DE2065245C3 - Elektrolumineszenz-Vorrichtung mit einem pn-Ubergang - Google Patents
Elektrolumineszenz-Vorrichtung mit einem pn-UbergangInfo
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Description
dung zählt zur Klasse der elektrischen Halbleiter mit 45 den Materials liegt. Diese Untersuchungen bezogen
indirekter Bandlücke, d. h. daß für eine Elektronen- sich insbesondere auf Tellur als Donator, wobei sich
Loch-Rekombination ein drittes Kristallelement, bei- jedoch auch Schwefel und Selen als im wesentlichen
Ipielsweise eine Versetzung, eine Leerstelle, eine Sub- gleichwertige Donatoren erwiesen,
•titution, eine Zwischengitter-Verunreinigung oder Die bei bekannten Elektrclumineszenz-Vorrichtun-
eine andere Abweichung vom vollkommen geordneten 50 gen maximal erzielten Wirkungsgrade liegen zwischen
Kristallaufbau vorhanden sein muß. Im Falle von 1 und 2%. Obschon diese Wirkungsgrade gegenüber
GaP-Vorrichtungen wird angenommen, daß das für früher erzielten Wirkungsgraden beachtlich größer
eine Rekombination mit Emission von Rotlicht er- sind, so stellen sie absolut gesehen noch kein befriedi-
forderliche dritte Kristallelement ein Verunreinigungs- gendes Ergebnis dar.
komplex ist, der aus einen Sauerstoffion und einem 55 Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine
Akzeptorion (meist Zn oder Cd) besteht, welche als Elektrolumineszenz-Vorrichtung der eingangs erwähn-
Substitutionselemente im Kristallgitter als nächst- ten Art zu schaffen, welche einen wesentlich erhöhten
liegende Nacitbarpaare auf der p-Seite des Übergangs Wirkungsgrad aufweist.
vorhanden sind. Bei Anlegen eines elektrischen Feldes Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im
in Durchlaßrichtung des PN-Übergangs wird ein 60 Kennzeichen des Patentanspruchs genannten Merkmale
Elektron aus der N-Zone in die P-Zone injiziert, wo gelöst.
dieses Elektron von dem genannten Komplex einge- Die erfindungsgemäßen Elektrolumineszenz-Vorfangen
wird. Anschließend wird an der gleichen Stelle richtungen weisen einen wesentlich verbesserten Wirein
Loch eingefangen, welches unter Emission eines kungsgrad von 4 bis 7% auf.
Photons im roten Spektralbereich mit dem Elektron 65 Unter »Wirkungsgrad« wird im vorliegenden Zu-
rekombiniert. Sind jedoch im Injektionsbereich keine sammenhang das Verhältnis zwischen der Anzahl der
Komplexe vorhanden, so rekombiniert das Elektron emittierten Photonen und der Gesamtzahl der La-
im Laufe der Zeit über eine Anzahl anderer Prozesse, dungsträger (Elektronen und Löcher), welche die Vor-
3 r 4
dchtung über den lichtemittierenden PN-Übergang auf der P-Seite des PN-Übergangs 31 erzeugt wird,
durchlaufen, verstanden. Diese Verhältnisgröße wird Von hauptsächlichem Interesse sind daher die Dozuweilen
als sogenannter »äußerer Quar.tenwirkungs- tierungskonzentrationen inucrhalb einer Materialtiefe
grad« der Vorrichtung bezeichnet i;id ist größer als von 10 μπι auf beiden Seiten des Übergangs 31. Wie
der tatsächliche Energiewirkungsgrad, und zwar an- S aus der Figur hierzu hervorgeht, weist ein Ausfühnähernd
um das Verhältnis zwischen der Bandlücken- rungsbeispiel einer Elektrolumineszenz-Vorrichtung
energie und der Photonenenergie. Für Vorrichtungen mit hohem Wirkungsgrad im Bereich des PN-Überder
hier beschriebenen Art ist der Quantenwirkungs- gangs eine Te-Konzentration in dem N -leitenden Magrad
in der Größenordnung von 20% größer als der terial von 0,9 · 1018 Atome pro cm3, eine Zn-Konzentatsächliche
Energiewirkungsgrad. it> tration in dem P-leitenden Material von 5,5 · 1017
Die Erfindung wird mit ihren weiteren Einzelheiten Atome pro cm3 und eine O-Konzentration in dem
an Hand der Zeichnung näher erläutert; die Figur P-leitenden Material von 1,5 · 10" Atome pro cm3 auf.
