersten Oberfläche des Metallblechs, wobei der Bereich nicht mit dem ersten Photolackmuster bedeckt ist, dienen.
Die vorliegende Erfindung ist ein Metallblech, das zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern verwendet wird, wobei: wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt.
In dem Metallblech gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger betragen.
In dem Metallblech gemäß der vorliegenden Erfindung kann das Metallblech zur Herstellung der Abscheidungsmaske durch Belichten und Entwickeln eines trockenen Films, der an der ersten Oberfläche des Metallblechs angebracht ist, so dass ein erstes Photolackmuster gebildet wird, und durch Ätzen eines Bereichs der ersten Oberfläche des Metallblechs, wobei der Bereich nicht mit dem ersten Photolackmuster bedeckt ist, dienen.
Die vorliegende Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern, wobei das Verfahren umfasst: einen Schritt des Herstellens eines Metallblechs; einen erstes Photolackmuster-Bildungsschritt des Bildens eines ersten Photolackmusters auf einer ersten Oberfläche des Metallblechs; und einen Ätzschritt des Ätzens eines Bereichs der ersten Oberfläche des Metallblechs, wobei der Bereich nicht mit dem Photolackmuster bedeckt ist, so dass erste Aussparungen zum Festlegen der Durchgangslöcher in der ersten Oberfläche des Metallblechs ausgebildet werden; wobei: wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt.
In dem Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger betragen.
In dem Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske gemäß der vorliegenden Erfindung kann der erstes Photolackmuster-Bildungsschritt einen Schritt des Anbringens eines trockenen Films an der ersten Oberfläche des Metallblechs und einen Schritt des Belichtens und Entwickelns des trockenen Films zum Bilden des ersten Photolackmusters umfassen.
Die vorliegende Erfindung ist eine Abscheidungsmaske, umfassend: ein Metallblech, das eine erste Oberfläche und eine zweite Oberfläche, die sich gegenüber der ersten Oberfläche befindet, umfasst; und eine Mehrzahl von Durchgangslöchern, die derart in dem Metallblech ausgebildet sind, dass sie von der ersten Oberfläche des Metallblechs zu der zweiten Oberfläche davon verlaufen; wobei: jedes Durchgangsloch eine zweite Aussparung, die in der zweiten Oberfläche des Metallblechs ausgebildet ist, und eine erste Aussparung aufweist, die derart in der ersten Oberfläche des Metallblechs ausgebildet ist, dass sie mit der zweiten Aussparung verbunden ist; wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt.
In der Abscheidungsmaske gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger betragen.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann ein Photolackmuster mit einer geringen Breite stabil auf einer Oberfläche eines Metallblechs bereitgestellt werden. Folglich kann eine Abscheidungsmaske zur Herstellung einer organischen EL-Anzeigevorrichtung mit einer hohen Pixeldichte stabil erhalten werden.
Figurenliste

1 ist eine Ansicht zur Erläuterung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die eine schematische Draufsicht ist, die ein Beispiel für eine Abscheidungsmaskenvorrichtung zeigt, die eine Abscheidungsmaske umfasst.
2 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Abscheidungsverfahrens unter Verwendung der in der 1 gezeigten Abscheidungsmaskenvorrichtung.
3 ist eine partielle Draufsicht, welche die in der 1 gezeigte Abscheidungsmaske zeigt.
4 ist eine Schnittansicht entlang der IV-IV-Linie von 3.
5 ist eine Schnittansicht entlang der V-V-Linie von 3.
6 ist eine Schnittansicht, welche die VI-VI-Linie von 3 zeigt.
7 ist eine vergrößerte Schnittansicht, die das in der 4 gezeigte Durchgangsloch und einen Bereich in der Nähe zeigt.
8(a) bis 8(c) sind Ansichten, die schematisch ein Herstellungsverfahren für eine Abscheidungsmaske zeigen.
9(a) ist eine Ansicht, die einen Schritt zum Erhalten eines Metallblechs mit einer gewünschten Dicke durch Walzen eines Basismetalls zeigt.
9(b) ist eine Ansicht, die einen Schritt des Anlassens des durch Walzen erhaltenen Metallblechs zeigt.
10 ist eine Ansicht, die eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs zeigt, die unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird.
11 ist eine schematische Ansicht zur allgemeinen Erläuterung eines Beispiels für ein Verfahren zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die in der 1 gezeigt ist.
12 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die eine Schnittansicht ist, die einen Schritt zum Bilden eines Photolackfilms auf dem Metallblech zeigt.
13 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die eine Schnittansicht ist, die einen Schritt zum engen Inkontaktbringen mit dem Photolackfilm zeigt.
14A ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die ein längliches Metallblech in einem Schnitt entlang einer senkrechten Richtung zeigt.
14B ist eine partielle Draufsicht, wenn das in der 14A gezeigte längliche Metallblech von der Seite einer ersten Oberfläche her betrachtet wird.
15 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die ein längliches Metallblech in einem Schnitt entlang einer senkrechten Richtung zeigt.
16 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die ein längliches Metallblech in einem Schnitt entlang einer senkrechten Richtung zeigt.
17 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die ein längliches Metallblech in einem Schnitt entlang einer senkrechten Richtung zeigt.
18 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die ein längliches Metallblech in einem Schnitt entlang einer senkrechten Richtung zeigt.
19 ist eine Ansicht zur Erläuterung eines Beispiels des Verfahrens zur Herstellung der Abscheidungsmaske, die ein längliches Metallblech in einem Schnitt entlang einer senkrechten Richtung zeigt.
20 ist eine Ansicht, die ein Modifizierungsbeispiel der Abscheidungsmaskenvorrichtung, die eine Abscheidungsmaske umfasst, zeigt.
21(a) und 21(b) sind Ansichten, die das Ergebnis des Analysierens eines ersten Prüfkörpers, der aus einem ersten Wickelkörper ausgeschnitten worden ist, unter Verwendung einer XPS-Vorrichtung zeigen.
22(a) ist eine Ansicht, die das Ergebnis des Analysierens von Nickeloxid, das als erster Bezugsprüfkörper hergestellt worden ist, unter Verwendung eines XPS-Verfahrens zeigt.
22(b) ist eine Ansicht, die das Ergebnis des Analysierens von Nickelhydroxid, das als zweiter Bezugsprüfkörper hergestellt worden ist, unter Verwendung des XPS-Verfahrens zeigt.
23 ist eine Ansicht, die ein Photolackmuster zeigt, das auf einer Oberfläche einer ersten Probe gebildet worden ist.
24(a) und 24(b) sind Ansichten, die jeweils das Ergebnis des Analysierens eines zweiten Prüfkörpers, der aus einem zweiten Wickelkörper ausgeschnitten worden ist, unter Verwendung einer XPS-Vorrichtung zeigen.
25(a) und 25(b) sind Ansichten, die jeweils das Ergebnis des Analysierens eines dritten Prüfkörpers, der aus einem dritten Wickelkörper ausgeschnitten worden ist, unter Verwendung einer XPS-Vorrichtung zeigen.
26(a) und 26(b) sind Ansichten, die jeweils das Ergebnis des Analysierens eines vierten Prüfkörpers, der aus einem vierten Wickelkörper ausgeschnitten worden ist, unter Verwendung einer XPS-Vorrichtung zeigen.
27A ist eine Ansicht, die einen Schritt des Berechnens einer Hintergrundlinie eines Eisen-Gesamtpeaks von der Eisen-2P_3/2-Bahn zeigt.
27B ist eine Ansicht, die einen Schritt des Trennens eines Peaks von Eisen allein von dem Eisen-Gesamtpeak zeigt.
27C ist eine Ansicht, die einen Schritt des Berechnens eines Peakbereichs von Eisen allein zeigt.
27D ist eine Ansicht, die als Bezug ein Ergebnis des Trennens von Peaks von Eisenoxid und Eisenhydroxid zeigt.
28A ist eine Ansicht, die einen Schritt des Berechnens einer Hintergrundlinie eines Gesamtpeaks von der Nickel-2P_3/2-Bahn zeigt.
28B ist eine Ansicht, die einen Schritt des Trennens eines Peaks von Nickel allein von dem Nickel-Gesamtpeak zeigt.
28C ist eine Ansicht, die einen Schritt des Berechnens eines Peakbereichs von Nickel allein zeigt.
28D ist eine Ansicht, die als Bezug ein Ergebnis des Trennens von Peaks von Nickeloxid und Nickelhydroxid zeigt.
29 ist eine Ansicht, die ein Beispiel zeigt, in dem sich ein Teil eines Photolackmusters von einem Metallblech in einer Entwicklungslösung ablöst.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. In den der Beschreibung beigefügten Zeichnungen sind eine Maßstabsabmessung, ein Seitenverhältnis, usw., in Bezug auf die tatsächlichen Werte für eine einfache Darstellung und ein einfaches Verständnis verändert und übertrieben.
Die 1 bis 20 sind Ansichten zum Erläutern einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung und von dessen Modifizierungsbeispiel. In der nachstehenden Ausführungsform und dem Modifizierungsbeispiel wird z.B. ein Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske zur Verwendung bei der Strukturierung eines organischen Materials in einem gewünschten Muster auf einem Substrat, wenn eine organische EL-Anzeige hergestellt wird, erläutert. Ohne darauf beschränkt zu sein, kann die vorliegende Erfindung jedoch auf ein Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske für verschiedene Anwendungen eingesetzt werden.
In dieser Beschreibung werden die Begriffe „Blech“, „Folie“ und „Film“ lediglich auf der Basis des Unterschieds der Begriffe nicht voneinander unterschieden. Beispielsweise ist das „Blech“ ein Konzept, das ein Element umfasst, das als Folie oder Film bezeichnet werden kann. Folglich wird beispielsweise ein „Metallblech“ lediglich auf der Basis des Unterschieds der Begriffe nicht von einem Element, das als „Metallfolie“ oder „Metallfilm“ bezeichnet wird, unterschieden.
Darüber hinaus steht der Begriff „Blechebene (Folienebene, Filmebene)“ für die Ebene, die einer Ebenenrichtung eines blechartigen (folienartigen, filmartigen) Elements als Ziel entspricht, wenn das blechartige (folienartige, filmartige) Element allgemein als Ganzes als Ziel betrachtet wird. Die senkrechte Richtung bezogen auf das blechartige (folienartige, filmartige) Element steht für die senkrechte Richtung bezogen auf eine Blechebene (Folienoberfläche, Filmoberfläche) des Elements.
Ferner sind in dieser Beschreibung Begriffe, die Formen, geometrische Bedingungen bzw. Zustände und deren Grade, wie z.B. „parallel“, „senkrecht“, „identisch“, „ähnlich“, usw., bezeichnen, nicht auf deren strenge Definitionen beschränkt, sondern so aufzufassen, dass sie einen Bereich umfassen, der eine entsprechende Funktion ausüben kann.
(Abscheidungsmaskenvorrichtung)
Zuerst wird ein Beispiel für eine Abscheidungsmaskenvorrichtung, einschließlich herzustellende Abscheidungsmasken, vorwiegend unter Bezugnahme auf die 1 bis 6 beschrieben. Die 1 ist eine Draufsicht, die ein Beispiel für die Abscheidungsmaskenvorrichtung zeigt, welche die Abscheidungsmasken umfasst. Die 2 ist eine Ansicht zum Erläutern eines Verfahrens zum Verwenden der in der 1 gezeigten Abscheidungsmaskenvorrichtung. Die 3 ist eine Draufsicht, welche die Abscheidungsmaske betrachtet von der Seite einer ersten Oberfläche zeigt. Die 4 bis 6 sind Schnittansichten betrachtet von jeweiligen Position von der 3.
Die Abscheidungsmaskenvorrichtung 10, die in den 1 und 2 gezeigt ist, umfasst eine Mehrzahl von Abscheidungsmasken 20, wobei jede davon aus einem Metallblech 21 mit einer im Wesentlichen rechteckigen Form ausgebildet ist, und einen Rahmen 15, der an Rändern der Abscheidungsmasken 20 angebracht ist. Jede Abscheidungsmaske 20 weist eine Anzahl von Durchgangslöchern 25 auf, die durch Ätzen des Metallblechs 21, das eine erste Oberfläche 21a und eine zweite Oberfläche 21b, die der ersten Oberfläche 21a gegenüberliegt, aufweist, von beiden Seiten der ersten Oberfläche 21a und der zweiten Oberfläche 21b her ausgebildet worden sind. Wie es in der 2 gezeigt ist, wird die Abscheidungsmaskenvorrichtung 10 zum Abscheiden eines Abscheidungsmaterials auf einem Substrat verwendet. Die Abscheidungsmasken-vorrichtung 10 ist derart in einer Abscheidungsvorrichtung 90 gehalten, dass die Abscheidungsmaske 20 auf eine untere Oberfläche des Substrats 92, wie z.B. eines Glassubstrats, auf dem das Abscheidungsmaterial abgeschieden werden soll, gerichtet ist.
In der Abscheidungsvorrichtung 90 werden die Abscheidungsmaske 20 und das Glassubstrat 92 durch eine Magnetkraft von Magneten, die nicht gezeigt sind, in einen engen Kontakt miteinander gebracht. In der Abscheidungsvorrichtung 90 sind unterhalb der Abscheidungsmaskenvorrichtung 10 ein Tiegel 94, der ein Abscheidungsmaterial (z.B. ein organisches Lumineszenzmaterial) 98 aufnimmt, und eine Heizeinrichtung 96 zum Erwärmen des Tiegels 94 angeordnet. Das Abscheidungsmaterial 98 in dem Tiegel 94 wird durch Wärme, die von der Heizeinrichtung 96 angewandt wird, verdampft oder sublimiert, so dass es an der Oberfläche des Substrats 92 haftet. Wie es vorstehend beschrieben worden ist, haftet das Abscheidungsmaterial 98, da die Abscheidungsmaske 20 viele darin ausgebildete Durchgangslöcher 25 aufweist, durch die Durchgangslöcher 25 an dem Glassubstrat 92. Als Ergebnis wird ein Film des Abscheidungsmaterials 98 auf der Oberfläche des Substrats 92 in einem gewünschten Muster gebildet, das den Positionen der Durchgangslöcher 25 der Abscheidungsmaske 20 entspricht.
Wie es vorstehend beschrieben worden ist, sind in dieser Ausführungsform die Durchgangslöcher 25 in jedem effektiven Bereich 22 in einem vorgegebenen Muster angeordnet. Wenn eine Farbanzeige gewünscht ist, können ein organisches Lumineszenzmaterial für eine rote Farbe, ein organisches Lumineszenzmaterial für eine grüne Farbe und ein organisches Lumineszenzmaterial für eine blaue Farbe aufeinanderfolgend abgeschieden werden, während die Abscheidungsmaske 20 (Abscheidungsmaskenvorrichtung 10) und das Glassubstrat 92 nach und nach relativ entlang der Anordnungsrichtung der Durchgangslöcher 25 (die vorstehend genannte eine Richtung) bewegt werden. Alternativ kann das Abscheidungsmaterial 98 auf der Oberfläche der Substrate 92 unter Verwendung der Abscheidungsmasken 20 abgeschieden werden, die sich abhängig von Farben der organischen Lumineszenzmaterialien unterscheiden.
Der Rahmen 15 der Abscheidungsmaskenvorrichtung 10 ist an den Rändern der rechteckigen Abscheidungsmasken 20 angebracht. Der Rahmen 15 ist zum Halten jeder Abscheidungsmaske in einem straffen Zustand ausgebildet, um ein Verziehen der Abscheidungsmaske 20 zu verhindern. Die Abscheidungsmasken 20 und der Rahmen 15 werden beispielsweise durch Punktschweißen aneinander angebracht.
Der Abscheidungsvorgang wird innerhalb der Abscheidungsvorrichtung 90 in einer Hochtemperaturatmosphäre durchgeführt. Folglich werden während des Abscheidungsvorgangs die Abscheidungsmasken 20, der Rahmen 15 und das Substrat 92, die innerhalb der Abscheidungsvorrichtung 90 gehalten sind, ebenfalls erwärmt. Dabei entwickeln jedes der Abscheidungsmasken 20, des Rahmens 15 und des Substrats 92 ein Abmessungsänderungsverhalten auf der Basis von deren jeweiligen Wärmeausdehnungskoeffizienten. In diesem Fall findet dann, wenn sich die Wärmeausdehnungskoeffizienten der Abscheidungsmaske 20, des Rahmens 15 und des Substrats 92 stark voneinander unterscheiden, aufgrund des Unterschieds bei der Abmessungsänderung eine Positionierungsverschiebung statt. Als Ergebnis vermindern sich die Abmessungsgenauigkeit und die Positionsgenauigkeit des Abscheidungsmaterials, das an dem Substrat 92 haften soll. Zum Vermeiden dieses Problems sind die Wärmeausdehnungskoeffizienten der Abscheidungsmaske 20 und des Rahmens 15 vorzugsweise äquivalent zu dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Substrats 92. Beispielsweise wenn ein Glassubstrat als Substrat 92 verwendet wird, kann eine Eisenlegierung als Hauptmaterial der Abscheidungsmaske 20 und des Rahmens 15 verwendet werden. Beispielsweise kann eine Eisenlegierung, die 30 bis 54 Massen-% Nickel enthält, als Material des Metallblechs verwendet werden, das die Abscheidungsmasken 20 bildet. Konkrete Beispiele für eine Nickel-enthaltende Eisenlegierung können ein Invar-Material, das 34 bis 38 Gew.-% Nickel enthält, ein Superinvar-Material, das zusätzlich zu Nickel Kobalt enthält, oder eine plattierte Legierung auf Fe-Ni-Basis, die die 38 bis 54 Massen-% Nickel enthält, sein. In dieser Beschreibung umfasst ein Zahlenbereich, der durch das Symbol „-“ dargestellt ist, Zahlenwerte, die das Symbol „-“ umgeben. Beispielsweise ist ein Zahlenbereich, der durch den Ausdruck „34 bis 38 Gew.-%“ festgelegt ist, identisch mit einem Zahlenbereich, der durch den Ausdruck „nicht weniger als 34 Gew.-% und nicht mehr als 38 Gew.-%“ festgelegt ist.
(Abscheidungsmaske)
Als nächstes wird die Abscheidungsmaske 20 detailliert beschrieben. Wie es in der 1 gezeigt ist, ist in dieser Ausführungsform jede Abscheidungsmaske 20 aus dem Metallblech 21 ausgebildet und weist einen Umriss mit einer in der Draufsicht im Wesentlichen viereckigen Form, insbesondere mit einer in der Draufsicht im Wesentlichen rechteckigen Form, auf. Das Metallblech 21 der Abscheidungsmaske 20 umfasst den effektiven Bereich 22, In dem die Durchgangslöcher 25 in einer regelmäßigen Anordnung ausgebildet sind, und einen peripheren Bereich 23, der den effektiven Bereich 22 umgibt. Der periphere Bereich 23 ist ein Bereich zum Stützen des effektiven Bereichs 22 und ist kein Bereich, durch den das Abscheidungsmaterial, das auf dem Substrat abgeschieden werden soll, hindurchtritt. Beispielsweise ist in der Abscheidungsmaske 20 zur Verwendung zum Abscheiden eines organischen Lumineszenzmaterials für eine organische EL-Anzeigevorrichtung der effektive Bereich 22 ein Bereich in der Abscheidungsmaske 20, der auf einen Abschnitt des Substrats gerichtet ist, auf dem das organische Lumineszenzmaterial zur Bildung von Pixeln abgeschieden wird, d.h., einen Abschnitt des Substrats, der eine Anzeigeoberfläche des hergestellten Substrats für eine organische EL-Anzeigevorrichtung bereitstellt. Aus verschiedenen Gründen kann jedoch der periphere Bereich 23 ein Durchgangsloch und/oder eine Aussparung aufweisen. In dem in der 1 gezeigten Beispiel weist jeder effektive Bereich 22 einen Umriss mit einer in der Draufsicht im Wesentlichen viereckigen Form, insbesondere mit einer in der Draufsicht im Wesentlichen rechteckigen Form, auf.
In dem gezeigten Beispiel sind die effektiven Bereiche 22 der Abscheidungsmaske 20 mit vorgegebenen Intervallen dazwischen entlang einer Richtung parallel zu einer Längsrichtung der Abscheidungsmaske 20 ausgerichtet. In dem gezeigten Beispiel entspricht ein effektiver Bereich 22 einer organischen EL-Anzeigevorrichtung. Insbesondere ermöglicht die Abscheidungsmaskenvorrichtung 10 (Abscheidungsmasken 20), die in der 1 gezeigt ist, eine vielfältige Abscheidung.
Wie es in der 3 gezeigt ist, ist in dem gezeigten Beispiel eine Mehrzahl der Durchgangslöcher 25 in jedem effektiven Bereich 22 mit vorgegebenen Abständen entlang zwei Richtungen senkrecht zueinander angeordnet. Ein Beispiel des Durchgangslochs 25, das in dem Metallblech 21 ausgebildet ist, wird unter Bezugnahme vorwiegend auf die 3 bis 6 detaillierter beschrieben.
Wie es in den 4 bis 6 gezeigt ist, verläuft eine Mehrzahl der Durchgangslöcher 25 von der ersten Oberfläche 20a, die eine Seite entlang einer senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske 20 ist, zu der zweiten Oberfläche 20b, welche die andere Seite entlang der senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske 20 ist. In dem gezeigten Beispiel werden, wie es nachstehend detaillierter beschrieben wird, erste Aussparungen 30 in der ersten Oberfläche des Metallblech 21, die als die eine Seite in der senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske dient, durch einen Ätzvorgang gebildet, und zweite Aussparungen 35 werden in der zweiten Oberfläche 21b gebildet, die als die andere Seite in der senkrechten Richtung des Metallblechs 21 dient. Jede der ersten Aussparungen 30 ist derart mit jeder der zweiten Aussparungen 35 verbunden, dass die zweite Aussparung 35 und die erste Aussparung 30 so ausgebildet sind, dass sie miteinander in Verbindung stehen. Jedes Durchgangsloch 25 ist aus der zweiten Aussparung 35 und der ersten Aussparung 30, die mit der zweiten Aussparung 35 verbunden ist, zusammengesetzt.
Wie es in den 3 bis 6 gezeigt ist, nimmt die Querschnittsfläche von jeder ersten Aussparung 30 in einem Querschnitt entlang einer Blechebene der Abscheidungsmaske 20 an jeder Position entlang der senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske 20 von der Seite der ersten Oberfläche 20a der Abscheidungsmaske 20 in die Richtung der Seite der zweiten Oberfläche 20b allmählich ab. Entsprechend nimmt eine Querschnittsfläche jeder zweiten Aussparung 35 in einem Querschnitt entlang der Blechebene der Abscheidungsmaske 20 an jeder Position entlang der senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske 20 von der Seite der zweiten Oberfläche 20b der Abscheidungsmaske 20 in die Richtung der Seite der ersten Oberfläche 20a allmählich ab.
Wie es in den 4 bis 6 gezeigt ist, sind eine Wandoberfläche 31 der ersten Aussparung 30 und eine Wandoberfläche 36 der zweiten Aussparung 35 mittels eines Umfangsverbindungsabschnitts 41 verbunden. Der Verbindungsabschnitt 41 ist durch eine Gratlinie eines vorgewölbten Teils festgelegt, bei dem die Wandoberfläche 31 der ersten Aussparung 30, die in Bezug auf die senkrechte Richtung der Abscheidungsmaske 20 geneigt ist, und die Wandoberfläche 36 der zweiten Aussparung 35, die in Bezug auf die senkrechte Richtung der Abscheidungsmaske 20 geneigt ist, zusammenlaufen. Der Verbindungsabschnitt 41 legt einen Durchgangsabschnitt 42 fest, bei dem ein Bereich des Durchgangslochs 25 in der Draufsicht der Abscheidungsmaske 20 minimal ist.
Wie es in den 4 bis 6 gezeigt ist, sind die angrenzenden zwei Durchgangslöcher 25 in der anderen Seitenoberfläche entlang der senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske, d.h., in der zweiten Oberfläche 20b der Abscheidungsmaske 20, entlang der Blechebene der Abscheidungsmaske voneinander beabstandet. Insbesondere verbleibt wie in dem nachstehend beschriebenen Herstellungsverfahren, wenn die zweiten Aussparungen 35 durch Ätzen des Metallblechs 21 von der Seite der zweiten Oberfläche 21b des Metallblechs 21 hergestellt werden, die der zweiten Oberfläche 20b der Abscheidungsmaske 20 entspricht, die zweite Oberfläche 21b des Metallblechs 21 zwischen den angrenzenden zwei Aussparungen 35.
Entsprechend können, wie es in den 4 und 6 gezeigt ist, die zwei angrenzenden ersten Aussparungen 30 entlang der Ebene der Abscheidungsmaske auf der einen Seite entlang der senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske, d.h., auf der Seite der ersten Oberfläche 20a der Abscheidungsmaske 20, voneinander beabstandet sein. Insbesondere kann die erste Oberfläche 21a des Metallblechs 21 zwischen den zwei angrenzenden ersten Aussparungen 30 verbleiben. In der nachstehenden Beschreibung wird ein Abschnitt des effektiven Bereichs 22 der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21, der nicht geätzt wird und folglich verbleibt, auch als oberer Abschnitt 43 bezeichnet. Durch Erzeugen der Abscheidungsmaske 20 derart, dass ein oberer Abschnitt 43 verbleibt, kann die Abscheidungsmaske 20 eine ausreichende Festigkeit aufweisen. Folglich kann beispielsweise verhindert werden, dass die Abscheidungsmaske 20 während des Transports beschädigt wird. Wenn die Breite β des oberen Abschnitts 43 jedoch zu groß ist, besteht die Möglichkeit, dass in dem Abscheidungsschritt ein Schatten auftritt, der die Nutzungseffizienz des Abscheidungsmaterials 98 vermindert. Folglich wird die Abscheidungsmaske 20 vorzugsweise derart erzeugt, dass die Breite β des oberen Abschnitts 43 übermäßig groß ist. Beispielsweise beträgt die Breite β des oberen Abschnitts 43 vorzugsweise 2 µm oder weniger. Im Allgemeinen variiert die Breite β des oberen Abschnitts 43 abhängig von einer Richtung, entlang derer die Abscheidungsmaske 20 getrennt wird. Beispielsweise können sich die Breite β des oberen Abschnitts 43, der in der 4 gezeigt ist, und diejenige von 6 voneinander unterscheiden. In diesem Fall kann die Abscheidungsmaske 30 derart ausgebildet werden, dass die Breite β des oberen Abschnitts 43 2 µm oder weniger beträgt, und zwar ungeachtet einer Richtung, entlang derer die Abscheidungsmaske 20 getrennt wird.
Wie es in der 5 gezeigt ist, kann der Ätzvorgang so durchgeführt werden, dass die zwei angrenzenden ersten Aussparungen 30 abhängig von ihren Positionen miteinander verbunden werden. Insbesondere kann ein Teil vorliegen, bei dem keine erste Oberfläche 21a des Metallblechs 21 zwischen zwei angrenzenden ersten Aussparungen 30 verbleibt.
Wie es in der 2 gezeigt ist, ist die Abscheidungsmaskenvorrichtung 10 in der Abscheidungsvorrichtung 90 aufgenommen. In diesem Fall befindet sich, wie es durch die Zweipunkt-Strich-Linien in der 4 gezeigt ist, die erste Oberfläche 20a der Abscheidungsmaske 20 auf der Seite des Tiegels 94, in dem das Abscheidungsmaterial 98 enthalten ist, und die zweite Oberfläche 20b der Abscheidungsmaske 20 ist auf das Glassubstrat 92 gerichtet. Folglich haftet das Abscheidungsmaterial 98 an dem Substrat 92 durch die erste Aussparung 30, deren Querschnittsfläche allmählich abnimmt. Wie es durch den Pfeil in der 4 gezeigt ist, der sich von der ersten Oberfläche 20a zu der zweiten Oberfläche 20b erstreckt, bewegt sich das Abscheidungsmaterial 98 nicht nur von dem Tiegel 94 in die Richtung des Substrats 92 entlang der senkrechten Richtung des Substrats 92, sondern bewegt sich manchmal auch entlang einer Richtung, die in Bezug auf die senkrechte Richtung des Substrats 92 stark geneigt ist. Dabei erreicht, wenn die Dicke der Abscheidungsmaske 20 groß ist, der größte Teil des sich diagonal bewegenden Abscheidungsmaterials 98 die Wandoberfläche 31 der ersten Aussparung 30, bevor das Abscheidungsmaterial 98 durch das Durchgangsloch 25 hindurchtritt und das Substrat 92 erreicht. Folglich wird davon ausgegangen, dass es zur Verbesserung der Nutzungseffizienz der Abscheidungsmaterial 98 bevorzugt ist, dass die Dicke t der Abscheidungsmaske 20 so vermindert wird, dass die Höhen der Wandoberfläche 31 der ersten Aussparung 30 und der Wandoberfläche 36 der zweiten Aussparung 35 vermindert sind. Insbesondere kann davon ausgegangen werden, dass es bevorzugt ist, dass das Metallblech 21, das eine möglichst geringe Dicke t aufweist, solange die Festigkeit der Abscheidungsmaske 20 sichergestellt ist, als das Metallblech 21 zum Bilden der Abscheidungsmaske 20 verwendet wird. Unter Berücksichtigung dieses Punkts wird die Dicke t der Abscheidungsmaske 20 in dieser Ausführungsform vorzugsweise auf 85 µm oder weniger, z.B. innerhalb eines Bereichs von 5 bis 85 µm, eingestellt. Die Dicke t ist eine Dicke des peripheren Bereichs 23, d.h., eine Dicke eines Teils der Abscheidungsmaske 20, bei dem die erste Aussparung 30 und die zweite Aussparung 35 nicht ausgebildet sind. Daher kann die Dicke t als Dicke des Metallblechs 21 angenommen werden.
In der 4 wird ein minimaler Winkel, der durch eine Linie L1, die durch den Verbindungsabschnitt 41 mit der minimalen Querschnittsfläche des Durchgangslochs 25 und eine weitere gegebene Position der Wandoberfläche 31 der ersten Aussparung 30 verläuft, in Bezug auf die senkrechte Richtung N der Abscheidungsmaske 20 festgelegt ist, durch das Symbol θ1 dargestellt. Um bewirken zu können, dass das sich diagonal bewegende Abscheidungsmaterial 98 das Substrat 92 soweit wie möglich erreicht, ohne dass bewirkt wird, dass es die Wandoberfläche 31 erreicht, ist es vorteilhaft, dass der Winkel θ1 vergrößert wird. Zum Vergrößern des Winkels θ1 ist es effektiv, die vorstehend genannte Breite β des oberen Abschnitts 43 zu vermindern und auch die Dicke t der Abscheidungsmaske 20 zu vermindern.

