DE19681191C2 - Verfahren zur Analyse von Oberflächenverunreinigungen in einem sehr kleinen Bereich - Google Patents
Verfahren zur Analyse von Oberflächenverunreinigungen in einem sehr kleinen BereichInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000011109 contamination Methods 0.000 title claims description 12
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title description 28
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 44
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 35
- 238000003795 desorption Methods 0.000 claims description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 22
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 claims description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 14
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
- G01N23/2252—Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis [EPMA]
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/08—Electron sources, e.g. for generating photo-electrons, secondary electrons or Auger electrons
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/142—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using a solid target which is not previously vapourised
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/25—Tubes for localised analysis using electron or ion beams
- H01J2237/2505—Tubes for localised analysis using electron or ion beams characterised by their application
- H01J2237/2511—Auger spectrometers
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/25—Tubes for localised analysis using electron or ion beams
- H01J2237/2505—Tubes for localised analysis using electron or ion beams characterised by their application
- H01J2237/2516—Secondary particles mass or energy spectrometry
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- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
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Description
Diese Erfindung betrifft ein Meßverfahren zum Analysieren von
Oberflächenverunreinigungen in einem sehr kleinen Bereich, und
insbesondere ein Verfahren zum Analysieren für Oberflächenver
unreinigungen zur Verwendung zur Analyse einer Oberflächenver
unreinigung auf einem elektronischen Schaltungsteil, einer Re
laiskontakt-Oberfläche, einer integrierten Schaltung oder ir
gendeinem anderen sehr kleinen elektronischen Teil, um eine Ur
sache für ein Auftreten eines Fehlers zu analysieren, der aus
einer Verschlechterung durch Kontaminierung entsteht.
Ein Fehler bei einem Betrieb eines elektronischen Schaltungs
teils, einer Relaiskontakt-Oberfläche, einer integrierten
Schaltungsvorrichtung, wie beispielsweise einem IC oder einem
LSI, oder irgendeinem anderen sehr kleinen elektronischen Teil
wird in den meisten Fällen durch eine kontaminierende Verunrei
nigung verursacht, die an der Oberfläche haftet.
Kontaminierende Verunreinigungen können grob in folgende drei
Verunreinigungen eingeteilt werden:
- 1. Organische Moleküle, die negative Atome, wie beispielsweise Sauerstoff, Chlorin oder Schwefel enthalten;
- 2. Hydrocarbon-Moleküle; und
- 3. organische Moleküle, die sowohl Stickstoff als auch Sauer stoff enthalten.
Da die Ursache für einen Fehler bei einem Betrieb in Abhängig
keit vom Typ der kontaminierenden Verunreinigung unterschied
lich ist, ist es wichtig und notwendig, zu spezifizieren, wel
che kontaminierende Verunreinigung es ist.
Als Verfahren zum Analysieren einer kontaminierenden Verunrei
nigung, die an der Oberfläche eines Objekts haftet, werden in
der Praxis ein Infrarotabsorptionsverfahren vom Reflexionstyp,
ein Ionenstrahl-Massenspektroskopieverfahren, und ein Analyse
verfahren unter Verwendung des Energieverlusts aufgrund der
Trägheit von Elektronen angewendet. Während jene Analyseverfah
ren alle angewendet werden, wo der Analyse-Oberflächenbereich,
für den es erforderlich ist, eine Analyse durchzuführen, etwa
(0,1 mm)2 bis (einige mm)2 beträgt, ist es jedoch zum Analysie
ren der Oberfläche eines Chips einer Halbleitervorrichtung von
heute für den Analyse-Oberflächenbereich erforderlich, daß er
in der Größenordnung von weniger als (µm)2 ist. Demgemäß ist
keines der oben beschriebenen Analyseverfahren zur Verwendung
beim Analysieren der Oberfläche eines elektronischen Teils ge
eignet.
Es gibt auch ein anderes Verfahren, bei dem ein Elektronen
strahl auf die Oberfläche einer Probe gestrahlt wird und desor
bierte Moleküle unter Verwendung eines Massenspektrographen
analysiert werden. Bei diesem Beispiel ist es möglich, Energie
auf einen sehr kleinen Bereich in der Größenordnung von weniger
als (µm)2 aus einer Beziehung einer Elektronenwellenlänge zu
konzentrieren, und es ist möglich, den sehr kleinen Bereich zu
analysieren.
Unter den herkömmlichen Analyseverfahren, die oben beschrieben
sind, ist das Ionenstrahl-Massenspektrometrieverfahren und das
Analyseverfahren unter Verwendung des Energieverlusts aufgrund
der Trägheit von Elektronen nicht dazu geeignet, die Oberfläche
eines elektronischen Teils zu analysieren, da der für die Ana
lyse erforderliche Bereich groß ist.
Das Verfahren, bei dem ein Elektronenstrahl eingestrahlt wird
und desorbierte Moleküle unter Verwendung eines Massenspektro
graphen analysiert werden, läßt eine Analyse eines sehr kleinen
Bereichs zu. Jedoch hat das Verfahren das Problem, daß es dort,
wo verschiedene Moleküle eine gleiche Massenzahl haben
(beispielsweise CH4 und O, CH4OH und O2 usw.), nicht spezifi
ziert werden kann, was die kontaminierende Verunreinigung ist.
Die Druckschriften 1, 2 und 3, nämlich "E. C. Ekwelund et al.,
Electron stimulated Desorption of positive Ions from an adsor
bate-covered Si(100) Surface, Surface Science 215 (1989) 91-
101", "M Bernheim et al., Surface potential control on thin
films with respect to electron stimulated desorption studies,
Journal de Physique III, Sept. 1995, vol. 5, No. 9, p. 1407-
1424" und "R. M. Wallace et al., An ESDIAD study of chemisorbed
hydrogen on clean and H-exposed Si(111)-(7 × 7), Surface Science
239 (1990) 1-12", zeigen jeweils Vorrichtungen zum Ausführen
eines Verfahrens zum Analysieren einer Oberflächenverunreini
gung in einem sehr kleinen Bereich. Gemäß der Druckschrift 3
wird ein Elektronenstrahl mit sehr kleinen Abmessungen mit ei
ner Beschleunigungsspannung beschleunigt und auf einen sehr
kleinen Bereich einer Probe gestrahlt und eine Massenspektrome
trie von Molekülen durchgeführt, welche die Oberfläche verun
reinigen und von dem bestrahlten Bereich desorbiert werden. Die
Beschleunigungsspannung wird dabei auf eine Spannung einge
stellt, mit der eine Desorption dieser die Oberfläche verunrei
nigenden Moleküle durch einen ESD-Effekt erfolgt. Insbesondere
ist in den Druckschriften 1 und 2 auch eine mehrfache Bestrah
lung des Bereichs mit jeweils geänderter Beschleunigungsspan
nung gezeigt. Zusätzlich zeigen diese Druckschriften die Ein
strahlung eines Elektronenstrahls mittlerer Energie. Auch der
Einsatz von Auger-Elektronenspektrometer ist aus den Druck
schriften 1 und 3 bekannt.
Die vorliegende Erfindung ist angesichts der Probleme des oben
beschriebenen Standes der Technik gemacht worden, und ausgehend
von einem Stand der Technik gemäß der Druckschrift 3 ist es die
Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Analyseverfahren zu
schaffen, durch welches eine Oberflächenverunreinigung in einem
sehr kleinen Bereich spezifiziert werden kann, wobei eine ge
nauere Analyse ganz bestimmter Moleküle möglich ist.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren gemäß Patentanspruch 1
gelöst. Die Patentansprüche 2 und 3 zeigen vorteilhafte Weiter
bildungen des Verfahrens des Patentanspruchs 1.
Gemäß dem Verfahren der vorliegenden Erfindung kann eine Strah
lung eines Elektronenstrahls mit einer Beschleunigungsspannung
von 0,5 kV bis 1,2 kV, eine Bestrahlung mit einem anderen
Elektronenstrahl mit einer anderen Beschleunigungsspannung von
1,4 kV bis 2,4 kV und eine Bestrahlung mit einem weiteren
Elektronenstrahl mit einer weiteren Beschleunigungsspannung von
2,8 kV oder darüber durchgeführt werden. Durch die spezielle
Wahl der Beschleunigungsspannungen können unterschiedliche Ar
ten organischer Zusammensetzungen genauer analysiert werden.
Die vorliegende Erfindung ist durch Berücksichtigen eines Phä
nomens einer molekularen Desorption durch einen Effekt einer
ESD (einer elektronenstimulierten Desorption) durch Strahlung
eines Elektronenstrahls gemacht worden.
Ein Desorptionsmechanismus durch einen ESD-Effekt ist unten be
schrieben.
Moleküle, deren Verbindungsorbitale durch Strahlung eines Elek
tronenstrahls aufgetrennt worden sind, werden in einen angereg
ten Zustand getrieben und oszilliert, so daß jene Moleküle, die
von der Oberfläche mit einem neutralen Potential oder einem
Ionsierungspotential desorbiert werden, erzeugt werden. Das
Verhältnis der neutralen desorbierten Moleküle zu den ionisier
ten desorbierten Molekülen ist dann derart, daß die neutralen
desorbierten Moleküle das 100-fache oder mehr der ionisierten
desorbierten Moleküle sind, so daß gesagt werden kann, daß fast
alle desorbierten Moleküle neutrale desorbierte Moleküle sind.
Ein derartiger Desorptionsmechanismus durch Anregung, wie es
oben beschrieben ist, wird direkter ESD-Effekt genannt und wird
durch einen langsamen Elektronenstrahl erzeugt, dessen Be
schleunigungsspannung etwa 100 bis 500 V ist.
Gegensätzlich zum direkten ESD-Effekt ist auch ein indirekter
ESD-Effekt bekannt, der durch einen Elektronenstrahl mittlerer
Energie verursacht wird, dessen Beschleunigungsspannung etwa
0,5 bis 3 kV ist. Wo ein Elektronenstrahl mittlerer Energie
verwendet wird, ist deshalb, weil der Streustrahlungs-
Querschnitt durch Oberflächenmoleküle klein ist, die Wahr
scheinlichkeit gering, daß Moleküle direkt angeregt werden kön
nen, aber die Energie der nichtelastischen Streustrahlungselek
tronen ist weit verteilt, und es wird auch eine große Anzahl
von Elektronen erzeugt, deren Energie geringer als 500 eV ist.
Durch solche Elektronen, die durch Kollision eines Elektronen
strahls mittlerer Energie sekundär erzeugt werden und eine
Energie von weniger als 500 eV haben, werden Moleküle angeregt,
was desorbierte Moleküle erzeugt.
Die Erfinder haben herausgefunden, daß bei einer Desorption von
Molekülen durch einen ESD-Effekt, anders als bei einer normalen
thermischen Desorption, in Abhängigkeit von der
Energie des Elektronenstrahls unterschiedliche organische
Moleküle desorbiert werden.
Herkömmlich wird bei einer Vorrichtung, die ein Abtastelektro
nenmikroskop (hierin nachfolgend SEM genannt) oder eine Auger-
Elektronenspektroskopie (hierin nachfolgend AES genannt) ver
wendet, eine Einstellung einer Beschleunigungsspannung durchge
führt, um die Vergrößerung oder die Auflösung zu verändern, und
die Messung selbst wird mit der gleichen Beschleunigungsspan
nung durchgeführt. Gegensätzlich dazu werden bei der vorliegen
den Erfindung, basierend auf der durch die Untersuchung erhal
tenen Annahme, Beschleunigungsspannungen aufeinanderfolgend
verwendet, bei welchen eine Desorption signifikant auftritt
von organischen Molekülen, welche Sauerstoff enthalten, von Hy
drocarbon-Molekülen und von organischen Molekülen, die Stick
stoff oder Sauerstoff enthalten, um eine Massenspektroskopie
individuell durchzuführen. Folglich wird eine Identifikation
organischer Moleküle ermöglicht, die die gleiche Massenzahl ha
ben, aber in bezug auf den Typ unterschiedlich sind.
Weiterhin werden dort, wo ein Elektronenstrahl mittlerer Ener
gie eingestrahlt wird, desorbierte Moleküle durch einen indirekten
ESD-Effekt erzeugt, und eine Beobachtung mittels eines SEM oder
einer auf AES basierenden Messung ist zugelassen, und eine Mas
senspektroskopie kann zusammen mit jenen Operationen durchge
führt werden.
Es folgt eine kurze Beschreibung der Zeichnungen, wobei:
Fig. 1 einen Aufbau einer Vorrichtung zeigt, mit der
ein Meßverfahren gemäß der vorliegenden Erfin
dung ausgeführt wird;
Fig. 2(a) einen Teilaufbau des in Fig. 1 gezeigten Ausfüh
rungsbeispiels detaillierter zeigt, und
Fig. 2(b) einen Aufbau eines herkömmlichen Beispiels als
Vergleichsbeispiel zu dem in Fig. 2(a) gezeigten
Aufbau zeigt;
Fig. 3 ein Massenspektrum zeigt, das erhalten wird,
wenn Moleküle von der Oberfläche eines Al
Drahtes desorbiert werden;
Fig. 4 ein Massenspektrum zeigt, das erhalten wird,
wenn der in Fig. 3 gezeigte Al-Draht Polystyren
absorbiert, das in einer Acetonlösung aufgelöst
ist, um Moleküle zu desorbieren;
Fig. 5(a) bis 5(d) Ionenströme in Abhängigkeit von der Be
schleunigungsspannung der Elektronen darstellen;
Fig. 6 die Zahl von desorbierten Molekülen in Abhängig
keit von der Beschleunigungsspannung der Elek
tronen darstellt, und zwar gemeinsam für unter
schiedliche Arten organischer Zusammensetzung;
und
Fig. 7(a) bis 7(c) Desorptionszustände durch die vorliegende
Erfindung darstellen, wenn Moleküle durch einen
ESD-Effekt desorbiert werden, und zwar insbeson
dere durch einen indirekten ESD-Effekt, und
Fig. 7(d) einen Desorptionszustand von Molekülen durch ei
ne thermische Desorption als Vergleichsbeispiel
darstellt.
Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung unter
Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
Fig. 1 zeigt einen Aufbau einer Vorrichtung, bei der ein Meß
verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung ausgeführt wird.
Das vorliegende Ausführungsbeispiel enthält einen Massenspek
trometrie-Detektor 5, der auf einem zusammengebauten Gerät mon
tiert ist, das ein SEM verwendet, und ein anderes Gerät, das
auf AES basiert, und das eine Analyse durch AES und eine Mas
senspektrometrie einer in einer Kammer 4 angeordneten Probe zu
läßt. Spektralbilder, die Ergebnisse der Analysen zeigen, wer
den jeweils auf einem Monitor 7 und einem Monitor 2 angezeigt.
Zwischenzeitlich wird ein Bild zur Beobachtung der Oberfläche
durch das SEM auf dem Monitor 2 angezeigt. Für eine Erzeugungs
quelle für einen Elektronenstrahl, der für eine Massenspektro
metrie zu verwenden ist, wird dieselbe Erzeugungsquelle wie je
ne für eine Auger-Elektronenspektro-Diffraktometrie verwendet
und durch Strahlung des Elektronenstrahls erzeugte und durch
einen Massenspektrometrie-Detektor 5 erfaßte Moleküle werden
durch eine Massenspektrometrie-Einheit 3 analysiert, und ein
Ergebnis der Analyse wird auf dem Monitor 2 angezeigt.
Fig. 2(a) zeigt einen Aufbau des Geräts detaillierter, das SEM
und AES und den Massenspektrograph beim vorliegenden Ausfüh
rungsbeispiel verwendet, und zwar mit Elementen, die in Fig. 1
weggelassen sind, und Fig. 2(b) zeigt einen Aufbau eines her
kömmlichen Geräts als Vergleichsbeispiel.
In einer Kammer 201 (Kammer 4 in Fig. 1), die durch eine Vaku
umpumpe 202 evakuiert worden ist und in der eine Probe 203, die
ein Objekt einer Messung ist, angeordnet ist, sind eine Elek
tronenkanone 205 zum Strahlen eines Elektronenstrahls auf die
Probe 203, ein SEM-Detektor 204, ein AES-Detektor 206 und ein
vierpoliger Detektor 210 für eine Massenspektrometrie
(Massenspektrometrie-Detektor 5 in Fig. 1) vorgesehen. Inhalte
einer Erfassung durch den SEM-Detektor 204, den AES-Detektor
206 und den vierpoligen Detektor 210 werden zur SEM-
Analyseeinheit 207, zur AES-Analyseeinheit 209 und zur Massen
spektrometrieeinheit 211 (Massenspektrometrie-Einheit 3 in Fig.
1) gesendet und durch sie analysiert, und ein Ergebnis der Ana
lyse durch die AES-Analyseeinheit 209 wird auf dem Monitor 7
der Fig. 1 angezeigt, während die Ergebnisse der Analysen durch
die SEM-Analyseeinheit 207 und die Massenspektrometrie-Einheit
211 auf dem Monitor 2 der Fig. 1 angezeigt werden.
Wie es oben beschrieben ist, ist die vorliegende Erfindung da
durch gekennzeichnet, daß Moleküle selektiv durch einen indi
rekten ESD-Effekt desorbiert werden, wenn die Beschleunigungs
spannung für einen Elektronenstrahl verändert wird, und um dies
zu realisieren, ist in Fig. 2(a) ein Beschleunigungsspannungs-
Steuergerät 208 zum Einstellen der Beschleunigungsspannung der
Elektronenkanone 205 vorgesehen, das bei dem in Fig. 2(b) ge
zeigten herkömmlichen Beispiel nicht vorgesehen ist.
Als Betriebsarten des in Fig. 1 gezeigten Geräts sind ein Mas
senspektrometriebetrieb, ein Auger-Elektronenspektro-
Difraktometrie-Betrieb, ein Beobachtungsbetrieb, bei dem SEM
verwendet wird, usw. verfügbar, und eine Operationssteuerung
wird in jedem Betrieb durch ein Steuergerät 1 durchgeführt. Das
Steuergerät 1 ändert die Betriebsart in Antwort auf Inhalte ei
ner Eingabe durch einen Bediener des Geräts und bestimmt die
Beschleunigungsspannung für einen Elektronenstrahl, der von der
Elektronenkanone 205 auszusenden ist, über ein Beschleunigungs
spannungs-Steuergerät 208.
Zum Durchführen einer Analyse eines sehr kleinen Bereichs, des
sen zu analysierender Oberflächenbereich in der Größenordnung
von weniger als (µm)2 ist, muß Energie lokal gestrahlt werden,
um Moleküle zu desorbieren. Hier ist es möglich, Energie auf
einen sehr kleinen Bereich in der Größenordnung von weniger als
(µm)2 zu konzentrieren, und zwar durch Anwenden einer Technik
zum Strahlen eines Elektronenstrahls. Weiterhin ist zum Sicher
stellen einer genauen Messung und Analyse, ohne daß sie durch
die Umgebung oder den Untergrund beeinflußt werden, die Kammer
4, in der eine Probe anzuordnen ist, in einem Zustand mit ul
trahohem Vakuum in der Größenordnung von 10-8 Torr.
Ein Gaseinführungsrohr, das die Kammer 4 und den Massenspektro
metrie-Detektor 5 miteinander verbindet, ist aus einer Alumini
umlegierung hergestellt, um eine derartige Situation zu verhin
dern, daß eine desorbierte Verunreinigung durch eine Wandober
fläche des Gaseinführungsrohrs eingefangen wird oder durch ir
gendwelche andere Moleküle ersetzt wird. Weiterhin kann durch
Beobachten eines SEM-Bildes eine sehr kleine Meßstelle spezifi
ziert werden.
Von den Betriebsarten der Vorrichtung zum Analysieren einer
Oberflächenverunreinigung in einem sehr kleinen Bereich, die in
Fig. 1 gezeigt ist, wird der Beobachtungsbetrieb durch SEM zu
erst beschrieben.
Das SEM-Gerät wird zum Spezifizieren der Oberfläche einer zu
analysierenden Probe verwendet. Dieses SEM-Gerät beschleunigt
Thermo-Elektrohen, die durch einen Elektronenstrahl erzeugt
werden, der zu einem Aufheizen führt, was als Erzeugungsquelle
eines Elektronenstrahls mit einer hohen Spannung von etwa 3 kV
dient, und konvergiert die Thermo-Elektronen mittels einer
Linse, so daß die Thermo-Elektronen als primärer Elektro
nenstrahl mit der Probe kollidieren können. Das SEM-Gerät er
faßt als Ergebnis der Kollision des primären Elektronenstrahls
einen von der Probe emittierten sekundären Elektronenstrahl,
spezifiziert ihn als Stelle, bei der der primäre Elektronen
strahl mit der Probe kollidiert ist, und wandelt ihn in Bildin
formation um. Ein auf der Bildinformation basierendes Bild wird
auf dem Monitor 6 angezeigt.
Die Emissionswahrscheinlichkeit sekundärer Elektronen hängt von
der Austrittsarbeit der Probe, der Oberflächenverunreinigungs
menge und der Oberflächenkonfiguration der Probe ab. Demgemäß
kann durch Abtasten der Oberfläche der Probe mit dem primären
Elektronenstrahl ein Kontrast gemäß dem Oberflächenzustand er
halten werden, um eine Bildbeobachtung zu bewirken. Die Ober
fläche der zu analysierenden Probe kann durch die Beobachtung
spezifiziert werden.
Als nächstes wird ein Massenspektrometrie-Betrieb beschrieben.
Der Massenspektrograph enthält eine Ionenquelle zum Ionisieren
und Extrahieren von Gasmolekülen in einer festen Richtung, und
eine Analyseeinheit zum Analysieren des Ionenstrahls gemäß dem
Wert des Elektronenladungsverhältnisses m/e, und kann in Abhän
gigkeit vom Typ der Analyseeinheit vom vierpoligen Typ, vom ma
gnetischen Feldablenkungstyp oder irgendeinem anderen Typ sein.
Ein Massenspektrograph vom Magnetfeldablenkungstyp analysiert
unter Verwendung der Tatsache, daß die Stelle eines geladenen
Partikels, der dort hindurch läuft, in Abhängigkeit vom Wert
von m/e verändert wird. Beim gegenwärtigen Ausführungsbeispiel
ist ein Massenspektrograph vom vierpoligen Typ, der eine Auf
treffstelle eines Ions unter Verwendung eines durch vier Elek
troden gebildeten elektrischen Feldes analysiert.
Wenn ein Elektronenstrahl mit einer Probe kollidiert, werden
desorbierte Moleküle erzeugt und von der Oberfläche der Probe
emittiert. Die desorbierten Moleküle werden durch ein Gasein
führungsrohr, das aus einer Aluminiumlegierung hergestellt ist
und die Kammer 4 und den Massenspektrometrie-Detektor 5 mitein
ander verbindet, in den Massenspektrometrie-Detektor 5 geführt
und durch ihn erfaßt und werden dann durch die Massenspektrome
trieeinheit 3 analysiert. Als Ergebnis der Analyse werden die
Massenzahl, die Signalintensität usw. auf dem Monitor 2 ange
zeigt.
Wo die Verbindung zwischen einem Substrat, das aus einem Metall
hergestellt ist, oder einem Halbleiter und organischen Verun
reinigungsmolekülen, die an der Oberfläche haften, schwach ist,
diffundieren desorbierte Verunreinigungen sphärisch und isotrop
von einer Stelle, an der beschleunigte Elektronen kollidieren.
Wo die Verbindung stark ist, werden desorbierte Verunreini
gungsmoleküle in einer Richtung desorbiert, die von der Rich
tung von Moleküloszillationen abhängt. Wenn schnelle, d. h.
hochenergetische, Elektronen mit der Oberfläche des Substrats
kollidieren, steigt die Oberflächentemperatur an, aber in die
sem Fall werden anhaftende Moleküle desorbiert, wie sie sind,
während sie in der Form von Molekülen bleiben.
Wenn ein Elektronenstrahl auf eine Probe gestrahlt wird, wird
eine an der Oberfläche haftende Verunreinigung desorbiert und
von der Oberfläche der Probe emittiert. Moleküle der organi
schen Verunreinigung, die von der Oberfläche der Probe desor
biert werden, kollidieren mit schnellen Elektronen und werden
teilweise zerlegt, so daß sie in der Form von H, H2, OH, CO
oder anderen Atomen oder Molekülen erfaßt werden, wie es oben
beschrieben ist. Jedoch kollidieren die Moleküle der desorbier
ten organischen Verunreinigung dann, wenn sie in das Gaseinfüh
rungsrohr eingeführt werden, mit der inneren Wandoberfläche des
Rohrs und werden zum Teil durch die innere Wandoberfläche ange
zogen. Daraufhin findet ein Austausch von H2O, O2, CO2 oder an
deren Substanzen, die bereits in die innere Wandoberfläche des
Rohrs absorbiert worden sind, mit Molekülen der desorbierten
organischen Verunreinigung statt. Jedoch sind, da das Gasein
führungsrohr aus einer Aluminiumlegierung hergestellt ist und
die innere Wandoberfläche des Rohrs sich bereits zu Aluminium
geändert hat, sowohl die Anzahl von Arten als auch die Menge an
Substanzen, die in die Oberfläche absorbiert sind, gering ver
glichen mit jenen eines Gaseinführungsrohrs, das aus rostfreiem
Stahl oder aus einem ähnlichen Material hergestellt ist, und
die Möglichkeit, daß das Austauschen von zu messenden Molekülen
einen schlechten Einfluß auf ein Ergebnis einer Messung haben
kann, wird verringert.
Fig. 3 zeigt ein Massenspektrum, das erhalten wird, wenn Mole
küle von der Oberfläche eines Al-Drahtes desorbiert werden. Das
Massenspektrum hat eine Spitze in der Nähe der Massenzahl 2,
und Sauerstoffatome oder -moleküle sind vorhanden. Ebenso ist
eine Vielzahl von Spitzen innerhalb des Bereichs der Massenzah
len 16 bis 18 vorhanden, und es besteht ein Grund für die An
nahme, daß Methangas, eine Hydroxylgruppe oder Wassermoleküle
vorhanden sind. Weiterhin besteht ein Grund für die Annahme,
daß die Spitze in der Nähe der Massenzahl 28 durch Kohlenstoff
monoxid hervorgerufen wird, die Spitze in der Nähe der Massen
zahl 35 durch Chlorin hervorgerufen wird und die Spitze in der
Nähe der Massenzahl 45 durch Kohlenstoffdioxid hervorgerufen
wird. Schließlich wird bestimmt, daß als ursprüngliche Moleküle
H2, H2O, CO2, Cl2 und CH4 vorhanden waren.
Fig. 4 zeigt ein Massenspektrum, das erhalten wird, wenn Poly
styren in den Al-Draht adsorbiert wird, der in Fig. 3 gezeigt
ist, um Moleküle zu desorbieren, die vom Al-Draht desorbiert
werden. Ersichtlich sind als Ergebnis der Adsorption von Poly
styren Atome oder Moleküle, die das Styren bilden, zerlegt wor
den.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Elektronenstrahl auf
einen Meßbereich gestrahlt, während die Beschleunigungsspannung
dafür verändert wird. Damit wird die Tatsache ausgenutzt, daß
insbesondere durch einen indirekten ESD-Effekt die Desorption
von organischen Molekülen, die Sauerstoff enthalten, von Hydro
carbon-Molekülen und von organischen Molekülen, die Stickstoff
und Sauerstoff enthalten, unterschiedlich ist.
Fig. 5(a) stellt einen Ionenstrom dar, wenn ein Elektronen
strahl auf CH3OH der Massenzahl 31 als sauerstoffartige organi
sche Moleküle gestrahlt wird, die die Beschleunigungsspannung
verändern; die Fig. 5(b) und 5(c) stellen Ionenströme dar, wenn
ein Elektronenstrahl auf CH4 der Massenzahl 15 und CH3CH=CH2 der
Massenzahl 42 als Hydrocarbon-Moleküle gestrahlt wird, die die
Beschleunigungsspannung verändern; und Fig. 5(d) stellt einen
Ionenstrom dar, wenn ein Elektronenstrahl auf CH2NCO der Mas
senzahl 56 als organische Moleküle gestrahlt wird, die Stick
stoff und Sauerstoff enthalten, und die die Beschleunigungs
spannung verändern. Jene Substanzen werden so ausgewählt, daß
sie nicht irgendeine andere Substanz überlagern können, die in
der Kammer vorhanden ist.
Wie es aus Fig. 5(a) zu sehen ist, zeigt der Ionenstrom mit
CH3OH, welches organische Moleküle sind, die eine Hydroxylgrup
pe (Sauerstoff) enthalten, durch eine Elektronenstoßdesorption
einen maximalen Wert in der Nähe der Beschleunigungsspannung
von 1 kV, während wenig Desorption in der Nähe der Beschleuni
gungsspannung von 2 bis 3 kV auftritt.
Wie es aus den Fig. 5(b) und 5(c) zu sehen ist, und zwar mit
den organischen Zusammensetzungen von CH4 und CH3CH=CH2, welches
Hydrocarbon-Moleküle mit nur C-H-Verbindungen sind, zeigt der
Ionenstromwert einen maximalen Wert bei der Beschleunigungs
spannung von 2 kV, aber es erfolgt keine Desorption bei 1 kV.
Wie es aus Fig. 5(d) zu sehen ist, und zwar mit CH2NCO, welches
organische Moleküle sind, die Stickstoff und Sauerstoff enthal
ten, erfolgt dann, wenn die Beschleunigungsspannung anwächst,
das Desorptionsphänomen merklich deutlicher. Dies erfolgt auf
grund der Tatsache, daß es deshalb, weil bei organischen Mole
külen, die Stickstoff und Sauerstoff enthalten, im allgemeinen
eine Vielzahl von chemischen Verbindungen auf der Oberfläche
gebildet wird und die Bindungskraft der Oberflächenmoleküle
hoch ist, weniger wahrscheinlich auftritt, daß Oberflächenmole
küle in einen angeregten Zustand getrieben und durch einen
Elektronenstoß desorbiert werden. Folglich zeigt der Elektro
nenstrom anders als die in den Fig. 5(a) bis 5(c) gezeigten
Beispiele keinen maximalen Wert bei einer Beschleunigungsspan
nung, sondern er zeigt ein monotones Anwachsen mit dem Anwach
sen der Beschleunigungsspannung, und eine Desorption tritt
durch einen Erwärmungseffekt eines metallischen Substrats durch
den Elektronenstrahl auf.
Fig. 6 ist ein Diagramm, das die Zahl desorbierter Moleküle
darstellt, die sich gemäß einer Veränderung der Beschleuni
gungsspannung ändert, und zwar gemeinsam für unterschiedliche
Arten organischer Zusammensetzungen.
Unter Berücksichtigung einer derartigen Tendenz, wie es oben
beschrieben ist, wird eine Analyse bei dem vorliegenden Ausfüh
rungsbeispiel gemäß dem folgenden Verfahren durchgeführt.
- 1. Zuerst wird das Gerät in einen Beobachtungsbetrieb ver setzt, und zwar durch SEM, und es spezifiziert eine Stelle, an der ein Fehler aufgetreten ist, und für die eine Analyse durch zuführen ist. Beim vorliegenden Ausführungsbeispiel wird ein Elektronenstrahl dazu verwendet, eine Analyse eines sehr klei nen Bereichs zuzulassen, und es ist schwierig, eine Analyse stelle zu bestimmen, an der ein Fehler aufgetreten ist. Insbe sondere kann bei einem komplizierten elektronischen Teil mit einer mehrschichtigen Struktur, wie beispielsweise einem LSI, ein Fehler möglicherweise an irgendeiner von verschiedenen Stellen auftreten, und es ist sehr schwierig, eine Fehlerstelle zu spezifizieren. Wenn eine Fehlerstelle eines LSI oder von ähnlichem zu spezifizieren ist, wird die Fehlerstelle durch Verwendung eines IC-Testers grob spezifiziert, und dann wird die Fehlerstelle genauer spezifiziert, und zwar insbesondere unter Verwendung eines EB-Testers, wonach eine Beobachtung durchgeführt wird, bei der SEM verwendet wird, um schließlich die Analysestelle zu spezifizieren.
- 2. Dann wird ein Massenspektrum beobachtet, das die Beschleu nigungsspannung für einen Elektronenstrahl aufeinanderfolgend zu 1 kV, 2 kV und 3 kV ändert. Die Typen der gemäß den Be schleunigungsspannungen desorbierten organischen Moleküle kön nen klassifiziert werden, wie es oben beschrieben ist, und dies läßt eine Identifikation von organischen Molekülen zu, die eine gleiche Massenzahl haben, aber von unterschiedlichem Typ sind.
- 3. Schließlich wird das Gerät in einen Auger-Elektronenspek tro-Diffraktometrie-Betrieb versetzt, um eine Auger-Elektro nenspektro-Diffraktometrie durchzuführen. Obwohl eine Messung des Molekülpegels durch die Auger-Elektronenspektro- Diffraktometrie nicht durchgeführt werden kann, ist eine feine re Analyse durch Spezifizieren von Atomen zugelassen, die ande re Moleküle bilden. Es ist zu beachten, daß die Auger-Elektro nenspektro-Diffraktometrie gleichzeitig mit der Massenspektro metrie durchgeführt werden kann.
Während die Beschleunigungsspannung für einen Elektronenstrahl
beim oben beschriebenen Ausführungsbeispiel zwischen 1 kV,
2 kV und 3 kV geändert wird, können die Effekte durch die
vorliegende Erfindung erhalten werden. Dies gilt deshalb, weil
- vgl. Fig. 6 - bei organischen Molekülen, die Sauerstoff ent
halten,
bei einer Bestrahlungsenergie der Elektronen von 0,5 KeV bis 1,2 KeV die Zahl der desorbierten, Sauerstoff enthaltenden organischen Moleküle sich signifikant unterscheidet von der Zahl der übrigen desorbierten organischen Moleküle,
bei einer Bestrahlungsenergie der Elektronen von 1,4 KeV bis 2,4 KeV die Zahl der desorbierten Hydrocarbon-Moleküle sich signifikant unterscheidet von der Zahl der übrigen desorbierten organischen Moleküle, und
bei einer Bestrahlungsenergie der Elektronen von 2,8 KeV oder darüber die Zahl der desorbierten, Stickstoff und Sauer stoff enthaltenden organischen Moleküle sich signifikant unter scheidet von der Zahl der übrigen desorbierten organischen Mo leküle.
bei einer Bestrahlungsenergie der Elektronen von 0,5 KeV bis 1,2 KeV die Zahl der desorbierten, Sauerstoff enthaltenden organischen Moleküle sich signifikant unterscheidet von der Zahl der übrigen desorbierten organischen Moleküle,
bei einer Bestrahlungsenergie der Elektronen von 1,4 KeV bis 2,4 KeV die Zahl der desorbierten Hydrocarbon-Moleküle sich signifikant unterscheidet von der Zahl der übrigen desorbierten organischen Moleküle, und
bei einer Bestrahlungsenergie der Elektronen von 2,8 KeV oder darüber die Zahl der desorbierten, Stickstoff und Sauer stoff enthaltenden organischen Moleküle sich signifikant unter scheidet von der Zahl der übrigen desorbierten organischen Mo leküle.
Die Fig. 7(a) bis 7(c) sind Diagramme, die durch die vorliegen
de Erfindung erhaltene Desorptionszustände darstellen, wenn Mo
leküle durch einen ESD-Effekt desorbiert werden, und zwar ins
besondere durch einen indirekten ESD-Effekt, und Fig. 7(d) ist
ein Diagramm, das einen Desorptionszustand von Molekülen durch
eine thermische Desorption als Vergleichsbeispiel darstellt.
Wenn Moleküle durch eine thermische Desorption desorbiert wer
den, erhöht sich die Anzahl desorbierter Moleküle im Verhältnis
zu einem Anwachsen der Beschleunigungsspannung, wie es aus Fig.
7(d) zu sehen ist. Jedoch werden bei der vorliegenden Erfin
dung, die einen ESD-Effekt verwendet, wo die Beschleunigungs
spannung durch A, B und C dargestellt ist, Moleküle α, β und γ
selektiv getrennt, wie es aus den Fig. 7(a), 7(b) und 7(c) zu
sehen ist.
Da die vorliegende Erfindung derart aufgebaut ist, wie es oben
beschrieben ist, gibt es den Effekt, daß in einem sehr kleinen
Bereich angeordnete organische Moleküle von unterschiedlichem
Typ, die eine gleiche Massenzahl haben, identifiziert werden
können, und daß eine Analyse für die Ursache eines Auftretens
eines Fehlers mit einem hohen Maß an Genauigkeit durchgeführt
werden kann.
Claims (3)
1. Verfahren zum Analysieren einer Oberflächenverunreinigung in ei
nem sehr kleinen Bereich, wobei ein Elektronenstrahl mit einer Be
schleunigungsspannung beschleunigt wird und unter Änderung der
Beschleunigungsspannung zur Beschleunigung des Elektronen
strahls eine Vielzahl von Malen aufeinanderfolgend auf einen sehr
kleinen Bereich einer Probe gestrahlt wird und eine Massenspek
trometrie von Molekülen durchgeführt wird, die die Oberfläche ver
unreinigen und die von dem sehr kleinen Bereich desorbiert werden,
wobei
die Beschleunigungsspannung zum Beschleunigen des Elek tronenstrahls auf eine Spannung eingestellt wird, mit der eine De sorption von Molekülen, die die Oberfläche kontaminieren, durch einen ESD-Effekt erfolgt,
dadurch gekennzeichnet, daß Bestrahlungen mit einem Elektronenstrahl mit einer Beschleuni gungsspannung von 0,5 kV bis 1,2 kV für organische Moleküle, die Sauerstoff enthalten, mit einem anderen Elektronenstrahl mit einer Beschleunigungsspannung von 1,4 kV bis 2,4 kV für Hydro carbon-Moleküle und mit einem weiteren Elektronenstrahl mit einer Beschleunigungsspannung von 2,8 kV oder darüber für organische Moleküle, die Stickstoff und Sauerstoff enthalten, durchgeführt wer den.
die Beschleunigungsspannung zum Beschleunigen des Elek tronenstrahls auf eine Spannung eingestellt wird, mit der eine De sorption von Molekülen, die die Oberfläche kontaminieren, durch einen ESD-Effekt erfolgt,
dadurch gekennzeichnet, daß Bestrahlungen mit einem Elektronenstrahl mit einer Beschleuni gungsspannung von 0,5 kV bis 1,2 kV für organische Moleküle, die Sauerstoff enthalten, mit einem anderen Elektronenstrahl mit einer Beschleunigungsspannung von 1,4 kV bis 2,4 kV für Hydro carbon-Moleküle und mit einem weiteren Elektronenstrahl mit einer Beschleunigungsspannung von 2,8 kV oder darüber für organische Moleküle, die Stickstoff und Sauerstoff enthalten, durchgeführt wer den.
2. Verfahren zum Analysieren einer Oberflächenverunreinigung in ei
nem sehr kleinen Bereich nach Anspruch 1, wobei
die Beschleunigungsspannung zur Beschleunigung des Elek
tronenstrahls auf eine Spannung eingestellt wird, mit der ein Elek
tronenstrahl mittlerer Energie erzeugt wird, durch den eine Desorp
tion der Moleküle, die die Oberfläche kontaminieren, durch einen
indirekten ESD-Effekt verursacht wird.
3. Verfahren zum Analysieren einer Oberflächenverunreinigung in ei
nem sehr kleinen Bereich nach Anspruch 1 oder 2, das durch ein
Analysegerät durchgeführt wird, das sowohl eine Auger-Elektronen
spektro-Diffraktometrie als auch eine Massenspektrometrie ermög
licht, wobei
gleichzeitig mit der Desorption von die Oberfläche kontami
nierenden Molekülen durch einen ESD-Effekt eine Auger-Elektro
nenspektro-Diffraktometrie durchgeführt wird.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30288995 | 1995-11-21 | ||
| PCT/JP1996/003406 WO1997019343A1 (fr) | 1995-11-21 | 1996-11-21 | Procede et appareil pour analyser des impuretes de surface, sur une toute petite zone |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19681191T1 DE19681191T1 (de) | 1998-08-20 |
| DE19681191C2 true DE19681191C2 (de) | 2000-04-06 |
Family
ID=17914329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19681191T Expired - Fee Related DE19681191C2 (de) | 1995-11-21 | 1996-11-21 | Verfahren zur Analyse von Oberflächenverunreinigungen in einem sehr kleinen Bereich |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5877496A (de) |
| DE (1) | DE19681191C2 (de) |
| GB (1) | GB2312291B (de) |
| WO (1) | WO1997019343A1 (de) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3405506B2 (ja) * | 1997-03-24 | 2003-05-12 | 学校法人トヨタ学園 | 走査プロトン顕微鏡 |
| JPH11102654A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Nec Corp | 元素分析方法及び元素分析装置 |
| JP4738610B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2011-08-03 | 株式会社トプコン | 基板表面の汚染評価方法及び汚染評価装置と半導体装置の製造方法 |
| US8283631B2 (en) * | 2008-05-08 | 2012-10-09 | Kla-Tencor Corporation | In-situ differential spectroscopy |
| GB2460855B (en) * | 2008-06-11 | 2013-02-27 | Kratos Analytical Ltd | Electron spectroscopy |
| JP2012021775A (ja) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Hitachi Ltd | 微小試料分析装置及び方法 |
| JP6796275B2 (ja) * | 2016-04-08 | 2020-12-09 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 水素透過拡散経路観測装置及びそれを用いて試料を透過する水素イオンを計測する方法 |
| US11906449B2 (en) * | 2021-01-28 | 2024-02-20 | Shimadzu Corporation | Mass spectrometer |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4393311A (en) * | 1980-06-13 | 1983-07-12 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method and apparatus for surface characterization and process control utilizing radiation from desorbed particles |
| JPS58165968U (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | 株式会社島津製作所 | 電子線走査型分析装置 |
| JPS6269527A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-30 | Hitachi Ltd | 検査装置 |
| US4968888A (en) * | 1989-07-05 | 1990-11-06 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Pulsed field sample neutralization |
| US5650616A (en) * | 1992-04-14 | 1997-07-22 | Olympus Optical Co., Ltd. | Apparatus and method for analyzing surface |
| US5352330A (en) * | 1992-09-30 | 1994-10-04 | Texas Instruments Incorporated | Process for producing nanometer-size structures on surfaces using electron beam induced chemistry through electron stimulated desorption |
| JPH07243999A (ja) * | 1994-03-01 | 1995-09-19 | Toshiba Corp | 電子ビーム検査装置 |
-
1996
- 1996-11-21 GB GB9715235A patent/GB2312291B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-21 DE DE19681191T patent/DE19681191C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-21 US US08/860,926 patent/US5877496A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-21 WO PCT/JP1996/003406 patent/WO1997019343A1/ja not_active Ceased
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| BERNHEIM, M., et. al.: Surface potential control on thin films with respect to electron stimulated desorption studies, Journal de Physique III, Sept. 1995, Vol. 5, No. 9, p. 1407-1424 * |
| EKWELUND E.C. et.al.: Electron stimulated Desorption of positive Ions from an adsorbate- coverd Si(100) Surface, Surface Science 215 (1989)91-101 * |
| WALLACE, R.M., et. al.: An ESDIAD study of chemisorbed hydrogen on clean and H-exposed Si(111)-(7x7), Surface Science 239 (1990) 1-12 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1997019343A1 (fr) | 1997-05-29 |
| DE19681191T1 (de) | 1998-08-20 |
| GB2312291A (en) | 1997-10-22 |
| GB2312291B (en) | 2000-01-19 |
| GB9715235D0 (en) | 1997-09-24 |
| US5877496A (en) | 1999-03-02 |
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| DE3918948C2 (de) | ||
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