DE19852258A1 - Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates - Google Patents
Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing platesInfo
- Publication number
- DE19852258A1 DE19852258A1 DE19852258A DE19852258A DE19852258A1 DE 19852258 A1 DE19852258 A1 DE 19852258A1 DE 19852258 A DE19852258 A DE 19852258A DE 19852258 A DE19852258 A DE 19852258A DE 19852258 A1 DE19852258 A1 DE 19852258A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- recording material
- radiation
- material according
- layer
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 35
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 9
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 11
- -1 aromatic diazonium compound Chemical class 0.000 claims description 10
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 7
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 3
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- YDGFWBUHUUSSRS-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-4-phenoxybenzene Chemical compound C1=CC(COC)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 YDGFWBUHUUSSRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N Ethyl hydrogen fumarate Chemical class CCOC(=O)\C=C/C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N 0.000 claims description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000004676 glycans Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 2
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 claims description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N mofebutazone Chemical group O=C1C(CCCC)C(=O)NN1C1=CC=CC=C1 REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004804 polysaccharides Polymers 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 2,4,6-trimethylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC(C)=C(S([O-])(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical group [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical group COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- FWUIHQFQLSWYED-ARJAWSKDSA-N (z)-4-oxo-4-propan-2-yloxybut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)OC(=O)\C=C/C(O)=O FWUIHQFQLSWYED-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 2-[n-ethyl-4-[(6-methoxy-3-methyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)diazenyl]anilino]ethanol;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=[N+](C)C2=CC=C(OC)C=C2S1 MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YZBOVSFWWNVKRJ-UHFFFAOYSA-M 2-butoxycarbonylbenzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O YZBOVSFWWNVKRJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical group CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=C)=C1 YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004208 3-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001676573 Minium Species 0.000 description 1
- BNMZTWZCFXFPNE-UHFFFAOYSA-N N-(dihydrazinyloxymethylidene)hydroxylamine Chemical compound NNOC(=NO)ONN BNMZTWZCFXFPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical group CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dibutyl)stannyl] acetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](CC)(OC(C)=O)OC(C)=O KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000001752 diazonium salt group Chemical group 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPBDXRPQPOWRKR-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;methoxyethene Chemical compound COC=C.O=C1OC(=O)C=C1 UPBDXRPQPOWRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006855 networking Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008379 phenol ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical group [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Chemical group 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 210000002700 urine Anatomy 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008207 working material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
- G03F7/0215—Natural gums; Proteins, e.g. gelatins; Macromolecular carbohydrates, e.g. cellulose; Polyvinyl alcohol and derivatives thereof, e.g. polyvinylacetals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Aufzeichnungsmaterial mit - in dieser Reihenfolge - einem Träger, einer strahlungsempfindlichen Schicht und einer Silikonschicht. Die strahlungsempfindliche Schicht enthält als strahlungsempfindliche Komponente ein Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt und als Bindemittel ein Homo- und/oder Copolymer enthält, das aus (C¶1¶-C¶12¶)Alkyl-vinyl-ether-Einheiten besteht oder mindestens 5 Mol-% an solchen Einheiten umfaßt, dabei jedoch keine aliphatischen Hydroxygruppen aufweist. Zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Offsetdruck wird dieses Aufzeichnungsmaterial bildmäßig belichtet und anschließend mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung entwickelt.The invention relates to a recording material with - in this order - a support, a radiation-sensitive layer and a silicone layer. The radiation-sensitive layer contains a diazonium salt polycondensation product as the radiation-sensitive component and contains a homo- and / or copolymer which consists of (C¶1¶-C¶12¶) alkyl vinyl ether units or at least 5 mol% as the binder. on such units, but without aliphatic hydroxyl groups. To produce a printing form for waterless offset printing, this recording material is exposed imagewise and then developed with water or an aqueous solution.
Description
Die Erfindung betrifft ein Aufzeichnungsmaterial mit - in dieser Reihenfolge - einem Träger, einer strahlungsempfindlichen Schicht und einer Silikonschicht. Sie betrifft daneben ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte für den wasserlosen Offsetdruck aus dem Aufzeichnungsmaterial.The invention relates to a recording material with - in this order - a carrier, a radiation-sensitive layer and a silicone layer. she also relates to a method for producing a printing plate for the waterless offset printing from the recording material.
Aufzeichnungsmaterialien, aus denen sich Wasserlos-Offsetdruckplatten her stellen lassen, sind bereits bekannt. So ist in der GB 1 399 949 ein positiv arbeitendes Material mit einem Träger, einer Druckfarbe annehmenden strahlungsempfindlichen Schicht, einer Druckfarbe abstoßenden Silikonschicht und vorzugsweise noch einem transparenten Schutzfilm offenbart. Die strahlungsempfindliche Schicht enthält als wesentliche Bestandteile ein photopolymerisierbares, ethylenisch ungesättigtes Monomer oder Oligomer mit einem Siedepunkt von mehr als 100°C, einen Photoinitiator sowie im allge meinen auch ein Bindemittel. Das Bindemittel ist bevorzugt ein Vinylpolymer oder -copolymer (wie Polyvinylacetat, Polyvinylalkohol, Polyvinylbutyral, Polyvinyl butylether, Polyvinylchlorid oder Polyethylen), Polyether (wie Polyethylenoxid oder Polypropylenoxid), Polyamid, Polyester, ein Cellulose-Derivat, ein Harn stoff/Formaldehyd-Harz, ein Alkydharz, ein Melamin/Formaldehyd- oder ein Phenol/Formaldehyd-Harz. In den belichteten Bereichen der strahlungsempfind lichen Schicht ist das Monomer oder Oligomer polymerisiert und haftet dadurch an der Silikonschicht. Das Aufzeichnungsmaterial wird dann mit einer Ent wicklerlösung behandelt. Dabei wird die Silikonschicht in den nichtbelichteten Bereichen stärker angequollen und kann durch Bürsten oder ähnliche Maß nahmen entfernt werden. In den bestrahlten Bereichen bleibt die Silikonschicht dagegen auf der lichtempfindlichen Schicht haften. Durch Erhitzen oder voll flächiges Belichteten kann die Haftung zwischen lichtempfindlicher Schicht und Silikonschicht noch verstärkt werden. Gleichzeitig wird dadurch die licht empfindliche Schicht in den ursprünglich nicht belichteten Bereichen gehärtet, was die Kratzempfindlichkeit der Wasserlos-Druckplatte vermindert und eine höhere Druckauflage zuläßt.Recording materials from which waterless offset printing plates are made are already known. So in GB 1 399 949 is a positive working material with a support, an ink accepting radiation-sensitive layer, an ink-repellent silicone layer and preferably also disclosed a transparent protective film. The radiation-sensitive layer contains as essential components photopolymerizable, ethylenically unsaturated monomer or oligomer with a boiling point of more than 100 ° C, a photoinitiator and in general also mean a binder. The binder is preferably a vinyl polymer or copolymer (such as polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyvinyl butyl ether, polyvinyl chloride or polyethylene), polyether (such as polyethylene oxide or polypropylene oxide), polyamide, polyester, a cellulose derivative, a urine Substance / formaldehyde resin, an alkyd resin, a melamine / formaldehyde or Phenol / formaldehyde resin. In the exposed areas of radiation sensitivity layer, the monomer or oligomer is polymerized and thus adheres on the silicone layer. The recording material is then treated with a Ent treated winding solution. The silicone layer in the unexposed Areas swollen more and can be by brushing or similar measure took away. The silicone layer remains in the irradiated areas however, adhere to the photosensitive layer. By heating or full surface exposure can adhere the adhesion between the light-sensitive layer and Silicone layer to be reinforced. At the same time, this turns the light sensitive layer hardened in the originally unexposed areas, which reduces the scratch sensitivity of the waterless printing plate and a allows higher print runs.
Das Aufzeichnungsmaterial gemäß der EP-A 0 394 923 umfaßt ebenfalls einen Träger, eine lichtempfindliche Schicht und eine Silikonschicht. Hier ist die licht empfindliche Komponente ein Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt. Als weitere wesentliche Komponente enthält die lichtempfindliche Schicht ein polymeres Bindemittel mit Einheiten aus einem Ester, der aliphatische Hydroxygruppen enthält, oder aus einem Amid der Acryl- oder Methacrylsäure. Es ist allgemein ein Polymer mit Einheiten aus einem Hydroxyalkyl-(meth)acrylat oder -(meth)acrylamid. Es kann daneben auch Einheiten aus anderen Mono meren enthalten. Beispiele dafür sind Monomere mit aromatischen Hydroxy gruppen (wie N-(4-Hydroxy-phenyl)-acrylamid oder -methacrylamid, 2-, 3- oder 4- Hydroxy-styrol, (2-, 3- oder 4-Hydroxy-phenyl)-acrylat oder -methacrylat). Daneben können solche Monomere auch α,β-ungesättigten Carbonsäuren, substituierte Alkylacrylaten oder -methacrylate, Vinylether (wie Ethyl-vinyl-ether, Butyl-vinyl-ether oder Phenyl-vinyl-ether), Styrole, Vinylketone, Olefine, N-Vinyl pyrrolidon, N-Vinyl-carbazol, 4-Vinyl-pyridin, Acrylnitril oder Methacrylnitril sein. Der Anteil an Hydroxygruppen in dem Bindemittel (gemeint ist offenbar der Anteil an Einheiten, die aliphatische Hydroxygruppen enthalten) soll 5 bis 100 Gew.-%, bevorzugt 20 bis 100 Gew.-%, betragen, da sonst die Haftung zwischen strahlungsempfindlicher Schicht und Silikonschicht unzureichend ist. Nach der bildmäßigen Belichtung wird das Aufzeichnungsmaterial mit einer wäßrigen Lösung entwickelt, die polare Lösemittel (wie Alkohole, Ethylenglykol-mono alkylether, Ketone oder Ester), alkalisch reagierende Verbindungen, oberflächen aktive Mittel und aliphatische, aromatische oder halogenierte Kohlenwasserstoffe (wie Hexan, Heptan, Toluol oder Xylol) enthält. Dabei werden die unbestrahlten Bereiche der strahlungsempfindlichen Schicht zusammen mit den darüber liegenden Bereichen der Silikonschicht entfernt. Zwischen dem Aluminiumträger und der strahlungsempfindlichen Schicht ist dazu noch eine Grundierungsschicht (primer layer) angeordnet. Sie wird beim Entwickeln nicht mitentfernt. Beim Drucken wird die Farbe von der Primerschicht übertragen, während die stehengebliebenen Bereiche der Silikonschicht die Druckfarbe abstoßen.The recording material according to EP-A 0 394 923 also comprises one Carrier, a light-sensitive layer and a silicone layer. Here is the light sensitive component is a diazonium salt polycondensation product. As the light-sensitive layer contains a further essential component polymeric binder with units from an ester, the aliphatic Contains hydroxyl groups, or from an amide of acrylic or methacrylic acid. It is generally a polymer with units from a hydroxyalkyl (meth) acrylate or - (meth) acrylamide. It can also have units from other mono contain. Examples of these are monomers with aromatic hydroxy groups (such as N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or methacrylamide, 2-, 3- or 4- Hydroxy styrene, (2-, 3- or 4-hydroxyphenyl) acrylate or methacrylate). In addition, such monomers can also contain α, β-unsaturated carboxylic acids, substituted alkyl acrylates or methacrylates, vinyl ethers (such as ethyl vinyl ether, Butyl vinyl ether or phenyl vinyl ether), styrenes, vinyl ketones, olefins, N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl-carbazole, 4-vinyl-pyridine, acrylonitrile or methacrylonitrile. The proportion of hydroxy groups in the binder (apparently what is meant is the proportion of units which contain aliphatic hydroxyl groups) should be 5 to 100% by weight, preferably 20 to 100 wt .-%, otherwise the adhesion between radiation sensitive layer and silicone layer is insufficient. After imagewise exposure, the recording material with an aqueous Developed solution that polar solvents (such as alcohols, ethylene glycol mono alkyl ethers, ketones or esters), alkaline compounds, surfaces active agents and aliphatic, aromatic or halogenated hydrocarbons (such as hexane, heptane, toluene or xylene). The unirradiated Areas of the radiation sensitive layer along with those above removed areas of the silicone layer. Between the aluminum beam and the radiation-sensitive layer is also a primer layer (primer layer) arranged. It is not removed during development. At the The color is transferred from the primer layer to the print while the areas of the silicone layer that have remained standing repel the printing ink.
Die bekannten Aufzeichnungsmaterialien für die Herstellung von Wasserlos- Druckplatten benötigen also organische Lösemittel bei der Entwicklung. Das ist aus Gründen der Arbeitssicherheit und des Umweltschutzes jedoch nachteilig. Die Entsorgung der verbrauchten Entwicklerlösungen ist zudem aufwendig und verursacht nicht unerhebliche Kosten.The well-known recording materials for the production of waterless Printing plates therefore require organic solvents during development. This is disadvantageous for reasons of occupational safety and environmental protection. The disposal of the used developer solutions is also complex and causes not inconsiderable costs.
Es stellte sich somit die Aufgabe, ein Aufzeichnungsmaterial mit möglichst einfachem Aufbau, d. h. mit wenigen Schichten, insbesondere ohne Grundie rungsschicht, zu schaffen. Das bildmäßig bestrahlte Aufzeichnungsmaterial soll sich mit wäßrigen Lösungen, idealerweise mit reinem Wasser, zu einer Druckplatte entwickeln lassen, die beim Drucken kein Feuchtmittel benötigt (Wasserlos-Druckplatten). Darüber hinaus soll es so beschaffen sein, daß beim Entwickeln allein die Silikonschicht in den nichtbestrahlten Bereichen entfernt wird, nicht jedoch die (ehemals) strahlungsempfindliche Schicht. Beim Drucken soll die Farbe dementsprechend von den freigelegten Bereichen dieser Schicht übertragen und gleichzeitig eine Belastung des Entwicklers mit Bestandteilen der strahlungsempfindlichen Schicht vermieden werden, was gleichzeitig eine längere Standzeit des Entwicklers bedeutet.The task was therefore to create a recording material with as much as possible simple structure, d. H. with few layers, especially without Grundie layer to create. The imagewise irradiated recording material should with aqueous solutions, ideally with pure water Let the printing plate develop that does not require a dampening solution when printing (Waterless printing plates). In addition, it should be such that the Develop the silicone layer alone in the non-irradiated areas but not the (formerly) radiation-sensitive layer. While printing the color should accordingly be from the exposed areas of this layer transferred and at the same time a burden on the developer with components of the radiation-sensitive layer can be avoided, which is also a longer Lifetime of the developer means.
Gelöst wird die Aufgabe durch ein Aufzeichnungsmaterial der eingangs genann ten Art, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die strahlungsempfindliche Schicht als strahlungsempfindliche Komponente ein Diazoniumsalz-Polykondensations produkt und als Bindemittel ein Homo- und/oder Copolymer enthält, das aus (C1-C12)Alkyl-vinyl-ether-Einheiten besteht bzw. mindestens 5 mol-% an solchen Einheiten umfaßt, dabei jedoch keine aliphatischen Hydroxygruppen aufweist. Besonders bevorzugt sind Polymere aus bzw. mit Methyl-vinyl-ether-Einheiten. Dabei haben die Homopolymere vorzugsweise einen K-Wert von 10 bis 80. Die Copolymere haben allgemein einen statistischen oder alternierenden Aufbau, sind also keine Blockcopolymere. Mit besonderem Vorteil handelt es sich bei den weiteren Einheiten in den Copolymeren um Einheiten aus Maleinsäureanhydrid oder aus Maleinsäure-monoalkylestern, insbesondere um Einheiten aus Maleinsäure-mono(C1-C6)alkylestern, wie Maleinsäure-monoethylester, -monoiso propylester oder -monobutylester. Methyl-vinyl-ether/Maleinsäureanhydrid-Co polymere sind beispielsweise unter der Bezeichnung ®Gantrez AN (CAS-Nr. 108- 88-3) von GAF Chemicals Corp., USA, erhältlich.The object is achieved by a recording material of the type mentioned at the outset, which is characterized in that the radiation-sensitive layer as a radiation-sensitive component is a diazonium salt polycondensation product and as a binder contains a homo- and / or copolymer which consists of (C 1 -C 12 ) There is alkyl vinyl ether units or comprises at least 5 mol% of such units, but has no aliphatic hydroxyl groups. Polymers made from or with methyl vinyl ether units are particularly preferred. The homopolymers preferably have a K value of 10 to 80. The copolymers generally have a statistical or alternating structure and are therefore not block copolymers. The other units in the copolymers are particularly advantageously units of maleic anhydride or of maleic acid monoalkyl esters, in particular units of maleic acid mono (C 1 -C 6 ) alkyl esters, such as maleic acid monoethyl ester, monoisopropyl ester or monobutyl ester . Methyl vinyl ether / maleic anhydride copolymers are available, for example, from GAF Chemicals Corp., USA, under the name ®Gantrez AN (CAS No. 108-88-3).
Der Träger ist meist eine Metallplatte oder -folie. Bevorzugt sind Platten oder Folien aus Aluminium oder einer seiner Legierungen. Es hat sich als günstig erwiesen, den Träger vorzubehandeln. Trägermaterialien auf Basis von Alu minium werden üblicherweise mechanisch und/oder elektrochemisch aufgerauht und gegebenenfalls anschließend anodisch oxidiert. Danach ist noch eine chemische Vorbehandlung, beispielsweise mit Polyvinylphosphonsäure, Silikaten, Phosphaten, Hexafluorozirkonaten oder hydrolysiertem Tetraethyl-orthosilikat, möglich. Da - im Gegensatz zu üblichen Flachdruckplatten - keine hydrophile Trägeroberfläche erforderlich ist, können auch Trägermaterialien wie Kupfer, Messing oder andere oleophile Metalle bzw. Metallegierungen verwendet werden, daneben auch Kunststoffe, wie Polyester, Polycarbonat, Polyimid oder Cellulose acetat.The carrier is usually a metal plate or foil. Plates or are preferred Foils made of aluminum or one of its alloys. It has proven to be cheap proven to pretreat the carrier. Carrier materials based on aluminum minium are usually roughened mechanically and / or electrochemically and then optionally anodized. After that there is another chemical pretreatment, for example with polyvinylphosphonic acid, silicates, Phosphates, hexafluorozirconates or hydrolyzed tetraethyl orthosilicate, possible. Because - in contrast to conventional planographic printing plates - no hydrophilic Support surface is required, support materials such as copper, Brass or other oleophilic metals or metal alloys are used, also plastics such as polyester, polycarbonate, polyimide or cellulose acetate.
Die als Bindemittel in der strahlungsempfindlichen Schicht verwendeten Polymere haben allgemein ein Molekulargewicht MW im Bereich von 40.000 bis 2.000.000, bevorzugt 50.000 bis 1.000.000, besonders bevorzugt 80.000 bis 500.000. Der Anteil an Bindemitteln beträgt allgemein 5 bis 40 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der strahlungsempfindlichen Schicht.The polymers used as binders in the radiation-sensitive layer generally have a molecular weight M W in the range from 40,000 to 2,000,000, preferably 50,000 to 1,000,000, particularly preferably 80,000 to 500,000. The proportion of binders is generally 5 to 40% by weight, based on the total weight of the non-volatile constituents of the radiation-sensitive layer.
Das Gemisch enthält als strahlungsempfindliche Komponente ein Kondensations produkt eines aromatischen Diazoniumsalzes. Derartige Kondensationsprodukte sind bekannt und z. B. in der DE-A 12 14 086 ( = US-A 3 235 384) beschrieben. The mixture contains a condensation as a radiation-sensitive component product of an aromatic diazonium salt. Such condensation products are known and z. B. described in DE-A 12 14 086 (= US-A 3 235 384).
Sie werden im allgemeinen durch Kondensation einer mehrkernigen aroma tischen Diazoniumverbindung, vorzugsweise von substituierten oder unsub stituierten Diphenylamin-4-diazoniumsalzen mit aktiven Carbonylverbindungen, vorzugsweise Methoxymethyl-diphenylether oder Formaldehyd, in stark saurem Medium, vorzugsweise konzentrierter Phosphorsäure, hergestellt.They are generally condensed by a multinuclear aroma table diazonium compound, preferably of substituted or unsub substituted diphenylamine-4-diazonium salts with active carbonyl compounds, preferably methoxymethyl diphenyl ether or formaldehyde, in strongly acidic Medium, preferably concentrated phosphoric acid.
In den US-A 3 867 147 und 4 021 243 sind weitere Kondensationsprodukte beschrieben, deren zusätzlich durch Kondensation entstandene Einheiten von Diazoniumsalzgruppen frei sind und vorzugsweise von aromatischen Aminen, Phenolen, Phenolethern, aromatischen Thioethern, aromatischen Kohlen wasserstoffen, aromatischen heterocyclischen Verbindungen oder organischen Säureamiden abgeleitet sind.In US-A 3 867 147 and 4 021 243 there are further condensation products described, whose additional units of Are free of diazonium salt groups and preferably of aromatic amines, Phenols, phenol ethers, aromatic thioethers, aromatic carbons Hydrogen, aromatic heterocyclic compounds or organic Acid amides are derived.
Die Diazoniumsalzeinheiten A-N2X leiten sich bevorzugt von Verbindungen der
Formel (R1-R2-)pR3-N2X ab. In dieser Formel bedeutet
R1 einen aromatischen Rest mit mindestens einer zur Kondensation mit akti
ver Carbonylverbindung befähigten Position,
R2 eine Einfachbindung oder eine der Gruppen -(CH2)q-NR4-, -O-(CH2)r-NR4-,
S-(CH2)r-NR4-, -S-CH2CO-NR4-, -O-R5-O-, -O-, -S- oder -CO-NR4-,
R3 eine ggf. substituierte Phenylengruppe,
R4 Wasserstoff, eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 C-Atomen, eine Aralkylgruppe
mit 7 bis 12 C-Atomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12 C-Atomen,
R5 eine Arylengruppe mit 6 bis 12 C-Atomen,
p eine ganze Zahl von 1 bis 3,
q eine Zahl von 0 bis 5,
r eine Zahl von 2 bis 5 und
X ein Anion, das eine Löslichkeit in Wasser oder geeigneten Solventien
bewirkt.
The diazonium salt units AN 2 X are preferably derived from compounds of the formula (R 1 -R 2 -) p R 3 -N 2 X. In this formula means
R 1 is an aromatic radical with at least one position capable of condensation with active carbonyl compound,
R 2 is a single bond or one of the groups - (CH 2 ) q -NR 4 -, -O- (CH 2 ) r -NR 4 -,
S- (CH 2 ) r -NR 4 -, -S-CH 2 CO-NR 4 -, -OR 5 -O-, -O-, -S- or -CO-NR 4 -,
R 3 is an optionally substituted phenylene group,
R 4 is hydrogen, an alkyl group with 1 to 5 C atoms, an aralkyl group with 7 to 12 C atoms or an aryl group with 6 to 12 C atoms,
R 5 is an arylene group with 6 to 12 carbon atoms,
p is an integer from 1 to 3,
q is a number from 0 to 5,
r is a number from 2 to 5 and
X is an anion that causes solubility in water or suitable solvents.
Das Anion X ist vorzugsweise Chlorid, Sulfat, Phosphat oder ein ggf. substi tuiertes Alkansulfonat mit 1-4 Kohlenstoffatomen, z. B. Methansulfonat oder Aminoalkansulfonat (EP-A 0 224 162), p-Toluolsulfonat, Mesitylensulfonat, Hexa fluorophosphat oder ähnliche.The anion X is preferably chloride, sulfate, phosphate or an optionally substi tuiert alkanesulfonate with 1-4 carbon atoms, e.g. B. methanesulfonate or Aminoalkanesulfonate (EP-A 0 224 162), p-toluenesulfonate, mesitylene sulfonate, hexa fluorophosphate or the like.
Bevorzugt werden Kondensationsprodukte, die sich von ggf. substituierten Diphenylamin-4-diazoniumsalzen, besonders den 3-Methoxy-diphenylamin-4- diazoniumsalzen, ableiten und von diesen die leicht zugänglichen Kondensations produkte mit Formaldehyd. Die Kondensation wird vorzugsweise in konzentrierter Schwefel-, Phosphor- oder Methansulfonsäure, insbesondere in Phosphorsäure durchgeführt. Zur Stabilisierung sind Schwefel-, Phosphor-, Methansulfon-, p- Toluolsulfon- und Citronensäure geeignet.Preference is given to condensation products which may be substituted Diphenylamine-4-diazonium salts, especially the 3-methoxy-diphenylamine-4- diazonium salts, and from them the easily accessible condensation products with formaldehyde. The condensation is preferably concentrated Sulfuric, phosphoric or methanesulfonic acid, especially in phosphoric acid carried out. Sulfur, phosphorus, methanesulfone, p- Toluene sulfonic and citric acid suitable.
Der Anteil der strahlungsempfindlichen Komponente beträgt allgemein 20 bis 80 Gew.-%, bevorzugt 30 bis 70 Gew.-%, besonders bevorzugt 40 bis 65 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der strahlungsempfindlichen Schicht.The proportion of the radiation-sensitive component is generally 20 to 80 % By weight, preferably 30 to 70% by weight, particularly preferably 40 to 65 % By weight, based in each case on the total weight of the non-volatile constituents the radiation sensitive layer.
Gegebenenfalls kann die strahlungsempfindliche Schicht auch noch Farbstoffe, Weichmacher (wie Glycerin), andere polymere Bindemittel (auch solche mit aliphatischen Hydroxygruppen) und allgemein übliche Zusätze wie Verlaufsmittel und Beschichtungsadditive in untergeordneten Mengen enthalten. Der Anteil solcher Bestandteile beträgt allgemein bis zu 30 Gew.-%, bevorzugt bis zu 20 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der strahlungsempfindlichen Schicht.If necessary, the radiation-sensitive layer can also contain dyes, Plasticizers (such as glycerin), other polymeric binders (including those with aliphatic hydroxy groups) and common additives such as leveling agents and coating additives contained in minor amounts. The amount such constituents is generally up to 30% by weight, preferably up to 20 % By weight, based in each case on the total weight of the non-volatile constituents the radiation sensitive layer.
Das Gewicht der strahlungsempfindlichen Schicht liegt allgemein bei etwa 0,5 bis 3,0 g/m2, bevorzugt 0,8 bis 1,5 g/m2.The weight of the radiation-sensitive layer is generally about 0.5 to 3.0 g / m 2 , preferably 0.8 to 1.5 g / m 2 .
Für die Silikonschicht eignet sich grundsätzlich jeder Silikonkautschuk, der ausreichend farbabweisend ist, um ein Drucken ohne Feuchtwasser zu erlauben. In principle, any silicone rubber that is suitable for the silicone layer is sufficiently ink-repellent to allow printing without fountain solution.
Unter der Bezeichnung "Silikonkautschuk" soll hier entsprechend der Definition von Noll, "Chemie und Technologie der Silikone", Verlag Chemie, 1968, Seite 332, ein hochmolekulares, im wesentlichen lineares Diorganopolysiloxan ver standen werden. Für die vernetzten oder vulkanisierten Produkte wird dagegen die Bezeichnung "Silikongummi" verwendet. In jedem Fall wird eine Silikonkaut schuklösung auf die strahlungsempfindliche Schicht aufgebracht, getrocknet und dabei vernetzt.Under the name "silicone rubber" is meant here according to the definition von Noll, "Chemistry and Technology of Silicones", Verlag Chemie, 1968, page 332, a high molecular weight, substantially linear diorganopolysiloxane ver will stand. For the cross-linked or vulcanized products is against the term "silicone rubber" used. In any case, a silicone is chewed shoe solution applied to the radiation-sensitive layer, dried and networked.
Die Silikonkautschuke können Ein- oder Mehrkomponentenkautschuke sein. Beispiele dafür sind in den DE-A 23 50 211, 23 57 871 und 23 59 102 zu finden. Bevorzugt sind Kondensations-Silikonkautschuke, beispielsweise Einkompo nenten-Silikonkautschuke (RTV-1). Sie basieren üblicherweise auf Polydimethyl siloxanen, die an den Enden Wasserstoffatome, Acetyl-, Oxim-, Alkoxy- oder Aminogruppen oder andere funktionelle Gruppen tragen. Die Methylgruppen in der Kette können durch andere Alkylgruppen, Halogenalkylgruppen oder unsubstituierte bzw. substituierte Arylgruppen ersetzt sein. Die endständigen funktionellen Gruppen sind leicht hydrolysierbar und härten in Gegenwart von Feuchtigkeit in einer Zeitspanne von einigen Minuten bis zu wenigen Stunden aus.The silicone rubbers can be single or multi-component rubbers. Examples of this can be found in DE-A 23 50 211, 23 57 871 and 23 59 102. Condensation silicone rubbers, for example single-component, are preferred nenten silicone rubbers (RTV-1). They are usually based on polydimethyl siloxanes which have hydrogen atoms, acetyl, oxime, alkoxy or Wear amino groups or other functional groups. The methyl groups in the chain can be replaced by other alkyl groups, haloalkyl groups or unsubstituted or substituted aryl groups can be replaced. The terminal ones functional groups are easily hydrolyzable and harden in the presence of Moisture in a period of a few minutes to a few hours out.
Die Mehrkomponenten-Silikonkautschuke sind durch Addition oder Kondensation vernetzbar. Die additionsvernetzbaren Typen enthalten im allgemeinen zwei ver schiedene Polysiloxane. Das eine Polysiloxan ist in einem Anteil von 70 bis 99 Gew.-% vorhanden und besitzt Alkylengruppen (speziell: Vinylgruppen), die an Siliciumatome der Hauptkette gebunden sind. Das andere ist in einem Anteil von 1 bis 10 Gew.-% vorhanden. Darin sind Wasserstoffatome direkt an Silicium atome gebunden. Die Additionsreaktion erfolgt dann in Gegenwart von etwa 0,0005 bis 0,002 Gew.-% eines Platinkatalysators bei Temperaturen von mehr als 50°C. Mehrkomponenten-Silikonkautschuke haben den Vorteil, daß sie bei höhe rer Temperatur (etwa 100°C) sehr schnell vernetzen. Die Zeit, in denen sie sich verarbeiten lassen, die sogenannte "Topfzeit", ist dagegen häufig relativ kurz. The multi-component silicone rubbers are by addition or condensation networkable. The addition-crosslinkable types generally contain two ver different polysiloxanes. One is polysiloxane in a proportion of 70 to 99 % By weight and has alkylene groups (especially: vinyl groups) which Silicon atoms of the main chain are bound. The other is in a proportion of 1 to 10% by weight is present. There are hydrogen atoms directly on silicon atoms bound. The addition reaction then takes place in the presence of about 0.0005 to 0.002 wt% of a platinum catalyst at temperatures greater than 50 ° C. Multi-component silicone rubbers have the advantage that they are high Link the temperature (approx. 100 ° C) very quickly. The time in which they are Processed, the so-called "pot life", however, is often relatively short.
Die durch Kondensation vernetzbaren Gemische enthalten Diorganopolysiloxane mit reaktionsfähigen Endgruppen, wie Hydroxy- oder Acetoxygruppen. Diese werden mit Silanen oder Oligosiloxanen in Gegenwart von Katalysatoren vernetzt. Die Vernetzer haben einen Anteil von 2 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Silikonschicht. Die Katalysatoren haben einen Anteil von 0,01 bis 6 Gew.-%, wiederum bezogen auf das Gesamtgewicht der Silikonschicht. Auch diese Kombinationen reagieren relativ schnell und haben daher nur eine begrenzte Topfzeit.The mixtures which can be crosslinked by condensation contain diorganopolysiloxanes with reactive end groups, such as hydroxyl or acetoxy groups. This are crosslinked with silanes or oligosiloxanes in the presence of catalysts. The crosslinkers have a proportion of 2 to 10% by weight, based on the Total weight of the silicone layer. The catalysts have a share of 0.01 up to 6% by weight, again based on the total weight of the silicone layer. These combinations also react relatively quickly and therefore only have one limited pot life.
Die Silikonschicht kann noch weitere Komponenten enthalten. Diese können zu einer zusätzlichen Vernetzung, einer besseren Haftung, einer mechanischen Ver stärkung oder zur Einfärbung dienen. Die weiteren Komponenten haben einen Anteil von nicht mehr als 10 Gew.-%, bevorzugt nicht mehr als 5 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Silikonschicht.The silicone layer can also contain other components. These can too additional networking, better adhesion, mechanical ver strengthening or coloring. The other components have one Proportion of not more than 10% by weight, preferably not more than 5% by weight, in each case based on the total weight of the silicone layer.
Ein bevorzugtes Gemisch besteht aus hydroxyterminierten Polydimethyl siloxanen, einer Silan-Vernetzungskomponente (insbesondere einem tetra- oder trifunktionellen Alkoxy-, Acetoxy-, Amido-, Amino-, Aminoxy-, Ketoxim- oder Enoxysilan), einem Vernetzungskatalysator (insbesondere einer Organozinn- oder einer Organotitan-Verbindung) und gegebenenfalls weiteren Komponenten (insbesondere Organopolysiloxanverbindungen mit Si-H-Bindungen, Platinkata lysatoren für eine zusätzliche Additionsvernetzung, Silane mit haftverbessernden Eigenschaften, Reaktionsverzögerer, Füllstoffe und/oder Farbstoffe). Die genann ten Silan-Vernetzungskomponenten und die bei der Vernetzung auftretenden Reaktionen sind von J. J. Lebrun und H. Porte in "Comprehensive Polymer Science", Vol. 5 [1989] 593-609, beschrieben.A preferred mixture consists of hydroxy-terminated polydimethyl siloxanes, a silane crosslinking component (especially a tetra or trifunctional alkoxy, acetoxy, amido, amino, aminoxy, ketoxime or Enoxysilane), a crosslinking catalyst (especially an organotin or an organotitanium compound) and optionally further components (in particular organopolysiloxane compounds with Si-H bonds, platinum data analyzers for an additional addition crosslinking, silanes with adhesion-improving Properties, reaction retarders, fillers and / or dyes). The called ten silane crosslinking components and those that occur during crosslinking Reactions are from J. J. Lebrun and H. Porte in "Comprehensive Polymer Science ", Vol. 5 [1989] 593-609.
Die Silikonkautschuke werden nach dem Aufbringen als Schicht in bekannter Weise durch Feuchtigkeitseinwirkung oder aus sich heraus bei Raumtemperatur oder bei erhöhter Temperatur zu einem in organischen Lösemitteln im wesentlichen unlöslichen Silikongummi vernetzt. Das Gewicht der fertigen Silikonschicht beträgt im allgemeinen 1,0 bis 5,0, bevorzugt von 1,2 bis 3,5, besonders bevorzugt 1,5 bis 3,0 g/m2.After application as a layer, the silicone rubbers are crosslinked in a known manner by exposure to moisture or by themselves at room temperature or at elevated temperature to form a silicone rubber which is essentially insoluble in organic solvents. The weight of the finished silicone layer is generally 1.0 to 5.0, preferably from 1.2 to 3.5, particularly preferably 1.5 to 3.0 g / m 2 .
Auf der Silikonschicht kann sich gegebenenfalls eine diskontinuierliche Mattie rungsschicht befinden. Sie dient zur Verbesserung des Kopierverhaltens, indem sie die Zeit bis zur Herstellung eines konstanten Vakuums im Vakuum- Kontaktkopierrahmen verkürzt. Wenn die Mattierungsschicht nicht vorhanden ist, können sich trotz Anlegen eines Vakuums zwischen der Filmvorlage und der (ebenfalls glatten) Silikonschicht Lufteinschlüsse halten, so daß der Abstand zwischen Vorlage und strahlungsempfindlicher Schicht nicht überall gleich ist. Beim nachfolgenden Bestrahlen können dann Fehler auftreten. Die Mattierungsschicht besteht allgemein aus einem wasserlöslichen organischen Polymer, beispielsweise Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylsäure, Polyvinylbutyral, Polysaccharide Gelatine oder Polyvinylalkohol. Herstellen läßt sich die Mattierungsschicht nach allgemein bekannten Verfahren, beispielsweise durch Aufsprühen einer entsprechenden wäßrigen Lösung oder Dispersion und nachfolgendes Trocknen. Das Gewicht der Mattierungsschicht liegt allgemein bei 0,1 bis 0,5 g pro m2 des Aufzeichnungsmaterials. Beim Entwickeln (bei Wasserlos-Druckplatten auch als "Entschichten" bezeichnet) mit Wasser wird die Mattierungsschicht vollständig entfernt.There may be a discontinuous matting layer on the silicone layer. It serves to improve the copying behavior by reducing the time until a constant vacuum is created in the vacuum contact copying frame. If the matting layer is not present, air pockets can remain despite the application of a vacuum between the film template and the (also smooth) silicone layer, so that the distance between the template and the radiation-sensitive layer is not the same everywhere. Errors can then occur during subsequent irradiation. The matting layer generally consists of a water-soluble organic polymer, for example polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, polyvinyl butyral, polysaccharide gelatin or polyvinyl alcohol. The matting layer can be produced by generally known methods, for example by spraying on an appropriate aqueous solution or dispersion and then drying it. The weight of the matting layer is generally 0.1 to 0.5 g per m 2 of the recording material. When developing (with waterless printing plates also referred to as "stripping") with water, the matting layer is completely removed.
Die bildmäßige Bestrahlung des Aufzeichnungsmaterial erfolgt in der Regel durch Kontaktbebilderung (dabei wird die Filmvorlage in einem Vakuum-Kontaktkopier rahmen unmittelbar auf das Aufzeichnungsmaterial gelegt und anschließend die dazwischen befindliche Luft abgesaugt) mit Lichtquellen, die üblicherweise für diesen Zweck verwendet werden, wie Quecksilber-Hochdruckdampflampen oder Kohlebogenlampen. Anschließend wird das bestrahlte Aufzeichnungsmaterial in einer für Wasserlos-Druckplatten üblichen und bekannten Vorrichtung mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung entwickelt. Zweckmäßigerweise wird der Entwick lungsvorgang durch Bürsten oder auf andere Weise mechanisch unterstützt.The imaging of the recording material is usually carried out by Contact imaging (the film template is in a vacuum contact copier frame immediately placed on the recording material and then the air in between) with light sources that are usually used for can be used for this purpose, such as high pressure mercury lamps or Carbon arc lamps. The irradiated recording material is then in a device known and known for waterless printing plates with water or developed an aqueous solution. The developer is expediently mechanically supported by brushing or other means.
Dabei wird die Silikonschicht in den Nichtbildbereichen entfernt. Gleichzeitig wird die auf der Silikonschicht gegebenenfalls vorhandene Abstandshalterschicht entfernt. Auf das Vorquellen des bestrahlten Aufzeichnungsmaterials kann sogar verzichtet werden. Die beim Entwickeln abgelösten Bestandteile der Silikon schicht lassen sich durch Filtration abtrennen. Es stellt sich also nicht das Problem der Entsorgung von mit Chemikalien belasteten, verbrauchten Ent wicklerlösungen.The silicone layer in the non-image areas is removed. At the same time the spacer layer which may be present on the silicone layer away. The swelling of the irradiated recording material can even to be dispensed with. The components of the silicone that are detached during development layer can be separated by filtration. So this is not the case Problem of disposal of used contaminated Ent winding solutions.
Die aus dem erfindungsgemäßen, positiv-arbeitenden Aufzeichnungsmaterial hergestellten Druckformen für den wasserlosen Offsetdruck zeigen eine hohe Auflösung und erlauben gleichzeitig eine hohe Druckauflage.The from the positive-working recording material according to the invention Printing forms produced for waterless offset printing show a high Resolution and at the same time allow a large print run.
Die nachfolgenden Beispiele dienen zur Erläuterung der Erfindung. Darin steht "Gt" für "Gewichtsteil(e)". Prozente sind Gewichtsprozente, soweit nicht anders angegeben.The following examples serve to explain the invention. It says "Gt" for "part by weight". Percentages are percentages by weight, unless otherwise specified.
Eine 0,3 mm dicke, elektrolytisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminium
platte mit einem Oxidgewicht von 3,6 g/m2 (± 0,3 g/m2) wurde mit einer 0,1%igen
wäßrigen Polyvinylphosphonsäure-Lösung hydrophiliert. Auf dieses Träger
material wurde eine Lösung aus
2,65 Gt eines Diazoniumsalz-Polykondensationsproduktes aus 1 mol 3-
Methoxy-diphenylamin-4-diazoniumsulfat und 1 mol 4,4'-Bis-meth
oxymethyl-diphenylether, isoliert als Mesitylensulfonat,
0,08 Gt 85%iger Phosphorsäure,
0,40 Gt Glycerin,
0,84 Gt eines der in der folgenden Tabelle aufgeführten Bindemittel (bei
den gelösten Bindemitteln beziehen sich die Gt auf den Fest
stoffanteil; das Lösemittel wird dabei berücksichtigt und entspre
chend reduziert),
2,40 Gt einer 1%igen Silikonöl-Lösung in Diethylenglykol-monomethylether
( = Methyldiglykol),
36,48 Gt Ethanol (bei Verwendung von Bindemittel, die bereits in Alkoholen
gelöst sind, wurde dieser Anteil entsprechend vermindert),
41,78 Gt Diethylenglykol-monomethylether und
15,36 Gt Butan-2-on ( = Methyl-ethyl-keton)
aufgeschleudert. Die Beschichtung wurde dann 2 min lang bei 120°C im
Umluftofen getrocknet. Die Dicke der auf diese Weise hergestellten strahlungs
empfindlichen Schichten ist ebenfalls in Tabelle 1 angegeben.A 0.3 mm thick, electrolytically roughened and anodized aluminum plate with an oxide weight of 3.6 g / m 2 (± 0.3 g / m 2 ) was hydrophilized with a 0.1% aqueous polyvinylphosphonic acid solution. A solution was found on this carrier material
2.65 pbw of a diazonium salt polycondensation product of 1 mol of 3-methoxy-diphenylamine-4-diazonium sulfate and 1 mol of 4,4'-bis-meth oxymethyl-diphenyl ether, isolated as mesitylene sulfonate,
0.08 pbw of 85% phosphoric acid,
0.40 pbw of glycerin,
0.84 pbw of one of the binders listed in the following table (in the case of the dissolved binders, the pbw refers to the solids content; the solvent is taken into account and reduced accordingly),
2.40 pbw of a 1% silicone oil solution in diethylene glycol monomethyl ether (= methyl diglycol),
36.48 pbw of ethanol (this proportion was reduced accordingly when using binders that are already dissolved in alcohols),
41.78 pbw of diethylene glycol monomethyl ether and
15.36 pbw of butan-2-one (= methyl ethyl ketone)
spun on. The coating was then dried in a forced air oven at 120 ° C for 2 minutes. The thickness of the radiation-sensitive layers produced in this way is also given in Table 1.
Auf die strahlungsempfindliche Schicht wurde dann mit einem Gemisch aus
8,42 Gt eines hydroxyterminierten Polydimethylsiloxans mit einer Viskosität
von etwa 5000 mP s,
0,58 Gt Ethyl-triacetoxy-silan,
0,09 Gt einer 1%igen Lösung von Dibutylzinnacetat in einem isoparaffi
nischen Kohlenwasserstoff-Gemisch mit einem Siedebereich von
117 bis 134°C,
27,30 Gt Butan-2-on und
63,61 Gt des isoparaffinischen Kohlenwasserstoff-Gemisches mit einem
Siedepunkt von 117 bis 134°C
beschichtet. Die so erzeugte Schicht wurde 2 min lang bei 120°C getrocknet. Die
Dicke der Silikonschicht betrug danach 2,1 g/m2.A mixture was then applied to the radiation-sensitive layer
8.42 pbw of a hydroxy-terminated polydimethylsiloxane with a viscosity of approximately 5000 mPs,
0.58 pbw of ethyl triacetoxysilane,
0.09 pbw of a 1% solution of dibutyltin acetate in an isoparaffinic hydrocarbon mixture with a boiling range from 117 to 134 ° C.,
27.30 pbw of butan-2-one and
63.61 pbw of the isoparaffinic hydrocarbon mixture with a boiling point of 117 to 134 ° C
coated. The layer thus produced was dried at 120 ° C. for 2 minutes. The thickness of the silicone layer was then 2.1 g / m 2 .
Das auf diese Weise hergestellte Aufzeichnungsmaterial wurde anschließend 38 s lang unter einer Positiv-Vorlage mit einer 5 kW-Metallhalogenidlampe im Abstand von 110 cm bildmäßig belichtet. Danach wurde es in einer für die Entwicklung von Wasserlos-Druckplatten gebräuchlichen Anlage entwickelt (darin wird die Schicht mit mechanischer Unterstützung entwickelt). In der Vorquellstufe dieser Anlage wurde normales Wasser von etwa Raumtemperatur verwendet. In den nicht von der Strahlung getroffenen Bereichen war dann die Silikon kautschukschicht entfernt, die strahlungsempfindliche Schicht jedoch im wesentlichen auf dem Träger verblieben. Die dabei erhaltene Druckform zeigte eine hohe Auflösung sowie eine hohe Stabilität beim Drucken, so daß auch höhere Druckauflagen möglich waren.The recording material thus produced was then 38 s under a positive template with a 5 kW metal halide lamp in Illuminated at a distance of 110 cm. After that it became one for the Development of waterless printing plates common system developed (therein the layer is developed with mechanical support). In the pre-swell stage normal water of around room temperature was used in this system. In The areas not affected by the radiation were then the silicone removed rubber layer, but the radiation-sensitive layer in essentially remained on the carrier. The printing form obtained thereby showed high resolution and high stability when printing, so that too higher print runs were possible.
Wie in dem Beispielen 1 bis 7 beschrieben, wurde ein strahlungsempfindliches
Aufzeichnungsmaterial mit einer Silikonschicht hergestellt. Die strahlungs
empfindliche Schicht wurde diesmal jedoch hergestellt mit einem Gemisch aus
2,67 Gt Diazonium-Polykondensationsprodukt aus 1 mol 3-Methoxy-di
phenylamin-4-diazoniumsulfat und 1 mol 4,4'-Bis-methoxymethoxy
diphenylether, isoliert als Mesitylensulfonat,
0,10 Gt 85%ige Phosphorsäure,
1,00 Gt Glycerin,
1,06 Gt Polyvinylbutyral (80 mol-% Vinylbutyral-Einheiten, 18 mol-%
Vinylalkohol-Einheiten und 2 mol-% Vinylacetat-Einheiten; Tg = 72
bis 78°C),
0,15 Gt Victoriablau FBR (Basic Blue 55),
3,00 Gt einer 1%igen Lösung eines Silikonöls (®Edaplan LA 411) in
Diethylenglykol-monomethylether,
36,10 Gt Ethanol,
40,73 Gt Ethylenglykol-monomethylether und
15,20 Gt Butan-2-on.As described in Examples 1 to 7, a radiation-sensitive recording material with a silicone layer was produced. This time, however, the radiation-sensitive layer was made with a mixture of
2.67 pbw of diazonium polycondensation product of 1 mol of 3-methoxy-di-phenylamine-4-diazonium sulfate and 1 mol of 4,4'-bis-methoxymethoxy diphenyl ether, isolated as mesitylene sulfonate,
0.10 pbw 85% phosphoric acid,
1.00 pbw of glycerin,
1.06 pbw of polyvinyl butyral (80 mol% of vinyl butyral units, 18 mol% of vinyl alcohol units and 2 mol% of vinyl acetate units; T g = 72 to 78 ° C),
0.15 Gt Victoria Blue FBR (Basic Blue 55),
3.00 pbw of a 1% solution of a silicone oil (®Edaplan LA 411) in diethylene glycol monomethyl ether,
36.10 pbw of ethanol,
40.73 pbw of ethylene glycol monomethyl ether and
15.20 pbw of butan-2-one.
Nach dem Trocknen hatte die daraus hergestellte strahlungsempfindliche Schicht eine Dicke von 1,1 g/m2.After drying, the radiation-sensitive layer produced therefrom had a thickness of 1.1 g / m 2 .
Das Aufzeichnungsmaterial wurde wie in den erfindungsgemäßen Beispielen bildmäßig belichtet und entwickelt. Dabei konnte die Silikonschicht in den nicht bestrahlten Bereichen des Aufzeichnungsmaterials jedoch nicht entfernt werden, so daß keine brauchbare Druckform erhalten wurde.The recording material was as in the examples according to the invention exposed and developed imagewise. The silicone layer could not irradiated areas of the recording material are not removed, however, so that no usable printing form was obtained.
Beispiel 8 wurde wiederholt mit der einzigen Abweichung, daß das Polyvinylbutyral durch eine gleiche Menge eines Umsetzungsprodukts aus Polyvinylbutyral und Maleinsäureanhydrid (wie in der DE-A 34 04 366 beschrieben) ersetzt worden war und daß die Dicke der strahlungsempfindlichen Schicht 1,0 g/m2 betrug.Example 8 was repeated with the only difference that the polyvinyl butyral had been replaced by an equal amount of a reaction product of polyvinyl butyral and maleic anhydride (as described in DE-A 34 04 366) and that the thickness of the radiation-sensitive layer was 1.0 g / m 2 was.
Claims (15)
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19852258A DE19852258A1 (en) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates |
| EP99122109A EP1001312B1 (en) | 1998-11-11 | 1999-11-05 | Radiation sensitive recording material for the production of dry offset printing plates |
| DE59902177T DE59902177D1 (en) | 1998-11-11 | 1999-11-05 | Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates |
| JP31988799A JP2000206698A (en) | 1998-11-11 | 1999-11-10 | Radiation sensitive recording material for production of dry offset printing plate |
| US09/438,429 US6274285B1 (en) | 1919-11-11 | 1999-11-12 | Radiation-sensitive recording material for the production of driographic offset printing plates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19852258A DE19852258A1 (en) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19852258A1 true DE19852258A1 (en) | 2000-05-18 |
Family
ID=7887608
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19852258A Withdrawn DE19852258A1 (en) | 1919-11-11 | 1998-11-11 | Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates |
| DE59902177T Expired - Fee Related DE59902177D1 (en) | 1998-11-11 | 1999-11-05 | Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE59902177T Expired - Fee Related DE59902177D1 (en) | 1998-11-11 | 1999-11-05 | Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6274285B1 (en) |
| EP (1) | EP1001312B1 (en) |
| JP (1) | JP2000206698A (en) |
| DE (2) | DE19852258A1 (en) |
Families Citing this family (76)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7192450B2 (en) | 2003-05-21 | 2007-03-20 | Dexcom, Inc. | Porous membranes for use with implantable devices |
| US6001067A (en) | 1997-03-04 | 1999-12-14 | Shults; Mark C. | Device and method for determining analyte levels |
| US6741877B1 (en) | 1997-03-04 | 2004-05-25 | Dexcom, Inc. | Device and method for determining analyte levels |
| US20050033132A1 (en) | 1997-03-04 | 2005-02-10 | Shults Mark C. | Analyte measuring device |
| US8465425B2 (en) | 1998-04-30 | 2013-06-18 | Abbott Diabetes Care Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| US8346337B2 (en) | 1998-04-30 | 2013-01-01 | Abbott Diabetes Care Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| US8480580B2 (en) | 1998-04-30 | 2013-07-09 | Abbott Diabetes Care Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| US6949816B2 (en) | 2003-04-21 | 2005-09-27 | Motorola, Inc. | Semiconductor component having first surface area for electrically coupling to a semiconductor chip and second surface area for electrically coupling to a substrate, and method of manufacturing same |
| US8974386B2 (en) | 1998-04-30 | 2015-03-10 | Abbott Diabetes Care Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| US8688188B2 (en) | 1998-04-30 | 2014-04-01 | Abbott Diabetes Care Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| US6175752B1 (en) | 1998-04-30 | 2001-01-16 | Therasense, Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| US9066695B2 (en) | 1998-04-30 | 2015-06-30 | Abbott Diabetes Care Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| US6560471B1 (en) | 2001-01-02 | 2003-05-06 | Therasense, Inc. | Analyte monitoring device and methods of use |
| AU2002309528A1 (en) | 2001-04-02 | 2002-10-15 | Therasense, Inc. | Blood glucose tracking apparatus and methods |
| US6702857B2 (en) | 2001-07-27 | 2004-03-09 | Dexcom, Inc. | Membrane for use with implantable devices |
| US20030032874A1 (en) | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Dexcom, Inc. | Sensor head for use with implantable devices |
| US6921620B2 (en) * | 2001-08-21 | 2005-07-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable composition containing colorant having a counter anion derived from a non-volatile acid |
| US7056639B2 (en) * | 2001-08-21 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid |
| US10022078B2 (en) | 2004-07-13 | 2018-07-17 | Dexcom, Inc. | Analyte sensor |
| US8364229B2 (en) | 2003-07-25 | 2013-01-29 | Dexcom, Inc. | Analyte sensors having a signal-to-noise ratio substantially unaffected by non-constant noise |
| US8260393B2 (en) | 2003-07-25 | 2012-09-04 | Dexcom, Inc. | Systems and methods for replacing signal data artifacts in a glucose sensor data stream |
| US9247901B2 (en) | 2003-08-22 | 2016-02-02 | Dexcom, Inc. | Systems and methods for replacing signal artifacts in a glucose sensor data stream |
| US7379765B2 (en) | 2003-07-25 | 2008-05-27 | Dexcom, Inc. | Oxygen enhancing membrane systems for implantable devices |
| US8010174B2 (en) | 2003-08-22 | 2011-08-30 | Dexcom, Inc. | Systems and methods for replacing signal artifacts in a glucose sensor data stream |
| US7613491B2 (en) | 2002-05-22 | 2009-11-03 | Dexcom, Inc. | Silicone based membranes for use in implantable glucose sensors |
| US7226978B2 (en) | 2002-05-22 | 2007-06-05 | Dexcom, Inc. | Techniques to improve polyurethane membranes for implantable glucose sensors |
| US7134999B2 (en) | 2003-04-04 | 2006-11-14 | Dexcom, Inc. | Optimized sensor geometry for an implantable glucose sensor |
| US7875293B2 (en) | 2003-05-21 | 2011-01-25 | Dexcom, Inc. | Biointerface membranes incorporating bioactive agents |
| US9763609B2 (en) | 2003-07-25 | 2017-09-19 | Dexcom, Inc. | Analyte sensors having a signal-to-noise ratio substantially unaffected by non-constant noise |
| US7366556B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-04-29 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| US7424318B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-09-09 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| US7467003B2 (en) * | 2003-12-05 | 2008-12-16 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| US7460898B2 (en) * | 2003-12-05 | 2008-12-02 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| WO2007120442A2 (en) | 2003-07-25 | 2007-10-25 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| WO2005012873A2 (en) | 2003-07-25 | 2005-02-10 | Dexcom, Inc. | Electrode systems for electrochemical sensors |
| US20050176136A1 (en) * | 2003-11-19 | 2005-08-11 | Dexcom, Inc. | Afinity domain for analyte sensor |
| US7108778B2 (en) * | 2003-07-25 | 2006-09-19 | Dexcom, Inc. | Electrochemical sensors including electrode systems with increased oxygen generation |
| US7774145B2 (en) | 2003-08-01 | 2010-08-10 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US7494465B2 (en) | 2004-07-13 | 2009-02-24 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US20100168542A1 (en) | 2003-08-01 | 2010-07-01 | Dexcom, Inc. | System and methods for processing analyte sensor data |
| US7778680B2 (en) | 2003-08-01 | 2010-08-17 | Dexcom, Inc. | System and methods for processing analyte sensor data |
| US7591801B2 (en) | 2004-02-26 | 2009-09-22 | Dexcom, Inc. | Integrated delivery device for continuous glucose sensor |
| US8275437B2 (en) | 2003-08-01 | 2012-09-25 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US8845536B2 (en) | 2003-08-01 | 2014-09-30 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US8160669B2 (en) | 2003-08-01 | 2012-04-17 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US20190357827A1 (en) | 2003-08-01 | 2019-11-28 | Dexcom, Inc. | Analyte sensor |
| US20140121989A1 (en) | 2003-08-22 | 2014-05-01 | Dexcom, Inc. | Systems and methods for processing analyte sensor data |
| US7920906B2 (en) | 2005-03-10 | 2011-04-05 | Dexcom, Inc. | System and methods for processing analyte sensor data for sensor calibration |
| WO2005051170A2 (en) | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Dexcom, Inc. | Integrated receiver for continuous analyte sensor |
| US9247900B2 (en) | 2004-07-13 | 2016-02-02 | Dexcom, Inc. | Analyte sensor |
| US8364231B2 (en) | 2006-10-04 | 2013-01-29 | Dexcom, Inc. | Analyte sensor |
| US11633133B2 (en) | 2003-12-05 | 2023-04-25 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| EP1711790B1 (en) | 2003-12-05 | 2010-09-08 | DexCom, Inc. | Calibration techniques for a continuous analyte sensor |
| US8423114B2 (en) | 2006-10-04 | 2013-04-16 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| US8532730B2 (en) | 2006-10-04 | 2013-09-10 | Dexcom, Inc. | Analyte sensor |
| ATE474219T1 (en) * | 2003-12-08 | 2010-07-15 | Dexcom Inc | SYSTEMS AND METHODS FOR IMPROVING ELECTROCHEMICAL ANALYT SENSORS |
| EP2301428B1 (en) | 2003-12-09 | 2016-11-30 | Dexcom, Inc. | Signal processing for continuous analyte sensor |
| US8808228B2 (en) | 2004-02-26 | 2014-08-19 | Dexcom, Inc. | Integrated medicament delivery device for use with continuous analyte sensor |
| US8792955B2 (en) | 2004-05-03 | 2014-07-29 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US8277713B2 (en) | 2004-05-03 | 2012-10-02 | Dexcom, Inc. | Implantable analyte sensor |
| US9044199B2 (en) | 2004-07-13 | 2015-06-02 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US8886272B2 (en) | 2004-07-13 | 2014-11-11 | Dexcom, Inc. | Analyte sensor |
| US8452368B2 (en) | 2004-07-13 | 2013-05-28 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US8565848B2 (en) | 2004-07-13 | 2013-10-22 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous analyte sensor |
| US7783333B2 (en) | 2004-07-13 | 2010-08-24 | Dexcom, Inc. | Transcutaneous medical device with variable stiffness |
| WO2007102842A2 (en) | 2006-03-09 | 2007-09-13 | Dexcom, Inc. | Systems and methods for processing analyte sensor data |
| WO2007143225A2 (en) | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Abbott Diabetes Care, Inc. | Analyte monitoring system and method |
| US7831287B2 (en) | 2006-10-04 | 2010-11-09 | Dexcom, Inc. | Dual electrode system for a continuous analyte sensor |
| US20200037874A1 (en) | 2007-05-18 | 2020-02-06 | Dexcom, Inc. | Analyte sensors having a signal-to-noise ratio substantially unaffected by non-constant noise |
| US20080306434A1 (en) | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Dexcom, Inc. | Integrated medicament delivery device for use with continuous analyte sensor |
| US9452258B2 (en) | 2007-10-09 | 2016-09-27 | Dexcom, Inc. | Integrated insulin delivery system with continuous glucose sensor |
| WO2009105709A1 (en) | 2008-02-21 | 2009-08-27 | Dexcom, Inc. | Systems and methods for processing, transmitting and displaying sensor data |
| EP4324399A3 (en) | 2011-04-15 | 2024-05-15 | DexCom, Inc. | Advanced analyte sensor calibration and error detection |
| CN103057294B (en) * | 2011-10-24 | 2015-05-20 | 中国科学院化学研究所 | Environmental-protecting type waterless offset plate |
| US11382540B2 (en) | 2017-10-24 | 2022-07-12 | Dexcom, Inc. | Pre-connected analyte sensors |
| US11331022B2 (en) | 2017-10-24 | 2022-05-17 | Dexcom, Inc. | Pre-connected analyte sensors |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL270001A (en) | 1960-10-07 | |||
| US3867147A (en) | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
| US4021243A (en) | 1970-08-20 | 1977-05-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Diazo light-sensitive copying composition and process of using in the manufacture of screen printing stencils |
| JPS5426923B2 (en) | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
| JPS523267B2 (en) * | 1972-11-22 | 1977-01-27 | ||
| DE3731438A1 (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-30 | Hoechst Ag | LIGHT-SENSITIVE PRESSURE PLATE FOR WATER-FREE FLAT PRINTING |
| JPH02282257A (en) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Mitsubishi Kasei Corp | Photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water |
| JPH02282258A (en) | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Mitsubishi Kasei Corp | Photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water |
| US5225309A (en) * | 1990-02-08 | 1993-07-06 | Konica Corporation | Light-sensitive litho printing plate with cured diazo primer layer, diazo resin/salt light-sensitive layer containing a coupler and silicone rubber overlayer |
| GB9308859D0 (en) * | 1993-04-29 | 1993-06-16 | Johnson Ronald F | Water-developable coloured photosensitive composition |
| DE69421797T2 (en) * | 1993-10-01 | 2000-04-27 | Toray Industries, Inc. | DRY FLAT PRINT PLATE |
| DE19515804A1 (en) * | 1995-05-04 | 1996-11-07 | Hoechst Ag | Water-strippable recording material for the production of waterless offset printing plates |
-
1998
- 1998-11-11 DE DE19852258A patent/DE19852258A1/en not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-11-05 EP EP99122109A patent/EP1001312B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-05 DE DE59902177T patent/DE59902177D1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-10 JP JP31988799A patent/JP2000206698A/en active Pending
- 1999-11-12 US US09/438,429 patent/US6274285B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000206698A (en) | 2000-07-28 |
| EP1001312B1 (en) | 2002-07-31 |
| DE59902177D1 (en) | 2002-09-05 |
| EP1001312A1 (en) | 2000-05-17 |
| US6274285B1 (en) | 2001-08-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1001312B1 (en) | Radiation sensitive recording material for the production of dry offset printing plates | |
| EP0050802B1 (en) | Light-sensitive composition, light-sensitive copying material made therefrom, and process for producing a printing forme from this material | |
| EP0059250B1 (en) | Light-sensitive composition and copying material prepared therefrom | |
| DE2924294C2 (en) | Photosensitive lithographic printing plate | |
| DE3009873A1 (en) | PHOTO SENSITIVE DIMENSIONS | |
| DE1447016C3 (en) | Presensitized printing plate | |
| DE3126627A1 (en) | POLYVINYLMETHYLPHOSPHINIC ACID, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND THEIR USE | |
| EP0256256B1 (en) | Process for the manufacture of lithographic printing plates | |
| DE1447592A1 (en) | Light-crosslinkable layers | |
| DE2747231C3 (en) | Pre-coated printing plate for dry flat printing | |
| EP0490231B1 (en) | Polyethyleneimine- and polyvinylamine-derivates, aluminum based carriers coated with them and their use in making offsetprinting plates | |
| EP0034324B1 (en) | Process for the preservation of flatbed printing formes in their developed state for printing | |
| EP0453950A2 (en) | Process for the production of negative relief images | |
| DE3045979C2 (en) | ||
| DE3445276A1 (en) | RADIATION-SENSITIVE MIXTURE, LIGHT-SENSITIVE RECORDING MATERIAL MADE THEREOF AND METHOD FOR PRODUCING A FLAT PRINTING FORM | |
| DE3889418T2 (en) | Presensitized imaging element suitable for use as a lithographic printing plate. | |
| EP0741334B1 (en) | Recording material which can be decoated with water, for the production of waterless offset printing plates | |
| DE2305231B2 (en) | Method of making a presensitized lithographic printing plate | |
| DE1670652A1 (en) | Azoniadiazoketones and the use thereof for the production of light-sensitive, photographic materials | |
| EP0212263B1 (en) | Composition for the development of lithographic printing plates | |
| EP0307828A2 (en) | Light-sensitive composition and registration material prepared therefrom | |
| DE3507193A1 (en) | LIGHT SENSITIVE MIXTURE | |
| DE2652304A1 (en) | NEGATIVE WORKING, LIGHT SENSITIVE COPY DIMENSIONS AND COPY MATERIAL MANUFACTURED WITH IT | |
| DE1522495C3 (en) | Process for the production of printing forms | |
| EP0306784A2 (en) | Presensitized lithographic printing plate for dry lithography, and process for its production |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |