DE19850424C2 - Device and method for differential and integral vacuum coating of substrates and their use - Google Patents
Device and method for differential and integral vacuum coating of substrates and their useInfo
- Publication number
- DE19850424C2 DE19850424C2 DE1998150424 DE19850424A DE19850424C2 DE 19850424 C2 DE19850424 C2 DE 19850424C2 DE 1998150424 DE1998150424 DE 1998150424 DE 19850424 A DE19850424 A DE 19850424A DE 19850424 C2 DE19850424 C2 DE 19850424C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- coating
- window
- test specimen
- specimen
- height
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 84
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 77
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 34
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003340 mental effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung, ein Verfahren sowie deren Verwendung zur differentiellen und integralen Vakuumbeschichtung, insbesondere PVD-Beschichtung (Physical Vapour Deposition) eines Substrats zum Zwecke der komplexen post-process Schichtanalyse anhand eines einzigen Probekörpers. Der Probekörper ist als gerade Mehrkantkörper geformt und von einer Maske, vorzugsweise in Form einer Hülse umgeben. Die Hülse ist in zwei unterschiedlichen Seitenflächen mit einem etwa quadratischen (differentielles Beschichtungsfenster) und mit einem rechteckigen Fenster (integrales Beschichtungsfenster) ausgestattet. Die Höhe des integralen Beschichtungsfenster ist gleich der Probekörperhöhe. Durch eine getaktete oder kontinuierliche lineare Relativbewegung zwischen der Maske und dem Probekörper während der PVD-Beschichtung werden zwei Probekörperseitenflächen entweder differentiell oder integral beschichtet.The invention relates to a device, a method and the use thereof for differential and integral vacuum coating, in particular PVD coating (Physical Vapor Deposition) of a substrate for the purpose of complex post-process layer analysis using a single test specimen. The specimen is shaped as a straight polygonal body and surrounded by a mask, preferably in the form of a sleeve. The sleeve is equipped in two different side surfaces with an approximately square (differential coating window) and with a rectangular window (integral coating window). The height of the integral coating window is equal to the specimen height. Through a clocked or continuous linear relative movement between the mask and the test specimen during the PVD coating, two specimen side surfaces are coated either differentially or integrally.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung, ein Verfahren sowie deren Verwendung zur differen tiellen und integralen Vakuumbeschichtung, insbesondere PVD-Beschichtung eines Substrats (Probekörpers) zum Zwecke der komplexen post-process Schichtanalyse anhand eines einzigen, beschichteten Probekörpers.The invention relates to a device, a method and their use for differen tial and integral vacuum coating, in particular PVD coating of a substrate (Test specimen) for the purpose of complex post-process layer analysis using a single coated specimen.
Bei der PVD-Beschichtung (Physical Vapour Deposition) werden feste Stoffe (Targets) meist durch induktives Erhitzen, Sputtern, Elektronen- oder Laser-Strahlbeschuß (Laser-Ablation) in einer Beschichtungskammer zumeist unter Hochvakuumbedingungen verdampft. Die Dampfpartikel in Form von Ionen, neutralen Atomen oder feinkörnigen, neutralen oder ionisierten Kristalliten kondensieren zum Teil auf der Oberfläche der zu beschichtenden Gegenstände (Substrate) und bedecken diese mit einer Dünnschicht. Durch Einmischen von Reaktivgasen in die verdampfte Materie können im oberflächennahen Bereich chemische Reaktionen und/oder Einlagerungen von Reaktivgasatomen in das Schichtgefüge initiiert, und damit gesteuert Modifikationen bei der Schichtqualität erzielt werden. Das Schichtwachstum auf den Substraten wird von vielen Prozeßparametern, wie den Druckverhältnissen in der Beschichtungskammer, den Temperaturverteilungen in und auf den Substraten, den Leistun gen der Verdampfungsquellen oder den Trajektorien bei den Substratbewegungen durch die Dampfwolken bzw. Teilchenströme merklich beeinflußt. Das differentielle Schichtwachstum als Folge von zeitlich und örtlich variablen Wachstumsbedingungen beeinflußt entscheidend die letztendlich angestrebten qualitativen und quantitativen Merkmale einer PVD-Schicht, die das integrale Ergebnis eines Beschichtungsprozesses sind. Zur begrifflichen Klarstellung werden die Adjektive differentiell und integral so verwendet, wie sie im Sprachgebrauch der numerischen Mathematik oder der angewandten Natur- bzw. Ingenieurwissenschaften üblich erweise definiert sind, d. h. Differentiale sind durch endliche Differenzen zu ersetzen. Als Funktionsargument steht der Parameter "Zeit". Sowohl die Beobachtung des differentiellen Schichtwachstums als auch die Analyse der integralen Schichtentwicklung sind essentielle Voraussetzungen für eine gezielte Optimierung von Prozeßparametern bei der Vakuum beschichtung.With PVD coating (Physical Vapor Deposition), solid substances (targets) are mostly by inductive heating, sputtering, electron or laser beam bombardment (laser ablation) mostly evaporated in a coating chamber under high vacuum conditions. The Vapor particles in the form of ions, neutral atoms or fine-grained, neutral or Ionized crystallites partially condense on the surface of the surface to be coated Objects (substrates) and cover them with a thin layer. By mixing in Reactive gases in the vaporized matter can be chemical near the surface Reactions and / or embedding of reactive gas atoms in the layer structure initiated, and thus controlled modifications in the layer quality can be achieved. The layer growth many process parameters, such as the pressure conditions in the Coating chamber, the temperature distributions in and on the substrates, the performance against the evaporation sources or the trajectories in the substrate movements through the Vapor clouds or particle flows are noticeably affected. The differential layer growth as a result of temporally and locally variable growth conditions the ultimately desired qualitative and quantitative characteristics of a PVD layer, the are the integral result of a coating process. For conceptual clarification the adjectives are used differentially and integrally as they are used in the numerical mathematics or applied natural or engineering sciences are defined, d. H. Differentials are to be replaced by finite differences. As The function argument is the "Time" parameter. Both the observation of the differential Shift growth as well as the analysis of integral shift development are essential Requirements for a targeted optimization of process parameters in vacuum coating.
Zur Analyse differentieller und integraler Eigenschaften von PVD-Schichten sind sowohl in- process als auch post-process Methoden bekannt (G. Kienel (Hrsg.): "Vakuumbeschichtung 3, Anlagenautomatisierung - Meß- und Analysetechnik", Kapitel 2 und 3. VDI-Verlag, 1994). In-process Analysen haben vor allem das Ziel, eine zur Beschichtung zeitlich parallele Beobachtung des PVD-Prozesses zu realisieren. Wesentliche Zielstellung von post-process Analysen ist es, den Beschichtungsprozeß nachträglich anhand fertig beschichteter Substrate zu beurteilen. Der Gegenstand der Erfindung bezieht sich auf die Effektivierung der letztgenannten Methodik.Both in-process and post-process methods are known for the analysis of differential and integral properties of PVD layers (G. Kienel (ed.): "Vacuum coating 3 , plant automation - measurement and analysis technology", chapters 2 and 3. VDI- Verlag, 1994). The main aim of in-process analyzes is to realize an observation of the PVD process that is parallel to the coating. The main objective of post-process analyzes is to subsequently assess the coating process using finished coated substrates. The object of the invention relates to the effectiveness of the latter methodology.
Post-process Methoden beruhen auf der meßtechnischen Auswertung von Schichteigenschaf ten, die am Ende einer PVD-Beschichtung integral vorliegen. Sie basieren oftmals auf zerstörenden Prüfverfahren (z. B. Prüfung der Schichtdicke nach dem Kalottenschliff- Verfahren, Prüfung der Oberflächenhärte nach dem Eindrucktiefen-Verfahren, Prüfung der Schichthaftfestigkeit mit dem Scratch-Test oder chemischen Tiefenprofil-Konzentrations analysen mit Hilfe der Glimmentladungs-Spektroskopie). Transparente bzw. wenig licht absorbierende Schichten lassen sich teilweise mit zerstörungsfreien, optischen Analysen untersuchen. Eine zerstörungsfreie, aber recht teure, indirekte Schichtdickenmessung ist auf der Basis von Röntgenfluoreszenzen und der Beta-Rückstreustrahlung möglich.Post-process methods are based on the metrological evaluation of layer properties that are integral at the end of a PVD coating. They are often based on destructive test methods (e.g. testing the layer thickness after the spherical Process, testing the surface hardness according to the indentation depth process, testing the Layer adhesion with the scratch test or chemical depth profile concentration analysis using glow discharge spectroscopy). Transparent or little light Absorbent layers can be partially with non-destructive, optical analyzes investigate. A non-destructive, but quite expensive, indirect layer thickness measurement is on based on X-ray fluorescence and beta backscattering possible.
Die in der Praxis übliche Vorgehensweise bei post-process Analysen von PVD-Schichten besteht darin, daß unter jeweils wohl definierten Prozeßbedingungen ein oder mehrere Probekörper gleichmäßig beschichtet und danach meßtechnisch und statistisch untersucht werden. Anschließend wird versucht, die Ergebnisse mit den Parametern des Beschichtungs prozesses in verifizierbare Korrelationen zu bringen. Während es die in-process Methoden prinzipiell gestatten, die Entwicklung einiger Schichteigenschaften, wie Schichtdicke oder Schichtfarbe, während des Beschichtungsprozesses zu beobachten, ist dies mit post-process Methoden lediglich nachträglich und auch nur in sehr begrenztem Umfang möglich. Tiefen profilanalysen, beispielsweise hinsichtlich der chemischen Schichtzusammensetzung oder der Analyse von Eigenspannungsgradienten, sind nur in beschränktem Maße mit sehr teurer Gerätetechnik realisierbar. Prozeßbedingte, starke Veränderungen oder gar Umschläge bei bestimmten Schichtmerkmalen, wie z. B. bei der Kristallgitterstruktur, der Oberflächenhärte als Funktion der Schichtdicke oder der Farbänderung der Schicht, lassen sich nach dem Stand der Technik nur iterativ auf der Basis umfangreicher Einzelexperimente unter Variation vieler relevanter Prozeßparameter ermitteln. Die Ergebnisse basieren in der Regel auf der post- process Analyse und Bewertung einer Vielzahl von Einzelproben, die in einer Vielzahl von Einzelexperimenten integral beschichtet worden sind. Rückschlüsse auf das differentielle Schichtwachstum werden unter der nicht stichhaltigen Voraussetzung ergodischen Prozeßver haltens vorgenommen. Der Entwicklung von optimalen Prozeßführungsstrategien sind damit insgesamt sehr enge, vor allem ökonomische, Grenzen gesetzt.The usual practice in post-process analysis of PVD layers consists of one or more under well-defined process conditions Specimens coated evenly and then examined by measurement technology and statistics become. It then tries to match the results with the parameters of the coating to bring the process into verifiable correlations. While it's the in-process methods in principle allow the development of some layer properties, such as layer thickness or To observe layer color during the coating process, this is with post-process Methods are only possible retrospectively and only to a very limited extent. deep profile analyzes, for example with regard to the chemical layer composition or the Analysis of residual stress gradients are only to a limited extent with very expensive Device technology feasible. Process-related, strong changes or even envelopes certain layer features, such as. B. in the crystal lattice structure, the surface hardness as a function of the layer thickness or the color change of the layer, can be according to the status technology only iteratively on the basis of extensive individual experiments with a variation of many determine relevant process parameters. The results are usually based on the post process analysis and evaluation of a large number of incremental samples in a large number of Individual experiments have been coated integrally. Conclusions about the differential Layer growth are under the unsound prerequisite ergodic process ver held. The development of optimal process management strategies are thus overall, very narrow, especially economic, limits.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur differentiellen und integralen Vakuumbeschichtung eines Substrats zum Zwecke der kom plexen post-process Schichtanalyse anhand eines einzigen, beschichteten Probekörpers zu entwickeln. Damit soll, ohne qualitative Nachteile, eine wesentliche Reduzierung der experi mentellen Aufwendungen und damit eine verbesserte Ökonomie erreicht werden, vorzugs weise bei der Entwicklung von optimalen Prozeßführungsstrategien für die PVD- Beschichtungstechnologien.The invention is therefore based on the object of a device and a method for differential and integral vacuum coating of a substrate for the purpose of com plex post-process layer analysis using a single, coated specimen develop. This is intended to significantly reduce the experi mental expenses and thus an improved economy can be achieved, preferably wise in developing optimal process management strategies for PVD Coating technologies.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß auf einem einzigen Probekörper dif ferentielle und integrale Informationen zur Historie des Beschichtungsprozesses in der Struktur und Zusammensetzung der PVD-Schicht metallurgisch gespeichert werden. Bekannt ist bisher ein Verfahren, das differenzielle Informationen über die Intensität eines Zink- Agglomeratstrahls zu bestimmen gestattet. Dazu wird ein Werkstück hinter einer gegenüber dem Strahl fixierten Blende gleichförmig vorbeigezogen. Die während dieser Beschich tungsdauer jeweils aufgebrachte Schichtdicke spiegelt dann die zeitliche Änderung der Intensität des Zink-Agglomeratstrahls als Funktion des Ortes auf dem Werkstück wider (KfK- Nachrichten 3/1993, S. 145-150). In DE 195 18 185 C2 ist ein Verfahren zur Agglomerat strahl-Mikrostrukturierung beschrieben. Hier wird zur Mikrostrukturierung einer Werk stückoberfläche in allen drei Raumrichtungen ein Clusterstrahl eingesetzt, der eine perforierte Maske durchdringt und die Werkstoffoberfläche an den nicht maskierten Bereichen modi fiziert. Durch eine kontrollierte Relativbewegung zwischen Maske und Werkstück, im einfachsten Fall einer Kreisbewegung, lassen sich so Oberflächenstrukturen erzeugen, die nachträglich materialwissenschaftlich analysiert werden könnten.The object is achieved in that dif ferential and integral information on the history of the coating process in the structure and composition of the PVD layer is stored metallurgically on a single test specimen. So far, a method is known which allows differential information about the intensity of a zinc agglomerate beam to be determined. For this purpose, a workpiece is passed uniformly behind an aperture fixed to the beam. The processing duration of each applied during this Beschich layer thickness then reflects the change in the intensity of the zinc Agglomeratstrahls as a function of the location on the workpiece resist (KfK- messages 3/1993, pp 145-150). DE 195 18 185 C2 describes a process for agglomerate beam microstructuring. A cluster beam is used to microstructure a workpiece surface in all three spatial directions, which penetrates a perforated mask and modifies the surface of the material in the non-masked areas. Through a controlled relative movement between the mask and the workpiece, in the simplest case of a circular movement, surface structures can be created that could be subsequently analyzed using materials science.
Bei der hier vorgeschlagenen erfindungsgemäßen Vorrichtung wird ein gerader, zu beschichtender Vierkantkörper (Probekörper) von einer Maske vorzugsweise in Form einer Hülse umgeben. Mit Hilfe antriebstechnischer Komponenten der Vorrichtung kann zwischen Probekörper und umhüllender Maske eine lineare Relativbewegung realisiert werden. In mindestens zwei Maskenseitenflächen sind als kennzeichnender Teil (Anspruch 1) ein offenes, annähernd rechteckiges Beschichtungsfenster ausgespart, wobei die Höhe des einen Beschichtungsfensters entweder kleiner bis höchstens gleich der Breite der Maskenseiten fläche ist und die Höhe des zweiten Beschichtungsfensters größer oder wenigstens gleich der Höhe des Probekörpers ist. Im ersten Fall wird das Beschichtungsfenster nachfolgend als differentielles Beschichtungsfenster, im zweiten Fall als integrales Beschichtungsfenster bezeichnet. Mit Hilfe dieser zwei Typen von Beschichtungsfenstern wird das er findungsgemäße Verfahren zur differentiellen bzw. integralen Vakuumbeschichtung entspre chend Anspruch 4 realisiert.In the device according to the invention proposed here, a straight one is used coating square body (test specimen) from a mask, preferably in the form of a Surround the sleeve. With the help of drive components of the device can between Specimen and enveloping mask a linear relative movement can be realized. In at least two mask side faces are a characterizing part (claim 1) left open, almost rectangular coating window, the height of one Coating window either less than or at most equal to the width of the mask sides area and the height of the second coating window is greater than or at least equal to that Height of the test specimen is. In the first case, the coating window is subsequently called differential coating window, in the second case as an integral coating window designated. With the help of these two types of coating windows, he will Methods according to the invention for differential or integral vacuum coating correspond chend claim 4 realized.
An Stelle eines viereckigen Probekörperquerschnitts, entsprechend des Oberbegriffs von Anspruch 1, kann dieser auch rund, elliptisch oder vieleckig im Querschnitt sein. Fertigungs technisch besonders einfach sind sechs- oder achteckige Querschnitte herstellbar. Solche Querschnitte führen vorteilhaft zu einer Erhöhung des möglichen Ausnutzungsgrades für den Probekörper (Anspruch 2).Instead of a square specimen cross section, according to the generic term of Claim 1, this can also be round, elliptical or polygonal in cross section. manufacturing technically particularly easy to produce hexagonal or octagonal cross sections. Such Cross sections advantageously lead to an increase in the possible degree of utilization for the Test specimen (claim 2).
Die Vorrichtung sollte zusätzlich rotierend um ihre vertikale Achse bewegt werden, um im Mittel gleichmäßige Beschichtungsbedingungen für beide Beschichtungsfenster zu haben (Anspruch 3). Die Drehfrequenz ist zur Vermeidung von zu großen Fliehkräften dabei vor zugsweise etwa innerhalb des Bereiches von 0,2 bis 2,0 Hz zu halten.The device should also be rotated about its vertical axis in order to Medium to have uniform coating conditions for both coating windows (Claim 3). The rotation frequency is to avoid excessive centrifugal forces preferably to be kept within the range of 0.2 to 2.0 Hz.
Das erfindungsgemäße Verfahren (Anspruch 4) läßt sich wie folgt beschreiben: Zu Beginn der Beschichtung liegen die Fensteroberkannten und die Probekörperoberkanten in gleicher Höhe. Während der Beschichtung wird eine gleichbleibend getaktete oder kontinuierliche Bewegung zwischen dem Probekörper und den Maskenseitenflächen ausgebildet. Vorteilhaft ist es dabei, die Bewegungsgeschwindigkeit derart zu wählen, daß der Probekörper am Ende der Beschichtung vollständig abgedeckt ist. Je nach Art des Fensters (differentielles oder integra les Beschichtungsfenster) ist danach die entsprechende Probekörperseitenfläche entweder differentiell oder integral beschichtet, wie nachfolgend im Detail erläutert.The method according to the invention (claim 4) can be described as follows: At the beginning of the The upper edge of the window and the upper edge of the test specimen are coated at the same height. A constant clocked or continuous movement occurs during the coating formed between the specimen and the mask side surfaces. It is advantageous to choose the speed of movement so that the test specimen at the end of the Coating is completely covered. Depending on the type of window (differential or integra The coating window) is then either the corresponding specimen side surface differentially or integrally coated, as explained in detail below.
Zur Erläuterung der differentiellen Beschichtung sei der Spezialfall eines quadratischen Beschichtungsfensters angenommen und die Relativbewegung zwischen Maske und Pro bekörper als getaktet mit konstanter Taktfrequenz. Die Taktfrequenz würde sich für den Fall, daß der Probekörper genau am Ende der Beschichtung vollständig abgedeckt ist, aus dem Verhältnis von Probekörperlänge zum Produkt aus Beschichtungszeit und Fensterhöhe ergeben. Auf dem Probekörper sind somit nach der PVD-Beschichtung auf gleichgroßen Oberflächensegmenten nacheinander Dünnschichten aufgebracht, deren post-process Analyse das differenzielle Schichtwachtum in seiner zeitlichen Folge einzuschätzen gestatten.The special case of a square is to explain the differential coating Coating window accepted and the relative movement between mask and Pro body as clocked with constant clock frequency. The clock frequency would change if that the specimen is completely covered exactly at the end of the coating, from which Ratio of specimen length to product of coating time and window height result. After the PVD coating, the test pieces are thus of the same size Surface segments successively applied thin layers, their post-process analysis allow to assess the differential shift growth in its chronological order.
Zur Erläuterung der integralen Beschichtung sei der Spezialfall eines Beschichtungsfensters mit einer Höhe, die gleich der Probekörperhöhe ist, angenommen und die Relativbewegung zwischen Maske und Probekörper als Linearbewegung mit konstanter Geschwindigkeit. Die antriebstechnisch zu realisierende Geschwindigkeit würde sich für den Fall, daß der Pro bekörper genau am Ende der Beschichtung vollständig abgedeckt ist, aus dem Verhältnis von Probekörperlänge zur Beschichtungszeit ergeben. Mit zunehmender Beschichtungszeit wird die zur Beschichtung frei liegende Fläche auf dem Probekörper immer kleiner. Eine post- process Analyse gestattet damit, die zeitliche Entwicklung integraler Eigenschaften einer Schicht einzuschätzen.The special case of a coating window is to explain the integral coating with a height that is equal to the specimen height, and the relative movement between mask and specimen as linear movement at constant speed. The In terms of drive technology, the speed would be different if the Pro body is completely covered at the very end of the coating, from the ratio of Specimen length at coating time. With increasing coating time the area exposed for coating on the test specimen is getting smaller and smaller. A post process analysis thus allows the temporal development of integral properties of a Layer.
Bei den gerade vorgenommenen Erläuterungen wurden die bewegungstechnisch besonders einfach realisierbaren Fällen konstanter Taktfrequenz bzw. konstanter Relativgeschwindigkeit angenommen. Diese Fälle werden deshalb auch als bevorzugte Verfahrensvarianten bean sprucht.In the explanations just made, they were special in terms of movement easy to implement cases of constant clock frequency or constant relative speed accepted. These cases are therefore also proposed as preferred process variants sprucht.
Die Vorrichtung und das Verfahren lassen sich auch für andere Beschichtungsmethoden der Oberflächentechnik verwenden, wie der CVD-Beschichtung (Chemical Vapour Deposition) oder die Plasma-Polymerisation (Anspruch 5). Besonders sind die Vorrichtung und das Verfahren zur materialwissenschaftlichen Analyse der zeitlichen Entwicklung der Beschich tung verwendbar (Anspruch 6).The device and the method can also be used for other coating methods Use surface technology, such as the CVD coating (Chemical Vapor Deposition) or the plasma polymerization (claim 5). The device and that are special Process for material science analysis of the development over time of coating tion usable (claim 6).
Die Erfindung soll nachfolgend anhand zweier Ausführungsbeispiele näher erläutert werden. Die dazugehörigen schematischen Darstellungen zeigen:The invention will be explained in more detail below using two exemplary embodiments. The associated schematic representations show:
Fig. 1 Längsschnitt einer Vorrichtung zum differentiellen und integralen PVD- Beschichten mit einem flexiblen, endlosen Abdeckstreifen, Fig. 1 a longitudinal section of an apparatus for differential and integral PVD coating with a continuous pliable cover strip,
Fig. 1a Ansicht des integralen Beschichtungsfensters im flexiblen, endlosen Abdeck streifen zum Beginn der PVD-Beschichtung, FIG. 1a view of the integral coating window in the flexible, endless strip covering the start of the PVD coating,
Fig. 1b Ansicht und Lage des differentiellen Beschichtungsfensters im flexiblen, end losen Abdeckstreifen zum Beginn der PVD-Beschichtung, FIG. 1b view and position of the window in the differential coating flexible, end-less cover strip to the beginning of the PVD coating,
Fig. 1c Ansicht des integralen Beschichtungsfensters im flexiblen, endlosen Abdeck streifen nach der halben PVD-Beschichtungszeit, Fig. 1c view of the integral coating window in the flexible, endless covering strip after half the PVD coating time
Fig. 1d Ansicht und Lage des differentiellen Beschichtungsfensters im flexiblen, end losen Abdeckstreifen nach der halben PVD-Beschichtungszeit, Fig. 1d view and position of the window in the differential coating flexible, end-less cover strip after half the PVD coating time
Fig. 2 Längsschnitt einer Vorrichtung zum differentiellen und integralen PVD- Beschichten bei Verwendung einer festen Abdeckhülse, Fig. 2 a longitudinal section of an apparatus for differential and integral with PVD coating using a fixed covering sleeve,
Fig. 2a Ansicht des integralen Beschichtungsfensters in der Abdeckhülsenwand zum Beginn der PVD-Beschichtung, FIG. 2a view of the integral coating window in the Abdeckhülsenwand the beginning of the PVD coating,
Fig. 2b Ansicht des differentiellen Beschichtungsfensters in der Abdeckhülsenwand zum Beginn der PVD-Beschichtung. Fig. 2b view of the differential coating window in the Abdeckhülsenwand the beginning of the PVD coating.
In Fig. 1 ist zur Illustration eines ersten Ausführungsbeispiels der Längsschnitt einer Vorrich tung zum differentiellen und integralen PVD-Beschichten mit einem flexiblen, endlosen Abdeckstreifen 1 dargestellt. Der flexible, endlose Abdeckstreifen 1 ist Teil der Maske. Im flexiblen, endlosen Abdeckstreifen 1 sind ein differentielles Beschichtungsfenster 6b und ein integrales Beschichtungsfenster 6a ausgespart. Der flexible, endlose Abdeckstreifen 1 wird von Antriebsrollen 3 und Umlenkrollen 4 angetrieben und entsprechend der Fig. 1 umgelenkt. Die Antriebsrollen 3, die Umlenkrollen 4 und der flexible, endlose Abdeckstreifen 1 sind in einem Vorrichtungsgehäuse 9 untergebracht. Der in Fig. 1 nicht bezeichnete Fußteil des Vorrichtungsgehäuses 9 ist mit dem in Fig. 1 nicht bezeichneten Kopfteil des Vorrichtungsge häuses 9 über eine in Fig. 1 nicht bezeichnete Vierkanthülse verbunden. Die Vierkanthülse ist an zwei gegenüberliegenden Seiten in voller Länge mit einer Breite, die etwas kleiner als die Breite des Probekörpers 2 ist, ausgespart. Auf diese Weise bildet die Vierkanthülse je einen Führungsrahmen (linker Führungsrahmen 10a und rechter Führungsrahmen 10b) für den flexiblen, endlosen Abdeckstreifen 1. Die Höhe der Vierkanthülse ist gleich der Höhe des Probekörpers 2. Die dem linken Führungsrahmen 10a nächstliegende Oberfläche des Pro bekörpers 2 sei nachfolgend als linke Oberfläche bezeichnet, die dem rechten Führungsrah men 10b nächstliegende Oberfläche des Probekörpers 2 als rechte Oberfläche. Zwischen dem linken Führungsrahmen 10a bzw. dem rechten Führungsrahmen 10b und dem Probekörper 2 ist der flexible, endlose Abdeckstreifen 1 frei, vertikal verschiebbar angeordnet. Zu Beginn einer PVD-Beschichtung befindet sich das differentielle Beschichtungsfenster 6b am oberen Ende des Probekörpers 2, während das gegenüberliegende integrale Beschichtungsfenster 6a die gesamte linke Oberfläche des Probekörpers 2 für eine PVD-Beschichtung frei liegen läßt, entsprechend der Fig. 1a und Fig. 1b. Es sei angenommen, daß die gesamte Beschichtungszeit 60 Minuten dauere und die Höhe des Probekörpers 2 genau 12 cm und seine Breite genau 5 cm betragen. Die Breite des flexiblen, endlosen Abdeckstreifens 1 sei ebenfalls genau 5 cm. Nach jeweils genau 5 Minuten Beschichtungszeit wird der flexible, endlose Abdeckstreifen 1 mit Hilfe der Antriebsrollen 3 um genau 5 cm entsprechend Fig. 1 verschoben. Nach 30 Minuten Beschichtungszeit haben sich die Lage des differentiellen Beschichtungsfensters 6a bzw. die Lage und Größe des integralen Beschichtungsfensters 6b entsprechend der Fig. 2c bzw. der Fig. 2d eingestellt. Bis zu diesem Zeitpunkt ist somit die rechte Oberfläche des Probekörpers 2 genau auf fünf Oberflächensegmenten differentiell beschichtet worden. Die linke Oberfläche des Probekörpers 2 kann bis zu diesem Beschichtungszeitpunkt in fünf integral beschichtete Flächensegmente untergliedert werden. Das untere Flächensegment, mit einer Höhe von 5 cm, ist genau 5 Minuten lang beschichtet worden, das darüberliegende Flächensegment, mit einer Höhe von ebenfalls 5 cm, genau 10 Minuten lang usw. Das in Fig. 1c frei liegende Oberflächensegment, dessen Höhe 30 cm beträgt, ist demnach bereits 30 Minuten beschichtet worden. Nach genau 60 Minuten sind, bei gleicher, getakteter Fort führung der Verschiebung des endlosen, flexiblen Abdeckstreifens 1, die rechte Oberfläche des Probekörpers 2 entsprechend der Erfindung vollständig differentiell und die linke Ober fläche des Probekörpers 2 entsprechend der Erfindung vollständig integral beschichtet. Damit sind am Ende einer PVD-Beschichtung auf einem einzigen Probekörper 2 insgesamt 24 unterschiedliche PVD-Beschichtungshistogramme metallurgisch gespeichert worden und stehen für eine post-process Schichtanalyse zur Verfügung.In FIG. 1 illustrating a first embodiment of the longitudinal section is a Vorrich processing for differential and integral PVD-coating with a continuous pliable cover strip 1 is shown. The flexible, endless cover strip 1 is part of the mask. In the flexible, endless cover strip 1 , a differential coating window 6 b and an integral coating window 6 a are left out. The flexible, endless cover strip 1 is driven by drive rollers 3 and deflection rollers 4 and deflected according to FIG. 1. The drive rollers 3 , the deflection rollers 4 and the flexible, endless cover strip 1 are accommodated in a device housing 9 . The non-designated in Fig. 1 foot portion of the device housing 9 is häuses with the non-designated in Fig. 1 the head part of Vorrichtungsge connected 9 via a not designated in Fig. 1 square sleeve. The square sleeve is recessed on two opposite sides in full length with a width that is slightly smaller than the width of the test specimen 2 . In this way, the square sleeve forms a guide frame (left guide frame 10 a and right guide frame 10 b) for the flexible, endless cover strip 1 . The height of the square sleeve is equal to the height of the test specimen 2 . The left guide frames 10 a nearest surface of the Pro bekörpers 2 is hereinafter referred to as the left surface, the right men Führungsrah 10 b nearest surface of the specimen 2 as the right surface. Between the left guide frame 10 a or the right guide frame 10 b and the test specimen 2 , the flexible, endless cover strip 1 is freely, vertically displaceable. At the beginning of a PVD coating, the differential coating window 6 b is located at the upper end of the test specimen 2 , while the opposite integral coating window 6 a leaves the entire left surface of the test specimen 2 exposed for a PVD coating, as shown in FIGS. 1 a and 1 . 1b. It is assumed that the total coating time takes 60 minutes and the height of the test specimen 2 is exactly 12 cm and its width is exactly 5 cm. The width of the flexible, endless cover strip 1 is also exactly 5 cm. After exactly 5 minutes each time coating of the flexible, endless cover strip 1 with the aid of the drive rollers 3 to 5 cm exactly corresponding to FIG. 1 moved. After 30 minutes of coating time, the position of the differential coating window 6 a and the position and size of the integral coating window 6 b have been set in accordance with FIG. 2c and FIG. 2d. Up to this point, the right surface of the test specimen 2 has been coated differentially on exactly five surface segments. Up to this coating time, the left surface of the test specimen 2 can be subdivided into five integrally coated surface segments. The lower surface segment, with a height of 5 cm, has been coated for exactly 5 minutes, the overlying surface segment, with a height of also 5 cm, for exactly 10 minutes, etc. The surface segment exposed in FIG. 1c, the height of which is 30 cm has already been coated for 30 minutes. After exactly 60 minutes, with the same, clocked continuation of the displacement of the endless, flexible cover strip 1 , the right surface of the test specimen 2 according to the invention is completely differentially coated and the left upper surface of the test specimen 2 is completely integrally coated according to the invention. At the end of a PVD coating, a total of 24 different PVD coating histograms have been metallurgically stored on a single test specimen 2 and are available for a post-process layer analysis.
Ein zweites Ausführungsbeispiel sei anhand der Fig. 2 erörtert. Dort ist der Längsschnitt einer Vorrichtung entsprechend der Erfindung dargestellt. Hier übernehmen die Wände einer Abdeckhülse, die zur Maske gehören, die Funktionen des flexiblen, endlosen Abdeckstreifens 1 entsprechend der Fig. 1. Die rechte Abdeckhülsenwand ist am unteren Ende mit einem differentiellen Abdeckhülsenfenster 7b ausgespart, die linke Abdeckhülsenwand ist, mit Ausnahme eines kleinen, in Fig. 2 nicht bezeichneten links- bzw. rechtsseitigen Rahmen blechs, vollständig ausgespart (integrales Abdeckhülsenfenster 7a). Mit Hilfe einer Antriebsrolle 3, einer Umlenkrolle 4 und eines Zugseils 8 wird der Probekörper 2 in er findungsgemäßer Weise getaktet und/oder kontinuierlich in die Abdeckhülse eingeschoben und so analog zum ersten Ausführungsbeispiel die linke Oberfläche des Probekörpers 2 integral und die rechte Oberfläche des Probekörpers 2 differentiell beschichtet. A second exemplary embodiment will be discussed with reference to FIG. 2. There is shown the longitudinal section of a device according to the invention. Here the walls of a cover sleeve, which belong to the mask, the functions of the flexible, endless cover strip 1 take over according to Fig. 1. The right Abdeckhülsenwand is recessed b at the lower end with a differential Abdeckhülsenfenster 7, the left Abdeckhülsenwand is a small except , left or right-hand frame sheet not shown in Fig. 2, completely recessed (integral cover sleeve window 7 a). With the help of a drive roller 3 , a deflection roller 4 and a traction cable 8 , the test specimen 2 is clocked in accordance with the invention and / or continuously pushed into the cover sleeve and thus analogously to the first exemplary embodiment, the left surface of the test specimen 2 is integral and the right surface of the test specimen 2 differentially coated.
11
flexibler, endloser Abdeckstreifen
flexible, endless cover strip
22
Probekörper
specimens
33
Antriebsrolle
capstan
44
Umlenkrolle
idler pulley
55
Abdeckhülse
cover sleeve
55
a linke Abdeckhülsenwand
a left cover sleeve wall
55
b rechte Abdeckhülsenwand
b right cover sleeve wall
66
a integrales Beschichtungsfenster
an integral coating window
66
b differentielles Beschichtungsfenster
b differential coating window
77
a integrales Abdeckhülsenfenster
an integral cover sleeve window
77
b differentielles Abdeckhülsenfenster
b differential cover window
88th
Zugseil
rope
99
Vorrichtungsgehäuse
device housing
1010
a linker Führungsrahmen
a left lead frame
1010
b rechter Führungsrahmen
b right guide frame
Claims (6)
in der Maske in zwei unterschiedlichen Maskenseitenflächen jeweils ein Beschich tungsfenster ausgespart ist, wobei die Höhe des ersten Beschichtungsfensters (diffe rentielles Beschichtungsfenster) kleiner bis gleich der Breite der Maskenseitenfläche ist und die Höhe des zweiten Beschichtungsfensters (integrales Beschichtungsfenster) größer als die Breite der Maskenseitenfläche bis gleich der Höhe des Probekörpers ist,
die Höhe der Maske gleich oder größer der doppelten Höhe des Probekörpers ist und
die Vorrichtung mit einem Antrieb einschließlich getriebetechnischer Mittel (An triebssystem) ausgestattet ist, die eine getaktete oder kontinuierliche Bewegung zwi schen dem Probekörper und den Maskenseitenflächen auszubilden gestatten.1. Device for vacuum coating, in particular PVD coating of a substrate (test specimen) which is designed as a straight square body and is surrounded by a displaceable mask, preferably in the form of a sleeve, characterized in that
in the mask in two different mask side surfaces, one coating window is recessed, the height of the first coating window (differential coating window) being less than or equal to the width of the mask side surface and the height of the second coating window (integral coating window) greater than the width of the mask side surface is equal to the height of the test specimen,
the height of the mask is equal to or greater than twice the height of the test specimen and
the device is equipped with a drive including transmission technology means (drive system) that allow a clocked or continuous movement between the specimen and the mask side surfaces to form.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1998150424 DE19850424C2 (en) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | Device and method for differential and integral vacuum coating of substrates and their use |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1998150424 DE19850424C2 (en) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | Device and method for differential and integral vacuum coating of substrates and their use |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19850424A1 DE19850424A1 (en) | 2000-05-04 |
| DE19850424C2 true DE19850424C2 (en) | 2002-03-28 |
Family
ID=7886395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1998150424 Expired - Fee Related DE19850424C2 (en) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | Device and method for differential and integral vacuum coating of substrates and their use |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE19850424C2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10119926A1 (en) * | 2001-04-23 | 2002-10-24 | Ernst Muenstermann | Process for optimizing the composition and/or mechanical properties of one or more layers deposited during a PVD, CVD and/or PCVD process comprises depositing layer(s) on vaporizing |
| CN114577506A (en) * | 2020-11-30 | 2022-06-03 | 核工业理化工程研究院 | Sampling device and sampling method for vacuum coating sample |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1057876A (en) * | 1962-08-03 | 1967-02-08 | English Electric Co Ltd | Manufacture of electronic components by deposition of a material |
| DE4131520C1 (en) * | 1991-09-21 | 1992-09-24 | Battelle-Institut Ev, 6000 Frankfurt, De | Single or multilayer structured coatings core - with mask film passed over cylindrical body |
-
1998
- 1998-11-02 DE DE1998150424 patent/DE19850424C2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1057876A (en) * | 1962-08-03 | 1967-02-08 | English Electric Co Ltd | Manufacture of electronic components by deposition of a material |
| DE4131520C1 (en) * | 1991-09-21 | 1992-09-24 | Battelle-Institut Ev, 6000 Frankfurt, De | Single or multilayer structured coatings core - with mask film passed over cylindrical body |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19850424A1 (en) | 2000-05-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE4341173A1 (en) | Deposition of different materials on one substrate | |
| DE19752322A1 (en) | Complex optical multilayer coating production | |
| DE2449290A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR MICROSCOPING WITH LIGHT OF DIFFERENT COLORS | |
| DE2540911B2 (en) | Method for determining the particle flow in a vacuum coating system and device for carrying out the method | |
| DE102016101001B4 (en) | Device for the detection and characterization of organic molecules in a liquid sample volume | |
| EP3953499A1 (en) | Device and method for coating substrates having planar or shaped surfaces by means of magnetron sputtering | |
| DE19850424C2 (en) | Device and method for differential and integral vacuum coating of substrates and their use | |
| DE19852955C2 (en) | X-ray analyzer with an X-ray optical semiconductor component | |
| EP1647840A2 (en) | X-ray-optical or neutron-optical analyser comprising a stripdetector having variable light-transmission | |
| EP0740139A1 (en) | Device for in situ measurement of stress in films | |
| DE102019210727A1 (en) | Method for determining a cleaning state of a surface of a flat product and a flat product | |
| WO2005059197A2 (en) | Method and device for magnetron sputtering | |
| DE19515172C1 (en) | Depositing coloured layers onto substrates | |
| DE102011076267B3 (en) | Conducting gas in magnetron-vacuum coating system, comprises passing substrate to magnetron, introducing reactive gas on both sides along longitudinal extent in axial direction of target and controllably adjusting reactive gas flow | |
| DE2720300A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR THE EXAMINATION OF GASES | |
| EP3663431A1 (en) | Substrate coating method | |
| EP0547081B1 (en) | Process and device for the analysis and determination of the concentration of elements in the surface region of objects | |
| WO2021110297A1 (en) | Device for illuminating a workpiece, method for modifying same, and method for measuring the surface of the workpiece | |
| DE102014118878A1 (en) | Process control method and associated arrangement for the production of a thin-film system | |
| DE4015275A1 (en) | ARRANGEMENT WITH COATED MIRROR FOR EXAMINING SAMPLES BY THE METHOD OF X-RAY FLUORESCENCE ANALYSIS | |
| DE10239163A1 (en) | Device and method for forming gradient layers on substrates in a vacuum chamber | |
| DE3518774A1 (en) | Method for determining and optimising the optical path length of a continuous transparent layer or of a structured layer | |
| DE2815704C3 (en) | Method and device for the production of rotationally symmetrical graduated filters | |
| DE102013100443A1 (en) | Protective window device for a coating installation | |
| DE102016125585A1 (en) | Optics for electrons from an object, use thereof in a spectrometer for X-ray photoelectron spectroscopy for electrons from an object and spectrometer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8122 | Nonbinding interest in granting licenses declared | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee | ||
| 8370 | Indication of lapse of patent is to be deleted | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |