DE19740401C1 - Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung und Vorrichtung zu seiner Durchführung - Google Patents
Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung und Vorrichtung zu seiner DurchführungInfo
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- B01J2219/0884—Gas-liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0892—Materials to be treated involving catalytically active material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F11/00—Treatment of sludge; Devices therefor
Landscapes
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und die zugehörige
Vorrichtung zur oxidativen Behandlung von Schadstoffen und
anderen organischen Stoffen in gasförmigen, flüssigen und
suspendierten festen Matrices, wobei das Verfahren insbesonde
re die oxidative Wirkung der Elektronenbestrahlung verbessert.
Die DE 36 25 232 A1 beschreibt den Abbau von polyhaloge
nierten Kohlenwasserstoffen in dünnen wäßrigen Schichten durch
mit 150-350 kV beschleunigte Elektronenstrahlen.
Bei der Behandlung wäßriger Lösungen werden die Elektro
nenstrahlen üblicherweise durch Fallfilme oder anders erzeugte
dünne Schichten geleitet. Die nutzbare Schichtdicke wird dabei
durch die Eindringtiefe der Elektronenstrahlen bestimmt, die
von der angelegten Beschleunigungsspannung abhängt und bei den
eingesetzten Elektronenbeschleunigern zwischen 0,1-2 cm
beträgt.
Die WO 97/13554 beschreibt ein Verfahren zum Abbau organi
scher Schadstoffe, bei dem Suspensionen luminophorer Festkör
per im sauren pH-Bereich und in Anwesenheit von H2O2 oder
Carbonsäure mit Elektronenstrahlen von 0,05 bis 20 MeV be
strahlt werden.
Die DE 42 16 776 A1 betrifft ein Entgiftungsverfahren für
halogenierte aromatische Kohlenwasserstoffe, bei dem durch
Umpumpen eine Lösung im Wirbelbett gehalten wird und unter
gleichzeitiger gesonderter Zuführung eines Oxidationsmittels
wie Ozon oder H2O2 eine Bestrahlung mit ultraviolettem Licht
erfolgt.
Während zur Behandlung von Rauchgasen mit Elektronen
strahlen in Japan, USA und Polen bereits mehrere Anlagen im
Einsatz sind, gehört die Elektronenbestrahlung wäßriger Lösun
gen trotz langjähriger Entwicklungen noch nicht zum Stand der
Technik. Neben hohen Investitionskosten sind dafür auch gerin
gere spezifische Umsätze und teilweise unerwünschte Nebenreak
tionen die Ursachen. Beispielsweise werden bei der Elektronen
bestrahlung polychlorierter Dibenzodioxine und -furane par
allel zum gewünschten oxidativen Abbau auch niedriger chlo
rierte Kongeneren gebildet, die toxischer sind als die octa
chlorierten Ausgangsverbindungen. Ursache dieser Dechlorierung
sind Reaktionen mit Wasserstoff oder anderen reduzierenden
Bestrahlungsprodukten, die gleichzeitig mit Hydroxylradikalen
und anderen oxidierenden Bestrahlungsprodukten gebildet wer
den.
Bei dem Abbremsen der beschleunigten Elektronen in wäß
rigen Schichten werden entlang der Elektronenbahn Wassermole
küle in H2O+ und e- ionisiert. H2O+ reagiert im Verlauf von 10-12 s
mit benachbarten Wassermolekülen unter Bildung von Hydroxyl
radikalen (OH.) und Wasserstoffionen (H3O+). Die Hydroxylra
dikale besitzen ein hohes Oxidationspotential (2,8 V) und sind
wesentlich am oxidativen Abbau organischer Verbindungen betei
ligt. Die freigesetzten Elektronen e- können durch Wassermole
küle hydratisiert werden (e- aq) oder mit Wasserionen angeregte
Wassermoleküle (H2O*) bilden, die ihrerseits Hydroxylradikale,
Wasserstoff und Wasserstoffradikale bilden.
Bei der Elektronenbestrahlung wäßriger Lösungen werden
also zwangsläufig nach etwa 10-6 s gleichzeitig oxidierende
und reduzierende reaktive Spezies gebildet, die mit den Was
serinhaltsstoffen oder auch miteinander reagieren.
Die Reaktion der reduzierenden Spezies mit Hydroxylradi
kalen führt zu Ausbeuteverlusten und die Reaktion reduzieren
der Spezies mit organischen Chlorverbindungen führt zu meist
unerwünschten Dechlorierungsprozessen.
Bekannt in den bisher beschriebenen Verfahren ist auch die
Verwendung oxidierender Chemikalien, vorzugsweise Wasserstoff
peroxid, die allerdings die Betriebskosten erhöhen. Bei höhe
ren Wasserstoffperoxidkonzentrationen wurde bei UV- Bestrah
lung auch eine Radikalfängerwirkung gegenüber Hydroxylradika
len beobachtet (Schulte, P. et al., WLB Wasser, Luft und Boden
9/1991, S. 55-58), die zu einer Ausbeuteverringerung führte.
Auch bei einer Vorbehandlung mit Ozon kann der Anteil reduzie
render Spezies während der Bestrahlung nicht entscheidend
verringert werden, da Ozon nur beschränkt in Wasser löslich
ist und das gelöste Ozon aufgrund seiner hohen Reaktivität
(Oxidationspotential 2,07 V) durch andere Inhaltsstoffe bis
zur Bestrahlung bereits weitestgehend abgebaut ist.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, den An
teil reduzierender Spezies bei der Elektronenbestrahlung flüs
siger, insbesondere wäßriger Systeme zu verringern und damit
den oxidativen Abbau organischer Stoffe zu verbessern.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in der Bereit
stellung eines Verfahrens und einer Vorrichtung, mit denen aus
Flüssigkeiten oder Gasen Schadstoffe kontinuierlich und nahezu
vollständig entfernt werden können.
Erfindungsgemäß besteht das Verfahren zum oxidativen
Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung darin, daß
man einen zu behandelnden Stoff in Form einer Lösung, einer
Suspension oder eines Gases einer schaumartig strukturierten
Gas-Flüssigkeitszone mit fein verteilten Gasbläschen in der
Flüssigkeit zuführt, wobei das Flüssigkeits-Gas-Verhältnis im
Bereich von 3 bis 800 l/m3 liegt, und die in einem Reaktions
raum gebildete Schaumzone von 1 bis 50 cm Höhe mit den darin
enthaltenen Schadstoffen kontinuierlich einer Elektronenstrah
lung mit einer Energie von 0,05 bis 150 MeV aussetzt.
Bei der Bestrahlung dieser dynamischen Schaumzone durch
dringt jeder Elektronenstrahl mehrfach wäßrige und gasförmige
Bereiche. Bei dem Durchdringen des Gases, z. B. von Luft bildet
der Elektronenstrahl aus Sauerstoff das wirksame Oxidations
mittel Ozon, das aufgrund der feinen Gas-Flüssigkeitsvertei
lung sofort nach
seiner Bildung in der Schaumzone gleichmäßig verteilt ist.
Damit wird erreicht, daß reduzierende Spezies durch Ozon ver
braucht werden und nicht mit oxidierenden Spezies oder den
abzubauenden organischen oder anorganischen Stoffen reagieren
können.
Ein zusätzlicher Vorteil der erfindungsgemäßen Lösung
besteht darin, daß Schadstoffmoleküle, die in einem ersten
Reaktionsschritt direkt durch die Elektronenstrahlen oder
durch die erzeugten Hydroxylradikale angegriffen wurden, durch
das gebildete Ozon weiter oxidativ abgebaut werden, bevor sie
sich unter Bildung neuer Schadstoffe wieder stabilisieren
können. Ein Beispiel dafür ist die Bildung von polychlorierten
Dibenzofuranen aus polychlorierten Dibenzodioxinen bei der
herkömmlichen Bestrahlung in dünnen Schichten.
Parallel zur Ozonbildung werden durch Elektronenbestrah
lung von Luft auch Stickoxide gebildet, die ebenfalls reduzie
rende Spezies binden.
Die erfindungsgemäße Schaumzone wird vorteilhaft durch
Versprühen der Flüssigkeit über Düsen und Einleiten des Gases
im Gegenstrom zur versprühten Flüssigkeit erzeugt. Dabei kann
durch Einstellung des Flüssigkeit/Gas-Verhältnisses für z. B.
das Trägermedium Wasser und das Trägergas Luft eine gewünschte
Höhe der Schaumzone in Abhängigkeit von der Düsenart und
-anordnung vom Fachmann ohne besondere Probleme erhalten wer
den. Zu beachten ist gegebenenfalls ein mit Schadstoffen oder
mit anderen organischen Verbindungen angereichertes Medium,
bei dem infolge einer bestimmten Selbstschäumkraft Schaumver
zögerer zugesetzt oder schaumzerstörende Maßnahmen vorgesehen
werden können.
Als Düsen eignen sich handelsübliche Düsen mit Lochplat
ten oder Dralleinsätzen, mit denen die zu bestrahlende Flüs
sigkeit zusammen mit dem im Gegenstrom geführten Gas, das z. B.
angesaugt wird, feine und feinste Schaumbläschen erzeugen
kann.
Als Gas eignet sich Sauerstoff oder ein Sauerstoff/Stick
stoff-Gasgemisch, z. B. Luft. Das Gas kann nach Passieren der
Schaumzone und gegebenenfalls Passieren einer weiteren Wasch
stufe mit der zu behandelnden Flüssigkeit wieder im Kreislauf
im Verfahren eingesetzt werden, wodurch jegliche Reinigung von
geringen Restozonmengen entfallen kann.
Die erfindungsgemäß gebildete Schaumzone kann vorteilhaft
eine Höhe von 3 bis 20 cm haben, wobei jedoch die Höhe bzw.
Dicke der Schaumzone stark von dem Flüssigkeits-Gas-Verhältnis
und der Bestrahlungsdosis abhängig ist.
Diese Schaumzone wird ebenfalls vorteilhaft in einem
rohrförmigen Reaktionsraum gebildet.
Die Parameter der Elektronenstrahlung bei einmaligem
Durchlauf von versprühter Flüssigkeit durch die Schaumzone
können wie folgt eingestellt werden: Bestrahlungsdosis 0,3 bis
500 kGy, Strahlstrom 1 bis 50 mA, Beschleunigungsenergie 0,05
bis 15 MeV. Bei einem weiteren Durchlauf, z. B. bei Reihen
schaltung, kann beispielsweise die Bestrahlungsdosis auch ge
ändert werden.
Die zu beseitigenden Schadstoffe oder sonstigen organi
schen Stoffe können in den Trägermedien gelöst oder supendiert
vorliegen.
Das erfindungsgemäße Verfahren unterscheidet sich durch
die unmittelbar in der bestrahlten Flüssigkeit erfolgende
Ozonbildung grundlegend von der Elektronenbestrahlung dünner
Schichten und anderen bekannten Lösungen der Behandlung durch
Bestrahlung bei Zusatz von Oxidationsmitteln.
Im Gegensatz zu bekannten Verfahren der Bestrahlung dün
ner Schichten wird durch das neue Verfahren ohne Zusätze von
Oxidationsmittel der Anteil reduzierender Spezies deutlich
verringert und damit der strahlungsenergiebezogene Umsatz
erhöht und unerwünschte Reduktionsreaktionen ausgeschlossen
oder stark vermindert.
Ein besonderes Problem bei der Bestrahlung dünner Schich
ten sind die geringe Eindringtiefe der Elektronenstrahlen und
die durch laminare Strömung bedingten Konzentrationsgradienten
in den Grenzbereichen der Eindringtiefe. Da die Eindringtiefe
von der Flächenmasse des durchstrahlten Mediums abhängt, kann
bei dem erfindungsgemäßen Verfahren je nach Flüssigkeits-Gas-
Verhältnis ein Gemisch mit 2-10fach stärkerer Schichtdicke
als Wasser durchstrahlt werden.
Konzentrationsgradienten werden innerhalb der dynamischen
Schaumzone ausgeglichen. Die zufällige ungleichmäßige Vertei
lung der Lösungspartikel in der Bestrahlungszone wird durch
mehrere Umpumpzyklen während der Bestrahlung beseitigt.
Bei den bekannten Anordnungen zur Bestrahlung werden
möglicher Durchsatz und Bestrahlungsdauer durch die Strömung
der bestrahlten Schicht und die Abmessungen des Strahlers
vorgegeben.
Ein weiteres Problem bekannter technischer Bestrahlungs
anlagen ist die notwendige Gleichmäßigkeit der Schichtdicke
bei üblichen Strahlfensterbreiten von etwa 1 m. Gleichmäßige
Flüssigkeitschichtdicken ab etwa 5 mm sind in reinen Lösungen
möglich. In feststoffbelasteten Lösungen und bei geringeren
Schichtdicken muß dagegen mit ausbeuteverringernden Ungleich
mäßigkeiten gerechnet werden, so daß in diesen Anlagen zum
Ausgleich größere Schichtdicken und damit stärkere Elektronen
beschleuniger mit höheren Energien erforderlich sind.
Die Variabilität des neuen Verfahrens ermöglicht aufgrund
der größeren Schichtdicke und der kontinuierlichen Mehrfachbe
strahlung auch den Einsatz kleinerer Elektronenbeschleuniger
mit geringeren Beschleunigungsenergien und geringerer Abschir
mung, so daß mobile Anlagen leichter errichtet werden können.
Das Flüssigkeits-Gas-Verhältnis kann durch den eingesetz
ten Düsentyp in weiten Bereichen variiert werden. Damit ist
eine gleichzeitige Behandlung von Abwasser und Abluft in einer
Bestrahlungseinrichtung möglich, wodurch sich die Einsatzmög
lichkeiten des neuen Verfahrens wesentlich erweitern.
Die Variabilität von Durchsatz und Bestrahlungszeit der
neuen Anlage ermöglicht auch eine Behandlung großer Wasser
mengen mit geringen Strahlungsdosen, durch die eine Abtötung
von Bakterien, Viren und anderen schädlichen Keimen erfolgt.
Da die Luft aus dem Bestrahlungsraum durch die Schaumzone
gesaugt wird, kann das im Bestrahlungsraum gebildete Ozon
zusätzlich genutzt werden und muß nicht in erforderlichen
Abluftreinigungsanlagen zersetzt werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann so geführt werden,
daß man entweder die Schaumzone aus einem Trägergas und einem
die Schadstoffe enthaltenden flüssigen Medium erzeugt, oder
die Schaumzone aus einem die Schadstoffe enthaltenden Gas und
einem flüssigen Medium erzeugt, oder
die Schaumzone aus einem Schadstoffe enthaltenden Gas und
einem Schadstoffe enthaltenden flüssigen Medium erzeugt.
Als Schadstoffe, die durch das erfindungsgemäße Verfahren
in umweltneutrale Stoffe gewandelt werden können, kommen so
wohl organische Schadstoffe, wie z. B. Dioxine als auch anorga
nische Schadstoffe in Frage.
Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Behand
lung von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung, gekennzeich
net durch
einen Reaktionsraum mit wenigstens einer darin senkrecht zum
oberen Ende des Reaktionsraumes angeordneten Düse, Zuführungs
leitungen für ein flüssiges Medium zur Düse, einer oberhalb
der Düse und im oberen Teil des Reaktionsraumes angeordneten
Gaszuführung, einer unterhalb der Düse angeordneten Ableitung
zu einem Tropfenabscheider, einer außerhalb des Reaktionsrau
mes oberhalb der Düse vertikal oder horizontal zur Zone über
der Düse angeordneten Elektronenstrahleinrichtung, Pumpen,
Gebläse und Reguliereinrichtungen zur regulierten Förderung
der Stoffströme und Mittel zur Ableitung der gereinigten Flüs
sigkeiten oder Gase.
Es können mehrere Düsen in unterschiedlichen Stellungen
zueinander angeordnet werden, um eine gewünschte Form und/oder
Größe der Schaumzone zu erzeugen.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird vorteilhaft so durch
geführt, daß in einer Wanne unter der gesamten Bestrahlungs
zone 1-30 beiderseits offene Reaktorrohrmodule angeordnet
sind, die entsprechend der jeweiligen Aufgabenstellung par
allel oder in Reihe geschaltet werden.
Die zu bestrahlende Flüssigkeit wird den Modulen über
seitliche Anschlußstutzen mit einem Druck von 2-10 bar zu
geführt und in dem Rohr durch eine Düse nach oben zerstäubt.
Der Flüssigkeitsdurchsatz ist vom Rohrdurchmesser und der
Düsenart abhängig und liegt beispielsweise bei einem Rohr der
Nennweite 100 (100 mm Durchmesser) zwischen 0,3 und 3 m3/h.
Im Gegenstrom wird über die obere Rohröffnung ein Gas,
z. B. Luft durch die mit diesem Gas gebildete Schaumzone ge
saugt und unterhalb der Düse seitlich zu einem Tropfenabschei
der geführt. Bei den vorstehend angegebenen Flüssigkeitsmengen
liegen die durchgesaugten Luftmengen zwischen 0,3 und 1000
Nm3/h.
Der Druckverlust über die Schaumzone beträgt je nach
Durchsatz 5-30 mbar.
Ein weiterer Vorteil der gefundenen Lösung besteht darin,
daß die Bestrahlung in mehreren Reaktorrohrmodulen erfolgt,
die beliebig parallel oder in Reihe geschaltet werden können,
so daß eine hohe Anpassungsfähigkeit hinsichtlich Durchsatz
und Bestrahlungszeit möglich ist.
Tropfenabscheider und Reaktionsrohr stehen mit den unte
ren offenen Enden in der Wanne, in der sich die ablaufenden
Lösungen sammeln und über Umwälzpumpen den nächsten Reaktions
modulen zugeführt oder abgepumpt werden. Durch Zwischenwehre
werden die Stoffströme den entsprechenden Kreisläufen zugeord
net.
Da die verwendete Anlage mit geringem Unterdruck arbeitet
und vorteilhaft z. B. Umgebungsluft angesaugt wird, können die
Reaktionsrohre aus einzelnen Segmenten durch Steckverbindungen
zusammengesetzt werden, so daß eine leichte Demontage und
Reinigung möglich ist.
Eine weitere Verbesserung der Wirksamkeit der Vorrichtung
kann durch Einbau eines Gitters oder Netzes in Höhe des in
Zusammenhang mit der Elektronenstrahlung wirksamen Bereiches
der Schaumzone erfolgen, bei dem das Gitter oder Netz mit
einer verbundenen oder nicht verbundenen Schicht versehen ist,
die aus einer oder mehreren Substanzen besteht, die für die
katalytische Ozonspaltung wirksam sind. Derartige Substanzen
sind z. B. Mischoxide, die zu ca. 20 Gew-% aus CuO und 50 Gew-%
aus MnO oder beispielsweise aus Eisenoxid und Manganoxid be
stehen.
Die Erfindung soll nachstehend durch Beispiele näher
erläutert werden. In der dazugehörigen Zeichnung zeigen
Fig. 1 Schematische Darstellung des erfindungsgemäßen Verfah
rens und der Vorrichtungsbestandteile.
Die Vorrichtung besteht aus einem Reaktionsraum 1 mit
einer darin senkrecht zum oberen Ende des Reaktionsraumes 1
angeordneten Düse 2; einer Zuführungsleitung 3 für ein flüs
siges Medium zu der Düse 2, wobei das Medium beim Verdüsen und
Mischen mit Gasen oberhalb der Düse eine Schaumzone bildet;
einer oberhalb der gebildeten Schaumzone im oberen Teil des
Reaktionsraumes 1 angeordneten Luftzuführung 5, einer unter
halb der Düse 2 angeordneten Ableitung 4 zu einem außerhalb
des Reaktionsraumes befindlichen Tropfenabscheider 6, einer
oberhalb der Düse 2 und außerhalb des Reaktionsraumes vertikal
zur Schaumzone 15 über der Düse angeordneten handelsüblichen
Elektronenstrahleinrichtung 7. Weiterhin sind Pumpen 8, Geblä
se 9, Dosiereinrichtungen 10 sowie Reguliereinrichtungen 11
zur regulierten Förderung der Stoffströme und Einrichtungen
zur Ableitung der gereinigten Flüssigkeiten oder Gase vorgese
hen, z. B. ein Filter 13. Zum Schutz des Strahlaustrittes ist
eine Schutzfolie 14 mit einem darin befindlichen Strahlfenster
vorgesehen. In der Schaumzone 15 kann ein Gitter 16 mit Kata
lysatoren angeordnet sein.
Alle folgenden Beispieluntersuchungen wurden mit Luft als
Gas und Lösungen aus den angegebenen Inhaltsstoffen in ent
salztem Wasser (Deionat) durchgeführt.
7 l einer Lösung mit 493 mg/l des Farbstoffes Rhodamin B
und 280 mg/l eines Entschäumers wurden mit Schwefelsäure auf
pH 3 angesäuert und mit folgenden Parametern bestrahlt:
- - Reaktionsrohrdurchmesser: 100 mm
- - Lösungsdurchsatz: 1200 l/h
- - Lösungsvordruck: 0,3 MPa
- - Luftdurchsatz: 120 m3i.N./h*
- - Druckverlust der Schaumzone: 1 kPa
- - Dicke der Schaumzone ca.: 3 cm
- - Beschleunigungsspannung: 1,5 MeV
- - Strahlstrom: 7,2 mA
- - absorbierte Strahlendosis: 40 kGy
*m3 Luft im Normzustand pro Stunde
Der Gehalt an Rhodamin B verringerte sich dabei um 399
mg/l auf 93,8 mg/l. Das entspricht einem Abbau von 10 mg/kGy
absorbierter Strahlung.
900 g stichfester, dioxinbelasteter Klärschlamm (Trockensubstanz TS)-
Gehalt 128 g/kg) wurde in 7 l entsalztem Wasser suspendiert.
Diese Suspension wurde in einer Apparatur nach vorstehend
beschrieben Parametern mit einer Dosis von 120 kGy bestrahlt.
In der nachfolgenden Tabelle 1 sind die Werte für 5 Dioxinkon
genere im Einsatzprodukt und in der behandelten Suspension
angegeben. Kongenere sind chemische Verbindungen mit gleicher
Molekülstruktur, die sich nur durch die Zahl und die Anordnung
einzelner Atome unterscheiden.
Durch die Bestrahlung wurde bei allen Kongeneren ein
weitgehender Abbau der Dioxine erreicht. In der bestrahlten
Suspension betrug die Summe der PCDD nur noch 2,4% des Aus
gangswertes.
Bei ansonsten gleichen Parametern wie in Beispiel 2,
mit Ausnahme dessen, daß die Schaumzone 10 cm betrug, wurde
mit einer Dosis von 200 kGy bestrahlt.
In der nachfolgenden Tabelle 2 sind die Werte für 5
Dioxinkongenere in Internationalen Toxizitätsäquivalenten (I
- TE)ng/kg Trockensubstanz (TS) im Einsatzprodukt und in
der behandelten Suspension angegeben.
Durch die Bestrahlung wurde bei allen Kongeneren ein
weitgehender Abbau der Toxizitätsäquivalente erreicht. In
der bestrahlten Suspension betrug die Summe der Toxizitäts
äquivalente nur noch 7,2% des Ausgangswertes.
Die folgende Tabelle 3 zeigt, daß nach dem erfindungs
gemäßen Verfahren und im Gegensatz zu bisher bekannten Ver
fahrensergebnissen trotz hoher Dioxinabbauraten keine zu
sätzlichen Furane gebildet werden, sondern auch die Konzen
tration der polychlorierten Dibenzofurane verringert wird.
Bei gleichen Parametern wie in Beispiel 1, wurde mit einer
Dosis von 120 kGy bestrahlt.
Durch die Bestrahlung wurde trotz weitgehendem Abbau
der Dioxine noch ein gleichzeitiger Abbau der Furane um ein
Drittel erreicht. Das bestätigt, daß durch das vorhandene
Ozon der oxidative Abbau der Dioxine beschleunigt und eine
Stabilisierung der geöffneten Dioxinringmoleküle durch Fu
ranringbildung verringert wird.
7 l einer Lösung mit 16,3 mg/l As2O3 wurden bei pH 8 und
den gleichen Parametern wie in Beispiel 1 bestrahlt. Nach
der Bestrahlung betrug der As2O3 - Gehalt weniger als 0,5
mg/l. Über 97% des dreiwertigen Arsens wurden durch die Be
strahlung zu dem durch Fällung mit Eisensalzen aus Trinkwas
ser leichter abtrennbaren fünfwertigen Arsen oxidiert.
Die folgenden Vergleichsbeispiele zeigen Ergebnisse,
die mit dem gleichen Elektronenbeschleuniger bei Bestrahlun
gen in entsprechend dünnen Schichten (3-4 mm) erhalten
wurden.
In früheren Versuchen war eine Lösung mit der 12-fach nied
rigeren Konzentration von 80 mg/l Rhodamin B und einem ver
gleichbaren Waschmittelzusatz von 260 mg/l in Schalen bei
einer Schichtdicke von 3 mm mit 1,5 MeV Elektronenbeschleu
nigung und einer Dosis von 5 kGy bestrahlt worden. Die ge
fundene Restkonzentration nach der Bestrahlung betrug 18,9
mg/l, entsprechend einem Abbau um 21,1 mg/l, bzw. 4,2 mg/kGy
absorbierter Strahlung.
Der spezifische Rhodaminabbau betrug somit weniger als
die Hälfte des Abbaues bei der Bestrahlung nach dem erfin
dungsgemäßen Verfahren.
Aus 1,25 l entsalztem Wasser und 247 g des in den Bei
spielen 2-4 eingesetzten Klärschlammes wurden Suspensionen
hergestellt und davon mehrere Proben mit verschiedenen Zu
sätzen in flachen Schalen bei Schichtdicken von 3-4 mm mit
folgenden Parametern bestrahlt:
- - Beschleunigungsenergie 1,5 MeV
- - Strahlstrom: 7,2 mA
- - absorbierte Strahlendosis: 450 kGy
Zur besseren Vergleichbarkeit wurden die Ergebnisse auf
gleiche Mengen Trockensubstanz Klärschlamm umgerechnet.
In der nachfolgenden Tabelle 4 sind die Werte der besten
Probe für 5 Dioxinkongenere im Einsatzprodukt und in der
behandelten Suspension angegeben.
Trotz größerer absorbierter Dosis wurde durch die
"statische" Bestrahlung in dünnen Schichten bei allen Kon
generen ein geringerer Abbau der Dioxine erreicht als bei
der Bestrahlung in dem erfindungsgemäßen Schaumzonen-Elek
tronenstrahlreaktor. Bei der "statischen" Bestrahlung betrug
die Summe der PCDD 5,3% des Ausgangswertes, während sie im
erfindungsgemäßen Schaumzonen-Elektronenstrahlreaktor trotz
niedrigerer Dosis auf 2,4% verringert wurde.
In der nachfolgenden Tabelle 5 sind die Werte für 5
Dioxinkongenere in Internationalen Toxizitätsäquivalenten (I
- TE)ng/kg Trockensubstanz (TS) im Einsatzprodukt und in
der besten Probe der "statisch" bestrahlten Suspension ange
geben.
Trotz größerer absorbierter Dosis wurde durch die
"statische" Bestrahlung in dünnen Schichten bei allen Kon
generen eine geringere Abnahme der Toxizitätsäquivalente
erreicht als bei der Bestrahlung in dem erfindungsgemäßen
Schaumzonenreaktor. Bei der "statischen" Bestrahlung betrug
die Summe der Toxizitätsäquivalente 19,3% des Ausgangswer
tes, während sie im Schaumzonenreaktor trotz niedrigerer
Dosis auf 7,2% verringert wurde.
Der folgende Tabelle 6 zeigt, daß nach dem herkömmli
chen Bestrahlungsverfahren bei hohen Dioxinabbauraten zu
sätzliche Furane gebildet werden.
In der nachfolgenden Tabelle 6 sind die Werte der be
sten Probe für 5 Dioxinkongenere im Einsatzprodukt und in
der behandelten Suspension angegeben. Auch hier wurde wieder
mit den gleichen Parametern wie im Vergleichsbeispiel 1, mit
einer Dosis von 450 kGy bestrahlt.
Durch den Abbau der Dioxine bei der "statischen" Be
strahlung in Schichten wurden wegen der ungenügenden Ozon
konzentration in der Suspension zusätzlich Furane gebildet,
so daß sich deren Anteil um 19% erhöhte.
Die Ergebnisse zeigen, daß durch das erfindungsgemäße
Verfahren gegenüber der Elektronenbestrahlung von dünnen,
homogenen Schichten wesentliche Verbesserungen bei der Zer
setzung von schwer abbaubaren polychlorierten Dibenzofuranen
und polychlorierten Dibenzodioxinen ermöglicht werden.
Auch für einfachere Schadstoffe ergeben die genannten Vor
teile des neuen Verfahrens bessere Ergebnisse, so daß eine
breite, kostengünstige Anwendung in folgenden Bereichen mög
lich ist:
- - Färbereiabwässer der Textilindustrie mit folgenden Farbstoffgruppen: Direktfarbstoffe, Reaktivfarbstoffe, Säu re- bzw. Metallkomplexfarbstoffe, Dispersionsfarbstoffe
- - Kohlendisulfid (CS2)-haltige Abluft und Abwässer aus der Viskoseseideproduktion oder aus Extraktionsprozessen
- - herbizid- oder pestizidhaltige Grundwässer aus früheren landwirtschaftlichen Anwendungen
- - Abluft und Abwässer der pharmazeutischen Industrie mit Lösungs- und Extraktionsmittel (Aromaten, Chlorkohlenwasser stoffe) oder speziellen Konservierungsstoffen (z. B. Thiomer sal)
- - Abluft und Abwässer der chemischen Industrie mit oxi dierbaren anorganischen (Sulfide, Cyanide, Nitrite, Arseni te) und organischen (Amine, Sulfonsäuren, Mercaptane, Disulfide, Thiophenole, Phosphonsäuren) Inhaltsstoffen
- - Abwässer der Zellstoffindustrie mit schwer abbaubaren Ligninbestandteilen
- - cyanid- und nitrithaltige Härtereisalze aus der Stahl industrie
- - Abwässer der Metallverarbeitung und Herstellung von Produkten der galvanischen Industrie mit Cyaniden, komplexen Cyaniden, Nitriten, Sulfiden, Seleniden, Thiocyanaten, Kom plexverbindungen aus NTA, EDTA, Citronensäure, Weinsäure mit Kupfer, Nickel, Zink, Cadmium
- - Trinkwasseraufbereitung mit Entkeimung, Beseitigung störender Geruchsstoffe und Färbungen, sowie Verbesserung der Abtrennbarkeit schädlicher Inhaltsstoffe wie huminsäure gebundenes Eisen oder Mangan, Arsenit, chlororganische Ver bindungen
Claims (19)
1. Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch
Elektronenstrahlung, dadurch gekennzeichnet, daß man einen
zu behandelnden Stoff in Form einer Lösung, einer Suspension
oder eines Gases einer schaumartig strukturierten Gas-Flüs
sigkeitszone mit fein verteilten Gasbläschen in der Flüssig
keit zuführt, wobei das Flüssigkeits-Gas-Verhältnis im Be
reich von 3 bis 800 l/m3 liegt,
und die in einem Reaktionsraum gebildete Schaumzone von 1
bis 50 cm Höhe mit den darin enthaltenen Schadstoffen kon
tinuierlich einer Elektronenstrahlung mit einer Energie von
0,05 bis 15 MeV aussetzt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schaumzone durch Versprühen der Flüssigkeit über Düsen
und Einleiten des Gases im Gegenstrom zur versprühten Flüs
sigkeit erzeugt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
das Versprühen über Düsen mit eingebauten Lochplatten und/-
oder Drallvorrichtungen erfolgt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
als Gas Sauerstoff oder ein Sauerstoff-Stickstoff-Gasgemisch
eingeführt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Gas im Kreislauf geführt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß das im Gegenstrom zu der versprühten Flüs
sigkeit geführte Gas nach Passieren der Schaumzone durch das
schadstoffbelastete oder -unbelastete flüssige Medium hin
durch geleitet wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
eine Schaumzone mit einer Höhe von 3 bis 20 cm erzeugt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schaumzone in einem Rohr als Reaktionsraum gebildet
wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Parameter der Elektronenstrahlung bei einmaligem Durch
lauf der versprühten Flüssigkeit durch die Schaumzone wie
folgt eingestellt werden: Bestrahlungsdosis 0,3 bis 500 kGy,
Strahlstrom 1 bis 50 mA, Beschleunigungsenergie 0,05 bis 15
MeV.
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
man die Schaumzone aus einem Trägergas und einem die Schad
stoffe enthaltenden flüssigen Medium erzeugt.
11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
man die Schaumzone aus einem die Schadstoffe enthaltenden
Gas und einem flüssigen Medium erzeugt.
12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
man die Schaumzone aus einem Schadstoffe enthaltenden Gas
und einem Schadstoffe enthaltenden flüssigen Medium erzeugt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch ge
kennzeichnet, daß als Trägergas Luft und als flüssiges Medi
um Wasser eingesetzt werden.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß in die Schaumzone katalytisch wirkende
Feststoffe zur Ozonspaltung eingebracht werden in Form eines
oder mehrerer mit dem Katalysator beschichteter Gitter oder
Netze oder einer auf einem Netz liegenden Katalysator
schicht.
15. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach An
spruch 1, gekennzeichnet durch
einen Reaktionsraum (1) mit wenigstens einer darin senkrecht
zum oberen Ende des Reaktionsraumes (1) angeordneten Düse
(2); Zuführungsleitungen (3) zur Düse (2) für ein flüssiges
Medium; einer oberhalb der Düse (2) und im oberen Teil des
Reaktionsraumes (1) angeordneten Gaszuführung (5); einer
unterhalb der Düse (2) angeordneten Ableitung (4) zu einem
Tropfenabscheider (6); einer oberhalb der Düse (2) und au
ßerhalb des Reaktionsraumes (1) vertikal oder horizontal zur
Zone (15) über der Düse angeordneten Elektronenstrahlein
richtung (7); Pumpen (8); Gebläse (9); Dosiereinrichtungen
(10) und Reguliereinrichtungen (11) zur regulierten Förde
rung der Stoffströme und Mittel zur Ableitung der gereinig
ten Flüssigkeiten oder Gase und zum Schutz gegen unkontrol
lierten Elektronenstrahlaustritt.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß der Reaktionsraum rohrförmig gestaltet ist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß der rohrförmige Reaktionsraum senkrecht in einer Wanne
mit dem behandelten oder zu behandelnden flüssigen Medium
steht.
18. Vorrichtung nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekenn
zeichnet, daß mehrere rohrförmige Reaktionsräume, insbeson
dere eine der Strahlfensterfläche der Elektronenstrahlein
richtung entsprechende Querschnittsfläche an rohrförmigen
Reaktionsräumen, parallel oder in Reihe zu einem Reaktormu
dul zusammengeschlossen sind.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet,
daß die Reaktionsräume durch Absperrorgane, insbesondere
Wehre, voneinander getrennt sind.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1997140401 DE19740401C1 (de) | 1997-09-09 | 1997-09-09 | Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung und Vorrichtung zu seiner Durchführung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1997140401 DE19740401C1 (de) | 1997-09-09 | 1997-09-09 | Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung und Vorrichtung zu seiner Durchführung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19740401C1 true DE19740401C1 (de) | 1999-05-20 |
Family
ID=7842320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1997140401 Expired - Fee Related DE19740401C1 (de) | 1997-09-09 | 1997-09-09 | Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung und Vorrichtung zu seiner Durchführung |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE19740401C1 (de) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1997
- 1997-09-09 DE DE1997140401 patent/DE19740401C1/de not_active Expired - Fee Related
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