In der 6 stellt das Symbol α die Breite eines Abschnitts (nachstehend auch als „Rippenabschnitt“ bezeichnet) des effektiven Bereichs 22 der zweiten Oberfläche 21b des Metallblechs 21 dar, der nicht geätzt wird und folglich verbleibt. Die Breite α des Rippenabschnitts und die Größe r₂ des Durchgangsabschnitts 42 werden abhängig von der Größe einer organischen EL-Anzeigevorrichtung und von deren Anzeigepixeln in einer geeigneten Weise festgelegt. Die Tabelle 1 zeigt Beispiele für Anzeigepixel, eine Breite α des Rippenabschnitts und eine Größe r₂ des Durchgangsabschnitts, die abhängig von den Anzeigepixeln in einer organischen EL-Anzeigevorrichtung von 5 Zoll erforderlich sind. Tabelle 1

Anzeigepixel	Breite des Rippenabschnitts	Größe des Durchgangsabschnitts
FHD	20 µm	40 µm
(„Full High Definition“)	20 µm	40 µm
WQHD	15 µm	30 µm
(„Wide Quad High Definition“)	15 µm	30 µm
UHD	10 µm	20 µm
(„Ultra High Definition“)	10 µm	20 µm

Obwohl diesbezüglich keine Beschränkung besteht, ist die Abscheidungsmaske 20 gemäß dieser Ausführungsform besonders effektiv, wenn eine organische EL-Anzeigevorrichtung mit einer Pixeldichte von 450 ppi oder mehr hergestellt wird. Nachstehend wird ein Größenbeispiel der Abscheidungsmaske 20, die zur Herstellung einer organischen EL-Anzeigevorrichtung mit einer so hohen Pixeldichte erforderlich ist, beschrieben. Die 7 ist eine vergrößerte Schnittansicht, die das Durchgangsloch 25 der Abscheidungsmaske 20, die in der 4 gezeigt ist, und einen Bereich nahe daran zeigt.
In der 7 wird als Parameter, welche die Form des Durchgangslochs 25 betreffen, ein Abstand von der zweiten Oberfläche 20b der Abscheidungsmaske 20 bis zu dem Verbindungsabschnitt 41 davon entlang der senkrechten Richtung der Abscheidungsmaske 20, d.h., eine Höhe der Wandoberfläche 36 der zweiten Aussparung 35, durch das Symbol r₁ dargestellt. Ferner wird eine Größe der zweiten Aussparung 35 in einem Teil, bei dem die zweite Aussparung 35 mit der ersten Aussparung 30 verbunden ist, d.h., eine Größe des Durchgangsabschnitts 42, durch das Symbol r₂ dargestellt. Darüber hinaus wird in der 7 ein Winkel, der durch eine Linie L2, die den Verbindungsabschnitt 41 und eine distale Kante der zweiten Aussparung 35 in der zweiten Oberfläche 21b des Metallblechs 21 verbindet, bezüglich der senkrechten Linie N des Metallblechs 21 festgelegt ist, durch das Symbol θ2 dargestellt.
Wenn eine organische EL-Anzeigevorrichtung mit einer Pixeldichte von 450 ppi oder mehr hergestellt wird, wird die Größe r₂ des Durchgangsabschnitts 42 vorzugsweise innerhalb eines Bereichs von 10 bis 60 µm eingestellt. Aufgrund dieser Größe kann eine Abscheidungsmaske bereitgestellt werden, die eine organische EL-Anzeigevorrichtung mit einer hohen Pixeldichte erzeugen kann. Vorzugsweise wird die Höhe r₁ der zweiten Wandoberfläche 36 der zweiten Aussparung 35 auf 6 µm oder weniger eingestellt.
Als nächstes wird der vorstehend genannte Winkel θ2 beschrieben, der in der 7 gezeigt ist. Der Winkel θ2 entspricht einem maximalen Wert eines Neigungswinkels des Abscheidungsmaterials 98, welches das Substrat 92 erreichen kann, von dem Abscheidungsmaterial 98, das in Bezug auf die senkrechte Richtung N des Metallblechs 21 geneigt vorliegt und durch den Durchgangsabschnitt 42 in der Nähe des Verbindungsabschnitts 41 hindurchtritt. Dies ist darauf zurückzuführen, dass das Abscheidungsmaterial 98, das bei einem Neigungswinkel größer als der Winkel θ2 vorliegt, an der Wandoberfläche 36 der zweiten Aussparung 35 haftet, bevor das Abscheidungsmaterial 98 das Substrat 92 erreicht. Folglich kann durch Vermindern des Winkels θ2 verhindert werden, dass das Abscheidungsmaterial 98, das bei einem großen Neitungswinkel vorliegt und durch den Durchgangsabschnitt 42 hindurchtritt, an dem Substrat 92 haftet. Daher kann verhindert werden, dass das Abscheidungsmaterial 98 an einem Abschnitt des Substrats 92 haftet, der außerhalb eines Teils vorliegt, der mit dem Durchgangsabschnitt 42 überlappt. Insbesondere kann das Verkleinern des Winkels θ2 eine Variation der Ebenenabmessung und der Dicke des Abscheidungsmaterials 98, das an dem Substrat 92 haftet, verhindern. Diesbezüglich wird das Durchgangsloch 25 derart ausgebildet, dass der Winkel θ2 45 Grad oder weniger beträgt. Die 7 zeigt ein Beispiel, bei dem die Größe der zweiten Aussparung 35 in der zweiten Oberfläche 21b, d.h., eine Öffnungsgröße des Durchgangslochs 25 in der zweiten Oberfläche 21b, größer ist als die Größe r₂ der zweiten Aussparung 35 in dem Verbindungsabschnitt 41. Insbesondere ist der Wert des Winkels θ2 ein positiver Wert. Obwohl dies nicht gezeigt ist, kann jedoch die Größe r₂ der zweiten Aussparung 35 an dem Verbindungsabschnitt 41 größer sein als die Größe der zweiten Aussparung 35 in dem Verbindungsabschnitt 41. Insbesondere kann der Wert des Winkels θ2 ein negativer Wert sein.
Als nächstes werden Probleme beschrieben, die auftreten können, wenn die Abscheidungsmaske 20 hergestellt wird. Zuerst wird ein Verfahren zur Herstellung der Abscheidungsmaske 20 schematisch unter Bezugnahme auf die 8(a) bis 8(c) beschrieben.
In den Herstellungsschritten für die Abscheidungsmaske 20 wird zuerst, wie es in der 8(a) gezeigt ist, ein Metallblech 21 mit einer ersten Oberfläche 21a und einer zweiten Oberfläche 21b hergestellt. Darüber hinaus wird, wie es in der 8(a) gezeigt ist, ein erstes Photolackmuster 65a auf der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 gebildet und ein erstes Photolackmuster 65b wird auf der zweiten Oberfläche 21b gebildet. Danach wird, wie es in der 8(b) gezeigt ist, ein zweiter Oberflächenätzschritt des Bildens einer zweiten Aussparung 35 durch Ätzen eines Bereichs der zweiten Oberfläche 21b des Metallblechs 21, der nicht mit dem ersten Photolackmuster 65b bedeckt ist, durchgeführt. Dann wird, wie es in der 8(c) gezeigt ist, ein erster Ätzschritt des Bildens einer ersten Oberflächenaussparung 30 durch Ätzen eines Bereichs der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21, der nicht mit dem ersten Photolackmuster 65a bedeckt ist, durchgeführt.
Wie es vorstehend beschrieben ist, ist es zum Erhöhen der Nutzungseffizienz des Abscheidungsmaterials 98, während die Abscheidungsmaske 20 eine ausreichende Festigkeit aufweist, bevorzugt, dass der obere Abschnitt 43 mit einer möglichst geringe Breite verbleibt. In diesem Fall wird gemäß einem solchen oberen Abschnitt 43 die Breite w des ersten Photolackmusters 65a, das auf der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 ausgebildet ist, ebenfalls geringer. Wie es in den 8(a) und 8(b) gezeigt ist, findet ein Abtragen in dem Metallblech 21 durch die Ätzschritte nicht nur in der senkrechten Richtung (Dickenrichtung) des Metallblechs 21 statt, sondern auch in einer Richtung entlang der Ebene des Metallblechs 21. Folglich löst sich dann, wenn die Breite w des ersten Photolackmusters 65a geringer ist als der Abtragungsgrad, der in der Richtung entlang der Blechebene des Metallblechs 21 auftritt, das Photolackmuster 65a von der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 während des Ätzschritts ab. Es wird davon ausgegangen, dass die Abtragung, die in der Richtung entlang der Blechebene des Metallblechs 21 stattfindet, mindestens etwa 3 µm auf einer Seite beträgt. Unter Berücksichtigung dieses Punkts wird die Breite w des ersten Photolackmusters 65a vorzugsweise um mindestens 6 µm größer eingestellt als die Breite β des vorstehend genannten oberen Abschnitts 43. Beispielsweise liegt die Breite w des ersten Photolackmusters 65a innerhalb eines Bereichs von 20 bis 40 µm.
Zum präzisen Erzeugen des ersten Photolackmusters 65a mit einer geringen Breite muss ein nachstehend beschriebener Photolackfilm 65c zur Bildung des Photolackmusters 65a eine hohe Auflösung aufweisen. Beispielsweise ist als der Photolackfilm 65c ein sogenannter Trockenfilm, wie z.B. ein Photolackfilm, der ein lichtaushärtendes Harz auf Acrylbasis enthält, bevorzugt. Ein Beispiel für den Trockenfilm ist RY3310, das von Hitachi Chemical Co., Ltd., hergestellt wird. Zusätzlich sind weitere Beispiele für den Trockenfilm UFG-052 und ATP-053, die von ASAHI KASEI E-materials Corp. hergestellt werden, usw.
Der Trockenfilm steht für einen Film, der an einem Gegenstand, wie z.B. dem Metallblech 21, angebracht ist, um einen Photolackfilm auf dem Gegenstand zu bilden. Der Trockenfilm umfasst mindestens einen Basisfilm, der z.B. aus PET hergestellt ist, und eine lichtempfindliche Schicht mit einer Lichtempfindlichkeit, die auf den Basisfilm laminiert ist. Die lichtempfindliche Schicht enthält ein lichtempfindliches Material, wie z.B. ein Harz auf Acrylbasis, ein Harz auf Epoxybasis, ein Harz auf Polyimidbasis, ein Harz auf Styrolbasis, usw.
Durch Herstellen des ersten Photolackmusters 65a mittels eines Trockenfilms mit einer hohen Auflösung kann das erste Photolackmuster 65a mit einer geringen Breite w auf der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 präzise ausgebildet werden. Wenn andererseits die Breite w des ersten Photolackmusters 65 gering wird, wird eine planare Kontaktabmessung zwischen der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 und dem ersten Photolackmuster 65a ebenfalls gering. Folglich muss der nachstehend beschriebene Photolackfilm 65c zur Bildung des ersten Photolackmusters 65a eine hohe Haftkraft an der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 aufweisen.
Die vorliegenden Erfinder haben jedoch umfangreiche Untersuchungen durchgeführt und gefunden, dass, obwohl der Trockenfilm stark an Kupfer und einer Kupferlegierung haftet, der Trockenfilm nur schlecht an einer Eisen-Nickel-Legierung, wie z.B. einem Invar-Material, haftet. Folglich weist das herkömmliche Herstellungsverfahren für die Abscheidungsmaske 20 Schwierigkeiten dahingehend auf, dass sich das erste Photolackmuster 65a und/oder das zweite Photolackmuster 65b von dem Metallblech 21 ablösen oder ablöst. Beispielsweise wurde in einem Entwicklungsschritt des Entwickeins des nachstehend beschriebenen belichteten Photolackfilms 65c, 65d zur Bildung eines Photolackmusters 65a, 65b festgestellt, dass eine Entwicklungslösung zwischen dem Metallblech 21 und dem Photolackfilm 65c, 65d eingedrungen war, so dass sich der Photolackfilm 65c, 65d von dem Metallblech 21 ablöste. Darüber hinaus wurde nach dem Entwicklungsschritt und einem Brennschritt des Brennens des Photolackmusters 65a, 65b zum Anbringen des Photolackmusters 65a, 65b an dem Metallblech 21 mit einer größeren Sicherheit festgestellt, dass sich der Photolackfilm 65c, 65d von dem Metallblech 21 ablöste.
Als Ätzphotolack ist zusätzlich zu dem vorstehend genannten trockenen Film ein flüssiges Photolackmaterial bekannt, das auf einen Gegenstand aufgebracht wird, während es in einem fließfähigen Zustand, wie z.B. in einem flüssigen Zustand, vorliegt. Das flüssige Photolackmaterial ist z.B. ein Casein-Photolack. In diesem Fall wird ein Photolackfilm auf einem Gegenstand, wie z.B. dem Metallblech 21, durch Aufbringen des flüssigen Photolackmaterials auf den Gegenstand und Erstarrenlassen der Flüssigkeit gebildet. Das flüssige Photolackmaterial kommt mit dem Gegenstand in Kontakt, während es sich In dem flüssigen Zustand befindet. Demgemäß erstarrt selbst dann, wenn die Oberfläche des Gegenstands eine Konkavität und/oder eine Konvexität aufweist, die Flüssigkeit, so dass sie ein Photolackfilm wird, nachdem die Flüssigkeit der Konkavität und/oder der Konvexität gefolgt ist. Folglich sind die Hafteigenschaften zwischen dem flüssigen Photolackmaterial und dem Gegenstand hoch.
Andererseits kommt, wie es vorstehend beschrieben ist, der Trockenfilm mit dem Gegenstand in Kontakt, während er sich in dem Zustand eines Films befindet, der eine lichtempfindliche Schicht enthält. Folglich kann, wenn eine Konkavität und/oder eine Konvexität auf der Oberfläche des Gegenstands vorliegen oder vorliegt, die lichtempfindliche Schicht des Trockenfilms nicht vollständig der Konkavität und/oder der Konvexität folgen. Als Ergebnis sind die Hafteigenschaften zwischen dem Trockenfilm und dem Gegenstand schlechter als die Hafteigengeschaften zwischen dem flüssigen Photolackmaterial und dem Gegenstand.
Die Tabelle 2 zeigt ein Vergleichsergebnis zwischen dem Trockenfilm und dem flüssigen Photolackmaterial bezüglich der Auflösung, der Hafteigenschaften und der Kosten. Der Begriff „Hafteigenschaften“ steht hierfür die Leichtigkeit des Trockenfilms oder des flüssigen Photolackmaterial an dem Invar-Material. Wie es in der Tabelle 2 gezeigt ist, weist der herkömmliche Trockenfilm schlechte Hafteigenschaften an dem Invar-Material auf und ist teuer, während er verglichen mit dem flüssigen Photolackmaterial eine hervorragende Auflösung aufweist. Tabelle 2

Auflösung Hafteigenschaften Kosten

Trockenfilm Hervorragend Nicht gut Nicht gut

Flüssiges Photolackmaterial Nicht gut Gut Hervorragend
Der Trockenfilm wurde herkömmlich zur Herstellung einer Kupferverdrahtung durch Ätzen einer Kupferfolle für ein Drucksubstrat verwendet. In diesem Fall ist der Trockenfilm auf der Kupferfolie bereitgestellt. Wie es vorstehend beschrieben ist, hat, da der Trockenfilm stark an Kupfer und einer Kupferlegierung haftet, ein Problem betreffend die Hafteigenschaften des Trockenfilms keine spezifische Aufmerksamkeit erlangt. Es wird davon ausgegangen, dass das Problem der schlechten Hafteigenschaften des Trockenfilms an einer Eisen-Nickel-Legierung, wie z.B. einem Invar-Material, Aufmerksamkeit erlangt, wenn ein Photolackmuster mit einer geringen Breite präzise auf einem Metallblech ausgebildet wird, das aus einer Eisen-Nickel-Legierung hergestellt ist.
Zur stabilen Bildung des ersten Photolackmusters 65a mit einer geringen Breite w auf der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21, das aus einer Eisen-Nickel-Legierung hergestellt ist, ist es wichtig, die Haftkraft zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a zu erhöhen. Die vorliegenden Erfinder haben umfangreiche Untersuchungen durchgeführt und gefunden, dass die Haftkraft zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a von dem Vorliegen einer Nickelverbindung in der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 abhängt. Die durch die vorliegenden Erfinder gefundene Tatsache wird nachstehend beschrieben.
Im Allgemeinen umfasst, wenn eine Oberfläche eines Metallblechs, das aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, oxidiert wird, das Metallblech eine Hauptschicht, die aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, und eine Oberflächenschicht, die Eisenoxid, Eisenhydroxid, Nickeloxid und Nickelhydroxid enthält. Insbesondere liegen Eisenoxid und Eisenhydroxid auf einem Teil am nächsten zu der Oberfläche des Metallblechs vor, und es liegen Nickeloxid und Nickelhydroxid zwischen dem Eisenoxid und dem Eisenhydroxid und der Hauptschicht vor.
Die vorliegenden Erfinder haben eine Zusammensetzung des Metallblechs, dessen Oberfläche oxidiert ist, unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie (nachstehend auch als XPS-Verfahren bezeichnet) analysiert und festgestellt, dass eine Hauptschicht, die aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, an einer Position innerhalb von mehreren Nanometern von der Oberfläche des Metallblechs vorliegt. Insbesondere kann davon ausgegangen werden, dass eine Oberflächenschicht, die Nickeloxid und Nickelhydroxid enthält, an einer Position innerhalb von mehreren Nanometern von der Oberfläche des Metallblechs vorliegt.
Darüber hinaus haben, wie es in den nachstehend beschriebenen Beispielen gezeigt ist, die vorliegenden Erfinder die Hafteigenschaften des Metallblechs an einem Photolackmuster bewertet und gefunden, dass verglichen mit einem Metallblech mit sehr guten Hafteigenschaften an einem Photolackmuster ein Metallblech mit schlechten Hafteigenschaften an einem Photolackmuster mehr Nickeloxid und Nickelhydroxid in der Oberflächenschicht des Metallblechs aufwies. Wenn berücksichtigt wird, dass Verbindungen, die in der Oberflächenschicht des Metallblechs vorliegen, Eisenoxid, Eisenhydroxid, Nickeloxid und Nickelhydroxid sind, kann der Zustand, bei dem „mehr Nickeloxid und Nickelhydroxid in der Oberflächenschicht des Metallblechs vorliegen“ als Zustand, in dem sein Verhältnis von Nickeloxid und Nickelhydroxid relativ zu Eisenoxid und Eisenhydroxid in der Oberflächenschicht des Metallblechs höher ist“, ausgedrückt werden. Darüber hinaus haben, wie es in den nachstehend beschriebenen Beispielen gezeigt ist, die vorliegenden Erfinder die Hafteigenschaften von verschiedenen Metallblechen an einem Photolackmuster bewertet und gefunden, dass dann, wenn das Verhältnis von Nickeloxid und Nickelhydroxid relativ zu Eisenoxid und Eisenhydroxid 0,4 oder weniger betrug, die Hafteigenschaften eines Metallblechs an einem Photolackmuster ausreichend sichergestellt werden konnten, und dass dann, wenn das vorstehend genannte Verhältnis 0,4 überstieg, die Hafteigenschaften eines Metallblechs an einem Photolackmuster unzureichend waren.
Darüber hinaus haben die vorliegenden Erfinder bezüglich eines Metallblechs mit sehr guten Hafteigenschaften an einem Photolackmuster und eines Metallblechs mit schlechten Hafteigenschaften an einem Photolackmuster den Unterschied bei den Herstellungsschritten zwischen diesen Metallblechen untersucht. Die vorliegenden Erfinder haben gefunden, dass das Metallblech mit schlechten Hafteigenschaften an einem Photolackmuster einem Anlassschritt des Anlassens des Metallblechs in einer reduzierenden Atmosphäre, die eine große Menge eines reduzierenden Gases, wie z.B. Wasserstoff, enthält, unterzogen wurde. Folglich kann davon ausgegangen werden, dass in einer reduzierenden Atmosphäre Nickeloxid und Nickelhydroxid dazu neigen, sich an der Oberfläche des Metallblechs abzuscheiden. Darüber hinaus wird, wie es in der nachstehend beschriebenen Reaktionsformel gezeigt ist, in einer reduzierenden Atmosphäre, die eine große Menge eines reduzierenden Gases, wie z.B. Wasserstoff, enthält, Nickelhydroxid gemäß einer Reduktionsreaktion von Nickeloxid erzeugt. Folglich wird davon ausgegangen, dass Nickelhydroxid einen größeren negativen Einfluss auf die Hafteigenschaften an einem Photolackmuster aufweist als Nickeloxid.
Auf der Basis der vorstehend genannten Untersuchung kann davon ausgegangen werden, dass die Hafteigenschaften eines Metallblechs an einem Photolackmuster auf der Basis eines Anteils von Nickelhydroxid in der Oberflächenschicht des Metallblechs erwartet werden können. Wie es in den nachstehend beschriebenen Beispielen gezeigt ist, ist es in der XPS-Analyse nicht einfach, einen Peak, der Nickeloxid entspricht, und einen Peak, der Nickelhydroxid entspricht, zu trennen. Unter Berücksichtigung dessen nutzt diese Ausführungsform ein Verfahren zum Erhalten von Informationen bezüglich der Hafteigenschaften an einem Photolackmuster auf der Basis eines Verhältnisses von Nickeloxid und Nickelhydroxid relativ zu Eisenoxid und Eisenhydroxid. Ein konkretes Verhältnis des Vorliegens und Details des Verfahrens zum Untersuchen von jeweiligen Verbindungen in der ersten Oberfläche 21a des Metallblechs 21 werden später beschrieben.
Als nächstes werden der Betrieb und ein Effekt dieser Ausführungsform, die in der vorstehend beschriebenen Weise strukturiert sind, beschrieben.
Nachstehend wird zuerst ein Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs beschrieben, das zur Herstellung einer Abscheidungsmaske verwendet wird. Dann wird ein Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske unter Verwendung des erhaltenen Metallblechs beschrieben.
Danach wird ein Verfahren zum Abscheiden eines Abscheidungsmaterials auf einem Substrat unter Verwendung der erhaltenen Abscheidungsmaske beschrieben.
(Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs)
Zuerst wird ein Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs unter Bezugnahme auf die 9(a) und 9(b) beschrieben. Die 9(a) ist eine Ansicht, die einen Schritt des Walzens eines Basismetalls zum Erhalten eines Metallblechs mit einer gewünschten Dicke zeigt. Die 9(b) ist eine Ansicht, die einen Schritt des Anlassens des Metallblechs zeigt, das durch den Walzschritt erhalten worden ist.
<Walzschritt>
Wie es in der 9(a) gezeigt ist, wird ein Basismetall 55 hergestellt, das aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, und das Basismetall 55 wird in die Richtung einer Walzvorrichtung 56, die ein Paar von Reduktionswalzen 56a und 56b entlang einer Transportrichtung umfasst, die durch den Pfeil D1 gezeigt ist, transportiert. Das Basismetall 55, das zwischen dem Paar von Reduktionswalzen 56a und 56b angelangt ist, wird durch das Paar von Reduktionswalzen 56a und 56b gewalzt. Folglich wird die Dicke des Basismetalls 55 vermindert und es ist entlang der Transportrichtung länglich. Als Ergebnis kann ein Blechelement 64X mit einer Dicke t₀ erhalten werden. Wie es in der 9(a) gezeigt Ist, kann ein Wickelkörper 62 durch Aufwickeln des Blechelements 64X um einen Kern 61 gebildet werden. Ein konkreter Wert der Dicke t₀ liegt innerhalb eines Bereichs von 5 bis 85 µm, wie es vorstehend beschrieben ist.
Die 9(a) zeigt den Walzschritt lediglich schematisch und eine konkrete Struktur und ein konkretes Verfahren zum Durchführen des Walzschritts sind nicht speziell beschränkt. Beispielsweise kann der Walzschritt einen Warmwalzschritt, in dem das Basismetall bei einer Temperatur von nicht weniger als der Rekristallisationstemperatur des Invar-Materials, welches das Basismetall 55 bildet, verarbeitet wird, und einen Kaltwalzschritt, in dem das Basismetall bei einer Temperatur von nicht mehr als der Rekristallisationstemperatur des Invar-Materials verarbeitet wird, umfassen. Darüber hinaus ist eine Orientierung, entlang der das Basismetall 55 und das Blechelement 64X zwischen den Reduktionswalzen 56a und 56b hindurchtreten, nicht auf eine Richtung beschränkt. Beispielsweise können gemäß den 9(a) und 9(b) das Basismetall 55 und das Blechelement 64X durch wiederholtes Hindurchführen des Basismetalls 55 und des Blechelements 64X zwischen dem Paar von Reduktionswalzen 56a und 56b in einer Orientierung von der linken Seite zur rechten Seite in einer Lagenebene und in einer Orientierung von der rechten Seite zur linken Seite in der Lagenebene nach und nach gewalzt werden.
<Schlitzschritt>
Danach kann ein Schlitzschritt zum Schlitzen von beiden Enden des Blechelements 64X, das durch den Walzschritt erhalten wird, in der Breitenrichtung davon für einen Bereich von 3 - 5 mm durchgeführt werden. Der Schlitzschritt wird zum Entfernen eines Risses durchgeführt, der an beiden Enden des Blechelements 64X aufgrund des Walzschritts erzeugt werden kann. Aufgrund des Schlitzschritts kann verhindert werden, dass ein Bruchphänomen des Blechelements 64X, das ein sogenannter Blecheinschnitt ist, ausgehend von dem Riss als Ausgangspunkt stattfindet.
<Anlassschritt>
Danach wird zur Beseitigung einer Restspannung, die sich durch den Walzvorgang in dem Blechelement 64X angesammelt hat, wie es in der 9(b) gezeigt ist, das Blechelement 64X durch eine Anlassvorrichtung 57 angelassen, so dass ein längliches Metallblech erhalten wird. Wie es in der 9(b) gezeigt ist, kann der Anlassschritt durchgeführt werden, während das Blechelement 64X oder das längliche Metallblech 64 in der Transportrichtung (Längsrichtung) gezogen wird. Insbesondere kann der Anlassschritt als kontinuierlicher Anlassvorgang durchgeführt werden, während das längliche Metallblech transportiert wird, und zwar anstatt eines Anlassvorgangs des Chargen-Typs. Die Dauer des Anlassschritts wird abhängig von der Dicke des länglichen Metallblechs 64 und eines Reduktionsverhältnisses in einer geeigneten Weise eingestellt. Beispielsweise wird der Anlassschritt für 60 Sekunden oder mehr bei 500 °C durchgeführt. Die vorstehend genannten „60 Sekunden“ bedeuten, dass es für das Blechelement 64X 60 Sekunden dauert, durch einen Raum in der Anlassvorrichtung 57 hindurchzutreten, der auf eine Temperatur von 500 °C erwärmt ist.
Der vorstehend genannte Anlassschritt wird vorzugsweise in einer nicht-reduzierenden Atmosphäre oder einer Inertgasatmosphäre durchgeführt. Die nichtreduzierende Atmosphäre steht hier für eine Atmosphäre, die frei von einem reduzierenden Gas, wie z.B. Wasserstoff, ist. Der Ausdruck „frei von einem reduzierenden Gas“ bedeutet, dass die Konzentration eines reduzierenden Gases, wie z.B. Wasserstoff, 10 % oder weniger beträgt. Darüber hinaus steht die Inertgasatmosphäre für eine Atmosphäre, in der 90 % oder mehr eines Inertgases, wie z.B. Argongas, Heliumgas oder Stickstoffgas, vorliegen. Durch Durchführen des Anlassschritts in der nicht-reduzierenden Atmosphäre oder der Inertgasatmosphäre kann verhindert werden, dass das vorstehend genannte Nickelhydroxid auf einer ersten Oberfläche 64a und einer zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 erzeugt wird.
Durch Durchführen des Anlassschritts kann ein längliches Metallblech 64 mit einer Dicke t₀ erhalten werden, von dem die Restspannung in einem gewissen Maß beseitigt worden ist. Die Dicke t₀ ist im Allgemeinen mit der Dicke t der Abscheidungsmaske 20 identisch.
Das längliche Metallblech 64 mit der Dicke t₀ kann durch mehrmaliges Wiederholen des vorstehend genannten Walzschritts, des Schlitzschritts und des Anlassschritts hergestellt werden. Die 9(b) zeigt ein Beispiel, bei dem der Anlassschritt durchgeführt wird, während das längliche Metallblech 64 in der Längsrichtung gezogen wird. Ohne darauf beschränkt zu sein, kann der Anlassschritt mit dem länglichen Metallblech 64 durchgeführt werden, das um den Kern 61 gewickelt ist. Insbesondere kann ein Anlassverfahren des Chargentyps durchgeführt werden. Wenn der Anlassschritt durchgeführt wird, während das längliche Metallblech 64 um den Kern 61 gewickelt ist, kann das längliche Metallblech 64 eine Verzugsneigung entsprechend einem Wickeldurchmesser des Wickelkörpers 62 aufweisen. Folglich ist es abhängig von einem Wickeldurchmesser des Wickelkörpers 62 und/oder eines Materials, welches das Basismetall 55 bildet, vorteilhaft, den Anlassschritt durchzuführen, während das längliche Metallblech 64 in der Längsrichtung gezogen wird.
<Trennschritt>
Danach wird ein Trennschritt durchgeführt, in dem beide Enden des länglichen Metallblechs 64 in der Breitenrichtung davon in einem vorgegebenen Bereich abgeschnitten werden, so dass die Breite des länglichen Metallblechs 64 auf eine gewünschte Breite eingestellt wird. Auf diese Weise kann das längliche Metallblech 64 mit einer gewünschten Dicke und einer gewünschten Breite erhalten werden.
<Prüfschritt>
Danach wird ein Prüfschritt des Prüfens der Zusammensetzung des Materials durchgeführt, das die erste Oberfläche 64a des erhaltenen länglichen Metallblechs 64 bildet. Hier wird ein Beispiel erläutert, in dem eine Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 mit einem XPS-Verfahren durchgeführt wird. Das XPS-Verfahren ist ein Verfahren, in dem ein Prüfkörper mit Röntgenstrahlen bestrahlt wird und die Energieverteilung von Photoelektronen, die von dem Prüfkörper abgegeben werden, gemessen werden, um Informationen über die Arten von Bestandteilselementen und/oder deren vorliegenden Menge innerhalb eines Bereichs von mehreren Nanometern von einer Oberfläche des Prüfkörpers zu erhalten. In diesem Fall ist in einem Spektrum, das durch die Röntgenphotoelektronenspektroskopie gemessen wird, die vorliegende Menge von jedem Bestandteilselement proportional zu einem Planardimension-Peakwert, der durch Integrieren eines Planardimension-Peakwerts, der jedem Bestandteilselement entspricht, berechnet wird. Folglich wird zuerst ein Planardimension-Peakwert, der jedem Bestandteilselement entspricht, berechnet, dann wird ein Gesamtwert der Planardimension-Peakwerte der jeweiligen Bestandteilselemente berechnet und danach können die Atom-% eines Ziel-Bestandteilselements durch Dividieren eines Planardimension-Peakwerts des Ziel-Bestandteilselements durch den Gesamtwert und Multiplizieren des Werts mit 100 berechnet werden. Eine Beziehung zwischen einer vorliegenden Menge eines gegebenen Bestandteilselements und eines Planardimension-Peakwerts davon können sich abhängig von der Empfindlichkeit bezüglich Röntgenstrahlen, usw., unterscheiden. In diesem Fall können der vorstehend genannte Gesamtwert und die Atom-% nach dem Multiplizieren jedes Bestandteilselements mit einem relativen Empfindlichkeitskoeffizienten zum Kompensieren der Empfindlichkeitsdifferenz berechnet werden, so dass ein kompensierter Planardimension-Peakwert berechnet wird.
Die 10 ist eine Ansicht, die zeigt, dass eine Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 unter Verwendung der Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird. Wie es in der 10 gezeigt ist, wird in einem Beispiel der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 ein Röntgenstrahl X1 von einer Bestrahlungseinheit 81 auf das längliche Metallblech 64 eingestrahlt und der Auftreffwinkel eines Photoelektrons X2, das von dem länglichen Metallblech 64 abgegeben wird, wird auf 90 Grad eingestellt. In diesem Fall können Arten von Bestandteilselementen und deren vorliegenden Mengen in einem Bereich innerhalb eines Bereichs von mehreren Nanometern, wie z.B. 5 nm, von der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 in einer besser reproduzierbaren Weise gemessen werden. Wie es in der 10 gezeigt ist, ist der „Auftreffwinkel“ ein Winkel, der durch eine Richtung, entlang derer sich das Photoelektron X2, das von dem länglichen Metallblech 64 abgegeben wird, so dass es eine Erfassungseinheit 82 erreicht, bewegt, wenn das Photoelektron X2 von dem länglichen Metallblech 64 abgegeben wird, und die erste Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 festgelegt ist.
Nachdem die Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 mittels des XPS-Verfahrens durchgeführt worden ist, wird die Auswahl eines länglichen Metallblechs 64 durchgeführt, bei der nur das längliche Metallblech 64, das die folgende Bedingung (1) erfüllt, in einem Herstellungsschritt für die Abscheidungsmaske 20 verwendet wird, der nachstehend beschrieben wird.
(1) Wenn die Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 unter Verwendung der Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, beträgt das Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist.
Die vorstehend genannte Bedingung (1) ist eine Bedingung zum ausreichenden Sicherstellen einer Haftkraft zwischen dem nachstehend beschriebenen ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a. Wie es vorstehend beschrieben ist, wirken Nickelhydroxid und Nickeloxid dahingehend, dass sie die Haftkraft zwischen dem Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a vermindern. Folglich ist das Festlegen von Obergrenzen von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid, wie es durch die vorstehend genannte Bedingung (1) festgelegt ist, dahingehend effektiv, eine minimale Haftkraft sicherzustellen, die als Haftkraft zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a erforderlich ist.
Wie es später beschrieben ist, ist es in einer Analyse unter Verwendung der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, da ein Peak, der Nickeloxid entspricht, und ein Peak, der Nickelhydroxid entspricht, extrem nahe beieinander vorliegen, schwierig, diese Peaks sicher zu unterscheiden. Entsprechend ist es, da ein Peak, der Eisenoxid entspricht, und ein Peak, der Eisenhydroxid entspricht, extrem nahe beieinander vorliegen, schwierig, diese Peaks sicher zu unterscheiden. Unter diesem analytischen Gesichtspunkt wird in dieser Ausführungsform, ob eine Haftkraft zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a ausreichend sichergestellt werden kann oder nicht, auf der Basis eines Verhältnisses zwischen einer Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid und einer Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid anstelle eines Verhältnisses zwischen einem Planardimension-Peakwert von Nickelhydroxid und einem Planardimension-Peakwert von Eisenhydroxid bewertet.
Die vorliegenden Erfinder haben umfangreiche Untersuchungen durchgeführt und gefunden, dass es dann, wenn eine Atmosphäre beim Anlassschritt ein reduzierendes Gas, wie z.B. Wasserstoff, enthält, wahrscheinlich ist, dass Nickelhydroxid auf der ersten Oberfläche 64a und der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 erzeugt wird, so dass es wahrscheinlich ist, dass die Haftkraft zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a abnimmt. Wenn eine Atmosphäre beim Anlassschritt eine nicht-reduzierbare Atmosphäre oder eine Inertgasatmosphäre war, konnte verhindert werden, dass Nickelhydroxid auf der ersten Oberfläche 64a und der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 erzeugt wurde. Folglich konnte, da das vorstehende A1/A2 auf 0,4 oder weniger eingestellt wurde, die Haftkraft zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a ausreichend sichergestellt werden.
In einer reduzierenden Atmosphäre, die ein reduzierendes Gas, wie z.B. Wasserstoff enthält, wird, wie es durch die nachstehende Reaktionsformel gezeigt ist, davon ausgegangen, dass ein Teil von Nickeloxid, das bereits auf der Oberfläche des länglichen Metallblechs 64 gebildet worden ist, unter Erzeugung von Nickel reduziert wird und dass gleichzeitig damit Nickelhydroxid auf der Oberfläche des länglichen Metallblechs 64 erzeugt wird. 2NiO + H₂ → Ni(OH)₂ + Ni
Zum ausreichenden Sicherstellen der Haftkraft zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a ist es wichtig, eine Nickelreduktionsreaktion auf der Oberfläche des länglichen Metallblechs 64, wie z.B. der ersten Oberfläche 64a und der zweiten Oberfläche 64b, zu verhindern, so dass die Erzeugung von Nickelhydroxid verhindert wird.
Die vorliegenden Erfinder haben umfangreiche Untersuchungen durchgeführt und gefunden, dass dann, wenn A1/A2 niedriger wird, die Hafteigenschaften zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a zu einer Verbesserung neigen. Folglich beträgt zur Verbesserung der Hafteigenschaften zwischen dem ersten Photolackmuster 65a und der ersten Oberfläche 21a A1/A2 vorzugsweise 0,3 oder weniger und mehr bevorzugt beträgt A1/A2 0,2 oder weniger.
In der vorstehenden Beschreibung wird der Prüfschritt zum Prüfen des länglichen Metallblechs 64 auf der Basis der vorstehend genannten Bedingung (1) beispielsweise zum Auswählen des länglichen Metallblechs 64 verwendet. Die Verwendung der Bedingung (1) ist jedoch nicht darauf beschränkt.
Beispielsweise kann die vorstehend genannte Bedingung (1) zum Optimieren einer Bedingung zur Herstellung des länglichen Metallblechs 64 genutzt werden, wie z.B. einer Anlasstemperatur, eines Anlasszeitraums, usw. Insbesondere kann die Bedingung (1) für einen Vorgang verwendet werden, bei dem die länglichen Metallbleche 64 bei verschiedenen Anlasstemperaturen für verschiedene Anlasszeiträume hergestellt werden, Zusammensetzungen einer Oberfläche jedes erhaltenen länglichen Metallblechs 64 analysiert werden und das Analyseergebnis und die Bedingung (1) miteinander verglichen werden, so dass eine geeignete Herstellungsbedingung eingestellt wird, die der Bedingung (1) genügt. In diesem Fall ist es nicht erforderlich, dass die Auswahl auf der Basis der Bedingung (1) für alle länglichen Metallbleche 64 durchgeführt wird, die in den tatsächlichen Herstellungsschritten erhalten werden. Beispielsweise kann eine Probenprüfung in Bezug auf die Bedingung (1) nur für einige der länglichen Metallbleche 64 durchgeführt werden. Alternativ kann, nachdem eine Herstellungsbedingung einmal eingestellt worden ist, die Prüfung In Bezug auf die Bedingung (1) überhaupt nicht durchgeführt werden.
(Verfahren zur Herstellung der Abscheidungsmaske)
Als nächstes wird ein Verfahren zur Herstellung der Abscheidungsmaske 20 unter Verwendung des in der vorstehend beschriebenen Weise ausgewählten länglichen Metallblechs 64 unter Bezugnahme auf die 11 bis 19 beschrieben. In dem nachstehend beschriebenen Verfahren zur Herstellung der Abscheidungsmaske 20, wie es in der 11 gezeigt ist, wird das längliche Metallblech 64 zugeführt, die Durchgangslöcher 25 werden in dem länglichen Metallblech 64 ausgebildet und das längliche Metallblech 64 wird getrennt, so dass die Abscheidungsmasken 20 erhalten werden, wobei jede davon aus dem folienartigen Metallblech 21 ausgebildet ist.
Insbesondere umfasst das Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske 20 einen Schritt des Zuführens eines länglichen Metallblechs 64, das sich wie ein Streifen erstreckt, einen Schritt des Ätzens des länglichen Metallstreifens 64 unter Verwendung einer photolithographischen Technik zur Bildung einer ersten Aussparung 30 in dem länglichen Metallblech 64 von der Seite einer ersten Oberfläche 64a her, und einen Schritt des Ätzens des länglichen Metallblechs 64 unter Verwendung der photolithographischen Technik zur Bildung einer zweiten Aussparung 35 in dem länglichen Metallblech 64 von der Seite einer zweiten Oberfläche 64b. Wenn die erste Aussparung 30 und die zweite Aussparung 35, die in dem länglichen Metallblech 64 ausgebildet sind, miteinander in Verbindung stehen, wird das Durchgangsloch 25 in dem länglichen Metallblech 64 gebildet. In dem in den 12 bis 19 gezeigten Beispiel wird der Schritt des Bildens der zweiten Aussparung 35 vor dem Schritt des Bildens der ersten Aussparung 30 durchgeführt Darüber hinaus wird zwischen dem Schritt des Bildens der zweiten Aussparung 35 und dem Schritt des Bildens der ersten Aussparung 30 ferner ein Schritt des Versiegelns der so hergestellten zweiten Aussparung 35 bereitgestellt. Details der jeweiligen Schritte sind nachstehend beschrieben.
Die 11 zeigt eine Herstellungsvorrichtung 60 zur Herstellung der Abscheidungsmasken 20. Wie es in der 11 gezeigt ist, wird zuerst der Wickelkörper 62 hergestellt, der den Kern 61 aufweist, um den das längliche Metallblech 64 gewickelt ist. Durch Drehen des Kerns 61 zum Abwickeln des Wickelkörpers 62 wird das längliche Metallblech 64, das sich wie ein Streifen erstreckt, zugeführt, wie es in der 11 gezeigt ist. Nach dem Bilden der Durchgangslöcher 25 in dem länglichen Metallblech 64 stellt das längliche Metallblech 64 die folienartigen Metallbleche 21 und ferner die Abscheidungsmasken 20 bereit.
Das zugeführte längliche Metallblech 64 wird durch die Transportrollen 72 zu einer Ätzvorrichtung (Ätzeinrichtung) 70 transportiert. Die jeweiligen in den 12 bis 19 gezeigten Vorgänge werden mittels der Ätzeinrichtung 70 durchgeführt. In dieser Ausführungsform ist eine Mehrzahl der Abscheidungsmasken 20 in der Breitenrichtung des länglichen Metallblechs 64 zugeordnet. Insbesondere werden die Abscheidungsmasken 20 aus einem Bereich hergestellt, der eine vorgegebene Position des länglichen Metallblechs 64 in der Längsrichtung einnimmt. In diesem Fall ist es bevorzugt, dass die Abscheidungsmasken 20 dem länglichen Metallblech 64 derart zugeordnet werden, dass die Längsrichtung jeder Abscheidungsmaske 20 der Walzrichtung D1 des länglichen Metallblechs 64 entspricht.
Wie es in der 12 gezeigt ist, werden zuerst Photolackfilme 65c und 65d, die jeweils ein lichtempfindliches Photolackmaterial des Negativ-Typs enthalten, auf der ersten Oberfläche 64a und der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 gebildet. Als Verfahren zum Bilden der Photolackfilme 65c und 65d wird ein Verfahren eingesetzt, in dem ein Film, auf dem eine Schicht, die ein lichtempfindliches Photolackmaterial, wie z.B. ein lichtaushärtendes Harz auf Acrylbasis, enthält, gebildet wird, d.h., es wird ein sogenannter Trockenfilm an der ersten Oberfläche 64a und der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 angebracht. Wie es vorstehend beschrieben worden ist, wird das längliche Metallblech 64 so hergestellt, dass die vorliegende Menge von Nickelhydroxid in der ersten Oberfläche 64a die vorstehend genannte Bedingung (1) erfüllt. Der Photolackfilm 65c ist an einer solchen ersten Oberfläche 64a angebracht.
Dann werden Belichtungsmasken 85a und 85b hergestellt, die das Hindurchtreten von Licht durch Bereiche verhindern, die von den Photolackfilmen 65c und 65d befreit werden sollen. Wie es in der 13 gezeigt ist, befinden sich die Masken 85a und 85d auf den Photolackfilmen 65c und 65d. Beispielsweise werden als die Belichtungsmasken 85a und 85d trockene Glasplatten verwendet, die das Hindurchtreten von Licht durch Bereiche verhindern, die von den Photolackfilmen 65c und 65d befreit werden sollen. Danach werden die Belichtungsmasken 85a und 85b durch Vakuumverbinden in einen ausreichend engen Kontakt mit den Photolackfilmen 65c und 65d gebracht.
Es kann ein lichtempfindliches Photolackmaterial des Positivtyps verwendet werden. In diesem Fall wird eine Belichtungsmaske verwendet, die das Hindurchtreten von Licht durch einen Bereich ermöglicht, der von dem Photolackfilm befreit werden soll.
Danach werden die Photolackfilme 65c und 65d durch die Belichtungsmasken 85a und 85b belichtet. Ferner werden die Photolackfilme 65c und 65d entwickelt (Entwicklungsschritt), so dass ein Bild auf den belichteten Photolackfilmen 65c und 65d gebildet wird. Folglich kann, wie es in der 14A gezeigt ist, ein erstes Photolackmuster 65a auf der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 gebildet werden, und ein zweites Photolackmuster 65b kann auf der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 gebildet werden. Der Entwicklungsschritt kann einen Photolackerwärmungsschritt zum Erhöhen der Härte der Photolackfilme 65c und 65d oder zum Anbringen der Photolackfilme 65c und 65d an dem länglichen Metallfilm 64 mit einer größeren Sicherheit umfassen. Der Photolackerwärmungsschritt wird beispielsweise in einer Atmosphäre eines Inertgases, wie z.B. Argongas, Heliumgas, Stickstoffgas oder dergleichen, bei einer Temperatur innerhalb eines Bereichs von 100 bis 400 °C durchgeführt.
Die 14B ist eine partielle Draufsicht des länglichen Metallblechs 64 von 14A, auf dem das erste und das zweite Photolackmuster 65a und 65b bereitgestellt sind, wenn dieses von der Seite der ersten Oberfläche 64a her betrachtet wird. In der 14B ist ein Bereich, auf dem das erste Photolackmuster 64a bereitgestellt ist, schattiert. Darüber hinaus sind eine erste Aussparung 30, eine Wandoberfläche 31, ein Verbindungsabschnitt 41 und ein oberer Abschnitt 43, die durch den nachfolgenden Ätzschritt ausgebildet werden sollen, durch gestrichelte Linien gezeigt.