zeigt ein Diagramm zur Darstellung der Konzentra- Die Dotierungskonzentrationen in größerer Enttion
der verschiedenen Dotierstoffe in einer Elektro- femung von dem PN-Übergang beeinflussen den Wirlumineszenz-Vorrichtung
mit hohem Wirkungsgrad 15 kungsgrad der erfindungsgemäßen Vorrichtung nur
als Funktion der räumlichen Lage innerhalb der Vor- sekundär. Da das in der Nähe des Übergangs erzeugte
richtung (Dotierungsprofil), wobei die Donatorkon- Licht vor dem Austritt aus der Vorrichtung den entzentrationen
oberhalb der Abszisse und die Akzeptor- fernteren Materialbereich unter Umständen mehrfach
konzentrationen unterhalb der Abszisse wiedergegeben durchlaufen muß, wird der Wirkungsgrad durch eine
sind. 20 Absorptionswirkung des vom Übergang entfernteren
Eine Elektrolumineszenz-Vorrichtung mit dem in Materialbereichs nachteilig beeinflußt. Da freie Lader
Figur gezeigten Dotierungsprofil wurde durch Ab- dungsträger rotes Licht absorbieren, kann die Vorrichscheidung
einer P-leitenden Schicht aus Zn- oder O-do- tung derart ausgebildet werden, daß die Dotierungstiertem
Galliumphosphid aus der flüssigen Phase auf konzentration bei wachsender Entfernung von dem
einem Substrat hergestellt. Das Substrat wurde seiner- 25 PN-Übergang abnimmt. Unter diesem Gesichtspunkt
seits durch Abscheidung einer N-leitenden Schicht aus ist es für eine Vorrichtung mit hohem Wirkungsgrad
Te-dotiertem Galliumphosphid aus der flüssigen Phase günstig, wenn — wie im Falle des N-leitenden Subauf
einem N-leitenden, aus einer Lösung gezüchteten strats — eine dünne Schicht (etwa ΙΟμηι) aus stark
Substrat mit schwacher Te-Dotierung gewonnen. Te-dotiertem Galliumphosphid (etwa 2 · 1018 Atome
Gemäß dem Profilabschnitt 34 steigt die Te-Konzen- 30 pro cm3) auf einem schwach dotierten Substrat abgetration
in der N-leitenden Schicht bis zu einem Wert schieden und eine P-leitende Zone entsprechend einer
von 0,9 · 1018 Atome pro cm3 am PN-Übergang an, engen Annäherung an die Kompensation von Zn
während die Netto-Akzeptorkonzentration gemäß Pro- durch O möglichst stark mit Zn und O dotiert wird,
filabschnitt 32 einen Wert von 0,42 · 1018 Atome pro Auf diese Weise kann im Interesse einer wirkungscm3
(bei einem Anfangswert von 0,4 · 1018 Atome pro 35 vollen Injektion im Bereich des Übergangs 31 auf der
cm3) besitzt. Die Messung an einer Vergleichsvorrich- N-Seite eine hohe Elektronenkonzentration, bezogen
tung ohne O-Dotierung ergibt eine Zn-Konzentration auf die Löcher der P-Seite, erzielt werden. Gleichgemäß Profilabschnitt 33, welche bei einem Wert von zeitig ergibt sich eine hohe Konzentration an Zn-O-0,58
· 1018 Atome pro cm3 beginnt. Hieraus errechnet Paaren, welche im Interesse einer wirkungsvollen
sich eine O-Donatorkonzentration der Ga2O3- und 40 Lichtemission günstig ist. In dem von dem Übergang
( dotierten Vorrichtung zu 0,16 · 1018 Atome pro cm3. entfernten Material ist die Konzentration an freien
Da die charakteristischen Weglängen rür die Elek- Ladungsträgern und damit die Lichtabsorption gering,
tronen- und Löcher-Transportprozesse für Gallium- An Stelle der vorstehend angegebenen Materialien
phosphid in der Größenordnung von 1 bis 4 μπι liegen, kann das Substrat auch mit anderen Donatoren als
liefert das Material innerhalb einer Tiefe von 10 μΐη 45 Tellur dotiert werden, beispielsweise mit Schwefel,
auf der N-Seite des PN-Übergangs 31 den größten Teil Selen, Silicium oder Zinn. Ferner kommt als Quelle
der injizierten Elektronen, während der größte Anteil für die O-Dotierung außer Ca2O3 unter anderem auch
des emittierten Lichtes in einer Materialtiefe von 10 μΐη ZnO in Betracht.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- mit denen keine Emission von sichtbarem Licht ver-Patenianspruch: ^ bunden ist. Für eine wirksame GaP-Efcktrolurnines-zenz-Vorrichtung ist also sowohl die wirksame In-Efcktrolumineszenz-Vorrichtung mit einem PN- jektion von Elektronen in die P-Zone als auch die AnÜbergang, welche eine epitaktisch auf einem N-lei- 5 Wesenheit von Sauerstoff-Akzeptorkomplexen ausreitenden Galliumphosphid-Substrat aufgewachsene chender Konzentration in der Injeküonszone erforder-P-leitende Galiiumphosphid-Schicht aufweist, wo- lieh. .
bei für die P-leitende GaP-Schicht als Donator In der Vergangenheit wurden zahlreiche Unter-Sauerstoff und als Akzeptor Zink oder Cadmium suchungen auf derartige Etektrolumineszenz-Vorrichvorgesehen ist und als Donator für das GaP-Sub- 10 tungen gerichtet, wobei die Optimierung der Konzenstrat wenigstens ein Element aus der Gruppe S, trationen der Dotierstoffe angestrebt wurde. Zur Ver-Se, Si, Sn und Te vorgesehen ist, deren mittlere einfachung der Untersuchungsbedingungen sowie zur Konzentration innerhalb eines 10 μπι tiefen, von Optimierung der Zn- und O-Konzentrationen indem dem PN-Übergang ausgehenden Bereichs zwischen P-leitenden Material ohne Anwesenheit einer N-lei-0,3 · 1018 und 2 ■ 1018 Atome pro cm3 beträgt, x5 tenden Schicht wurden Photolumineszenzmessungen dadurch gekennzeichnet, daß in der mit Elektroneninjektionen in das Leitfähigkeitsband P-ieilenden GaP-Schicht innerhalb eines 10 μιη durch Anregung mit hochenergetischem Licht durchliefen, von dem PN-Übergang ausgehenden Be- geführt (USA.-Zeitschrift »Journal of Applied Physics«, reichs die mittlere Konzentration der Donator- Bd. 37 [1966], S. 483 bis 486). Diese Versuche zeigen, atome zwischen 1 · 1017 und 9 · 10" Atome pro 20 daß eine optimale Photolumineszenz bei einer Vorcm3 und die mittlere Konzentration der Akzeptor- richtung erzielt wird, bei der Galliumphosphid mit atome zwischen 2 · 10" und 1 · 10Ie Atome pro 1 bis 2 · lO18 Zink- oder Cadmiumatomen je cm3 und cm3 beträgt. mit weniger als 0,3 ■ 1018 Sauerstoffatomen je cm3 dotiert ist. Spätere Untersuchungen wurden durch dieseas Ergebnisse stark beeinflußt, wobei die genannten Kon-zentrationsbereichc als Optimum angesehen wurden. Die optimale Donatorkonzentration auf der N-SeiteDie Erfindung bezieht sich auf eine Elektrolumines- des PN-Übergangs wird von den beiden folgendenzenz-Vorrichtung der im Oberbegriff des Patentan- gegenläufigen Faktoren beeinflußt. Und zwar ist einer-spruchs näher bezeichneten Art. 30 seits für eine wirkungsvolle Elektroneninjektion vonEine derartige Vorrichtung ist bekannt (Journal of der N-Seite des Übergangs eine möglichst hohe Elek-Applied Physics 39 [1968], S. 2977 bis 2978). tronendichte erwünscht. Andererseits wirkt jedoch beiElektrolumineszenz-Vorrichtungen mit einem PN- zu hoher Elektronenkonzentration das N-leitendeübergang, die bei Strombeaufschlagung in Durch- Material absorbierend für das erzeugte Licht. Dieselaßrichtung emittieren, werden bekanntlich für eine 35 Absorption ist für den Wirkungsgrad der Elektro-Reihe von Anwendungszwecken, beispielsweise als lumineszenz-Vorrichtung von außerordentlicher Be-Anzeigelichtquellen oder als Leuchtelemente in grö- deutung, da ein Großteil des erzeugten Lichtes an derfieren Bildwiedergabeeinrichtungen eingesetzt. In der- Oberfläche der Elektrolumineszenz-Vorrichtung nachartigen Elektrolumineszenz-Vorrichtungen erfolgt die innen reflektiert wird und somit die Elektrolumines-Lichterzeugung auf Grund von Elektronen-Loch-Re- 40 zenz-Vorrichtung vor dem Austritt mehrmals durch-kombinationen. quert. Es hat sich gezeigt (USA.-Zeitschrift »SolidEs ist bekannt, daß Galliumphosphid (GaP) ein vor- State Electronics«, Bd. 11 [1968], S. 647 bis 652), daßleilhaftes, im sichtbaren Bereich des Spektrums emittie- die optimale Donatorkonzentration zwischen 0,3 · 1018rendes Elektrolumineszenzmaterial ist. Diese Verbin- und 1.0 · 1018 Atome pro cm3 innerhalb des N-leiten-
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|---|---|---|---|---|
| FR2175571B1 (de) * | 1972-03-14 | 1978-08-25 | Radiotechnique Compelec | |
| US3870575A (en) * | 1972-03-21 | 1975-03-11 | Sony Corp | Fabricating a gallium phosphide device |
| US3727115A (en) * | 1972-03-24 | 1973-04-10 | Ibm | Semiconductor electroluminescent diode comprising a ternary compound of gallium, thallium, and phosphorous |
| US3859148A (en) * | 1972-12-01 | 1975-01-07 | Bell Telephone Labor Inc | Epitaxial crystal growth of group iii-v compound semiconductors from solution |
| US3875451A (en) * | 1972-12-15 | 1975-04-01 | Bell Telephone Labor Inc | Near-infrared light-emitting and light-detecting indium phosphide homodiodes including cadmium tin phosphide therein |
| US4017880A (en) * | 1973-02-12 | 1977-04-12 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Red light emitting gallium phosphide device |
| GB1429895A (en) * | 1973-02-12 | 1976-03-31 | Tokyo Shibaura Electric Co | Red-emitting gallium phosphide device automat |
| US3951699A (en) * | 1973-02-22 | 1976-04-20 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a gallium phosphide red-emitting device |
| US3853643A (en) * | 1973-06-18 | 1974-12-10 | Bell Telephone Labor Inc | Epitaxial growth of group iii-v semiconductors from solution |
| DE2346198A1 (de) * | 1973-07-27 | 1975-05-07 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung gelb leuchtender galliumphosphid-dioden |
| JPS5137915B2 (de) * | 1973-10-19 | 1976-10-19 | ||
| US3915754A (en) * | 1973-11-29 | 1975-10-28 | Honeywell Inc | Growth of gallium phosphide |
| JPS531192B2 (de) * | 1974-01-29 | 1978-01-17 | ||
| IT1021854B (it) * | 1974-01-31 | 1978-02-20 | Tokyo Shibaura Electric Co | Dispositivo a fosfuro di gallio per emissione di luce rossa |
| US4180423A (en) * | 1974-01-31 | 1979-12-25 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing red light-emitting gallium phosphide device |
| JPS551717B2 (de) * | 1975-01-29 | 1980-01-16 | ||
| US4235191A (en) * | 1979-03-02 | 1980-11-25 | Western Electric Company, Inc. | Apparatus for depositing materials on stacked semiconductor wafers |
| JPS6013317B2 (ja) * | 1979-03-19 | 1985-04-06 | 松下電器産業株式会社 | 発光ダイオ−ドの製造方法 |
| JP2698891B2 (ja) * | 1992-11-07 | 1998-01-19 | 信越半導体株式会社 | GaP系発光素子基板 |
| JP3324102B2 (ja) * | 1993-11-22 | 2002-09-17 | 信越半導体株式会社 | エピタキシャルウェーハの製造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL143402B (nl) * | 1964-02-12 | 1974-09-16 | Philips Nv | Halfgeleiderinrichting met een een halfgeleiderlichaam bevattende gestuurde injectierecombinatiestralingsbron. |
| US3365630A (en) * | 1965-01-29 | 1968-01-23 | Bell Telephone Labor Inc | Electroluminescent gallium phosphide crystal with three dopants |
| US3462320A (en) * | 1966-11-21 | 1969-08-19 | Bell Telephone Labor Inc | Solution growth of nitrogen doped gallium phosphide |
| US3470038A (en) * | 1967-02-17 | 1969-09-30 | Bell Telephone Labor Inc | Electroluminescent p-n junction device and preparation thereof |
| US3647579A (en) * | 1968-03-28 | 1972-03-07 | Rca Corp | Liquid phase double epitaxial process for manufacturing light emitting gallium phosphide devices |
| US3592704A (en) * | 1968-06-28 | 1971-07-13 | Bell Telephone Labor Inc | Electroluminescent device |
| US3619304A (en) * | 1968-08-30 | 1971-11-09 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing gallium phosphide electro luminescent diodes |
-
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1969
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-
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| DE2039381C3 (de) | 1973-10-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |