DE19732668C2 - Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung von Strahlabtastvorrichtungen - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung von StrahlabtastvorrichtungenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kalibrierung von Strahlabtastvorrichtungen sowie
eine Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens. Insbesondere betrifft die
Erfindung ein Verfahren zur Kalibrierung einer Steuerung zur Ablenkung eines zur
Strahlabtastung verwendeten Laserstrahls.
Strahlabtastvorrichtungen besitzen im unkalibrierten Zustand eine für den praktischen
Gebrauch unzureichende Positioniergenauigkeit; Grund hierfür sind unvermeidbare
Fertigungstoleranzen sowie elektromechanische und elektrooptische Nichtlinearitäten der
Gesamtvorrichtung. Es ist daher erforderlich, diese Abtastvorrichtungen zu kalibrieren. Bei
einem aus der DE 44 37 284 A1 bekannten Kalibrierverfahren wird durch Bestrahlen eines
lichtempfindlichen Films mit dem Laserstrahl an vorgegebenen Positionen ein Testbild
erzeugt, das anschließend mittels einer Videokamera oder eines Pixelscanners abgetastet wird.
Dieses bekannte Verfahren ist wegen der geringen Auflösung des Testbildes und der
schwierigen Positionierung des Films für hochpräzise Kalibrierungen ungeeignet.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung der
eingangs genannten Art so zu verbessern, daß es bzw. sie einfach und universell einsetzbar ist,
eine erhöhte Kalibriergenauigkeit ermöglicht und damit auch im Hochpräzisionsbereich
kostengünstig verwendbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs
1 bzw. eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 8 gelöst.
Hauptmerkmal der Erfindung sind die vorgesehenen Markierungen, die beispielsweise in
Form von Linienrastern oder anderen Strukturen mit hoher Präzision in die Oberfläche
eingeätzt oder eingeritzt sein können. Die Position dieser Markierungen wird dadurch erfaßt,
daß der Strahl, beispielsweise ein Laserstrahl, an den Markierungen gegenüber der
umgebenden Oberfläche verändert reflektiert wird. Es wird also immer dann eine
Veränderung der reflektierten Strahlung erfaßt, wenn der Laserstrahl gerade auf eine
Markierung bzw. Linie auftrifft. Damit ist es gegenüber dem Stand der Technik nicht mehr
erforderlich, ein Testbild mit dem Laserstrahl zu erzeugen; vielmehr erfolgt der Vergleich der
Position des Laserstrahls unmittelbar mit den vorhandenen Markierungen.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele anhand der Figuren beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1: eine schematische Darstellung einer ersten Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahren;
Fig. 2: eine schematische Schnittdarstellung zur Erläuterung einer Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 3: eine Draufsicht auf eine bei der Erfindung verwendete Kalibrierplatte;
Fig. 4: eine Draufsicht entsprechend Fig. 3 mit gestrichelt eingezeichnetem Verfahrweg des
Strahls;
Fig. 5. eine schematische Darstellung einer zweiten Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens;
Fig. 6: eine Draufsicht auf eine abgewandelte Form einer bei der Erfindung verwendeten
Kalibrierplatte; und
Fig. 7: eine schematische Schnittdarstellung zur Erläuterung einer weiteren Ausführungsform
der Erfindung.
Wie in Fig. 1 dargestellt, weist eine Strahlabtastvorrichtung 1 eine Laserquelle 2 auf, die
einen Laserstrahl 3 abgibt. Der Laserstrahl 3 wird über einen Lichtmodulator 4 und eine
Aufweiteoptik 5 in einen Abtastkopf 6 geleitet, in dem er über zwei drehbare Spiegel 7, 8 als
abgelenkter Strahl 9 auf eine Arbeitsebene 10 gerichtet wird. Eine Steuerung 11 steuert die
Position der Spiegel 7, 8 derart, daß diese den Laserstrahl 9 an jede gewünschte Position der
Arbeitsebene 10 ablenken.
Eine Kalibriervorrichtung 12 weist eine Kalibrierplatte 13, beispielsweise in Form einer
Glasplatte, auf, die in oder geringfügig über oder unter der Arbeitsebene 10 und parallel zu
dieser angeordnet ist. Die Ausdehnung der Kalibrierplatte 13 entspricht etwa der Größe des
Arbeitsbereichs des Laserstrahl in der Arbeitsebene 10, beispielsweise 100 mm × 100 mm.
Auf der Kalibrierplatte 13 sind Markierungen 14 vorgesehen; diese bestehen im dargestellten
Ausführungsbeispiel aus einer orthogonalen Gitterstruktur in Form eines XY-
Koordinatengitters, das in die Oberfläche der Kalibrierplatte 13 eingeätzt ist. Alternativ kann
diese Struktur auch durch Einritzen der Gitterlinien oder durch photolithographisch oder
mittels Maskentechnik erzeugte Linien erzeugt, beispielsweise auch aufgebracht werden.
Ferner kann die Kalibrierplatte 13 auch anstatt aus Glas aus Metall oder einem anderen
geeigneten Trägermaterial für die Markierungen 14 bestehen.
Die Kalibriervorrichtung 12 umfaßt ferner eine Detektorvorrichtung 15 mit zwei (oder einer
anderen geeigneten Zahl von) Photosensoren 16, 17, die jeweils seitlich oberhalb der
Arbeitsebene derart angeordnet sind, daß sie eine von der Gitterstruktur 14 diffus reflektierte
Strahlung erfassen. Die beiden Photosensoren 16, 17 sind mit der Steuerung 11 verbunden.
Die Arbeitsweise der in Fig. 1 dargestellten Kalibriervorrichtung soll unter Bezug auf die
Fig. 2 und 3 beschrieben werden. In Fig. 2 oben ist ein Schnitt durch die Kalibrierplatte
13 mit den darauf vorgesehenen Markierungen 14 entlang der in Fig. 3 dargestellten
Schnittlinie II-II gezeigt. Die Markierungen bestehen aus einem äquidistanten XY-
Koordinatenraster 14 mit einer Periode p, einer Linienbreite t2 und einem Linienabstand t1.
Das Tastverhältnis ist also t = t1/t2. Vorzugsweise ist t1 << t2. Der Reflexionsfaktor der
Gitterlinien bei diffuser Reflexion ist rd2 und im Bereich zwischen den Linien rd1 < rd2. Der
Laserstrahl 9 wird von der Steuerung 11 durch entsprechendes Schwenken der Spiegel 7, 8 im
Abtastkopf durch Steuersignale schrittweise mit einer Schrittweite w entlang der in Fig. 3
dargestellten Gerade 18 in X-Richtung bewegt. Dabei überstreicht der Laserstrahl in Position
A zunächst einen Zwischenlinienbereich mit dem Reflexionsfaktor rd1, wobei von den
Photosensoren 16, 17 aufgrund des geringen Reflexionsfaktors eine niedrige Intensität I1
erfaßt wird. Beim anschließenden Überstreichen einer Gitterlinie 14 in Position B wird
aufgrund der dort höheren Reflexion rd2 von den Photosensoren 16, 17 eine höhere Intensität
12 der reflektierten Strahlung erfaßt, die beim Auftreffen des Laserstrahls 9 auf den nächsten
Zwischengitterbereich wieder auf den Wert I1 absinkt. Aus dem erfaßten Intensitätsverlauf
der reflektierten Strahlung wird beispielsweise durch Bestimmung des Maximums die exakte
Istpositon des Laserstrahls an der Gitterlinie ermittelt und in der Steuerung 11 mit dem für
diese Stelle vorgegebenen Steuersignal xn (Beispielsweise in Form einer Anzahl Schritte w)
als Sollsignal verglichen. Aus diesem Vergleich wird für die Stelle xn ein Korrekturwert
ermittelt und in der Steuerung 11 abgelegt.
Abstand der Gitterlinien t1: 920 µm
Schrittweite der Steuerung w: 2 µm
Abstand der Gitterlinien t1: 920 µm
Schrittweite der Steuerung w: 2 µm
In Fig. 5 ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung dargestellt, die sich von derjenigen
nach Fig. 1 nur dadurch unterscheidet, daß die Photosensoren 16, 17 unterhalb der
Kalibrierplatte angeordnet sind und anstelle der Reflexion die unterschiedliche Transmission
des Laserstrahls an den Markierungen 14 und dem übrigen Bereich erfassen. In dieser
Ausführung muß die Kalibrierplatte 13 natürlich zumindest im Bereich entweder der
Markierung 14 oder des Bereichs dazwischen zumindest teilweise strahlungsdurchlässig sein.
Gemäß einer weiteren (nicht gezeigten) Abwandlung kann insbesondere dann, wenn die
Laserquelle 2 sehr leistungsstark ist, in der Vorrichtung 1 ein Pilotlaser kleinerer Leistung
eingebaut sein, dessen Strahl für die Kalibrierung in die Optik vor dem Abtastkopf 6
eingekoppelt wird.
Fig. 6 zeigt eine abgewandelte Ausführungsform der Kalibrierplatte, bei der an den
einzelnen definierten Meßpunkten xi, yi Senkungen 19 im Material ausgebildet sind.
Aufgrund dieser Senkungen wird dort wieder ein unterschiedlicher Reflektionsfaktor für die
Laserstrahlung erhalten. Die Kalibrierung erfolgt wiederum durch zeilenweises oder
spaltenweises Anfahren dieser einzelnen Meßpunkte und Ablegen der entsprechenden
Korrekturwerte in der Steuerung 11.
In Fig. 7 ist schematisch eine weitere abgewandelte Ausführungsform der Erfindung
dargestellt, bei der in der Kalibrierplatte 13' Markierungen bzw. Linienmuster 14' mit
dreieckiger Querschnittsform eingeritzt bzw. eingeätzt sind. An den Linien ergibt sich damit
ein in Fig. 7 unten dargestellter ausgeprägter Peak des Intensitätsverlaufs beim Verfahren
des Laserstrahls in Richtung des Pfeils 20, so daß die Position der Linien und damit die
Korrekturwerte mit hoher Genauigkeit erfaßt werden können.
Nach erfolgter Kalibrierung wird anstelle der Kalibrierplatte 13 ein Werkstück in den
Arbeitsbereich der Strahlabtastvorrichtung 1 eingebracht. Dieses Werkstück ist
vorteilhafterweise an genau definierten Stellen, beispielsweise zwei diagonal
gegenüberliegenden Positionen, mit Markierungen versehen. Diese Markierungen werden von
der Strahlabtastvorrichtung erfaßt und mit den zugehörigen korrigierten Steuerdaten
verglichen. Damit wird das kalibrierte Feld der Steuerdaten auf die tatsächliche Lage des
Werkstücks ausgerichtet, was die Anforderungen an die Positionierung des Werkstücks
erheblich verringert. Ferner können die Steuerdaten auch durch Vergleich mit einem
bekannten Abstand zwischen den Markierungen skaliert werden.
Das oben beschriebene Verfahren wird an einer über die gesamte Fläche der Kalibrierplatte
13 verteilten Anzahl von Kalibrierpunkten durchgeführt. Beispielsweise wird in der in Fig. 4
dargestellten Weise ausgehend von einem Startpunkt S der Laserstrahl zunächst in X-
Richtung verfahren, bis an einer ersten Position x0, wo der Laserstrahl die erste sich in Y-
Richtung erstreckende Gitterlinie erfaßt, ein erster x-Korrekturwert ermittelt wird.
Anschließend wird der Laserstrahl in Y-Richtung verfahren, bis er zur ersten sich in X-
Richtung erstreckenden Gitterlinie gelangt. Dort wird der erste y-Korrekturwert für die
Position y0 ermittelt. Beide Korrekturwerte werden dann für die Position x0, y0
abgespeichert. Die Steuerung 11 verfährt dann den Laserstrahl wieder in X-Richtung bis zur
zweiten Gitterlinie mit anschließender Umlenkung in Y-Richtung zur Ermittlung der
Korrekturwerte für die Position x1, y0. In dieser Weise werden alle Kreuzungspunkte des
Gitters 14 in der ersten Zeile angefahren; anschließend fährt der Laserstrahl zur zweiten Zeile
und ermittelt dort an allen Kreuzungspunkten die Korrekturwerte usw. Korrekturwerte für
Koordinaten zwischen diesen Kreuzungspunkten werden anschließend durch Interpolation
oder andere theoretische Mittelungsverfahren ermittelt und ebenfalls in der Steuerung
gespeichert oder auch bei der nachfolgenden Strahlabtastung, beispielsweise der Bearbeitung
eines Werkstücks, online berechnet.
Nach Anfahren aller Kreuzungspunkte kann die Kalibrierplatte 13 mittels einer (nicht
dargestellten) Vorrichtung, beispielsweise einer Klapp- oder Schwenkvorrichtung, entfernt
werden. Der Laserstrahl kann dann jede Position mittels der für diese Position abgelegten
Korrekturwerte der Steuersignale anfahren.
Falls die Arbeitsebene 10 des Laserstrahls oberhalb der Kalibrierplatte 13 liegt, kann diese
auch in der Strahlabtastvorrichtung 1 verbleiben. Dies verringert mögliche Positionierfehler
der Platte 13 beim Einsetzen in die Vorrichtung 1 oder Einbringen in die Kalibrierposition.
Selbstverständlich kann bei geringerem Reflexionsfaktor der Gitterlinien auch ein
Intensitätsminimum bestimmt werden. Wichtig ist, daß die Breite t1 erheblich größer als die
Linienbreite t2 ist und daß sich der Reflexionsfaktor rd2 der Linien von demjenigen der
Zwischenlinienbereiche erheblich unterscheidet. Ferner muß die Schrittweite w der Steuerung
erheblich kleiner sein als der Fokusdurchmesser des Lasers. Für einen Fokusdurchmesser des
Laserstrahls 9 von etwa 35 µm ergeben sich folgende sinnvolle Werte:
Periode p des Gitters: 1000 µm
Breite der Gitterlinien t2: 80 µm
Breite der Gitterlinien t2: 80 µm
Claims (13)
1. Verfahren zum Kalibrieren einer Strahlabtastvorrichtung (1), bei dem
- 1. eine mit definierten Markierungen (14) versehene Oberfläche einer Kalibrierplatte (13) an vorgegebenen Positionen mittels des Strahls (3, 9) der Strahlabtastvorrichtung (1) abgetastet wird,
- 2. aus dem vom Strahl (3) an den Markierungen (14) erzeugten und von der Strahlabtastung (1) erfaßten Signalen die Istpositionen des Abtaststrahls (9) ermittelt werden,
- 3. die Istpositionen des Abtaststrahls (9) mit den Sollpositionen des Abtaststrahls (9) verglichen werden und
- 4. aus dem Vergleich Korrekturwerte für die Steuerung der Strahlabtastvorrichtung (1) ermittelt und bereitgestellt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gegenzeichnet, daß der Strahl (3, 9) ein Laserstrahl ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß als Markierungen (14) ein Linienmuster verwendet wird, wobei
sich die optischen Eigenschaften der Linien von der Oberfläche unterscheiden, und daß die
Oberfläche unter einem Winkel zur Richtung der Linien abgetastet und das Signal erzeugt
wird, wenn der Strahl auf eine der Linien trifft.
4. Verfahren nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß als Linienmuster ein Gittermuster mit zwei sich schneidenden
Linienscharen verwendet wird und der Strahl so gesteuert wird, daß er bei einem Schnittpunkt
zweier Linien beide Linien abtastet und damit die Istposition des Schnittpunktes ermittelt
wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung eines X, Y-Koordinantenrasters durch
abwechselndes Ablenken des Strahls in X- und Y-Richtung jeder Rasterpunkt erfaßt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3-5,
dadurch gekennzeichnet, daß die diffuse Reflexion oder die Transmission an den
Markierungen (14) gemessen wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 3-6,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kalibrierplatte (13) nach dem Kalibrieren entfernt wird.
8. Vorrichtung zum Kalibrieren einer Strahlabtastvorrichtung (1) mit einem
Strahlerzeuger (2) zum Erzeugen eines gerichteten elektomagnetischen Strahls (3, 9) und einer
Steuerung (11, 6) zum Ablenken des Strahls an vorbestimmte Sollpositionen,
gekennzeichnet durch eine Kalibrierplatte (13) mit einer Oberfläche mit definierten
Markierungen (14), eine Detektorvorrichtung (15) zum Erzeugen eines Detektorsignals beim
Erfassen der Markierungen (14) durch den Strahl (9)
eine Auswertevorrichtung (11) zum Ermitteln der Istpositionen des Abtaststrahls (9) aus den
Signalen der Detektorvorrichtung (15) und zum Vergleich der Istpositionen des Abtaststrahls
(9) mit den Sollpositionen des Abtaststrahls (9) sowie zum Erzeugen eines Korrektursignals
für die Steuerung (11, 6) aus diesem Vergleich.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Markierungen (14) als Linienmuster oder Gitternetz
ausgebildet ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die Markierungen (14) in die Oberfläche der Kalibrierplatte (13)
eingeätzt oder eingeritzt ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8-10,
dadurch gekennzeichnet, daß die Detektorvorrichtung (15) Photosensoren (16, 17) zum
Erfassen eines an der Oberfläche diffus reflektierten Strahlanteils bzw. eines durch die
Oberfläche hindurchgehenden Strahlanteils aufweist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8-11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlabtastvorrichtung (1) eine Arbeitsebene (10) aufweist
und die Oberfläche der Kalibriervorrichtung (12) zum Kalibrieren in oder unterhalb der
Arbeitsebene (10) parallel zu dieser angeordnet ist.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Vorrichtung zum Einbringen der Oberfläche in die
Kalibrieranlage und Entfernen aus dieser vorgesehen ist.
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Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19906763B4 (de) * | 1998-02-20 | 2004-07-22 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | Anordnung zum Kalibrieren eines Laserscanmikroskops |
| DE19963010B4 (de) * | 1999-12-22 | 2005-02-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Laserbearbeitung von Werkstücken |
| DE10001429A1 (de) * | 2000-01-15 | 2001-07-19 | Volkswagen Ag | Vorrichtung zur Kalibrierung optischer Meßsysteme und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung |
| DE10160172B4 (de) * | 2001-12-07 | 2016-06-09 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Laserscanningmikroskop und Laserscanningmikroskopieverfahren |
| DE10340382B4 (de) | 2002-09-30 | 2012-10-31 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Verfahren zur Bestimmung des Abstandes von Projektionspunkten auf der Oberfläche einer Druckform |
| DE102007011305A1 (de) | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Strahljustage in einem optischen Strahlengang |
| US8154572B2 (en) | 2007-05-31 | 2012-04-10 | Eastman Kodak Company | Adjusting the calibration of an imaging system |
| DE102010060958A1 (de) * | 2010-12-02 | 2012-06-06 | Scanlab Ag | Laserbearbeitungsvorrichtung sowie Positionsermittlungsvorrichtung und Strukturermittlungsvorrichtung für eine Laserbearbeitungsvorrichtung |
| CN102489880A (zh) * | 2011-12-26 | 2012-06-13 | 上海市激光技术研究所 | 一种光纤激光熔覆装置 |
| CN102773610A (zh) * | 2012-06-07 | 2012-11-14 | 江阴德力激光设备有限公司 | 一种紫外激光在透明材质内部标记的装置及其方法 |
| DE102012110646A1 (de) * | 2012-11-07 | 2014-05-08 | Scanlab Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Bereitstellen eines Lichtstrahls |
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| DE102021103493C5 (de) * | 2021-02-15 | 2024-08-22 | Novanta Europe Gmbh | Verfahren für eine Scanfeldkorrektur mindestens einer Laserscannervorrichtung, Laserscannervorrichtung, Streumusterelement, Streumusterhaltevorrichtung und Scanfeldkorrektursystem |
| AT526197B1 (de) | 2022-06-09 | 2024-10-15 | Trotec Laser Gmbh | Verfahren zum Ermitteln von, insbesondere statischen, Geometriefehlern einer Lasermaschine zum Schneiden, Gravieren, Markieren und/oder Beschriften eines Werkstückes und ein Verfahren zum Ermitteln der Lage bzw. Position des Mittelpunkts eines Detektors am Detektorelement sowie Kalibrier-Segment und Lasermaschine hierfür |
| DE102022120064A1 (de) * | 2022-08-09 | 2024-02-15 | Dmg Mori Additive Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung einer auf optischer Wechselwirkung basierenden Fertigungsanlage |
| CN115815791B (zh) * | 2023-02-17 | 2023-04-21 | 北京金橙子科技股份有限公司 | 实现激光束焦点自动居中的校准方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4437284A1 (de) * | 1994-10-18 | 1996-04-25 | Eos Electro Optical Syst | Verfahren zum Kalibrieren einer Steuerung zur Ablenkung eines Laserstrahls |
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Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4437284A1 (de) * | 1994-10-18 | 1996-04-25 | Eos Electro Optical Syst | Verfahren zum Kalibrieren einer Steuerung zur Ablenkung eines Laserstrahls |
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