Dann wird, wie es in der 15 gezeigt ist, ein zweiter Oberflächenätzschritt des Ätzens des Bereichs der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64, der nicht mit dem zweiten Photolackmuster 65b bedeckt ist, unter Verwendung eines zweiten Ätzmittels durchgeführt. Beispielsweise wird das zweite Ätzmittel von einer Düse, die auf der Seite angeordnet ist, die auf die zweite Oberfläche 64b des transportierten länglichen Metallblechs 64 gerichtet ist, in die Richtung der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 durch das erste Photolackmuster 65b ausgestoßen. Als Ergebnis werden, wie es in der 15 gezeigt ist, Bereiche des länglichen Metallblechs 64, die nicht mit dem Photolackmuster 65b bedeckt sind, durch das zweite Ätzmittel abgetragen. Folglich werden viele zweite Aussparungen 35 in der zweiten Oberfläche 64b des länglichen Metallblechs 64 gebildet. Das zu verwendende zweite Ätzmittel ist ein Ätzmittel, das eine Eisen(III)-chlorid-Lösung und Chlorwasserstoffsäure enthält.
Danach werden, wie es in der 16 gezeigt ist, die zweiten Aussparungen 35 mit einem Harz 69 beschichtet, das gegen ein erstes Ätzmittel, das in einem nachfolgenden ersten Oberflächenätzschritt verwendet wird, beständig ist. Insbesondere werden die zweiten Aussparungen 35 durch das Harz 69, das gegen das erste Ätzmittel beständig ist, versiegelt. In dem Beispiel, das in der 16 gezeigt ist, ist ein Film des Harzes 69 so ausgebildet, dass er nicht nur die gebildeten zweiten Aussparungen 35, sondern auch die zweite Oberfläche 64b (Photolackmuster 65b) bedeckt.
Dann wird, wie es in der 17 gezeigt ist, der erste Oberflächenätzschritt des Ätzens eines Bereichs der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64, der nicht mit dem ersten Photolackmuster 65a bedeckt ist, durchgeführt, so dass eine erste Aussparung 30 in der ersten Oberfläche 64a gebildet wird. Der erste Oberflächenätzschritt wird durchgeführt, bis jede zweite Aussparung 35 und jede erste Aussparung 30 miteinander in Verbindung stehen, so dass ein Durchgangsloch 25 gebildet wird. Entsprechend dem vorstehend genannten zweiten Ätzmittel ist das zu verwendende erste Ätzmittel ein Ätzmittel, das eine Eisen(III)-chlorid-Lösung und Chlorwasserstoffsäure enthält.
Die Abtragung durch das erste Ätzmittel findet in einem Abschnitt des länglichen Metallblechs 64 statt, der mit dem ersten Ätzmittel in Kontakt ist. Folglich entwickelt sich die Abtragung nicht nur in der senkrechten Richtung (Dickenrichtung) des länglichen Metallblechs 64, sondern auch in einer Richtung entlang der Blechebene des länglichen Metallblechs 64. Vorzugsweise ist der erste Oberflächenätzschritt abgeschlossen, bevor die zwei ersten Aussparungen 30, die jeweils an Positionen ausgebildet sind, die auf zwei angrenzende Löcher 66a des Photolackmusters 65a gerichtet sind, auf der Rückseite eines Brückenabschnitts 67a vereinigt werden, der zwischen den zwei Löchern 66a angeordnet ist. Folglich kann, wie es in der 18 gezeigt ist, der vorstehend genannte obere Abschnitt 43 auf der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 zurückbleiben.
Danach wird, wie es in der 19 gezeigt ist, das Harz 69 von dem länglichen Metallblech 64 entfernt. Beispielsweise kann das Harz 69 unter Verwendung einer Ablöseflüssigkeit auf Alkalibasis entfernt werden. Wenn die Ablöseflüssigkeit auf Alkalibasis verwendet wird, wie es in der 19 gezeigt ist, werden die Photolackmuster 65a und 65b gleichzeitig mit der Entfernung des Harzes 69 entfernt. Nach der Entfernung des Harzes können jedoch die Photolackmuster 65a und 65b getrennt von dem Harz 69 entfernt werden.
Das längliche Metallblech 64 mit vielen darin ausgebildeten Durchgangslöchern 25 wird durch die Transportrollen 72, 72, die gedreht werden, während das längliche Metallblech 64 sandwichartig dazwischen angeordnet ist, zu einer Schneid- bzw. Trennvorrichtung (Schneid- bzw. Trenneinrichtung) 73 transportiert. Der vorstehend beschriebene Zuführungskern 61 wird durch eine Spannung (Zugspannung), die durch die Drehung der Transportrollen 72, 72 auf das längliche Metallblech 64 ausgeübt wird, gedreht, so dass das längliche Metallblech 64 von dem Wickelkörper 62 zugeführt wird.
Danach wird das längliche Metallblech 64, in dem viele Durchgangslöcher 25 ausgebildet sind, durch die Schneid- bzw. Trennvorrichtung (Schneid- bzw. Trenneinrichtung)73 geschnitten bzw. getrennt, so dass es eine vorgegebene Länge und eine vorgegebenen Breite aufweist, wodurch die folienartigen Metallbleche 21, die viele darin ausgebildete Durchgangslöcher 25 aufweisen, erhalten werden können.
Auf diese Weise kann die Abscheidungsmaske 20, die aus dem Metallblech 21 mit vielen darin ausgebildeten Durchgangslöchern 25 ausgebildet ist, erhalten werden. Gemäß dieser Ausführungsform wird das längliche Metallblech 64, von dem das Metallblech 21 stammt, so hergestellt, dass die vorliegende Menge von Nickelhydroxid in der ersten Oberfläche 64a die vorstehende Bedingung (1) erfüllt. Das vorstehend genannte Photolackmuster 65a und der Photolackfilm 65c, von dem das Photolackmuster 65a stammt, werden an einer solchen ersten Oberfläche 64a angebracht. Folglich kann die Haftkraft zwischen der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 und dem ersten Photolackmuster 65c ausreichend sichergestellt werden. Darüber hinaus wird als Photolackfilm 65c ein sogenannter Trockenfilm mit einer hohen Auflösung, wie z.B. ein Photolackfilm, der ein lichtaushärtendes Harz auf Acrylbasis enthält, verwendet. Folglich kann gemäß dieser Ausführungsform das erste Photolackmuster 65a mit einer geringen Breite präzise auf der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 ausgebildet werden, während Schwierigkeiten, wie z.B. ein Ablösen des ersten Photolackmusters 65a von dem Metallblech 21, verhindert werden. Folglich kann die Abscheidungsmaske 20, die zur Herstellung einer organischen EL-Anzeigevorrichtung mit einer hohen Pixeldichte verwendet wird, mit einem hohen Durchsatz hergestellt werden.
Darüber hinaus kann gemäß dieser Ausführungsform, da das erste Photolackmuster 65a mit einer gewünschten Breite präzise auf der ersten Oberfläche 64a des länglichen Metallblechs 64 ausgebildet werden kann, die Abscheidungsmaske 20, die den oberen Abschnitt 43 mit einer gewünschten Breite β aufweist, hergestellt werden. Folglich kann der vorstehend genannte Winkel θ1 soweit wie möglich vergrößert werden, während die Abscheidungsmaske 20 eine ausreichende Festigkeit aufweist.
(Abscheidungsschritt)
Als nächstes wird ein Verfahren zum Abscheiden des Abscheidungsmaterials auf dem Substrat 92 unter Verwendung der erhaltenen Abscheidungsmaske 20 beschrieben. Wie es in der 2 beschrieben ist, wird die Abscheidungsmaske 20 zuerst in einen engen Kontakt mit dem Substrat 92 gebracht Dabei kann die zweite Oberfläche 20b der Abscheidungsmaske 20 unter Verwendung von Magneten, die nicht gezeigt sind, in einen engen Kontakt mit der Oberfläche des Substrats 92 gebracht werden. Darüber hinaus werden, wie es In der 1 gezeigt ist, die Abscheidungsmasken 20 an dem Rahmen 15 in einem straffen Zustand angebracht, so dass die Oberfläche jeder Abscheidungsmaske 20 parallel zur Oberfläche des Glassubstrats 92 ist. Danach wird durch Erwärmen des Abscheidungsmaterials 98 in dem Tiegel 94 das Abscheidungsmaterial 98 verdampft oder sublimiert. Das verdampfte oder sublimierte Abscheidungsmaterial 98 haftet durch die Durchgangslöcher 25 in den Abscheidungsmasken 20 an dem Substrat 92. Als Ergebnis wird ein Film des Abscheidungsmaterials 98 auf der Oberfläche des Substrats 92 in einem gewünschten Muster gebildet, das den Positionen der Durchgangslöcher 25 der Abscheidungsmasken 20 entspricht.
Gemäß dieser Ausführungsform kann, da der obere Abschnitt 43 mit einer gewünschten Breite β auf der Seite der ersten Oberfläche 20a belassen werden kann, die Abscheidungsmaske 20 eine ausreichende Festigkeit aufweisen.
Die vorstehend genannte Ausführungsform kann verschiedenartig modifiziert werden. Nachstehend werden Modifizierungsbeispiele je nach Bedarf unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. In der nachstehenden Beschreibung und den Zeichnungen, die in der nachstehenden Beschreibung verwendet werden, weist ein Teil, der entsprechend wie die vorstehende Ausführungsform ausgebildet sein kann, das gleiche Bezugszeichen auf wie der entsprechende Teil der vorstehenden Ausführungsform und eine überlappende Beschreibung ist weggelassen. Darüber hinaus wird, wenn der durch die vorstehend genannte Ausführungsform erhaltene Effekt offensichtlich in den Modifizierungsbeispielen enthalten ist, eine entsprechende Beschreibung gegebenenfalls weggelassen.
In der vorstehend genannten Ausführungsform ist die „erste Oberfläche“, die durch die vorstehend genannte Bedingung (1) festgelegt ist, eine Oberfläche des länglichen Metallblechs 64 oder des Metallblechs 21, auf der das Abscheidungsmaterial 98 in dem Abscheidungsschritt angeordnet wird. Die „erste Oberfläche“, die durch die vorstehend genannte Bedingung (1) festgelegt ist, kann jedoch eine Oberfläche des länglichen Metallblechs 64 oder des Metallblechs 21 sein, auf der das Substrat 92 angeordnet ist. In diesem Fall kann ein Photolackmuster, das an der Seite des länglichen Metallblechs 64 oder des Metallblechs 21 angebracht werden soll, auf dem das Substrat 92 angeordnet ist, sicher an dem länglichen Metallblech 64 oder dem Metallblech 21 angebracht werden. Folglich können Aussparungen präzise auf der Seite des länglichen Metallblechs 64 oder des Metallblechs 21, auf der das Substrat 92 angeordnet ist, mit einem hohen Durchsatz gebildet werden.
Insbesondere kann in dieser Ausführungsform die vorstehend genannte Bedingung (1) wie nachstehend ausgedrückt werden.
„Wenn eine Zusammensetzungsanalyse von mindestens einer Oberfläche von einer Oberfläche eines Metallblechs und der anderen Oberfläche, die sich gegenüber der einen Oberfläche befindet, unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, beträgt ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist.“
Darüber hinaus können gemäß dieser Ausführungsform, wenn das Ergebnis der Zusammensetzungsanalyse von mindestens einer Oberfläche von einer Oberfläche des Metallblechs und der anderen Oberfläche davon, die sich gegenüber der einen Oberfläche befindet, die vorstehend genannte Bedingung erfüllt, Aussparungen in der Oberfläche des Metallblechs mit einem hohen Durchsatz präzise gebildet werden.
Darüber hinaus kann die Bedingung, bei der „ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist“, sowohl durch die erste Oberfläche 64a als auch die zweite Oberfläche 64b des Metallblechs 64 erfüllt werden.
Darüber hinaus ist in der vorstehend genannten Ausführungsform eine Mehrzahl der Abscheidungsmasken 20 in der Breitenrichtung des länglichen Metallblechs 64 zugeordnet. Darüber hinaus wird in dem Abscheidungsschritt die Mehrzahl von Abscheidungsmasken 20 an dem Rahmen 15 montiert. Ohne Beschränkung darauf können jedoch, wie es in der 20 gezeigt ist, Abscheidungsmasken 20 verwendet werden, die eine Mehrzahl der effektiven Bereiche 22 aufweisen, die wie ein Gitter entlang sowohl der Breitenrichtung als auch der Längsrichtung des Metallblechs 21 angeordnet sind.
Darüber hinaus wird in der vorstehend genannten Ausführungsform der Photolackerwärmungsschritt in dem Entwicklungsschritt durchgeführt. Wenn das längliche Metallblech 64 jedoch so hergestellt wird, dass es die vorstehend genannte Bedingung (1) erfüllt, wodurch die Haftkraft zwischen dem länglichen Metallblech 64 und dem Photolackfilm 65c ausreichend sichergestellt werden kann, kann der Photolackerwärmungsschritt weggelassen werden. Wenn der Photolackerwärmungsschritt nicht durchgeführt wird, ist die Härte des ersten Photolackmusters 65a geringer als in einem Fall, bei dem der Photolackerwärmungsschritt durchgeführt wird. Folglich kann nach der Bildung der Durchgangslöcher 25 das Photolackmuster 65a einfacher entfernt werden.
Darüber hinaus wird in der vorstehenden Ausführungsform ein Metallblech mit einer gewünschten Dicke durch Walzen eines Basismetalls zur Herstellung eines Blechelements und dann durch Anlassen des Blechelements erhalten. Ohne Beschränkung darauf kann ein Metallblech mit einer gewünschten Dicke durch einen Folienerzeugungsschritt unter Verwendung eines Plattierungsvorgangs hergestellt werden. In dem Folienerzeugungsschritt wird beispielsweise, während eine aus rostfreiem Stahl hergestellte Trommel, die teilweise in eine Plattierungsflüssigkeit eingetaucht ist, gedreht wird, ein Plattierungsfilm auf einer Oberfläche der Trommel gebildet. Durch Ablösen des Plattierungsfilms kann ein längliches Metallblech in einer Rolle-zu-Rolle-Weise hergestellt werden. Wenn ein Metallblech aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt wird, kann eine Mischlösung aus einer Lösung, die eine Nickelverbindung enthält, und einer Lösung einer Eisenverbindung als Plattierungsflüssigkeit verwendet werden. Beispielsweise kann eine Mischlösung aus einer Lösung, die Nickelsulfamat enthält, und einer Lösung, die Eisensulfamat enthält, verwendet werden. In der Plattierungsflüssigkeit kann ein Zusatz, wie z.B. Malonsäure oder Saccharin, enthalten sein.
Dann kann der vorstehend genannte Anlassschritt mit dem auf diese Weise erhaltenen Metallblech durchgeführt werden. Darüber hinaus kann nach dem Anlassschritt der vorstehend genannte Schneid- bzw. Trennschritt des Trennens von beiden Enden des Metallblechs durchgeführt werden, so dass die Breite des Metallblechs auf eine gewünschte Breite eingestellt wird.
Auch wenn ein Metallblech unter Verwendung eines Plattierungsvorgangs hergestellt wird, kann durch Durchführen des Schritts des Bildens der Photolackmuster 65a und 65b und des Schritts des Ätzens der ersten Oberfläche und der zweiten Oberfläche des Metallblechs die Abscheidungsmaske mit der Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern 25 entsprechend wie in der vorstehend genannten Ausführungsform erhalten werden. Darüber hinaus kann die Verwendung der Bedingung (1) die Beurteilung eines Metallblechs und die Herstellungsbedingungen optimieren.
BEISPIELE
Als nächstes wird die vorliegende Erfindung auf der Basis von Beispielen detaillierter beschrieben und die vorliegende Erfindung ist nicht auf die nachstehende Beschreibung der Beispiele beschränkt, solange die vorliegende Erfindung nicht von deren Wesen abweicht.
Beispiel 1
(Erster Wickelkörper)
Ein Basismetall aus einer Eisenlegierung, die 34 bis 38 Massen-% Nickel, Chrom, Rest Eisen und unvermeidbare Verunreinigungen enthielt, wurde hergestellt. Dann wurde das Basismetall dem Walzschritt, dem Schlitzschritt und dem Anlassschritt unterzogen, die vorstehend beschrieben worden sind, so dass ein Wickelkörper (erster Wickelkörper), um den ein längliches Metallblech mit einer Dicke von 20 µm gewickelt war, hergestellt wurde.
[Zusammensetzungsanalyse]
Danach wurde das längliche Metallblech 64 mit einer Schere zu einem vorgegebenen Bereich, wie z.B. 30 × 30 mm, geschnitten, so dass ein erster Prüfkörper erhalten wurde. Dann wurde die Zusammensetzung einer Oberfläche des ersten Prüfkörpers mittels des XPS-Verfahrens analysiert. Als Messvorrichtung wurde eine XPS-Vorrichtung ESCALAB 220i-XL, hergestellt von Thermo Fisher Scientific Company, verwendet.
Die XPS-Vorrichtung wurde bei der Zusammensetzungsanalyse in der folgenden Weise eingestellt.

Einfallender Röntgenstrahl: Monochromatisch gemachter Al kα (monochromatisch gemachter Röntgenstrahl, hv = 1486,6 eV)
Röntgenausgangsleistung: 10kV • 16mA (160 W)
Blendenöffnungsgrad: F.O.V. = offen, A.A. = offen
Gemessener Bereich: 700 µmø
Röntgenstrahl-Einfallswinkel ø1 (vgl. die 10): 45 Grad
Photoelektron-Auftreffwinkel: 90 Grad

Die 21 (a) und 21(b) zeigen Ergebnisse einer Analyse des ersten Prüfkörpers, der von dem ersten Wickelkörper abgeschnitten worden ist, mittels der XPS-Vorrichtung. In den 21(a) und 21 (b) zeigt die Abszissenachse eine Photoelektron-Bindungsenergie (Bindungsenergie) einer Elektronenbahn des ersten Prüfkörpers, die der Intensität von Photoelektronen von dem ersten Prüfkörper entspricht, und die Ordinatenachse zeigt eine Intensität der Photoelektronen von dem ersten Prüfkörper. Die 21(a) zeigt einen Fall, bei dem der Wert der Abszissenachse etwa 700 bis 740 eV beträgt, und die 21(b) zeigt einen Fall, bei dem der Wert der Abszissenachse etwa 850 bis 890 eV beträgt.
In der Zusammensetzungsanalyse unter Verwendung des XPS-Verfahrens erscheint ein Peak, der einem Gehalt eines Bestandteilselements entspricht, das in dem ersten Prüfkörper enthalten ist, bei einer gegebenen Position, die dem Bestandteilselement in der Abszissenachse entspricht. Beispielsweise entspricht in der 21(a) ein Peak, der durch das Symbol P1 angegeben ist, Eisenoxid und Eisenhydroxid, die in dem ersten Prüfkörper enthalten sind, und ein Peak, der durch das Symbol P2 angegeben ist, entspricht Eisen, das in dem ersten Prüfkörper enthalten ist. Darüber hinaus entspricht in der 21(b) ein Peak, der durch das Symbol P3 angegeben ist, Nickeloxid und Nickelhydroxid, die in dem ersten Prüfkörper enthalten sind, und ein Peak, der durch das Symbol P4 angegeben ist, entspricht Nickel, das in dem ersten Prüfkörper enthalten ist.
Als Bezug zeigt die 22(a) ein Ergebnis des Analysierens von Nickeloxid (NiO), das als ein erster Bezugsprüfkörper hergestellt worden ist, mittels des XPS-Verfahrens. Darüber hinaus zeigt die 22(b) ein Ergebnis des Analysierens von Nickelhydroxid (Ni(OH)₂), das als zweiter Bezugsprüfkörper hergestellt worden ist, mittels des XPS-Verfahrens. Wie es in der 22(a) gezeigt ist, erscheint ein Peak, der Nickeloxid entspricht, an einer Position, bei welcher der Wert der Abszissenachse ein erster Wert E1 = 853,8 eV ist. Andererseits erscheint, wie es in der 22(b) gezeigt ist, ein Peak, der Nickelhydroxid entspricht, an einer Position, bei welcher der Wert der Abszissenachse ein zweiter Wert E2 = 855,9 eV ist.
In der 21(b) sind als Bezug eine Position des ersten Werts E1, an dem der Peak erscheint, der Nickeloxid entspricht, und eine Position des zweiten Werts E2, an dem der Peak erscheint, der Nickelhydroxid entspricht, durch die gestrichelten Linien gezeigt. Da die Werte von E1 und E2 nahe beieinanderliegen, wie es in der 21(b) gezeigt ist, umfasst in dem Messergebnis des ersten Prüfkörpers der Peak P3 sowohl ein Erfassungsergebnis von Photoelektronen, die Nickeloxid entsprechen, als auch ein Erfassungsergebnis von Photoelektronen, die Nickelhydroxid entsprechen. Es ist nicht einfach, den Peak P3, der in der 21(b) gezeigt ist, in einen Peak, der Nickeloxid entspricht, und einen Peak, der Nickelhydroxid entspricht, zu trennen. Unter Berücksichtigung dieses Punkts wird in der vorstehend genannten Bedingung (1) eine Haftkraft zwischen dem Metallblech und dem Photolackmuster unter Verwendung eines Werts bewertet, der die Summe des Erfassungsergebnisses von Photoelektronen, die Nickeloxid entsprechen, und des Erfassungsergebnisses von Photoelektronen, die Nickelhydroxid entsprechen, ist.
Nachdem die Peaks P1 bis P4, die in den 21(a) und 21 (b) gezeigt sind, gemessen worden sind, wurden Planardimension-Peakwerte durch Integrieren der Planardimensionen der jeweiligen Peaks berechnet. Die Ergebnisse waren: Der Planardimension-Peakwert des Peaks P1, der dem Eisenoxid und dem Eisenhydroxid entspricht, betrug 22329,3, der Planardimension-Peakwert des Peaks P2, der Eisen entspricht, betrug 4481,8, der Planardimension-Peakwert des Peaks P3, der dem Nickeloxid und dem Nickelhydroxid entspricht, betrug 9090,5, und der Planardimension-Peakwert des Peaks P4, der Nickel entspricht, betrug 4748,9. Folglich ist, wenn die Summe des Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und des Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid als A1 dargestellt ist, und die Summe des Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und des Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid als A2 dargestellt ist, A1/A2 = 0,41. Folglich kann davon ausgegangen werden, dass der erste Wickelkörper, aus dem der erste Prüfkörper entnommen wurde, die vorstehend genannte Bedingung (1) nicht erfüllt.
Die Planardimension-Peakwerte der jeweiligen Peaks P1 bis P4 wurden mittels einer Analysefunktion der XPS-Vorrichtung berechnet. Um zu verhindern, dass ein Messergebnis abhängig von einer Analyseeinrichtung variiert, wurde stets das Shirley-Verfahren als Hintergrundberechnungsverfahren eingesetzt.
Ein Verfahren zum Berechnen des vorstehenden A1/A2 auf der Basis des Analyseergebnisses mittels des XPS-Verfahrens wird nachstehend detailliert beschrieben.
Einstellung der XPS-Vorrichtung
Zuerst wurde eine Einstellung einer Spektrograph-Energieachse der XPS so durchgeführt, dass die folgenden Einstellungsbedingungen 1 bis 3 erfüllt waren.

Einstellungsbedingung 1: Ag 3d_5/2 368,26 ± 0,05 eV
Einstellungsbedingung 2: Au 4f_7/2 83,98 ± 0,05 eV
Einstellungsbedingung 3: Cu 2p_3/2 932,67 ± 0,05 eV

Die Einstellungsbedingung 1 bedeutet, dass die Spektrograph-Energieachse so eingestellt wurde, dass die Photoelektron-Bindungsenergie, die auf der Basis einer Silber-3d_5/2-Bahn erhalten wurde, innerhalb eines Bereichs von 368,26 ± 0,05 eV lag. Entsprechend bedeutet die Einstellungsbedingung 2, dass die Spektrograph-Energieachse so eingestellt wurde, dass eine Photoelektron-Bindungsenergie, die auf der Basis einer Gold-4f_7/2-Bahn erhalten wurde, innerhalb eines Bereichs von 83,98 ± 0,05 eV lag. Entsprechend bedeutet die Einstellungsbedingung 3, dass die Spektrograph-Energieachse so eingestellt wurde, dass eine Photoelektron-Bindungsenergie, die auf der Basis einer Kupfer-2p_3/2-Bahn erhalten wurde, innerhalb eines Bereichs von 932,67 ± 0,05 eV lag.
Darüber hinaus wurde eine Aufladekorrektur der XPS-Vorrichtung so eingestellt, dass eine Photoelektron-Bindungsenergie, die auf der Basis einer C-C-Bindung einer Kohlenstoff-1s-Bahn erhalten wurde, innerhalb eines Bereichs von 284,7 bis 285,0 (eV) lag.
Danach wurde ein Prüfkörper, der aus einer Eisen-Nickel-Legierung hergestellt worden ist, mittels der XPS-Vorrichtung, die in der vorstehend beschriebenen Weise eingestellt war, analysiert und das vorstehend genannte A1/A2 wurde berechnet. Zuerst wird ein Verfahren zum Berechnen des vorstehend genannten A2 auf der Basis der Peaks P1 und P2 von Eisen unter Bezugnahme auf die 27A bis 27D beschrieben.
Analyse von Eisen
Die 27A zeigt vergrößert ein Ergebnis des Analysierens eines bestimmmten Prüfkörpers, der aus einer Eisen-Nickel-Legierung hergestellt ist, mittels der XPS-Vorrichtung, insbesondere ein Ergebnis, bei dem der Wert der Abszissenachse innerhalb eines Bereichs von 700 bis 740 eV liegt. Wie es in der 27A gezeigt ist, umfasst das Ergebnis, bei dem der Wert der Abszissenachse innerhalb eines Bereichs von 700 bis 740 eV liegt, einen Graphen, der eine Intensitätsverteilung von Photoelektronen zeigt, die auf der Basis einer Eisen-2p_1/2-Bahn erhalten wurde, und einen Graphen, der eine Intensitätsverteilung von Photoelektronen zeigt, die auf der Basis einer Eisen-2p_3/2-Bahn erhalten wurde. Hier wird ein Beispiel beschrieben, in dem das vorstehend genannte A2 auf der Basis des Graphen berechnet wurde, der eine Intensitätsverteilung von Photoelektronen zeigt, die auf der Basis einer Eisen-2p_3/2-Bahn erhalten wurde (nachstehend als „Eisen-Gesamtpeak P_Fe“ bezeichnet).
[Schritt zur Berechnung der Hintergrundlinie]
Zuerst wird ein Schritt zur Berechnung der Hintergrundlinie BG_Fe in dem Eisen-Gesamtpeak P_Fe beschrieben. Ein unterer Grenzwert B1 und ein oberer Grenzwert B2 von Werten der Photoelektron-Bindungsenergie der Abszissenachse in der 2p_3/2-Bahn von Eisen, die analysiert werden soll, wurden wie folgt festgelegt.

Unterer Grenzwert B1: 703,6 ± 0,2 eV
Oberer Grenzwert B2: 717,0 ± 0,2 eV

Dann wurde eine Hintergrundlinie BG_Fe in dem Eisen-Gesamtpeak P_Fe innerhalb des Bereichs von dem unteren Grenzwert B1 zu dem oberen Grenzwert B2 unter Verwendung des Shirley-Verfahrens berechnet. Das „± 0,2 eV“ in dem unteren Grenzwert B1 und dem oberen Grenzwert B2, die vorstehend genannt worden sind, bedeutet, dass Werte des unteren Grenzwerts B2 und des oberen Grenzwerts B2 für jeden Prüfkörper geringfügig angepasst wurden, um zu bewirken, dass ein Rauschen eines Messergebnisses ein Berechnungsergebnis der Hintergrundlinie BG_Fe nicht beeinflusste.
[Trennschritt des Peaks von Eisen allein]
Als nächstes ist ein Schritt des Trennens eines Peaks von Eisen allein von dem Eisen-Gesamtpeak P_Fe gemäß der 27B beschrieben. Die 27B ist eine Ansicht, die in einer Vergrößerung den Eisen-Gesamtpeak P_Fe zeigt, der in der 27A gezeigt ist. Hier wird ein Ergebnis des Trennens des Peaks von Eisen allein von dem Eisen-Gesamtpeak P_Fe erläutert, nachdem der Eisen-Gesamtpeak P_Fe einem Glättungsvorgang unterzogen worden ist. Als Glättungsverfahren kann ein bekanntes Verfahren, wie z.B. eine Durchschnittsbildung oder dergleichen, eingesetzt werden.
Zuerst wurde eine Peakposition E_Fe1 eines Peaks von Eisen allein bestimmt. Insbesondere wurde bestimmt, ob ein Peak, der in Bezug auf Eisen allein auftrat, der Peak P1 oder P2 war, der in den Eisen-Gesamtpeak P_Fe einbezogen war. Auf dem Gebiet des XPS-Verfahrens ist bekannt, dass die Photoelektron-Bindungsenergie auf der Basis einer 2p_3/2-Bahn von Eisen allein etwa 707 eV beträgt. Folglich wurde der Peak P2 als der Peak identifiziert, der in Bezug auf Eisen allein auftrat. Dann wurde eine Position des Peaks P2 gesucht. Wenn eine Peakposition des Peaks P2 innerhalb eines Bereichs von 706,9 ± 0,2 eV lag, wurde die Position des Peaks P2 als die Peakposition E_Fe1 des Peaks von Eisen allein verwendet.
Dann wurde eine Halbwertsbreite W_Fe1 des Peaks von Eisen allein auf 1,54 eV eingestellt. Danach wurde unter Verwendung der Analysefunktion der XPS-Vorrichtung ein Peak, dessen Peakposition E_Fe1 war und dessen Halbwertsbreite W_Fe1 war, von dem Eisen-Gesamtpeak P_Fe getrennt. In der 27B ist der so erhaltene Peak von Eisen allein durch das Symbol P_Fe1 angegeben. Bei der Analyse durch die XPS-Vorrichtung besteht die Möglichkeit, dass die Halbwertsbreite des erhaltenen Peaks P_Fe1 ausgehend von der eingestellten Halbwertsbreite W_Fe1 variiert. In diesem Fall war eine Variation innerhalb eines Bereichs von ±0,1 eV zulässig.
Bezüglich der Begriffe in Bezug auf den Eisen-Gesamtpeak P_Fe sind der vorstehend genannte „Peak P_Fe1 von Eisen allein“ und die nachstehend beschriebenen „Peak P_Fe2“ und „Peak P_Fe3“ Peaks, die durch Auflösen des Eisen-Gesamtpeaks P_Fe in eine Mehrzahl von Peaks auf der Basis eines Elements allein und einer Verbindung, die in einem Prüfkörper enthalten ist, erhalten werden. Insbesondere sind die vorstehend genannten „Peaks P1 und P2“ Peaks, die durch die Form des Eisen-Gesamtpeaks P_Fe unterschieden werden, und die „Peaks P_Fe1, P_Fe2 und P_Fe3“ sind Peaks, die durch Auflösen des Eisen-Gesamtpeaks P_Fe auf der Basis einer physikalischen Theorie erhalten werden.
[Schritt des Berechnens des Planardimension-Peakwerts von Eisen allein]
Dann wurde eine Planardimension S_Fe1 des Peaks P_Fe1 von Eisen allein berechnet. Die Planardimension S_Fe1 ist eine Planardimension eines Bereichs (schraffierter Bereich), der durch den Peak P_Fe1 und die Hintergrundlinie BG_Fe in der 27C umgeben ist.
Darüber hinaus wurde eine Planardimension des Eisen-Gesamtpeaks P_Fe berechnet. Die Planardimension des Eisen-Gesamtpeaks P_Fe ist eine Planardimension eines Bereichs, der durch den Eisen-Gesamtpeak P_Fe und die Hintergrundlinie BG_Fe in der 27C umgeben ist.
Dann wurde eine Planardimension S_Fe (REST), die in der 27C gezeigt ist, durch Subtrahieren der Planardimension S_Fe1 des Peaks P_Fe1 von Eisen allein von der Planardimension des Eisen-Gesamtpeaks P_Fe berechnet. Die in der vorstehend beschriebenen Weise berechnete Planardimension S_Fe (REST) wurde als das vorstehend genannte A2 verwendet, d.h., die Summe des Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und des Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid.
Für Bezugszwecke zeigt die 27D ein Ergebnis des Trennens des Gesamtpeaks P_Fe unter der Annahme, dass der Eisen-Gesamtpeak P_Fe die folgenden drei Peaks umfasst, d.h., den Peak P_Fe1, den Peak P_Fe2 und den Peak P_Fe3. Wie es vorstehend beschrieben worden ist, ist der Peak P_Fe1 ein Peak von Eisen allein. Darüber hinaus sind der Peak P_Fe2 und der Peak P_Fe3 ein Peak von Eisenoxid und ein Peak von Eisenhydroxid.
Wenn der Eisen-Gesamtpeak P_Fe in eine Mehrzahl von Peaks getrennt wird, wie es in der 27D gezeigt ist, entspricht die vorstehend genannte Planardimension S_Fe (REST) einer Gesamtsumme des Planardimension-Peakwerts ausgenommen den Peak P_Fe1 von Eisen allein. Insbesondere entspricht die Planardimension S_Fe (REST) der Summe des Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und des Planardimension-Peakwerts des Eisenhydroxids.
Obwohl die Position, bei der ein Peak von Eisen allein bereits bekannt war, gibt es eine Mehrzahl von Positionen von Eisenoxid und Eisenhydroxid. Folglich erscheinen ein Peak von Eisenoxid und ein Peak von Eisenhydroxid nicht notwendigerweise wie die zwei Peaks (Peak P_Fe2 und Peak P_Fe3), die in der 27 gezeigt sind. Folglich ist es schwierig, die Rate von Eisenoxid oder Eisenhydroxid in einer Oberflächenschicht eines Prüfkörpers genau zu berechnen. Unter Berücksichtigung dieses Punkts wird die Summe des Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und des Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid als das vorstehend genannte A2 verwendet.
Die Planardimension S_Fe1 des Peaks P_Fe1 von Eisen allein wird manchmal als Planardimensionswert des Peaks P2 bezeichnet und die Planardimension S_Fe (REST) wird manchmal als Planardimensionswert des Peaks P1 bezeichnet.
Analyse von Nickel
Als nächstes wird die Analyse von Nickel beschrieben. Die 28A zeigt vergrößert ein Ergebnis der Analyse eines bestimmten Prüfkörpers, der aus einer Eisen-Nickel-Legierung hergestellt worden ist, mittels der XPS-Vorrichtung, insbesondere ein Ergebnis, in dem ein Abszissenachsenwert im Bereich von 850 bis 890 eV liegt. Wie es in der 28A gezeigt ist, umfasst das Ergebnis, in dem ein Abszissenachsenwert im Bereich von 850 bis 890 eV liegt, einen Graphen, der eine Intensitätsverteilung von Photoelektronen zeigt, die auf der Basis einer Nickel-2p_1/2-Bahn erhalten worden ist, und einen Graphen, der eine Intensitätsverteilung von Photoelektronen zeigt, die auf der Basis einer Nickel-2p_3/2-Bahn erhalten worden ist. Hier ist ein Beispiel beschrieben, in dem das vorstehend genannte A1 auf der Basis des Graphen berechnet worden ist, der eine Intensitätsverteilung von Photoelektronen zeigt, die auf der Basis einer Nickel-2p_3/2-Bahn erhalten worden ist (nachstehend als „Nickel-Gesamtpeak P_Ni“ bezeichnet). Bezüglich eines Vorgangs in dem Verfahren zum Berechnen von A1, der demjenigen des Berechnungsverfahrens für A2 für Eisen ähnlich ist, wird eine detaillierte Beschreibung davon weggelassen.
[Schritt zur Berechnung der Hintergrundlinie]
Eine Hintergrundlinie BG_Ni in dem Nickel-Gesamtpeak P_Ni wurde unter Verwendung des Shirley-Verfahrens berechnet. Ein unterer Grenzwert B3 und ein oberer Grenzwert B4 von Werten einer Photoelektron-Bindungsenergie der Abszissenachse in der 2p_3/2-Bahn von zu analysierendem Nickel wurden wie folgt festgelegt.

Unterer Grenzwert B3: 849,5 ± 0,2 eV
Oberer Grenzwert B4: 866,9 ± 0,2 eV

[Trennschritt des Peaks von Nickel allein]
Dann wurde, wie es in der 28B gezeigt ist, ein Peak von Nickel allein von dem Nickel-Gesamtpeak P_Ni getrennt. Insbesondere wurde in dem Nickel-Gesamtpeak P_Ni eine Peakposition des Peaks P4, der in Bezug auf Nickel allein auftrat, gesucht. Wenn eine Peakposition des Peaks P4 innerhalb eines Bereichs von 852,6 ± 0,2 eV liegt, wurde die Position des Peaks P4 als die Peakposition E_Ni1 des Peaks von Nickel allein verwendet.
Dann wurde eine Halbwertsbreite W_Ni1 des Peaks von Nickel allein auf 1,15 eV eingestellt. Danach wurde unter Verwendung der Analysefunktion der XPS-Vorrichtung ein Peak, dessen Peakposition E_Ni1 betrug und dessen Halbwertsbreite W_Ni1 war, von dem Nickel-Gesamtpeak P_Ni getrennt. In der 28B ist der so erhaltene Peak von Nickel allein durch das Symbol P_Ni1 angegeben.
[Schritt des Berechnens des Planardimension-Peakwerts von Nickel allein]
Dann wurde eine Planardimension S_Ni1 des Peaks P_Ni1 von Nickel allein berechnet. Die Planardimension S_Ni1 ist eine Planardimension eines Bereichs (schraffierter Bereich), der durch den Peak P_Ni1 und die Hintergrundlinie BG_Ni in der 28C umgeben ist.
Darüber hinaus wurde eine Planardimension des Nickel-Gesamtpeaks P_Ni berechnet. Die Planardimension des Nickel-Gesamtpeaks P_Ni ist eine Planardimension eines Bereichs, der durch den Nickel-Gesamtpeak P_Ni und die Hintergrundlinie BG_Ni in der 28C umgeben ist.
Dann wurde eine Planardimension S_Ni (REST), die in der 28C gezeigt ist, durch Subtrahieren der Planardimension S_Ni1 des Peaks P_Ni von Nickel allein von der Planardimension des Nickel-Gesamtpeaks P_Ni berechnet. Die Planardimension S_Ni (REST), die wie vorstehend berechnet worden ist, wurde als das vorstehend genannte A1 verwendet, d.h., die Summe des Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und des Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid.
Für Bezugszwecke zeigt die 28D ein Ergebnis des Trennens des Gesamtpeaks P_Ni von Nickel in die folgenden vier Peaks, d.h., den Peak P_Ni1, den Peak P_Ni2, den Peak P_Ni3 und den Peak P_Ni4. Wie es vorstehend beschrieben worden ist, ist der Peak P_Ni1 ein Peak von Nickel allein. Darüber hinaus sind der Peak P_Ni2, der Peak P_Ni3 und der Peak P_Ni4 Peaks von Nickeloxid oder Peaks von Nickelhydroxid.
Wenn der Nickel-Gesamtpeak P_Ni in die Mehrzahl von Peaks getrennt ist, wie es in der 28D gezeigt ist, entspricht die vorstehend genannte Planardimension S_Ni (REST) einer Gesamtsumme des Planardimension-Peakwerts, ausgenommen den Peak P_Ni1 von Nickel allein. Insbesondere entspricht die Planardimension S_Ni (REST) der Summe des Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid und des Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid.
Die Planardimension S_Ni1 des Peaks P_Ni1 von Nickel allein wird manchmal als Planardimensionswert des Peaks P4 bezeichnet und die Planardimension S_Ni (REST) wird manchmal als Planardimensionswert des Peaks P3 bezeichnet.
Berechnung von A1/A2
A1/A2 wurde auf der Basis der vorstehend berechneten A1 und A2 berechnet.
[Bewertung der Hafteigenschaften an dem Photolackmuster]
Das vorstehend genannte längliche Metallblech des ersten Wickelkörpers wurde mit einer Schere zu einem Bereich von 200 × 200 mm geschnitten, so dass eine erste Probe erhalten wurde. Dann wurde ein Trockenfilm, der eine lichtempfindliche Schicht mit einer Dicke von 10 µm umfasste, derart an einer Oberfläche der ersten Probe angebracht, dass ein Photolackfilm auf der Oberfläche der ersten Probe bereitgestellt wurde. Danach wurde der Photolackfilm derart belichtet, dass ein gitterartiges Photolackmuster mit einer Breite w gebildet wurde, wie es in der 23 gezeigt ist. Die Breite w wurde auf 100 µm eingestellt. Dann wurde die erste Probe in eine Entwicklungslösung eingetaucht und die Zeit, bis das Photolackmuster mit einer Breite von 100 µm von der ersten Probe abgelöst wurde, wurde gemessen. Als Entwicklungslösung wurde eine Lösung mit einer Konzentration von 5,0 g/L von Natriumcarbonat, hergestellt von Soda Ash Japan Co., Ltd., verwendet. Die Temperatur der Entwicklungslösung wurde auf 24 °C eingestellt.
In diesem Beispiel wurde, wenn sich das Photolackmuster, das in die Entwicklungslösung eingetaucht war, nach 15 Minuten oder mehr ablöste, dies so bewertet, dass die Hafteigenschaften zufriedenstellend waren. Wenn sich andererseits das Photolackmuster, das in die Entwicklungslösung eingetaucht war, nach weniger als 15 Minuten ablöste, wurde dies so bewertet, dass die Hafteigenschaften nicht zufriedenstellend waren. In diesem Beispiel löste sich das Photolackmuster nach 13 Minuten von der ersten Probe ab. Folglich kann davon ausgegangen werden, dass die Hafteigenschaften zwischen dem ersten Wickelkörper, aus dem der erste Prüfkörper ausgeschnitten worden ist, und dem Photolackmuster nicht zufriedenstellend sind.
Ob sich das Photolackmuster von dem Metallblech ablöst oder nicht, kann auf der Basis der Tatsache beurteilt werden, ob das Photolackmuster einen gekrümmten Abschnitt aufweist oder nicht, wenn das Photolackmuster entlang der senkrechten Richtung der ersten Oberfläche des Metallblechs betrachtet wird. Dies ist darauf zurückzuführen, dass in der Entwicklungslösung ein Abschnitt des Photolackmusters, der sich von dem Metallblech ablöst, aufschwimmt, so dass er sich verformt. Die 27 zeigt ein Beispiel eines schematischen Diagramms des Metallblechs und des Photolackmusters, in dem sich ein Abschnitt des gitterartigen Photolackmusters von dem Metallblech in der Entwicklungslösung ablöst.
(Zweiter bis vierter Wickelkörper)
Entsprechend dem ersten Wickelkörper wurden ein zweiter Wickelkörper bis vierter Wickelkörper, um den ein längliches Metallblech mit einer Dicke von 20 µm gewickelt war, unter Verwendung eines Basismetalls, das aus einer Eisenlegierung hergestellt war, die 34 bis 38 Massen-% Nickel, weniger als 0,1 Massen-% Chrom, Rest Eisen und unvermeidbare Verunreinigungen enthielt, hergestellt. Ferner wurden entsprechend dem ersten Wickelkörper der zweite Wickelkörper bis vierte Wickelkörper der Zusammensetzungsanalyse und der Bewertung der Hafteigenschaften an dem Photolackmuster unterzogen. Die 24(a) und 24(b), die 25(a) und 25(b) und die 26(a) und 26(b) zeigen die jeweiligen Ergebnisse von Prüfkörpern, die aus dem zweiten Wickelkörper, dem dritten Wickelkörper und dem vierten Wickelkörper ausgeschnitten worden sind und mittels der vorstehend genannte XPS-Vorrichtung analysiert worden sind.
(Zusammenfassung von Bewertungsergebnissen des ersten bis vierten Wickelkörpers)

Die Tabelle 3 zeigt die Planardimension-Peakwerte der vorstehend genannten jeweiligen Peaks P1 bis P4, die durch Analysieren der Prüfkörper erhalten worden sind, die von den länglichen Metallblechen des ersten Wickelkörpers bis vierten Wickelkörpers entnommen worden sind. Darüber hinaus zeigt die Tabelle 3 die berechneten Ergebnisse von A1/A2, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist. Wie es in der Tabelle 3 gezeigt ist, erfüllten der erste Wickelkörper und der zweite Wickelkörper die vorstehend genannte Bedingung (1) nicht. Andererseits erfüllten der dritte Wickelkörper und der vierte Wickelkörper die vorstehend genannte Bedingung (1) nicht. Für Bezugszwecke zeigt die Tabelle 4 die Zusammensetzungen der länglichen Metallbleche des ersten Wickelkörpers bis vierten Wickelkörpers, die durch die Zusammensetzungsanalyse unter Verwendung des XPS-Verfahrens berechnet worden sind. Tabelle 3

	Peak P1	Peak P2	Peak P3	Peak P4	A1/A2
Erster Wickelkörper	22329,3	4481,8	9090,5	4748,9	0,41
Zweiter Wickelkörper	45167,9	8984,6	20021,6	7849,8	0,44
Dritter Wickelkörper	36717,5	5195,9	8444,0	6138,4	0,23
Vierter Wickelkörper	27134,2	3991,4	7948,8	4690,9	0,29

Tabelle 4

	Zusammensetzung (Atom-%)
	C	N	O	Fe	Ni
Erster Wickelkörper	12,7	1,0	46,5	32,1	7,7
Zweiter Wickelkörper	15,6	0,8	47,4	29,5	6,7
Dritter Wickelkörper	32,7	0,8	40,4	22,2	4,0
Vierter Wickelkörper	18,4	1,2	45,9	28,5	6,1

(Zusammenfassung von Bewertungsergebnissen bezüglich der Hafteigenschaften an dem Photolackmuster)

Die Tabelle 5 zeigt Ergebnisse der Bewertung der Hafteigenschaften an dem Photolackmuster, die mit den Proben durchgeführt wurde, die aus den länglichen Metallblechen des ersten Wickelkörpers bis vierten Wickelkörpers ausgeschnitten worden sind. In der Spalte „Hafteigenschaften“ von Tabelle 5 bedeutet „Zufriedenstellend“, dass das in die Entwicklungslösung eingetauchte Photolackmuster nach 15 Minuten oder mehr von dem Photolackmuster abgelöst wurde, und „Nicht zufriedenstellend“ bedeutet, dass das in die Entwicklungslösung eingetauchte Photolackmuster in weniger als 15 Minuten von dem Photolackmuster abgelöst wurde. Tabelle 5

	Ablösezeit	Hafteigenschaften
Erster Wickelkörper	13	Nicht zufriedenstellend
Zweiter Wickelkörper	14	Nicht zufriedenstellend
Dritter Wickelkörper	35	Zufriedenstellend
Vierter Wickelkörper	33	Zufrieden stellend

Wie es in der Tabelle 3 und der Tabelle 5 gezeigt ist, wiesen die Proben, die aus dem dritten Wickelkörper und dem vierten Wickelkörper ausgeschnitten worden sind, zufriedenstellende Hafteigenschaften an dem Photolackmuster auf. Andererseits wiesen die Proben, die aus dem ersten Wickelkörper und dem zweiten Wickelkörper ausgeschnitten worden sind, keine ausreichenden Hafteigenschaften an dem Photolackmuster auf. Aufgrund dieser Ergebnisse kann davon ausgegangen werden, dass es effektiv ist, dass in der Oberfläche des Metallblechs das Verhältnis von Nickeloxid und Nickelhydroxid relativ zu Eisenoxid und Eisenhydroxid vermindert ist, insbesondere dass das vorstehend genannte A1/A2 auf weniger als 0,4 eingestellt wird, um die Hafteigenschaften an dem Photolackmuster sicherzustellen.
(Fünfter bis neunter Wickelkörper)
Entsprechend dem ersten Wickelkörper wurden ein fünfter bis achter Wickelkörper, um die ein längliches Metallblech mit einer Dicke von 20 µm gewickelt war, und ein neunter Wickelkörper, um den ein längliches Metallblech mit einer Dicke von 18 µm gewickelt war, unter Verwendung eines Basismetalls, das aus einer Eisenlegierung hergestellt war, die 34 bis 38 Massen-% Nickel, weniger als 0,1 Massen-% Chrom, Rest Eisen und unvermeidbare Verunreinigungen enthielt, hergestellt. Ferner wurden entsprechend dem ersten Wickelkörper der fünfte Wickelkörper bis neunte Wickelkörper der Zusammensetzungsanalyse und der Bewertung der Hafteigenschaften an dem Photolackmuster unterzogen.
(Zusammenfassung der Bewertungsergebnisse des ersten bis vierten Wickelkörpers)

Die Tabelle 6 zeigt die Planardimension-Peakwerte der vorstehend genannten jeweiligen Peaks P1 bis P4, die durch Analysieren der Prüfkörper erhalten worden sind, die von den länglichen Metallblechen des fünften Wickelkörpers bis neunten Wickelkörpers entnommen worden sind. Darüber hinaus zeigt die Tabelle 6 die berechneten Ergebnisse von A1/A2. Wie es in der Tabelle 6 gezeigt ist, erfüllte der sechste Wickelkörper die vorstehend genannte Bedingung (1) nicht. Andererseits erfüllten der fünfte Wickelkörper und der siebte Wickelkörper bis neunte Wickelkörper die vorstehend genannte Bedingung (1). Für Bezugszwecke zeigt die Tabelle 7 Zusammensetzungen der länglichen Metallbleche des fünften Wickelkörpers bis neunten Wickelkörpers, die durch die Zusammensetzungsanalyse unter Verwendung des XPS-Verfahrens berechnet worden sind. Tabelle 6

	Peak P1	Peak P2	Peak P3	Peak P4	A1/A2
Fünfter Wickelkörper	24528,3	3176,6	9165,0	4292,1	0,37
Sechster Wickelkörper	28969,1	5527,5	13102,1	5083,0	0,45
Siebter Wickelkörper	33256,9	1043,7	6615,7	2013,6	0,20
Achter Wickelkörper	30606,3	3739,6	8098,6	6506,4	0,26
Neunter Wickelkörper	97247,0	6789,0	19847,0	12266,0	0,20

Tabelle 7

	Zusammensetzung (Atom-%)
	C	N	O	Fe	Ni
Fünfter Wickelkörper	16,2	1,0	45,1	30,6	7,1
Sechster Wickelkörper	33,3	2,1	41,6	18,4	4,7
Siebter Wickelkörper	24,6	0,8	47,7	24,2	2,7
Achter Wickelkörper	25,9	0,6	42,0	27,0	4,6
Neunter Wickelkörper	34,6	1,3	42,6	17,4	4,1

(Zusammenfassung der Bewertungsergebnisse der Hafteigenschaften an dem Photolackmuster)

Die Tabelle 8 zeigt Ergebnisse der Bewertung der Hafteigenschaften an dem Photolackmuster, die mit den Proben durchgeführt wurde, die von den länglichen Metallblechen des fünften Wickelkörpers bis neunten Wickelkörpers ausgeschnitten worden sind. Tabelle 8

	Hafteigenschaften
Fünfter Wickelkörper	Zufrieden stellend
Sechster Wickelkörper	Nicht zufrieden stellend
Siebter Wickelkörper	Zufrieden stellend
Achter Wickelkörper	Zufriedenstellend
Neunter Wickelkörper	Zufriedenstellend

Wie es in der Tabelle 6 und der Tabelle 8 gezeigt ist, wiesen die Proben, die aus dem fünften Wickelkörper und dem siebten Wickelkörper bis neunten Wickelkörper ausgeschnitten worden sind, zufriedenstellende Hafteigenschaften an dem Photolackmuster auf. Andererseits wies die Probe, die aus dem sechsten Wickelkörper ausgeschnitten worden ist, keine ausreichenden Hafteigenschaften an dem Photolackmuster auf. Aufgrund dieser Ergebnisse kann davon ausgegangen werden, dass es effektiv ist, dass das vorstehend genannte A1/A2 auf weniger als 0,4 eingestellt wird, um die Hafteigenschaften an dem Photolackmuster sicherzustellen. Insbesondere ist die vorstehend genannte Bedingung (1) ein leistungsfähiges Bewertungsverfahren zum Auswählen eines Metallblechs.
Bezugszeichenliste

20: Abscheidungsmaske
21: Metallblech
21a: Erste Oberfläche eines Metallblechs
21b: Zweite Oberfläche eines Metallblechs
22: Effektiver Bereich
23: Peripherer Bereich
25: Durchgangsloch
30: Erste Aussparung
31: Wandoberfläche
35: Zweite Aussparung
36: Wandoberfläche
43: Oberer Abschnitt
64: Längliches Metallblech
64a: Erste Oberfläche des länglichen Metallblechs
64b: Zweite Oberfläche des länglichen Metallblechs
65a: Erstes Photolackmuster
65b: Zweites Photolackmuster
65c: Erster Photolackfilm
65d: Zweiter Photolackfilm
81: Bestrahlungseinheit
82: Erfassungseinheit
98: Abscheidungsmaterial

Die vorliegende Erfindung betrifft ferner die folgenden Gegenstände 1 bis 13:

1. Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs, das zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern verwendet wird, wobei das Verfahren einen Herstellungsschritt des Herstellens eines Blechelements, das aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, umfasst, wobei:
- wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs, das von dem Blechelement erhalten worden ist, unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und
- in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt.
2. Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs nach dem Gegenstand 1, das ferner einen Anlassschritt des Anlassens des Blechelements zum Erhalten des Metallblechs umfasst.
3. Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs nach dem Gegenstand 2, bei dem der Anlassschritt in einer Inertgasatmosphäre durchgeführt wird.
4. Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs nach einem der Gegenstände 1 bis 3, bei dem der Herstellungsschritt einen Walzschritt des Walzens eines Basismetalls, das aus einer Nickel-enthaltenden Eisenlegierung hergestellt ist, umfasst.
5. Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs nach einem der Gegenstände 1 bis 3, bei dem der Herstellungsschritt einen Folienerzeugungsschritt des Erzeugens eines Plattierungsfilms durch die Verwendung einer Plattierungsflüssigkeit, die eine Lösung, die eine Nickelverbindung enthält, und eine Lösung umfasst, die eine Eisenverbindung enthält, umfasst.
6. Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs nach einem der Gegenstände 1 bis 5, bei dem die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger beträgt.
7. Verfahren zur Herstellung eines Metallblechs nach einem der Gegenstände 1 bis 6, bei dem das Metallblech zur Herstellung der Abscheidungsmaske durch Belichten und Entwickeln eines trockenen Films, der an der ersten Oberfläche des Metallblechs angebracht ist, so dass ein erstes Photolackmuster gebildet wird, und durch Ätzen eines Bereichs der ersten Oberfläche des Metallblechs, wobei der Bereich nicht mit dem ersten Photolackmuster bedeckt ist, dient.
8. Metallblech, das zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern verwendet wird, wobei:
- wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und
- in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt.
9. Metallblech nach dem Gegenstand 8, bei dem die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger beträgt.
10. Metallblech nach dem Gegenstand 8 oder 9, bei dem das Metallblech zur Herstellung der Abscheidungsmaske durch Belichten und Entwickeln eines trockenen Films, der an der ersten Oberfläche des Metallblechs angebracht ist, so dass ein erstes Photolackmuster gebildet wird, und durch Ätzen eines Bereichs der ersten Oberfläche des Metallblechs, wobei der Bereich nicht mit dem ersten Photolackmuster bedeckt ist, dient.
11. Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern, wobei das Verfahren umfasst:
- einen Schritt des Herstellens eines Metallblechs;
- einen erstes Photolackmuster-Bildungsschritt des Bildens eines ersten Photolackmusters auf einer ersten Oberfläche des Metallblechs; und
- einen Ätzschritt des Ätzens eines Bereichs der ersten Oberfläche des Metallblechs, wobei der Bereich nicht mit dem Photolackmuster bedeckt ist, so dass erste Aussparungen zum Festlegen der Durchgangslöcher in der ersten Oberfläche des Metallblechs ausgebildet werden;
- wobei:
  - wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist, und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und
  - in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt.
12. Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske nach dem Gegenstand 11, bei dem die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger beträgt.
13. Verfahren zur Herstellung einer Abscheidungsmaske nach dem Gegenstand 11 oder 12, bei dem der erstes Photolackmuster-Bildungsschritt einen Schritt des Anbringens eines trockenen Films an der ersten Oberfläche des Metallblechs und einen Schritt des Belichtens und Entwickelns des trockenen Films zum Bilden des ersten Photolackmusters umfasst.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

JP 2014148740 A [0006]

Claims

Metallblech zur Herstellung einer Abscheidungsmaske mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten Durchgangslöchern, wobei das Metallblech aus einer Eisenlegierung hergestellt ist, die 30 bis 54 Massen-% Nickel enthält, wobei die Dicke des Metallblechs 85 µm oder weniger beträgt, und wobei: wenn eine Zusammensetzungsanalyse einer ersten Oberfläche des Metallblechs unter Verwendung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopie durchgeführt wird, ein Verhältnis A1/A2, das durch das Ergebnis der Röntgenphotoelektronenspektroskopie erhalten wird, 0,4 oder weniger beträgt, wobei A1 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Nickeloxid und eines Planardimension-Peakwerts von Nickelhydroxid ist und A2 die Summe eines Planardimension-Peakwerts von Eisenoxid und eines Planardimension-Peakwerts von Eisenhydroxid ist; und in der Zusammensetzungsanalyse der ersten Oberfläche des Metallblechs mittels der Röntgenphotoelektronenspektroskopie ein Einfallswinkel eines Röntgenstrahls, der zu dem Metallblech auf die erste Oberfläche emittiert wird, 45 Grad beträgt, und ein Auftreffwinkel von Photoelektronen, die von dem Metallblech abgegeben werden, 90 Grad beträgt; wobei das Verfahren zum Berechnen des Verhältnisses A1/A2 auf der Basis des Analyseergebnisses mittels des XPS-Verfahrens so durchgeführt wird, wie es in der Beschreibung angegeben ist; und wobei das Berechnen der Hintergrundlinie unter Verwendung des Shirley-Verfahrens durchgeführt wird, wie es in der Beschreibung angegeben ist.