[go: up one dir, main page]

DE19947174A1 - Mask holder with clamps on disc-shaped frame for exposure of semiconductor wafers in ion lithography - Google Patents

Mask holder with clamps on disc-shaped frame for exposure of semiconductor wafers in ion lithography

Info

Publication number
DE19947174A1
DE19947174A1 DE1999147174 DE19947174A DE19947174A1 DE 19947174 A1 DE19947174 A1 DE 19947174A1 DE 1999147174 DE1999147174 DE 1999147174 DE 19947174 A DE19947174 A DE 19947174A DE 19947174 A1 DE19947174 A1 DE 19947174A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
frame
holding
holding device
levers
lever
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE1999147174
Other languages
German (de)
Inventor
Ernst Haugeneder
Manfred Steinbach
Gerhard Stengl
Karl-Heinz Wesslau
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ims Ionen Mikrofabrikations Systems GmbH
Original Assignee
Ims Ionen Mikrofabrikations Systems GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ims Ionen Mikrofabrikations Systems GmbH filed Critical Ims Ionen Mikrofabrikations Systems GmbH
Publication of DE19947174A1 publication Critical patent/DE19947174A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/04Means for controlling the discharge
    • H01J2237/045Diaphragms
    • H01J2237/0456Supports
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175Lithography
    • H01J2237/31793Problems associated with lithography
    • H01J2237/31794Problems associated with lithography affecting masks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

The mask (3) is weld by clamps (2) on a disc-shaped frame (1). The clamps are held on the frame via levers (5,6,2) enabling their relative motion w.r.t. the frame. In the latter plane, the levers are formed from it by incisions (8), while the lever joints (9-13) are formed by narrow interruptions of the incisions. Preferably at least three positioning levers (5) are provided, each coupled by the first joint (9) to a clamp and to the frame by a second joint (10), with the positioning levers enabling the clamp motion in radial direction.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Halteeinrichtung für eine Maske, mit einem scheibenförmi­ gen Rahmen zur Halterung der Maske mittels mehrerer Klemmen.The invention relates to a holding device for a mask, with a disk-shaped frame for holding the mask using several clamps.

Masken zur Verwendung in der Halbleitertechnologie, beispielsweise für Ionenlithographie, müssen in Geräten zur Belichtung von Halbleiterwafern überaus präzise gehalten werden.Masks for use in semiconductor technology, for example for ion lithography, must be kept extremely precise in devices for the exposure of semiconductor wafers.

Dabei ist eine Maske, die im allgemeinen kreisförmig, oft folienartig ist, mit Hilfe der Klemmen in dem Rahmen gehalten, wobei man bestrebt ist, jedmögliche Deformationen der Maske zu vermeiden, da solche Deformationen zu einer entsprechenden fehlerhaften optischen Abbildung führen.Here is a mask, which is generally circular, often foil-like, with the help of the clamps held in the frame, endeavoring to prevent any deformation of the mask avoid such deformations to a corresponding faulty optical imaging to lead.

Mögliche Deformationen können beispielsweise in der Ebene der Maske in radialer und tan­ gentialer Richtung erfolgen, weiters sind Deformationen durch Verbiegungen in Richtung der Achse, d. h. senkrecht zur Maske möglich, auch Deformationen zufolge von Temperaturunter­ schieden der Halteeinrichtung und der Maske, Deformationen die durch Krempelelemente bei der Einspannung am Rand der Maske bedingt sind und schließlich auch Deformationen, die durch die unterschiedliche Lage der Halteeinrichtung samt Maske im Schwerefeld der Erde hervorgerufen werden.Possible deformations can, for example, in the plane of the mask in radial and tan potential direction, deformations are caused by bending in the direction of Axis, d. H. perpendicular to the mask possible, also due to deformations of temperature below distinguished the holding device and the mask, deformations due to carding elements the restraint at the edge of the mask and finally also deformations due to the different position of the holding device including the mask in the gravitational field of the earth are caused.

Wenngleich die Erfindung von einer Maske ausgeht, die in der Ionenlithographie der Herstel­ lung von Halbleiterwafern verwendet wird, soll unter "Maske" im Rahmen dieser Beschreibung jede dünne Struktur verstanden werden, bei welcher der erwähnte Kräfteausgleich notwendig ist, um eine bestimmte Geometrie der "Maske" nicht zu stören. Es kann sich demgemäß auch um Masken für andere Abbildungsverfahren handeln, gleichgültig ob diese mit Teilchen, wie Elektronen, Ionen oder mit Strahlung, wie Licht oder Röntgenstrahlen arbeiten. Ebenso muß es sich nicht um ein Transmissionsgebilde handeln, sondern es könnte auch unter "Maske" ein reflektierendes Gebilde verstanden werden, bei dem die genannten Anforderungen auftreten.Although the invention is based on a mask used in the ion lithography of the manufac development of semiconductor wafers is used under "mask" in the context of this description any thin structure can be understood, in which the aforementioned balancing of forces is necessary is so as not to disturb a certain geometry of the "mask". Accordingly, it can also are masks for other imaging processes, regardless of whether they are with particles, such as Electrons, ions or work with radiation such as light or X-rays. Likewise must it is not a transmission structure, but it could also be under "mask" reflective structure can be understood in which the requirements mentioned occur.

Auf einem weit entfernten Gebiet, nämlich dem Bau von Spiegelteleskopen ist eine Gewichts­ entlastung bekannt geworden, die auf Teleskopspiegel angewendet wird, um solche Spiegel schwerkraftsmäßig zu entlasten. Dabei sei verwiesen auf N. N. Michelson, "Optische Telesko­ pe, Theorie und Konstruktion" (Russ. Moskau) Verlag Nauka 1976. Bei einem dort gezeigten Spiegel, welcher einen Teleskopspiegel von 20/80 mm Durchmesser des McDonald Observato­ riums auf dem Mount Locke/U. S. A. zeigt, wirken Gegengewichte über Hebelmechanismen so auf den Spiegel, daß in jeder möglichen Spiegellage, die durch die Schwerkraft auftretenden Kräfte kompensiert werden. Es sind dabei axiale und radiale Entlastungssysteme mit entspre­ chenden Gegengewichten und Hebeln vorgesehen, die bewirken, daß mit zunehmendem Kippwinkel des Spiegels die Kraftwirkung der axialen Entlastungssysteme abnimmt, wogegen die Wirkung der radialen Entlastungssysteme zunimmt, bis schließlich bei senkrechter Lage des Spiegels, entsprechend einer waagrechten Lage der Spiegelachse, nur noch die radialen Ent­ lastungssysteme wirksam sind, wobei die Gewichtskraft aus den axialen Systemen dann aus­ schließlich von den Lagern der Entlastungshebel aufgenommen wird.In a far away area, namely the construction of mirror telescopes is a weight Relief has become known that is applied to telescopic mirrors to such mirrors to relieve gravity. Please refer to N. N. Michelson, "Optical Telesko pe, theory and construction "(Russ. Moscow) Verlag Nauka 1976. In one shown there Mirror, which is a 20/80 mm diameter telescopic mirror of the McDonald Observato riums on Mount Locke / U. S. A. shows that counterweights work via lever mechanisms on the mirror that in any possible mirror position that occurs due to gravity Forces are compensated. There are axial and radial relief systems with corresponding  provided counterweights and levers, which cause that with increasing Tilt angle of the mirror decreases the force effect of the axial relief systems, whereas the effect of the radial relief systems increases until finally when the Mirror, according to a horizontal position of the mirror axis, only the radial Ent load systems are effective, with the weight from the axial systems finally the relief lever is taken up by the bearings.

Entlastungssysteme der beschriebenen Art werden für große Spiegel mit Massen über 1.000 kg verwendet, wobei Genauigkeiten des Gleichgewichtszustandes in der Größenordnung von 0,1 bis 1 kg erreichbar sind. Dabei werden starre Teleskopspiegel vorausgesetzt, an welchen die Entlastungssysteme sicher befestigt werden können. Die Abmessungen der Spiegel erlauben das Eindringen von Löchern, bzw. können durch Ankleben oder Einfräsen Befestigungspunkte geschaffen werden. Die beschriebenen Entlastungssysteme lassen sich jedenfalls nicht für Halteeinrichtungen von Masken modifizieren, bzw. anwenden.Relief systems of the type described are used for large mirrors with masses over 1,000 kg used, with accuracies of the equilibrium state in the order of 0.1 up to 1 kg can be reached. Rigid telescopic mirrors are required, on which the Relief systems can be securely attached. Allow the dimensions of the mirrors the penetration of holes, or can be attached by gluing or milling attachment points be created. In any case, the relief systems described cannot be used for Modify or use mask holding devices.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Halteeinrichtung zu schaffen, welche bei Berücksichtigung der Abmessungen von Masken, welche beispielsweise Durchmesser zwi­ schen 150 und 300 mm aufweisen können, sowie der nur geringen möglichen Dicke des scheibenförmigen Rahmens, die sich in der Größenordnung von 6 bis 10 mm bewegt, eine Lagerung der Klemmen zu schaffen, welche eine Kräfteausgleich verschiedener unerwünschter Kräfte, wie oben bereits erwähnt, ermöglicht, wobei auch die geringe Größe der auftretenden Kräfte zu berücksichtigen ist.The invention has for its object to provide a holding device which Taking into account the dimensions of masks, which for example have diameters between rule 150 and 300 mm, and the only small possible thickness of the disc-shaped frame, which is in the order of 6 to 10 mm, a Storage of the clamps to create a balance of various undesirable forces Forces, as already mentioned above, enables the small size of the occurring Forces must be taken into account.

Diese Aufgabe läßt sich mit einer Halteeinrichtung der eingangs genannten Art erreichen, bei welcher gemäß der Erfindung die Klemmen bezüglich des Rahmens über Hebel gelagert sind, welche eine Relativbewegung der Klemmen bezüglich des Rahmens ermöglichen, die Hebel in der Ebene des Rahmens aus diesem durch sie begrenzende Ausschneidungen ausgebildet sind und Hebelgelenke von schmalen Unterbrechungen der Ausschneidungen gebildet sind.This object can be achieved with a holding device of the type mentioned at the beginning which according to the invention the clamps with respect to the frame are mounted on levers, which allow a relative movement of the clamps with respect to the frame, the levers in the plane of the frame are formed by cut-outs delimiting them and lever joints are formed by narrow interruptions in the cutouts.

Die Erfindung schafft ein Entlastungssystem, welches den besonderen Erfordernissen einer Maskenhalterung gerecht wird, und welches ermöglicht, daß Deformationen der Maske auf­ grund verschiedener Kräfte, beispielsweise durch Schwerkraft oder durch Temperaturunter­ schiede hervorgerufene Kräfte, kompensiert werden bzw. gar nicht auftreten. Ein weiterer Vorteil der Erfindung liegt darin, daß die radiale Ausdehnung der Halteeinrichtung auf das nötigste begrenzt bleibt und daß keine Lagerreibung und damit ein Partikelabrieb auftreten kann.The invention provides a relief system which meets the special requirements of a Mask holder meets, and which allows the mask to deform due to various forces, for example by gravity or by temperature sub different forces, are compensated or do not occur at all. Another Advantage of the invention is that the radial extension of the holding device on the essentials remains limited and that no bearing friction and thus particle abrasion occur can.

Eine zweckmäßige Variante der Erfindung zeichnet sich dadurch aus, daß zumindest drei Positionierhebel vorgesehen sind, die jeweils über ein erstes Gelenk mit einer Klemme und über ein zweites Gelenk mit dem Rahmen verbunden sind, wobei die Positionierhebel eine Bewe­ gung der Klemmen in radialer Richtung ermöglichen.An expedient variant of the invention is characterized in that at least three Positioning levers are provided, each via a first joint with a clamp and over  a second joint is connected to the frame, the positioning lever being a move allow the clamps to move in the radial direction.

Auf diese Weise läßt sich erreichen, daß die Klemmen in radialer Richtung auftretenden Kräf­ ten entsprechend nachgeben, sodass unerwünschte Kräfte von vornherein nicht auftreten können. In diesem Sinne ist es besonders empfehlenswert, wenn die Verbindung der Gelenke im wesentlichen tangential verläuft.In this way it can be achieved that the clamps occurring in the radial direction force Give in accordingly so that undesirable forces do not occur from the outset can. With this in mind, it is particularly advisable when connecting the joints is essentially tangential.

Dies ist weiters vorteilhaft, wenn die Hebel eine Relativbewegung der Klemmen bezüglich des Rahmens in dessen Ebene ermöglichen, da vor allem die in dieser Ebene auftretenden Kräfte zu berücksichtigen sind.This is also advantageous if the levers have a relative movement of the clamps with respect to the Enable frame in its level, because above all the forces occurring in this level are taken into account.

Im Sinne einer Kompensation von gravitationsbedingten Kräften in der Maske empfiehlt sich eine Ausführungsform, bei welcher zweiarmige Gewichtshebel vorgesehen sind, bei welchen ein erster Arm ein Gegengewicht bildet, und der zweite Arm in Wirkverbindung mit einer Klemme steht, und zwischen den Armen ein Gelenk ausgebildet ist, welches ein Verdrehen des Gewichtshebels in der Rahmenebene ermöglicht. Dabei ergibt sich eine einfache Ausführungs­ form, wenn der zweite Arm des Gewichtshebels über ein Gelenk mit dazugehörigen Klemmen verbunden ist.In the sense of a compensation of gravitational forces in the mask is recommended an embodiment in which two-armed weight levers are provided, in which a first arm forms a counterweight, and the second arm is operatively connected to one Clamp stands, and a joint is formed between the arms, which twists the Weight lever in the frame level allows. This results in a simple execution shape when the second arm of the weight lever has a joint with associated clamps connected is.

Andererseits wird es in vielen Fällen zweckmäßig sein, eine Ausbildung zu wählen, bei welcher der zweite Arm über zumindest einen Zwischenhebel an die Klemme angelenkt ist, da auf diese Weise sichergestellt ist, daß lediglich Kräfte in der Maskenebene eingeleitet werden.On the other hand, in many cases it will be useful to choose an apprenticeship where the second arm is articulated to the clamp via at least one intermediate lever because of this This ensures that only forces are introduced in the mask plane.

Positionierhebel können für sich alleine verwendet werden, oder es können sowohl Positionier­ hebel als auch Gewichtshebel vorgesehen sein. In vielen Fällen wird es jedoch zweckmäßig sein, wenn einer Klemme sowohl ein Positionierhebel, als auch ein Gewichtshebel zugeordnet ist, da sich auf diese Weise platzsparende Anordnungen erzielen lassen.Positioning levers can be used on their own, or both positioning lever and weight lever can be provided. In many cases, however, it becomes useful be when a clamp is assigned both a positioning lever and a weight lever is because space-saving arrangements can be achieved in this way.

Zum eigentlichen Festhalten der Maske bzw. ihres Randes empfiehlt es sich, wenn jede Klem­ me aus einer rahmenfesten Auflage und einem Federelement besteht, wobei die Maske mit ihrem Rand zwischen der rahmenförmigen Auflage und dem Federelement einklemmbar ist.To actually hold the mask or its edge, it is recommended that each clamp me consists of a fixed frame and a spring element, the mask with its edge can be clamped between the frame-shaped support and the spring element.

Durch Federelemente läßt sich nämlich eine genau definierte, noch dazu verhältnismäßig kleine Kraft festlegen, welche einerseits so groß ist, daß sie den jeweils geforderten Bedingungen, z. B. Rüttelbewegungen, genügt, und andererseits nicht so groß ist, daß zu unerwünschten Kräften am Maskenrand kommt, wie z. B. Krempelkräften. By means of spring elements, a precisely defined, and relatively small one at that can be achieved Determine force, which on the one hand is so large that it meets the respective required conditions, e.g. B. vibrations, is sufficient, and on the other hand is not so large that undesirable Forces at the edge of the mask come, such as. B. clutter forces.  

Zum Erleichtern des Einspannens der Maske ist es zweckmäßig, wenn das Federelement mit Hilfe eines Spreizmittels vorübergehend von der rahmenfesten Auflage abhebbar ist.To facilitate the clamping of the mask, it is useful if the spring element with With the help of a spreading device, it can be temporarily lifted off the frame-fixed support.

Im Sinne einer einfachen Ausführung kann das Spreizmittel dabei ein durch eine axiale Boh­ rung des Rahmens einsetzbarer Montagestift sein. Andererseits ist auch eine Ausführung möglich, bei welcher das Spreizmittel ein radial bewegbarer Montagestift mit einer kegeligen Endfläche ist, welcher mit einer Schrägfläche des Federelements zusammenwirkt. Auf diese Weise läßt sich, speziell wenn der Montagestift mittels einer Schraube bewegbar ist, ein sehr feiner Bewegungsablauf bewerkstelligen.In the sense of a simple embodiment, the expansion means can be an axial Boh of the frame can be used mounting pin. On the other hand, there is also an execution possible, in which the expanding means a radially movable mounting pin with a conical End surface is, which cooperates with an inclined surface of the spring element. To this Way, especially if the mounting pin is movable by means of a screw, a very Carry out fine movements.

Bei einer anderen praxisgerechten Ausführungsform ist vorgesehen, daß das Federelement ein federnder Drahtbügel ist, der zwischen zwei stabilen Stellungen, nämlich einer Offen- und einer Klemmstellung bewegbar ist.In another practical embodiment, it is provided that the spring element is a resilient wire bracket is between two stable positions, namely an open and one Clamp position is movable.

Zur Lösung der Aufgabe kann man weiters von einer Halteeinrichtung für eine Maske, mit einem scheibenförmigen Rahmen zur Halterung der Maske, bei welcher der Rahmen in ein Gerät einsetzbar ist und rahmenseitige Halte-/Positioniermittel vorgesehen sind, welche mit geräteseitigen Halte-/Positioniermitteln zusammenwirken, ausgehen, bei welcher gemäß der Erfindung vorgesehen ist, daß die rahmenseitigen Halte-/Positioniermittel an dem Rahmen über Hebel angelenkt sind, welche eine radiale Relativbewegung der Halte-/Positioniermittel bezüg­ lich des Rahmens ermöglichen, wobei die Hebel in der Ebene des Rahmens aus diesem durch sie begrenzende Ausschneidungen ausgebildet sind und Hebelgelenke von schmalen Unterbre­ chungen der Ausschneidungen gebildet sind.To solve the problem, one can also use a holding device for a mask a disc-shaped frame for holding the mask, in which the frame in one Device can be used and frame-side holding / positioning means are provided, which with device-side holding / positioning means interact, in which according to the Invention is provided that the frame-side holding / positioning means on the frame Levers are articulated, which relate to a radial relative movement of the holding / positioning means Lich of the frame allow, the levers in the plane of the frame from this they are formed cut-outs and lever joints of narrow widths cutouts are formed.

Auf diese Weise läßt sich eine radiale Beweglichkeit der rahmenseitigen Halte- /Positioniermittel bezüglich des Rahmens erreichen, welche den auftretenden Kräften gerecht wird, welche die Baugröße, insbesondere die radiale Ausdehnung der Halteeinrichtung nicht über Gebühr erweitert und welche wegen des Fehlens von auftretender Reibung zwischen Teilen auch jeglichen Partikelabrieb vermeidet, der in Hinblick auf die extremen Reinraum- Anforderungen äußerst unerwünscht wäre.In this way, a radial mobility of the frame-side holding / Reach positioning means with respect to the frame that are adequate for the forces that occur the size, in particular the radial extent of the holding device is not expanded unduly and which because of the lack of friction occurring between Parts also avoids any particle abrasion, which with regard to the extreme clean room Requirements would be extremely undesirable.

In der Praxis hat sich dabei eine Ausführungsform als vorteilhaft erwiesen, bei welcher die Hebel in Umfangsrichtung gesehen, zu beiden Seiten eines Halte-/Positioniermittels angeordnet sind.In practice, an embodiment in which the Lever seen in the circumferential direction, arranged on both sides of a holding / positioning means are.

Für eine gute radiale Führung des rahmenseitigen Halte-/Positioniermittels bezüglich des Rahmens empfiehlt sich auch eine Ausführungsform, bei welcher mehrere Hebel parallel zu einander angeordnet sind. For good radial guidance of the frame-side holding / positioning means with respect to the Framework is also recommended an embodiment in which several levers in parallel are arranged one another.  

Auch im Sinne einer vereinfachten Herstellung ist es zweckmäßig, wenn die Halte- /Positioniermittel eine über die Hebel an dem Rahmen angelenkten Halteabschnitt des Rahmens aufweisen, sodass sich dieser Halteabschnitt bezüglich des Rahmens in radialer Richtung bewegen kann. An einem solche Halteabschnitt kann ein Halteflansch befestigt sein, welcher mit einem Halte-/Positioniermittel des Gerätes zusammen wirkt und aus einem entsprechenden Material, das ein anderes als jenes des Rahmens sein kann, hergestellt ist.Also in the sense of a simplified production, it is expedient if the holding / Positioning means a holding section of the frame articulated to the frame via the levers have, so that this holding portion with respect to the frame in the radial direction can move. A holding flange can be attached to such a holding section interacts with a holding / positioning device of the device and from a corresponding one Material that may be other than that of the frame is made.

Um eine einfache und genaue Justierung in dem Gerät zu erhalten, ist es vorteilhaft, wenn der Halteflansch eine kegelstumpfförmige Ausnehmung besitzt, die einem gerätefesten Vorsprung zugeordnet ist. Dieser Vorsprung kann - gleichfalls im Sinne einer genauen Positionierung - eine Kugel sein.In order to obtain a simple and precise adjustment in the device, it is advantageous if the Retaining flange has a frustoconical recess, which has a device-fixed projection assigned. This advantage can - also in terms of precise positioning - be a ball.

Um das erforderliche Justieren der Maske zu ermöglichen, ist es empfehlenswert, wenn die Lage des rahmenseitigen Halte-/Positioniermittels bezüglich des Rahmens mit Hilfe von Jus­ tiermitteln voreinstellbar ist. Dabei können als Justiermittel beispielsweise Unterlagsstücke, Stellschrauben od. dgl. verwendet werden.To enable the required adjustment of the mask, it is recommended that the Position of the frame-side holding / positioning means with respect to the frame using jus animal funds can be preset. For example, underlay pieces, Set screws or the like can be used.

Die Erfindung samt weiterer Vorteile ist im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen zeigenThe invention together with further advantages is as follows with reference to the drawings explained in more detail. Show in the drawings

Fig. 1 eine schematische Vorderansicht einer Halteeinrichtung gemäß der Erfindung, Fig. 1 is a schematic front view of a holder according to the invention,

Fig. 2 in einem Ausschnitt und in schematischer Vorderansicht einen Randbereich einer Maske und daran angreifender Klemme und einem Gewichtshebel Fig. 3 eine Darstellung wie Fig. 2, jedoch mit einem kombinierten Gewichts- und Positionier­ hebel, Fig. 2 in a section and in a schematic front view of an edge portion of a mask and it attacking terminal and a weight lever FIG. 3 is a representation as in FIG. 2, but lever with a combined weight and positioning,

Fig. 4 in einer schematischen, jedoch nur teilweisen Vorderansicht eine weitere Ausfüh­ rungsform der erfindungsgemäßen Einrichtung mit Gewichts- und Positionierhebeln, Fig. 4 is a schematic, but only partial front view of a further exporting approximate shape of the device of the invention with weight and Positionierhebeln,

Fig. 5 in einer Darstellung wie Fig. 4 Zwillingsanordnungen von Gewichts- und Positionier­ hebeln, Fig. 5 pry in a view similar to Fig. 4 twin arrays of weight and positioning,

Fig. 6 in einer teilweisen Vorderansicht eine Einrichtung gemäß der Erfindung in einer weiteren Variante mit einer platzsparenden Anordnung von Gewichts- und Positio­ nierhebeln, Figure in a partial front view nierhebeln. 6 shows a device according to the invention in a further variant with a space-saving arrangement of weight and positio,

Fig. 7 in schematischer Draufsicht einen Teil einer Halteeinrichtung nach der Erfindung im Bereich einer Klemme, Fig. 7 shows a schematic plan view of a part of a holding device according to the invention in the region of a clamp,

Fig. 8 in einen Radialschnitt durch einen Teil einer erfindungsgemäßen Einrichtung im Klemmenbereich, Fig. 8 in a radial section through part of a device according to the invention in the clamping region,

Fig. 9 eine Darstellung wie Fig. 8, jedoch mit einem besonderen Biegegelenk, Fig. 9 is a view like Fig. 8, however, with a special flexure

Fig. 10 einen Schnitt ähnlich Fig. 8 und 9, jedoch bei einer anderen Variante, Fig. 10 is a section similar to FIG. 8 and 9, but, in another variant

Fig. 11 eine Draufsicht auf einen Schnitt der erfindungsgemäßen Einrichtung im Bereich einer Klemme, Fig. 11 is a plan view of a section of the inventive device in the region of a clamp,

Fig. 12 einen Schnitt längs der Linie 12-12 der Fig. 11, Fig. 12 shows a section along line 12-12 of Fig. 11,

Fig. 13 eine schematische Vorderansicht auf einen 90° Ausschnitt einer erfindungsgemäßen Einrichtung in einer weiteren Variante mit einer besonderen Lagerung der Halte- /Positioniermittel, und Fig. 13 is a schematic front view of a 90 ° section of a device according to the invention in a further variant with a special storage of the holding / positioning means, and

Fig. 14 einen Schnitt längs der Linie 14-14 der Fig. 13. FIG. 14 shows a section along line 14-14 of FIG. 13.

In Fig. 1 ist eine Halteeinrichtung nach der Erfindung dargestellt, die aus einem scheibenförmi­ gen Rahmen 1 besteht, welcher an seiner inneren Umrahmung Klemmen 2 aufweist, mit deren Hilfe eine Maske 3, hier als Ring dargestellt, gehalten werden soll.In Fig. 1, a holding device according to the invention is shown, which consists of a scheibenförmi gene frame 1 , which has clamps 2 on its inner frame, with the help of which a mask 3 , shown here as a ring, is to be held.

Der Rahmen 1 weist noch rahmenseitige Halte-/Positioniermittel 4 auf, die in Fig. 1 nur ange­ deutet sind, und deren Funktion und Aufbau weiter unten zu erläutern ist.The frame 1 also has frame-side holding / positioning means 4 , which are only indicated in FIG. 1, and whose function and structure is to be explained below.

Die Maske 3 ist bei der dargestellten Ausführungsform an insgesamt neun Klemmen 2 gehal­ ten. Drei dieser Klemmen sind mit Positionierhebeln 5 verbunden und sechs der Klemmen 2 sind über Zwischenhebel 6 mit Gewichtshebeln 7 verbunden. Auf die Konstruktion dieser Hebelanordnungen wird nun im folgenden näher eingegangen.In the embodiment shown, the mask 3 is held at a total of nine terminals 2. Three of these terminals are connected to positioning levers 5 and six of the terminals 2 are connected to weight levers 7 via intermediate levers 6 . The construction of these lever arrangements will now be discussed in more detail below.

Sämtliche Hebel 5, 6 und 7 sind in der Ebene des Rahmens 1 aus diesen durch Ausschneidun­ gen 8 gebildet, wobei Hebelgelenke 9, 10, 11, 12 und 13 von schmalen Unterbrechungen der Ausschneidungen erzeugt sind.All levers 5 , 6 and 7 are formed in the plane of the frame 1 from these by cutouts 8 , lever joints 9 , 10 , 11 , 12 and 13 being produced by narrow interruptions in the cutouts.

Die Ausschneidungen 8 werden beispielsweise durch Drahterodieren des plattenförmigen, verhältnismäßig dünnen Rahmens 1 hergestellt. Ob die Enden der entsprechenden Schnitte an den Gelenken in vergrößerten Öffnungen auslaufen, wie hier meist dargestellt, oder nicht, ist eine Frage der Herstellungstechnologie sowie der Dimensionierung der Gelenke bezüglich der Steifigkeit in den verschiedenen Freiheitsgraden. Im Großen und Ganzen läßt sich feststellen, daß die Gelenke de facto Gelenkachsen aufweisen, die im Gelenk senkrecht zu dem Rahmen 1 bzw. zu der Ebene der Ausschneidungen 8 stehen, sodass beispielsweise der Positionierhebel 5 um das Gelenk 10 in Richtung des Pfeils in der Rahmenebene verschwenkbar ist, wodurch, dank der Anlenkung des Hebels 5 im Gelenk 9 an die Klemme 2, diese Klemme in radialer Richtung beweglich ist. The cutouts 8 are produced, for example, by wire erosion of the plate-shaped, relatively thin frame 1 . Whether or not the ends of the corresponding cuts at the joints end in enlarged openings, as is usually shown here, is a question of the manufacturing technology and the dimensioning of the joints with regard to the rigidity in the various degrees of freedom. On the whole, it can be stated that the joints have de facto joint axes which are perpendicular to the frame 1 or to the plane of the cutouts 8 in the joint, so that, for example, the positioning lever 5 around the joint 10 in the direction of the arrow in the plane of the frame is pivotable, which, thanks to the articulation of the lever 5 in the joint 9 to the clamp 2 , this clamp is movable in the radial direction.

Bereits die Verwendung der an die Klemmen 2 über Gelenke 9 angelenkten Positionierhebel 5 ermöglicht einen hervorragenden Kräfteausgleich innerhalb der Maske 3 entsprechend der eingangs gestellten Aufgabe.Already the use of the positioning levers 5 articulated on the clamps 2 via joints 9 enables an excellent balance of forces within the mask 3 in accordance with the task set out above.

Oft ist auch ein Ausgleich der im Schwerefeld der Erde bei unterschiedlichen Lagen der Maske auftretenden Kräfte gewünscht und hier bieten die Gewichtshebel 7 die entsprechende Entlas­ tung. Diese Gewichtshebel 7 sind zweiarmig, wobei die beiden Arme (7a, 7b) um das Gelenk 13 in der Rahmenebene verdrehbar sind. Der erste Arm 7a bildet dabei ein Gegengewicht, welches über den zweiten Hebelarm 7b und über das Gelenk 12 auf den Zwischenhebel 6 wirkt, welcher über das Gelenk 11 an einer Klemme 2 angelenkt ist. Bei radialsymmetrischer Anordnung der Gewichtshebel wird sich in jeder vertikalen Lage der Maske die gewünschte Gewichtsentlastung ergeben. Der hauptsächlichste Fall ist in der Praxis jener, bei welcher die Maske aus einer zunächst horizontalen Lage in eine vertikale Lage in ein Gerät eingebracht Wird.Often, a compensation of the forces occurring in the gravitational field of the earth at different positions of the mask is desired and here the weight levers 7 offer the corresponding relief. These weight levers 7 have two arms, the two arms ( 7 a, 7 b) being rotatable about the joint 13 in the plane of the frame. The first arm 7 a forms a counterweight which acts via the second lever arm 7 b and via the joint 12 on the intermediate lever 6 , which is articulated on a clamp 2 via the joint 11 . With a radially symmetrical arrangement of the weight levers, the desired weight relief will result in every vertical position of the mask. In practice, the most important case is that in which the mask is inserted from an initially horizontal position into a vertical position in a device.

Wie ersichtlich, sind sowohl die Gewichtshebel 7, als auch die Positionierhebel 5 im wesentli­ chen tangential angeordnet. Wenn dies auch nicht Voraussetzung ist, so ist es jedenfalls zweckmäßig, wenn die Wirkungslinien der genannten Hebel im wesentlichen tangential ver­ laufen, was einerseits für den Kräfteausgleich von nicht unwesentlicher Bedeutung ist und da dadurch andererseits die Breite des Rahmens 1 (immer in radialer Richtung gesehen) nicht zu groß wird.As can be seen, both the weight lever 7 and the positioning lever 5 are arranged tangentially in wesentli Chen. If this is also not a prerequisite, it is in any case expedient if the lines of action of the levers mentioned are essentially tangential ver, which on the one hand is not insignificant for the balancing of forces and on the other hand thereby the width of the frame 1 (always seen in the radial direction ) doesn't get too big.

In Fig. 1 ist dargestellt, daß die Gewichtshebel 7 über einen Zwischenhebel 6 mit der zugehöri­ gen Klemme 2 verbunden sind, doch kann bei nicht dargestellten Ausführungen der Zwischen­ hebel 6 auch entfallen, wobei dann der zweite Arm 7b des Gewichtshebels 7 mit der zugehöri­ gen Klemme 2 über ein Gelenk, ähnlich den Gelenken 9 bei den Positionierhebeln, verbunden ist. Die Ausführung mit einem Zwischenhebel 6 ist in Fig. 2 in vergrößertem Maßstab darge­ stellt, bei welcher man doch deutlicher die schmalen Unterbrechungen der Ausschneidungen 8 erkennt, welche die Gelenke 11, 12 und 13 bilden.In Fig. 1 it is shown that the weight lever 7 are connected via an intermediate lever 6 to the associated clamp 2 , but can also be omitted in embodiments not shown, the intermediate lever 6 , in which case the second arm 7 b of the weight lever 7 with the associated gene clamp 2 is connected via a joint, similar to the joints 9 in the positioning levers. The version with an intermediate lever 6 is shown in Fig. 2 on an enlarged scale Darge, in which one can clearly see the narrow interruptions of the cutouts 8 , which form the joints 11 , 12 and 13 .

Fig. 3 zeigt ein kombiniertes Hebelsystem, bei welchem an einer Klemme 2 sowohl ein Positi­ onierhebel 5 - über ein Gelenk 9 - als auch ein Gewichtshebel 7 mittels eines Zwischenhebels 6 angreifen, wobei der Hebel 6 über ein Gelenk 11 an der Klemme 2 angreift. Das System wie in Fig. 3 gezeigt, ist letztlich nichts anderes als eine Kombination der beiden in Fig. 1 gezeigten Hebeltypen, und es ist klar, daß eine solche Zusammenfassung zu einer kompakteren Bauweise der Halteeinrichtung führen kann. Fig. 3 shows a combined lever system, wherein at a terminal 2, both a positi onierhebel 5 - attack as well as a weight lever 7 by means of an intermediate lever 6, the lever 6 engages the terminal 2 via a joint 11 - by a joint 9. The system as shown in Fig. 3 is ultimately nothing more than a combination of the two types of levers shown in Fig. 1, and it is clear that such a combination can lead to a more compact construction of the holding device.

Die Ausführung nach Fig. 4 zeigt paarweise, spiegelsymmetrisch zueinander angeordnete Gewichtshebel 7, die je über Zwischenhebel 6 auf eine Klemme 2 wirken. Zwischen solchen Paaren von Gewichtshebeln befinden sich die bereits zuvor dargestellten und beschriebenen Positionierhebel 2.The embodiment according to FIG. 4 shows weight levers 7 arranged in pairs, mirror-symmetrical to each other, each acting on a clamp 2 via intermediate lever 6 . The positioning levers 2 already shown and described are located between such pairs of weight levers.

Eine andere Ausführungsform, gleichfalls mit paarweise angeordneten Gewichtshebeln zeigt Fig. 5, doch greifen hier je zwei Gewichtshebel gemeinsam an einer Klemme 2 an. Es ist an dieser Stelle anzumerken, daß man im Sinne einer zwangsfreien Positionierung drei Positio­ nierhebel 5 verwenden wird. Bei der dargestellten Ausführungsform sind die Positionierhebel 5 in Hebelpaare (links und rechts in Fig. 5) integriert. Die Anzahl der Gewichtshebel 7 kann hingegen wesentlich größer sein, sodass Ausführungsformen mit beispielsweise zwölf Ge­ wichtshebeln 7 und drei Positionierhebeln 5 auch praxisgerecht sein können.Another embodiment, likewise with weight levers arranged in pairs, is shown in FIG. 5, but here two weight levers engage together on a clamp 2 . It should be noted at this point that three positioning levers 5 will be used for positive positioning. In the embodiment shown, the positioning levers 5 are integrated in pairs of levers (left and right in FIG. 5). The number of weight levers 7 , on the other hand, can be significantly larger, so that embodiments with, for example, twelve weight levers 7 and three positioning levers 5 can also be practical.

Bei der Ausführung nach Fig. 6, greift an der im oberen Teil gezeigten Klemme 2 ein Ge­ wichtshebel 7 über einen Zwischenhebel 6 an, wogegen an der im unteren Teil der Fig. 6 gezeigten Klemme 2 sowohl ein Gewichtshebel 7 über einen Zwischenhebel 6 als auch ein Positionierhebel 5 angreifen. Bei dieser Ausführungsform sind insgesamt sechs Klemmen 2 vorhanden, dabei jedoch drei Positionierhebel 5 und sechs Gewichtshebel 7.In the embodiment of Fig. 6, engages in the position shown in the upper part of terminal 2, a Ge weight lever 7 via an intermediate lever 6 on, while at the position shown in the lower part of FIG. 6 terminal 2 in both a weight lever 7 via an intermediate lever 6 and attack a positioning lever 5 . In this embodiment there are a total of six clamps 2 , but three positioning levers 5 and six weight levers 7 .

Die in Fig. 7 dargestellte Ausführung zeigt, daß die Gelenke 11 am Ende des Gewichtshebels 7 mitten in den Bereich der Klemmen 2 gesetzt werden. Diese Ausbildung führt zu einer völligen Vermeidung von unerwünschten Drehmomenten an den Klemmen 2. Die in Fig. 7. gezeigte Klemme besitzt ein Federelement 14, wobei die Maske 3 zwischen diesem Federelement 14 und einer rahmenfesten Auflage 15 gehalten ist, was später noch genauer gezeigt wird. In Fig. 7 ist überdies noch eine kegelige Bohrung 16 zu erkennen, in welche ein hier nicht gezeigter kegelförmiger Stift eingesetzt werden kann, um die Klemme 2 bezüglich des Rahmens 1 im Transport-, Montage- und Justierzustand zu fixieren. Da die hier ausgebildeten Festkörperge­ lenke zur Vermeidung störender Kräfte sehr weich gestaltet sein müssen, würden sich die gelenkig verbundenen Teile bei nicht eingebautem Rahmen 1 ohne eine derartige Sicherung sehr unkontrolliert bewegen, was zu Beschädigungen führen könnte.The embodiment shown in Fig. 7 shows that the joints 11 are placed at the end of the weight lever 7 in the middle of the area of the terminals 2 . This training leads to a complete avoidance of undesired torques at the terminals 2 . The clamp shown in FIG. 7 has a spring element 14 , the mask 3 being held between this spring element 14 and a frame-fixed support 15 , which will be shown in more detail later. In Fig. 7 nor a tapered bore 16 is also seen in which a not shown here cone-shaped pin can be inserted in order to fix the terminal 2 of the frame 1 in the transport, assembly and adjustment state respect. Since the solid state joints formed here must be designed to be very soft to avoid disturbing forces, the articulated parts would move very uncontrolled if the frame 1 was not installed without such a securing device, which could lead to damage.

In der Schnittzeichnung nach Fig. 8 erkennt man wiederum ein Federelement 14, hier eine Blattfeder, welches mit zwei Schrauben 17 an dem Rahmen 1 befestigt ist, wobei zwischen das freie Ende dieses Federelementes 14 und eine rahmenfeste Auflage 15, die hier ein einsetzbarer Stift ist, die Maske 3 eingespannt ist. Zum Einbringen bzw. Entfernen der Maske 3 kann das Federelement 14 mit Hilfe eines Montagestiftes 18, der eine axiale Bohrung 19 durchsetzt, vorübergehend von der Maske abgehoben werden, sodass diese freigegeben ist. In the sectional drawing of FIG. 8 is, in turn, recognizes a spring element 14, here a leaf spring which is secured by two screws 17 to the frame 1, wherein between the free end of this spring element 14 and a frame-fixed support 15, which is an insertable pin here , the mask 3 is clamped. To insert or remove the mask 3 , the spring element 14 can be temporarily lifted off the mask with the aid of a mounting pin 18 which penetrates an axial bore 19 , so that the mask is released.

Auch bei der Ausführung nach Fig. 9 ist ein solcher Montagestift 18 als Spreizmittel für das Federelement 14 vorgesehen, doch unterscheidet sich die hier gezeigte Ausführungsform von der vorhergehenden dadurch, daß hier im Rahmen 1 ein Biegegelenk 20 durch Verdünnung des Materials des Rahmens ausgebildet ist. Dieses Biegegelenk 20 überträgt Radialkräfte mehr oder weniger ungehindert, erlaubt jedoch Biegebewegungen.Also in the embodiment of Fig. 9, such a mounting pin 18 is provided as spreading means for the spring element 14, but the embodiment of the preceding shown here differs in that a flex joint is formed by thinning of the material of the frame 20. Here in the frame 1. This bending joint 20 transmits radial forces more or less unhindered, but allows bending movements.

Die Ausführung nach Fig. 10 zeigt ein anderes Spreizelement für ein Federelement 14. Hier ist ein radial beweglicher Montagestift 21 mit einer kegeligen Endfläche 22 vorgesehen, wobei diese Endfläche 22 mit einer Schrägfläche 23 des Federelements 14 zusammenwirken kann. Wird der Stift 21, beispielsweise durch eine Schraubbewegung, in Richtung der Schrägfläche 23 bewegt, so hebt das Endstück des Federelementes 14 von der Maske 3 ab und gibt diese frei.The embodiment of FIG. 10 shows another expander member for a spring element 14. Here, a radially movable mounting pin 21 is provided with a conical end surface 22 , which end surface 22 can interact with an inclined surface 23 of the spring element 14 . If the pin 21 is moved , for example by a screwing movement, in the direction of the inclined surface 23 , the end piece of the spring element 14 lifts off the mask 3 and releases it.

Eine andere Ausgestaltung des Federelementes ist in den Fig. 11 und 12 gezeigt. Hier besteht das Federelement aus einem federnden Drahtbügel 24, welcher mit zwei umgebogenen Enden 25, 26 mit Hilfe eines Halteblocks 27 und zweier Schrauben 28 an dem Rahmen 1 festge­ klemmt ist. Dieser Drahtbügel besitzt zwei stabile Stellungen, nämlich eine Stellung, in welcher er, wie am besten aus Fig. 12 ersichtlich, die Maske 3 gegen eine rahmenfeste Auflage 15 drückt, sowie eine zweite Lage, in welcher das radial innere Ende des Drahtbügels von der Maske 3 abgehoben ist. Das Bewegen des Drahtbügels 24 zwischen diesen beiden Lagen kann mit Hilfe geeigneter Werkzeuge erfolgen, die beispielsweise auch an einem - hier nicht gezeig­ ten - verlängerten Ende 25 oder 26 des Drahtbügels 24 angreifen können.Another configuration of the spring element is shown in FIGS. 11 and 12. Here, the spring element consists of a resilient wire bracket 24 which is clamped with two bent ends 25 , 26 with the aid of a holding block 27 and two screws 28 on the frame 1 . This wire bracket has two stable positions, namely a position in which, as can best be seen from FIG. 12, it presses the mask 3 against a frame-fixed support 15 , and a second position in which the radially inner end of the wire bracket of the mask 3 is lifted off. The movement of the wire bracket 24 between these two layers can be carried out with the aid of suitable tools which, for example, can also engage on an extended end 25 or 26 of the wire bracket 24 - not shown here.

Die Ausführung nach Fig. 13 und 14 zeigt die Befestigung von rahmenseitigen Halte- /Positioniermitteln, wenngleich in Fig. 13 auch eine andere Ausbildung des Hebelsystems gezeigt ist, auf die jedoch hier nicht näher eingegangen wird. Der Rahmen 1 besitzt an seinem Umfang drei Halteabschnitte 29 des Rahmens 1, von welchen hier nur einer gezeigt ist, wobei ein solcher Halteabschnitt 29 über Hebel 30 an dem Rest des Rahmens angelenkt ist. Die Hebel 30 sind in der Ebene des Rahmens 1 aus diesem durch sie begrenzende Ausschneidungen 31 ausgebildet, wobei Hebelgelenke 32 von schmalen Unterbrechungen dieser Ausschneidungen erzeugt sind. Die Ausbildung der Hebel 30 entspricht daher auch der Ausbildung der Positio­ nierhebel 5 zwischen Hebel 6 und Gewichtshebel 7, welche bereits weiter oben beschreiben wurden. Die Hebel 30 in Fig. 13 sind zu beiden Seiten des Halteabschnitts 29, jeweils sieben parallel zueinander, angeordnet.The embodiment according to FIGS. 13 and 14 shows the fastening of holding / positioning means on the frame side, although another embodiment of the lever system is also shown in FIG. 13, but this is not dealt with in any more detail here. The frame 1 has on its periphery three holding sections 29 of the frame 1 , only one of which is shown here, such a holding section 29 being articulated via levers 30 to the rest of the frame. The levers 30 are formed in the plane of the frame 1 from cut-outs 31 delimiting them, lever joints 32 being produced by narrow interruptions in these cut-outs. The formation of the lever 30 therefore corresponds to the formation of the positioning lever 5 between lever 6 and weight lever 7 , which have already been described above. The levers 30 in FIG. 13 are arranged on both sides of the holding section 29 , in each case seven parallel to one another.

Auf dem Halteabschnitt 29 ist mit Hilfe von Schrauben 33 eine Halteflansch 34 befestigt, der eine kegelstumpfförmige Ausnehmung 35 besitzt (siehe Fig. 14). Wenn die gesamte Halteein­ richtung für die Maske 3 in ein Gerät, z. B. ein solches zur Ionenlithographie, eingesetzt werden soll, wirkt die kegelstumpfförmige Ausnehmung 35 mit einem gerätefesten Vorsprung, wie einer hier angedeuteten Kugel 36 zusammen, wodurch sich eine gute Zentrierung der gesamten Halteeinrichtung ergibt. Es sei an dieser Stelle noch erwähnt, daß die Lage der rahmenseitigen Halte-/Positioniermittel, hier der Haltflansch 34, bezüglich des Rahmens 1 mit Hilfe von Justiermitteln voreinstellbar ist. Im vorliegenden Fall sind als Justiermittel entspre­ chende Beilagen 37 vorgesehen, doch kann die Justierung auch kontinuierlich durch Justier­ schrauben oder dergleichen erfolgen.A holding flange 34 is fastened on the holding section 29 by means of screws 33 and has a frustoconical recess 35 (see FIG. 14). If the entire holding device for the mask 3 in one device, for. B. such a for ion lithography, the frustoconical recess 35 acts together with a fixed projection, such as a ball 36 indicated here, resulting in a good centering of the entire holding device. At this point it should also be mentioned that the position of the frame-side holding / positioning means, here the holding flange 34 , can be preset with respect to the frame 1 with the aid of adjusting means. In the present case, corresponding supplements 37 are provided as adjusting means, but the adjustment can also be made continuously by adjusting screws or the like.

Claims (21)

1. Halteeinrichtung für eine Maske, mit einem scheibenförmigen Rahmen (1) zur Halterung der Maske (3) mittels mehrerer Klemmen (2),
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klemmen (2) bezüglich des Rahmens (1) über Hebel (5, 6, 2) gelagert sind, welche ei­ ne Relativbewegung der Klemmen bezüglich des Rahmens ermöglichen,
die Hebel in der Ebene des Rahmens aus diesem durch sie begrenzende Ausschneidungen (8) ausgebildet sind und Hebelgelenke (9, 10, 11, 12, 13) von schmalen Unterbrechungen der Ausschneidungen gebildet sind.
1. holding device for a mask, with a disk-shaped frame ( 1 ) for holding the mask ( 3 ) by means of several clamps ( 2 ),
characterized in that
the clamps ( 2 ) are mounted with respect to the frame ( 1 ) via levers ( 5 , 6 , 2 ), which enable a relative movement of the clamps with respect to the frame,
the levers are formed in the plane of the frame from the cutouts ( 8 ) delimiting them and lever joints ( 9 , 10 , 11 , 12 , 13 ) are formed by narrow interruptions in the cutouts.
2. Halteeinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest drei Positi­ onierhebel (5) vorgesehen sind, die jeweils über ein erstes Gelenk (9) mit einer Klemme (2) und über ein zweites Gelenk (10) mit dem Rahmen (1) verbunden sind, wobei die Po­ sitionierhebel eine Bewegung der Klemmen in radialer Richtung ermöglichen.2. Holding device according to claim 1, characterized in that at least three positioning levers ( 5 ) are provided, each having a first joint ( 9 ) with a clamp ( 2 ) and a second joint ( 10 ) with the frame ( 1 ) are connected, wherein the positioners allow movement of the clamps in the radial direction. 3. Halteeinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung der Gelenke (9, 10, 12, 13) im wesentlichen tangential verläuft.3. Holding device according to claim 1 or 2, characterized in that the connection of the joints ( 9 , 10 , 12 , 13 ) is substantially tangential. 4. Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Hebel (5, 6, 7) eine Relativbewegung der Klemmen (2) bezüglich des Rahmens (1) in des­ sen Ebene ermöglichen.4. Holding device according to one of claims 1 to 3, characterized in that the levers ( 5 , 6 , 7 ) allow a relative movement of the terminals ( 2 ) with respect to the frame ( 1 ) in the sen plane. 5. Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass zweiarmige Gewichtshebel (7) vorgesehen sind, bei welchen ein erster Arm (7a) ein Ge­ gengewicht bildet, und der zweite Arm (7b) in Wirkverbindung mit einer Klemme (2) steht, und zwischen den Armen (7a, 7b) ein Gelenk (13) ausgebildet ist, welches ein Ver­ drehen des Gewichtshebels in der Rahmenebene ermöglicht.5. Holding device according to one of claims 1 to 4, characterized in that two-armed weight levers ( 7 ) are provided, in which a first arm ( 7 a) forms a Ge counterweight, and the second arm ( 7 b) in operative connection with a clamp ( 2 ) stands, and between the arms ( 7 a, 7 b) a joint ( 13 ) is formed, which allows the weight lever to rotate in the plane of the frame. 6. Halteeinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Arm (7b) des Gewichtshebels (7) über ein Gelenk mit der zugehörigen Klemme (2) direkt verbunden ist.6. Holding device according to claim 5, characterized in that the second arm ( 7 b) of the weight lever ( 7 ) via a joint with the associated clamp ( 2 ) is directly connected. 7. Halteeinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Arm (7b) über zumindest einen Zwischenhebel (6) an die Klemme (2) angelenkt ist. 7. Holding device according to claim 5, characterized in that the second arm ( 7 b) is articulated via at least one intermediate lever ( 6 ) to the clamp ( 2 ). 8. Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4 und einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass einer Klemme (2) sowohl ein Positionierhebel (5) als auch ein Gewichtshebel (7) zugeordnet ist.8. Holding device according to one of claims 2 to 4 and one of claims 5 to 7, characterized in that both a positioning lever ( 5 ) and a weight lever ( 7 ) is assigned to a clamp ( 2 ). 9. Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass jede Klemme (2) aus einer rahmenfesten Auflage (15) und einem Federelement (14) besteht, wobei die Maske (3) mit ihrem Rand zwischen der rahmenförmigen Auflage und dem Fe­ derelement einklemmbar ist.9. Holding device according to one of claims 1 to 8, characterized in that each clamp ( 2 ) consists of a frame-fixed support ( 15 ) and a spring element ( 14 ), the mask ( 3 ) with its edge between the frame-shaped support and the Fe derelement can be pinched. 10. Halteeinrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Federelement (14) mit Hilfe eines Spreizmittels (18, 21) vorübergehend von der rahmenfesten Auflage (15) abhebbar ist.10. Holding device according to claim 9, characterized in that the spring element ( 14 ) with the aid of an expanding means ( 18 , 21 ) can be temporarily lifted off the frame-fixed support ( 15 ). 11. Halteeinrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Spreizmittel ein durch eine axiale Bohrung (19) des Rahmens (1) einsetzbarer Montagestift (18) ist.11. Holding device according to claim 10, characterized in that the expanding means is a through an axial bore ( 19 ) of the frame ( 1 ) insertable mounting pin ( 18 ). 12. Halteeinrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Spreizmittel ein radial bewegbarer Montagestift (21) mit einer kegeligen Endfläche (22) ist, welche mit ei­ ner Schrägfläche (23) des Federelements (14) zusammenwirkt.12. Holding device according to claim 10, characterized in that the expanding means is a radially movable mounting pin ( 21 ) with a conical end surface ( 22 ) which cooperates with an inclined surface ( 23 ) of the spring element ( 14 ). 13. Halteeinrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Feder­ element ein federnder Drahtbügel (24) ist, der zwischen zwei stabilen Stellungen, nämlich einer Offen- und einer Klemmstellung bewegbar ist.13. Holding device according to claim 9 or 10, characterized in that the spring element is a resilient wire bracket ( 24 ) which is movable between two stable positions, namely an open and a clamped position. 14. Halteeinrichtung für eine Maske (3), mit einem scheibenförmigen Rahmen (1) zur Halte­ rung der Maske, bei welcher der Rahmen in ein Gerät einsetzbar ist und rahmenseitige Halte-/Positioniermittel (34) vorgesehen sind, welche mit geräteseitigen Halte-/Positionier­ mitteln zusammenwirken,
dadurch gekennzeichnet, dass
die rahmenseitigen Halte-/Positioniermittel (34, 29) an dem Rahmen (1) über Hebel (30) angelenkt sind, welche eine radiale Relativbewegung der Halte-/Positioniermittel bezüglich des Rahmens ermöglichen,
wobei die Hebel (30) in der Ebene des Rahmens aus diesem durch sie begrenzende Aus­ schneidungen (31) ausgebildet sind und Hebelgelenke (32) von schmalen Unterbrechungen der Ausschneidungen gebildet sind.
14. Holding device for a mask ( 3 ), with a disc-shaped frame ( 1 ) for holding the mask, in which the frame can be inserted into a device and frame-side holding / positioning means ( 34 ) are provided, which with device-side holding / Interacting positioning means,
characterized in that
the frame-side holding / positioning means ( 34 , 29 ) are articulated on the frame ( 1 ) via levers ( 30 ), which enable a radial relative movement of the holding / positioning means with respect to the frame,
wherein the levers ( 30 ) are formed in the plane of the frame from this through cutouts ( 31 ) and lever joints ( 32 ) are formed by narrow interruptions in the cutouts.
15. Halteeinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Hebel (30) in Umfangsrichtung gesehen zu beiden Seiten eines Halte-/Positioniermittels (34, 29) ange­ ordnet sind.15. Holding device according to claim 14, characterized in that the levers ( 30 ) seen in the circumferential direction on both sides of a holding / positioning means ( 34 , 29 ) are arranged. 16. Halteeinrichtung nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Hebel (30) parallel zueinander angeordnet sind.16. Holding device according to claim 14 or 15, characterized in that a plurality of levers ( 30 ) are arranged parallel to one another. 17. Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Halte-/Positioniermittel (34) einen über die Hebel (30) an den Rahmen (1) angelenkten Halteabschnitt (29) des Rahmens aufweisen.17. Holding device according to one of claims 14 to 16, characterized in that the holding / positioning means ( 34 ) via the lever ( 30 ) to the frame ( 1 ) articulated holding section ( 29 ) of the frame. 18. Halteeinrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass an dem Halteab­ schnitt (29) des Rahmens (1) ein Halteflansch (34) befestigt ist.18. Holding device according to claim 17, characterized in that on the Halteab section ( 29 ) of the frame ( 1 ), a holding flange ( 34 ) is attached. 19. Halteeinrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Halteflansch (34) eine kegelstumpfförmige Ausnehmung (35) besitzt, die einem gerätefesten Vorsprung (36) zugeordnet ist.19. Holding device according to claim 18, characterized in that the holding flange ( 34 ) has a frustoconical recess ( 35 ) which is associated with a device-fixed projection ( 36 ). 20. Halteeinrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass der Vorsprung eine Kugel (36) ist.20. Holding device according to claim 19, characterized in that the projection is a ball ( 36 ). 21. Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass die Lage des rahmenseitigen Halte-/Positioniermittels (34) bezüglich des Rahmens (1) mit Hilfe von Justiermitteln (37) voreinstellbar ist.21. Holding device according to one of claims 14 to 20, characterized in that the position of the frame-side holding / positioning means ( 34 ) with respect to the frame ( 1 ) can be preset with the aid of adjusting means ( 37 ).
DE1999147174 1998-10-12 1999-10-01 Mask holder with clamps on disc-shaped frame for exposure of semiconductor wafers in ion lithography Withdrawn DE19947174A1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT170498 1998-10-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19947174A1 true DE19947174A1 (en) 2000-04-13

Family

ID=3519184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1999147174 Withdrawn DE19947174A1 (en) 1998-10-12 1999-10-01 Mask holder with clamps on disc-shaped frame for exposure of semiconductor wafers in ion lithography

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2000223414A (en)
DE (1) DE19947174A1 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10051466A1 (en) * 2000-10-17 2002-04-25 Infineon Technologies Ag Mask arrangement for lithography, esp. EUV lithography, includes device for applying a potential difference between each electrode plate electrode and membrane mask
EP1317994A3 (en) * 2001-12-05 2003-08-13 HSEB Heinze & Süllau Entwicklungsbüro Dresden GmbH Positioning device for semiconductor objects
DE102007047186A1 (en) * 2007-10-02 2009-04-09 Carl Zeiss Sms Gmbh Recording device for receiving an object
US7581551B2 (en) * 2004-09-01 2009-09-01 Sanyo Electric Co., Ltd. Cleaning apparatus
CN107422614A (en) * 2017-08-30 2017-12-01 武汉科技大学 A kind of litho machine chuck

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4526921B2 (en) 2004-10-25 2010-08-18 フジノン株式会社 SUBJECT HOLDING METHOD AND DEVICE, AND TEST SHAPE MEASURING DEVICE PROVIDED WITH THE SUBJECT HOLDING DEVICE
JP4556169B2 (en) 2004-10-29 2010-10-06 富士フイルム株式会社 Holding strain measuring method and apparatus
US7547897B2 (en) * 2006-05-26 2009-06-16 Cree, Inc. High-temperature ion implantation apparatus and methods of fabricating semiconductor devices using high-temperature ion implantation
CN102867770A (en) * 2011-07-05 2013-01-09 北京中科信电子装备有限公司 Silicon chip clamp for silicon chip implantation process
CN102703856B (en) * 2012-05-18 2014-04-30 河南大学 Auxiliary device for preparing thin film electrode

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10051466A1 (en) * 2000-10-17 2002-04-25 Infineon Technologies Ag Mask arrangement for lithography, esp. EUV lithography, includes device for applying a potential difference between each electrode plate electrode and membrane mask
DE10051466C2 (en) * 2000-10-17 2002-09-19 Infineon Technologies Ag Arrangement as a mask for lithography
US6696206B2 (en) 2000-10-17 2004-02-24 Infineon Technologies Ag Lithography mask configuration
EP1317994A3 (en) * 2001-12-05 2003-08-13 HSEB Heinze & Süllau Entwicklungsbüro Dresden GmbH Positioning device for semiconductor objects
US7581551B2 (en) * 2004-09-01 2009-09-01 Sanyo Electric Co., Ltd. Cleaning apparatus
DE102007047186A1 (en) * 2007-10-02 2009-04-09 Carl Zeiss Sms Gmbh Recording device for receiving an object
DE102007047186B4 (en) * 2007-10-02 2014-01-09 Carl Zeiss Sms Gmbh Recording device for receiving a photolithography mask
CN107422614A (en) * 2017-08-30 2017-12-01 武汉科技大学 A kind of litho machine chuck

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000223414A (en) 2000-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3829022C2 (en)
DE69204329T2 (en) Protective device with tiltable object table, and optical lithography device with such a device.
DE2706379C2 (en) Connecting element for creating an angular connection between two mitered profiles
EP1160609B1 (en) Device for precise alignment of an optical component
EP1020751A1 (en) Optical device, especially objective, with at least one optical element
EP0539889A2 (en) Micromechanical actuator
DE3741016A1 (en) ADJUSTMENT DEVICE FOR ADJUSTING OPTICAL ELEMENTS WITH TWO DEGREE OF FREEDOM
DE102019203504B4 (en) Robot with movable stopper for a joint
DE102009025309B4 (en) Kinematic holder
EP0655542B1 (en) Roof as wall construction
DE3804242C2 (en)
DE4020299C2 (en) Mirror holding device
DE19947174A1 (en) Mask holder with clamps on disc-shaped frame for exposure of semiconductor wafers in ion lithography
DE2923563A1 (en) A BASIC ELEMENTARY OPTOMECHANICAL SYSTEM FOR MOVING OPTICAL ELEMENTS WITH MULTIPLE DEGREE OF FREEDOM
DE102019104590B3 (en) Holding head for a vacuum holding device for handling a plate-shaped workpiece and corresponding vacuum holding device
DE102008051916A1 (en) laser marker
DE10226655A1 (en) Device for positioning an optical element in a structure
EP3765883B1 (en) Adjustment mount for radial adjustment of an optical unit having an optical axis
DE102017101779B4 (en) FIXING DEVICE FOR USE IN SERVICING CONSTRUCTION EQUIPMENT, AND METHODS OF SERVICING CONSTRUCTION MACHINE USING SUCH FIXING DEVICE
DE102018008538A1 (en) Clamping or lifting tool
EP3072635A2 (en) Device for supporting a workpiece to be machined
DE102020134653B3 (en) Adjustable optics holder for an optical element
DE69902214T2 (en) A manual device for correcting the position of an electrospindle with respect to a carrier
DE20220139U1 (en) Adjustment unit for optical component is mounted on integral panel having adjustment along major axes
DE102011012388B3 (en) Adjuster for alignment of laser collimator utilized for emitting laser line or laser spot, has bars connected with sides of base part and carrier component such that twist of component is enabled

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee