DE1920061U - CARRIER PLATE ACCORDING TO THE PRINTED CIRCUIT WITH METAL CONDUCTOR TRACKS PROVIDED IN SEVERAL LEVELS, SOME OF WHICH ARE IN ELECTRICAL CONTACT WITH EACH OTHER. - Google Patents
CARRIER PLATE ACCORDING TO THE PRINTED CIRCUIT WITH METAL CONDUCTOR TRACKS PROVIDED IN SEVERAL LEVELS, SOME OF WHICH ARE IN ELECTRICAL CONTACT WITH EACH OTHER.Info
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Description
P.A.285 616*-2.6.65P.A.285 616 * -2.6.65
Siemens & Halsice ■ München 2, den27 9 63Siemens & Halsice ■ Munich 2, 27 9 63
Aktiengesellschaft Witteisbacherplatz'2Aktiengesellschaft Witteisbacherplatz'2
63/285463/2854
"Trägerplatte nach Art der gedruckten Schaltung mit in mehreren Ebenen vorgesehenen Metalleiterbahnen, dio zum Teil miteinander im elektrischen Kontakt stehen.""Carrier plate in the manner of a printed circuit with metal conductor tracks provided in several levels, dio partly with one another are in electrical contact. "
Die betrifft eine Trägerplatte nach Art der gedruckten Schaltung. Auf diese Trägerplatte können sowohl elektrische Bauelemente als auch Baugruppen oder ganze Baugruppenaggregate oder alle diese Arten gemeinsam aufgesetzt und miteinander elektrisch verschaltet werden. Die Trägerplatte besteht aus wenigstens einer in wenigstens zwei Ebenen mit Betalleiterbahnen versehenen Iso-This relates to a carrier plate of the printed type Circuit. Both electrical components can be placed on this carrier plate as well as assemblies or entire assembly units or all of these types placed together and electrically with one another be interconnected. The carrier plate consists of at least one insulation layer provided with beta conductor tracks in at least two levels.
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lierstoffschicht, wobei wenigstens ein Teil der Leiterbrhnen verschiedener Ebenen durch die Isolierstoffschicht hindurch miteinander elektrisch leitend verbunden, d.h. durchkontaktiert sind. Insbesondere sind an den Durchkdntaktierungsstellen gleichzeitig Öffnungen vorhanden, die als Kontaktlöcher für die Anschlußteile der aufzusetzenden elektrischen Bauteile dienen.lierstoffschicht, with at least some of the ladder brackets different Levels through the layer of insulating material are connected to one another in an electrically conductive manner, i.e. they are through-contacted. In particular, are at the Durchkdntaktierungsstellen simultaneously Openings available as contact holes for the connection parts the electrical components to be placed are used.
Das sogenannte Durchkontaktieren, d.h. das elektrische Verbinden von Leitungsbahnen, die beispielsweise zu beiden iSeiten einer Isolierstoffplatte aufgebracht sind, durch die" Isolierstoffplatte hindurch stellt ein besonderes Problem-in der Technik der gedruckten Schaltungen dar. Insbesondere dann, wenn gleichzeitig an den Durchkontaktierungsstellen nicht nur Leitungsumlenkungen vorgenommen werden sollen, sondern auch gleichzeitig die Anschlupteile elektrischer Bauteile zu befestigen sind, muß dafür gesorgt werden, daß die Durchkontaktierungsstelle elektrisch einwandfrei ist.The so-called through-plating, ie the electrical connection of conductor tracks, which are applied, for example, to both sides of an insulating plate, through the "insulating material plate" represents a particular problem in the technology of printed circuits are to be made, but also at the same time Anschlu p parts of electrical components are to be mounted, it must be ensured that the interlayer contact pad is electrically properly.
Ks ist bekannt, diese Durchkontaktierung auf chemischem Wege vorzunehmenο Hierbei werden durch besondere chemische Verfahren eine oder mehrere Schichten in die Durchkontaktierungsöffnung eingebracht und gleichzeitig mit den Leiterbahnen verbunden. Besonders schwierig wird dieses Problem, wenn nicht nur eine, sondern wenn mehrere mit Leiterbahnen versehene gedruckte Schaltungen übereinanderzuschichten;und durchzukontektieren sind. Man kann sich hierbei zwar auch der chemischen Verfahren bedienen,Ks is known to make this through-hole plating by chemical means to be carried out by special chemical processes one or more layers are introduced into the via opening and at the same time connected to the conductor tracks. Especially This problem becomes difficult if not just one, but if several printed circuits provided with conductor tracks to be layered on top of each other; and to be connected through. Man can also use the chemical process,
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jedoch ist dabei nicht die Gewähr gegeben, daß Iletalleiterlrhnen, die im Inneren der geschichteten "Trägerplatte vorhanden sind, auch elektrisch einwandfrei kontaktiert werden. Is können dabei sowohl unzulässig hohe Übergangswiderstände auftreten als auch jegliche •Kontaktierung überhaupt unterbleiben.however, there is no guarantee that Iletalleiterlrhnen, that are present inside the layered "backing plate, too electrically properly contacted. Is, both impermissibly high contact resistances as well as any • No contact at all.
Die schlägt einen neuen Weg zur Durchkontaktierung vor. Die Trägerplatte der eingangs beschriebenen Art ist gemäß dadurch gekennzeichnet, daß; die Metalleiterbahnen miteinander durch Schweißstellen verbunden sind. In diese Schweißstellen können gleichzeitig Kontaktlöcher eingestanzt oder gebohrtThis suggests a new way of through-hole plating. The carrier plate of the type described above is in accordance with characterized in that; the metal conductors are connected to one another by welds. In these welds contact holes can be punched or drilled at the same time
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Metalleiterbahnen miteinander direkt verschweißt sind. Sind aber einseine Isolierstoff-schichten oder die Isolierstoffschichten insgesamt zu dick, .so* wird empfohlen, die Metalleiterbahnen über einen oder mehrere Metallhilfskörper miteinander.zu. verschweißen.It is particularly advantageous if the metal conductor tracks are welded directly to one another. But are one of its layers of insulating material or the insulation layers are too thick overall, so * It is recommended that the metal traces be over one or more Metal auxiliary bodies with each other. weld.
Pur die Leiterbahnen- soll vorzugsweise ein Metall verwendet wer- . den, das mittels der Schweißelektroden deformierbar ist, d.h. daß dieses Metall eine gewisse Dehnbarkeit besitzt, wie es z.B. Kupfer zeigt ο ...A metal should preferably be used for the conductor tracks. that which can be deformed by means of the welding electrodes, i.e. that this metal has a certain ductility, such as copper, for example shows ο ...
Die Leiterbahnen können auf die Isolierstoffschicht'vorzugsweise * auf kaschiert sein. Sie können aber auch chemisch aufgetragen sein.,The conductor tracks can be attached to the insulating layer 'preferably * to be concealed. But they can also be applied chemically.,
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wenn als Isolierstoffschicht ein Material verwendet wird, das beim Schweißen im Bereich der Schweißstellen zerstört wird.if a material is used as the insulating layer that is destroyed during welding in the area of the welds.
Die Durchkontaktierung nach der g ist besonders dort von Vorteil, wo mindestens drei Isolierstoffschichten, die mit Metalleitorbahnen versehen sind, als geschichtete Trägerplatten vorhanden sind, wobei die Dicke jeder Isolierstoffschicht ca.Ö,1 mm und die Dicke der Leiterbahnen kleiner als 0,1mm sind. . ■'-./.The via after the g is especially there of Advantage where at least three layers of insulating material with metal gate strips are provided, are available as layered carrier plates, the thickness of each insulating material layer being about Ö, 1 mm and the thickness of the conductor tracks are less than 0.1 mm. . ■ '-. /.
Anhand der Figuren soll an einigen Beispielen die -:näher erläutert werden. ■ - _ ;. 'With the help of the figures, the -: closer explained. ■ - _;. '
Es zeigen die Figuren .'1,2 und 3 eine einlagige Isolierstoffschicht mit beidseitig aufgetragenen Metallschichten; Figur 4 zeigt eine Trägerplatte nach der mit drei Isolierstoffschichten und vier Metalleiterschiohten; Figur 5 zeigt eine Trägerplatte, bei der die Isolierstoffschicht stärker als bei den Figuren 1 bis 4 ist, wobei zur Verschweißung ein Hilfsträger verwendet ist. Figur 6 zeigt eine Draufsicht auf die Trägerplatte nach Figur 3. Alle Figuren geben nur den für die Durchkontaktierung wesentlichen Ausschnitt der Trägerplatte an.Figures 1, 2 and 3 show a single layer of insulating material with metal layers applied on both sides; FIG. 4 shows a carrier plate with three layers of insulating material and four metal conductor layers; FIG. 5 shows a carrier plate in which the insulating material layer is thicker than in FIGS. 1 to 4, an auxiliary carrier being used for welding. FIG. 6 shows a plan view of the carrier plate according to FIG. 3. All figures only indicate the cutout of the carrier plate that is essential for the through-hole plating.
In Figur 1 ist mit 1 die Isolierstoffschicht bezeichnet.,Diese ist beidseitig mit Metalleiterbahnen 2 und 3 versehen. Die Metalleiterbahnen reichen über die in der Isolierstoffschicht befindliche Öffnung 4 hinweg, so daß durch die Punktschweißelektro- In Figure 1, 1 denotes the insulating layer., This is provided with metal conductors 2 and 3 on both sides. The metal conductor tracks extend over the opening 4 located in the insulating material layer, so that the spot welding electro-
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den 5 und 6 die Metalleiterbahnen zueinander verfornit werden, wie dies in Figur 2 nach erfolgter Schweißung an der Schweißstelle 7 gezeigt ist. Figur 3 zeigt eine Öffnung 8 in der Schweißstelle 7, die als Kontaktloch für die Anschlüßteile von aufzubringenden elektrischen Bauteilen dient.5 and 6, the metal interconnects are deformed to one another, as this is shown in FIG. 2 after the welding at the welding point 7 has taken place. Figure 3 shows an opening 8 in the weld 7, which serves as a contact hole for the connecting parts of electrical components to be applied.
In Figur 4 sind drei Isolierstoffschichten 9,10 und 11 mit der jeweiligen Dicke d nach erfolgter Verschweißung der Metalleiterbahnen 13,14,15 und 16 in den Löchern 12, wobei in der Schweißstelle 17 ein Kontaktloch 18 vorgesehen ist. Die Metalleiterbahnen haben die Stärke e. Die Isolierstoffschicht 10 kann auch als Zwischenlage zwischen den beidseitig mit Leiterbahnen 13 und 14 bzw. 15,und 16 versehenen Isolierstoffschichten 9 bzw. 11 angesehen v/erden.In Figure 4 are three layers of insulation 9,10 and 11 with the respective thickness d after the metal conductor tracks 13, 14, 15 and 16 have been welded in the holes 12, with in the weld 17 a contact hole 18 is provided. The metal conductor tracks have the strength e. The insulating material layer 10 can also viewed as an intermediate layer between the insulating material layers 9 and 11 provided on both sides with conductor tracks 13 and 14 or 15 and 16, respectively v / earth.
Figur 5 zeigt einen Ausschnitt aus einer Trägerplatte nach der wobei eine Isolierstoffschicht 19 mit wesentlich größerer Dicke vorhanden ist. Diese Isolierstoffschicht ist mit Metalleiterbahnen 20 und 21 und einer öffnung 22 versehen, wobei die Metalleiterbahnen mit einem Metallhilfskörper 23 an den Stellen 24 und 25 verschweißt sind. In diese Verbindung ist ein Kontaktloch 26 gebohrt οFIG. 5 shows a section from a carrier plate according to which an insulating material layer 19 with a significantly larger one Thickness is present. This layer of insulation is made of metal conductors 20 and 21 and an opening 22, the metal conductor tracks with an auxiliary metal body 23 at the points 24 and 25 are welded. A contact hole 26 is drilled into this connection ο
Figur 6 zeigt eine Draufsicht auf Figur 3 und stellt einen Ausschnitt aus einer Trägerplatte nach der. - dar. Diese Draufsicht könnte auch für die Figuren 4 oder 5 gelten. Auf derFIG. 6 shows a plan view of FIG. 3 and represents a section from a carrier plate after the. This plan view could also apply to FIGS. 4 or 5. On the
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Isolierstoffschicht 1 verläuft eine Metalleiterbahn 2, die im Bereich der Durchkontaktierungsstelle verbreitert ist» Durch die Punktschweißelektroden ist die Metalleiterbahn etwas eingedrückt und an der Stelle 7 mit der Metalleiterbahn aus der nächsten Ebene verschweißt. In der Schweißstelle befindet sich das Kontaktloch 8.Insulating material layer 1 runs a metal conductor track 2 in the area the plated-through hole is widened »The metal conductor track is slightly dented by the spot welding electrodes and at point 7 with the metal conductor track from the next level welded. The contact hole 8 is located in the welding point.
Es ist überraschend, daß durch diese einfach durchzuführende Art der Durchkontaktierung eine Verbindung von Metalleiterbahnen verschiedener Ebenen hergestellt werden kann, die mit Sicherheit eine einwandfreie elektrische Verbindung garantiert. So kann z.B. mit Hilfe der Durchkontaktierung nach der eine etwa 1,1 mm starke Trägerplatte hergestellt werden, die aus zehn Isolierstoff-EÜiichten und dementsprechend elf. Metalleiterschichten besteht. Zur Herstellung dieser Trägerplatte geht man a.B. so vor, daß man in die Isolierstoffschichten entsprechend den Erfordernissen der Schaltung Löcher für die Durchkontaktierung einbringt und danach die Isolierstoffschichten mit Kupferfolien versieht» Danach werden aus den Kupferfolien die Leitungsbahnen durch chemisches Ätzen hergestellt, wobei dafür zu sorgen ist, daß von der Seite der Durchkontaktierungslöcher her keine Ätzung der Kupferfolie erfolgt, so daß die Durchkontaktierungslöcher wenigstens einseitig von der Metallfolie bedeckt bleiben. Bei beiäsitig mit Kupferfolien kaschierten Isolierstoffschichten oder -platten wird bereits durch Positivschablonen, die auf beiden Seiten in Form der Leiterbahnen z.B. aufgedruckt sind und die unter den Schäblon.enteilen befindlichen Folienteile vor dem Ätzmittel schützen,It is surprising that this type of through-hole plating, which is easy to carry out, enables a connection of metal interconnects of different types Levels can be made, which guarantees a perfect electrical connection with certainty. For example, with Help the via hole after the one about 1.1mm strong carrier plate can be produced, which consists of ten insulating material EÜiichten and eleven accordingly. Metal conductor layers is made. For the production of this carrier plate one goes a.B. so before that one in the insulating material layers according to the requirements of the Circuit introduces holes for the through-hole plating and then the layers of insulating material are provided with copper foils the conductor tracks are produced from the copper foils by chemical etching, whereby care must be taken that from the side no etching of the copper foil takes place since the plated-through holes, so that the plated-through holes are at least on one side remain covered by the metal foil. With copper foils laminated insulating material layers or panels already through positive stencils, which are printed on both sides in the form of the conductor tracks, for example, and which are divided under the template protect the foil parts from the etching agent,
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dafür gesorgt, daß das Ätzmittel nicht in die Durchkontaktierungslöcher eindringt. Bei einseitig mit Kupferfolie kaschierten Isolierstoff schichten oder -platten kann die Rückseite der Platte während des Ätzvorgangs z.B. mit einer Abdeckplatte versehen v/erden, wodurch dann das Ätzmittel ebenfalls nicht in die Löcher eindringen und die Kupferfolie von unten her angreifen kann. Andererseits ist es im Falle einseitig kaschierter Platten auch möglich, den Kleber, der die Kupferfolie an der Isolierstoffschicht hält, nicht auf die mit Bohrungen (Durchkontaktierungslöchern) versehene Schicht oder Platte sondern auf die Kupferfolie aufzuiragen, so daß über den Bohrungen die Rückseite der Kupferfolie durch den ätzresistenten Kleber, vor dem Ätzmittel geschützt wird. Die Isolierstoffschichten werden dann mit weiteren gleichartigen, entsprechend vorbereiteten Isolierstoffschichten, gegebenenfalls unter Zwischenlegen von Isolierfolien verklebt und gemeinsam durch Punktschweißen durchkontaktiert. Die Schweißung ist am leichtesten, wenn alle zu schweißenden Metallfolien gleich dick sind ο Diese mehrschichtige !Trägerplatte kann z.B. mit mehreren Aggregaten, in denen einzelne liiniaturbaugruppen der Elektronik zusammengefaßt sind, bestückt werden, weil nach der Br eine allen Anforderungen gerechtwerdende Durchkontaktierung entsteht»made sure that the etchant does not get into the vias penetrates. In the case of insulating material laminated with copper foil on one side or plates, the back of the plate During the etching process, e.g. provided with a cover plate, so that the etchant does not get into the holes either penetrate and attack the copper foil from below. On the other hand, it is also in the case of panels laminated on one side possible the glue that attaches the copper foil to the insulating material layer keeps, not on the layer or plate provided with bores (through-hole holes) but on the copper foil, so that the back of the copper foil is protected from the etchant by the etch-resistant adhesive over the bores will. The insulating material layers are then covered with other similar, appropriately prepared insulation layers, if necessary glued with the interposition of insulating foils and jointly through-contacted by spot welding. The weld is easiest if all the metal foils to be welded are of the same thickness ο This multi-layer! carrier plate can e.g. with several Aggregates in which individual linear assemblies of the electronics are summarized, are populated because after the Br a through-hole connection that meets all requirements arises »
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1963
- 1963-09-27 DE DE1963S0046570 patent/DE1920061U/en not_active Expired
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