DE19643925A1 - Vorrichtung zur Erzeugung einer Gasentladung mit schnellen Spannungsanstiegen und hohen Leistungsflüssen - Google Patents
Vorrichtung zur Erzeugung einer Gasentladung mit schnellen Spannungsanstiegen und hohen LeistungsflüssenInfo
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Description
Barrierenentladungen entstehen durch Anlegen einer Wechselspannung an zwei
Elektroden, von denen mindestens eine von einer isolierenden Schicht bedeckt ist.
Befindet sich ein Gas bei einem Druck von etwa einem Bar zwischen den Elektro
den, so findet oberhalb einer gewissen Zündfeldstärke ein elektrischer Durchschlag
in Form vieler einzelner Mikroentladungen (auch Entladungsfilamente genannt)
statt. Diese einzelnen Mikroentladungen erfolgen nach Stand der Technik wesent
lich schneller (typisch Nanosekunden) als durch den Wechselspannungsgenerator
Leistung nachgeliefert werden kann (typisch Milli- bis Mikrosekunden). Dadurch
entstehen die Mikroentladungen zeitlich nacheinander und sind damit von einander
unabhängig. Insbesondere sind dadurch die physikalischen Eigenschaften der Mi
kroentladungen durch die elektrische Anregung praktisch nicht beeinflussbar. Ge
genstand dieser Erfindung ist es, durch einen schnellen Spannungsanstieg an den
Elektroden und der Gewährleistung eines schnellen Leistungsflusses in die Gasent
ladung gleichzeitig die Entstehung vieler Mikroentladungen zu ermöglichen. Da
durch entstehen im Vergleich zur Anregung nach Stand der Technik pro Elektro
denfläche wesentlich mehr Mikroentladungen, die außerdem durch die gegenseiti
ge Konkurrenz bereits schneller verlöschen und dadurch andere, für viele
plasmachemische Anwendungen günstigere, physikalische Eigenschaften besitzen.
Aufgrund der physikalischen Eigenschaften der Barrierenentladung auf der einen
Seite und den technologischen Vorteilen gegenüber anderen Plasmaverfahren auf
der anderen Seite ist ein breites Anwendungsfeld möglich.
Seit langem wird sie zur plasmachemischen Synthese von Ozon aus Sauerstoff
eingesetzt. Neuerdings sind auch schmalbandige UV-Lichtquellen deren Strah
lungserzeugung auf der Barrierenentladung beruht, auf dem Markt erhältlich. Wei
terhin kann die Barrierenentladung zur Behandlung von Oberflächen eingesetzt
werden, in dem beispielsweise organische Beläge entfernt oder Packstoffe entkeimt
werden. Desweiteren können damit auch Funktionsschichten auf Bauteilen abge
schieden werden. Wegen ihrer starken plasmachemischen Wirksamkeit ist es auch
möglich Schadstoffe in Gasen in ungefährliche Verbindungen umzuwandeln, so
daß beispielsweise Giftstoffe die bei Produktionsprozessen oder aber auch bei der
Verbrennung in Motoren entstehen, unschädlich gemacht werden können.
Barrierenentladungen entstehen durch Anlegen einer Wechselspannung an zwei
Elektroden, von denen mindestens eine von einer isolierenden Schicht bedeckt ist.
Befindet sich ein Gas bei einem Druck von etwa einem Bar zwischen den Elektro
den, so findet oberhalb einer gewissen Zündfeldstärke ein elektrischer Durchschlag
in Form vieler einzelner, von einander unabhängiger Mikroentladungen statt. Der
Entladungsaufbau dieser Mikroentladungen erfolgt je nach Bedingungen in weniger
als einer Nanosekunde. Sie überbrücken den meistens kleiner 10 Millimeter großen
Entladungsspalt in Form vieler zylindrischer, elektrisch leitfähiger Kanäle, die einen
Durchmesser von typisch 100 Mikrometer aufweisen. Sie werden daher auch als
Entladungsfilamente bezeichnet. Der Stromfluß durch die Filamente führt zur loka
len Aufladung der isolierenden Schicht und damit zum Absinken der elektrischen
Feldstärke im Entladungsspalt. Dadurch verlöschen die Filamente selbständig in
wenigen Nanosekunden. Die lokale Aufladung der isolierenden Schicht durch ein
einziges Filament ist auf eine Fläche von wenigen Millimetern Durchmessern be
grenzt. Diese Fläche wird auch Fußpunkt des Filamentes genannt und gibt den na
türlichen Abstand der einzelnen Filamente im Entladungsspalt vor. Je größer die
Fläche des Fußpunktes ist, desto mehr elektrische Ladungen können als Strom
durch das Filament fließen. Während des Stromflusses nimmt die Zahl der La
dungsträger durch Ionisationsprozesse exponentiell zu, die mittlere Energie der La
dungsträger, insbesondere der Elektronen, jedoch ab. Die Fußpunktgröße beeinflußt
daher indirekt in starkem Maße die physikalischen Eigenschaften der Fila
mente, was sich besonders für Anwendungen der Barrierenentladung zur
Erzeugung kurzwelliger UV-Strahlung oder für die plasmachemische Stoffumwand
lung auswirkt. Beide genannten Anwendungen erfordern nämlich Elektronen mit
Energien von ca. 10-15 Elektronenvolt. Solche Energien kommen hauptsächlich am
Anfang des Stromflusses durch das Filament vor. Eine in diesem Sinne ideale Bar
rierenentladung würde also nicht in wenigen Filamenten mit großen Fußpunkten
zünden, sondern in vielen dicht beieinanderliegenden, mit kleinen Fußpunkten.
Nach Stand der Technik ist dieser Idealfall nur mit großen Einschränkungen zu er
reichen. Da an die Elektroden der Barrierenentladung seitens der Generatoren eine
im Vergleich zu den Zeitkonstanten bei der Zündung der Filamente nur langsam
veränderliche Spannung angelegt wird, entstehen die Filamente daher zeitlich
nacheinander, so lange die Spannung zwischen den Elektroden oberhalb der Zünd
spannung im Gas liegt und noch eine freie Fläche zwischen den Fußpunkten der
bereits gezündeten und wieder erloschenen Filamente vorhanden ist. Aufgrund der
Unabhängigkeit der Filamente untereinander können sich die Fußpunkte eines je
den einzelnen ungestört ausdehnen. Der maximale Durchmesser ist lediglich durch
einige Randbedingungen bestimmt, die durch den Aufbau der Barrierenentladung
vorgegeben werden. In der Literatur /1/ sind einige Varianten beschrieben, mit de
nen unter starker Einschränkung der technischen Anwendbarkeit ein quasi filament
freier Betrieb der Barrierenentladung erreicht werden kann, wie z. B. in speziellen
Entladungsgasen oder Gasgemischen oder durch spezielle Ausgestaltung des Ent
ladungsraumes durch Verwendung von feinmaschigen Drahtnetzen anstelle von
massiven Metallelektroden. In diesem Betriebsmode werden z. B. bei der Ozonpro
duktion höhere Effizienzen als im vergleichbaren filamentaren Mode erzielt.
Ein weiterer Weg zu einer quasi homogenen Barrierenentladung besteht darin, die
Spannungsanstiegszeit an den Elektroden extrem kurz zu gestalten. Da die Zün
dung der Gasentladung als statistischer Prozeß selbst eine gewisse Zeit benötigt,
wird dadurch eine im Vergleich zum langsamen Spannungsanstieg eine Überspan
nung am Elektrodensystem erreicht. Dadurch steht den sich ausbildenden Mikro
entladungen mehr Energie gleichzeitig zur Verfügung, so daß sie sich in gegensei
tiger Konkurrenz in sehr großer Zahl ausbilden.
Eine solche Vorgehensweise ist in /2/ beschrieben, wo eine Barrierenentladung zur
Anregung eines Stickstofflasers eingesetzt wird. Der hohe Leistungsfluß wird mit
tels eines sogenannten pulsformenden Netzwerkes erreicht, in dem Funkenstrec
ken als besonders schnelle Schaltelemente verwendet werden. Diese Arbeiten zei
gen, daß tatsächlich durch die schnelle Anstiegszeit eine gleichzeitige Zündung
des Plasmas erreicht werden kann. Für technische Anwendungen ist eine solche
Apparatur aufgrund des hohen technischen Aufwandes, der geringen, durch die
Funkenstrecken auf ca. 100 Hz begrenzten Wiederholfrequenzen und des niedri
gen elektrischen Wirkungsgrads von ca. 30% jedoch nicht geeignet. Aufgrund der
geringen Pulsfolgefrequenz ist in /2/ jedoch zur Zündung einer homogenen Entla
dung eine zusätzliche Vorrichtung zur Vorionisation erforderlich.
Vorteilhafter Weise werden in der Technik heute hocheffiziente Schaltgeneratoren
für die Barrierenentladungen eingesetzt. Halbleiter-Schaltgeneratoren zur Erzeu
gung hoher Spannungen sind z. B. in /3/ beschrieben. In diesen Generatoren wird
eine Gleichspannung mittels Schaltungen, wie sie aus der Schaltnetzteiltechnik be
kannt sind, hochfrequent zerhackt und über einen nachgeschalteten Transformator
auf für die Zündung von Gasentladungen ausreichend hohe Werte von mehreren
tausend Volt transformiert. Da die Wicklung des Transformators zusammen mit der
Kapazität des Elektrodensystems einen Schwingkreis bilden, entsteht bei phasen
richtiger Ansteuerung der Schaltstufe ein nahezu sinusförmiger Spannungsverlauf
an dem Elektrodensystem. Die maximal mögliche Frequenz der Sinusschwingung
hängt von verschiedenen Parametern ab:
- - der Leistungsfähigkeit der in den Schaltgeneratoren verwendeten Halbleiterbautei len
- - da in jeder Halbwelle der Sinusschwingung Energie in die Barrierenentladung ein gespeist wird, ist die Maximalfrequenz durch die thermische Belastbarkeit der Elek troden als Obergrenze oder bei plasmachemischen Anwendungen durch die maxi mal für den Prozeß verträgliche Gastemperatur begrenzt
- - je nach Gaszusammensetzung in der Barrierenentladung klingt die Elektronen dichte durch Rekombinations- oder Attachmentprozesse mit bestimmten Zeitkon stanten ab. Bleibt von einer Energieeinspeisung bis zur nächsten beispielsweise eine Elektronendichte von mehr als 109 cm-3 erhalten, so ist das Gas im Entla dungsspalt der Barrierenentladung vorionisiert und die physikalischen Eigenschaf ten beim Ablauf der Entladung ändern sich. Je höher die Vorionisierung ist, desto mehr erniedrigt sich die Zündspannung und damit auch die für die meisten Anwen dungen erforderliche mittlere Energie der erzeugten Elektronen
- - der Ablauf der plasmachemischen Reaktionen zwischen den kurzzeitig in den Ent ladungsfilamenten gebildeten Radikalen und den im Gas befindlichen Molekülen ist erheblich langsamer als die Entladung selbst, so daß negative Beeinflussungen durch zu hohe Wiederholfrequenzen auftreten können.
Durch die genannten Prozesse ist die Frequenz der Anregungsspannung meistens
auf wenige Kilohertz maximal auf einige hundert Kilohertz beschränkt. Die An
stiegszeit der Spannung liegt daher üblicherweise im Bereich von Milli- bis Mikrose
kunden und ist damit weit langsamer als erforderlich.
Eine Weiterentwicklung der o. g. Schaltgeneratoren zu Pulsbetrieb mit kürzerer An
stiegszeit ist in /4/ beschrieben. Die Leistungspulse werden durch phasenrichtige
Überlagerung sinusförmiger Spannungen mit definiert unterschiedlicher Frequenz
erzeugt. Amplitude und Polarität jedes einzelnen Pulses sind selbst bei höchsten
Frequenzen frei wählbar. Spannungsamplituden von mehreren 10 kV sind bei Ver
sorgungsspannungen von nur einigen 10 V realisierbar. Diese Generatoren können
vorteilhaft dort eingesetzt werden, wo sehr hohe Spannungen benötigt werden, wie
bei der Plasma-Immersions-Ionenimplantation /5/.
Eine Verbesserung des Wirkungsgrads der Barrierenentladung kann, wie oben be
reits beschrieben, dann erreicht werden, wenn möglichst viele Filamente gleichzei
tig dicht nebeneinander zünden. Aufgrund der entstehenden Konkurrenzsituation
wird dadurch der Ladungstransport in jedem einzelnen Filament niedriger, d. h. der
Stromfluß wird auf noch kürzere Zeiten begrenzt (z. B. auf weniger als 1 Nanose
kunde). Über die gesamte Elektrodenfläche gemittelt findet jedoch etwa der gleiche
Ladungstransport statt, jedoch mit dem Unterschied, daß die mittlere Energie der
Ladungsträger wunschgemäß höher ist.
Entladungen bei Atmosphärendruck sind normalerweise inhomogen. Aufgrund der
niedrigen freien Weglängen der Elektronen findet oberhalb der Zündfeldstärke eine
lawinenartige Vermehrung der Ladungsträger statt, die im Nanosekundenbereich
zu einem leitfähigen Plasmakanal zwischen den Elektroden führt. Diese Situation
ist schematisch in der Abb. 1 links dargestellt. Das elektrische Feld zwischen
den Elektroden wird rasch abgebaut und weitere Zündungen können nicht mehr
stattfinden. Erst wenn vor mindestens eine der Elektroden eine dielektrische Barrie
re eingefügt wird (Barrierenentladungsaufbau), wird nur in einem bestimmten Be
reich um den Plasmakanal das Feld abgebaut, so daß auch noch zu einem späte
ren Zeitpunkt daneben noch Plasmakanäle (Filamente) entstehen können. Der Ab
stand benachbarter Kanäle ist durch den Durchmesser des sogenannten
Fußpunktes bestimmt, der durch die Ausbreitung von Ladungsträgern aus dem Fi
lament auf dem Dielektrikum entsteht (Abb. 2). Dieser Abstand ist in der Regel
erheblich größer als der Kanaldurchmesser. Die normale Barrierenentladung ist
also wesentlich inhomogener als das in der Abb. 1 rechts dargestellte Plasma.
Homogene Entladungen im Bereich des Atmosphärendrucks können dann erzielt
werden, wenn im Gasvolumen vor dem Anlegen der Spannung in ausreichender
Menge Startelektronen vorhanden sind, die nach Anlegen der Spannung in großer
Zahl zu Mikroentladungen führen (Abb. 1 rechts). Üblicherweise wird das
durch Zusatzeinrichtungen zur Vorionisation erzielt, wo z. B. UV-Licht oder Röntgen
strahlung eingestrahlt wird. Allerdings führt die Vorionisation dazu, daß die Zeitdau
er, in der die Entladung zündet, beeinflußt wird. Dieser Zusammenhang /6/ ist in
der Abb. 3 dargestellt. Die Messergebnisse wurden in einer Atmosphären
druckentladung in Stickstoff erzielt. Bei elektrischen Feldstärken von weniger als
105 V/cm (Arbeitsbereich der Barrierenentladung) nimmt die Durchbruchzeit in Ab
hängigkeit von der Vorionisationsstärke von einigen 10-4 s auf etwa 10-8 s ab. Voraussetzung
ist allerdings, daß der zur elektrischen Anregung verwendete Genera
tor eine Anstiegszeit der Spannung an den Elektroden aufweist, die kürzer als die
Durchbruchszeit ist. Die Anforderungen an den Generator nehmen also mit steigen
der Vorionisation und der damit verbunden besseren Homogenität zu. Insbesonde
re kann am Elektrodensystem eine Überspannung erreicht werden, die umso grö
ßer ist, je kürzer die Anstiegszeit im Vergleich zur Durchbruchszeit ist. Dadurch
steht der Gasentladung pro Puls noch mehr Energie zur Verfügung, was sich posi
tiv auf die Erzeugung schneller Elektronen auswirkt.
Zur Erzielung einer homogenen Barrierenentladung ohne besondere Vorrichtung
zur Vorionisation wird erfindungsgemäß die verbleibende Restionisierung im Gas
volumen aus dem vorherigen Puls verwendet (Abb. 4). Diese Restionisierung
hängt natürlich von der Gasart, der Gaszusammensetzung und insbesondere von
der Pulswiederholfrequenz ab. Bei dem Betrieb muß also darauf geachtet werden,
daß die Wiederholfrequenz z. B. nicht zu hoch gewählt wird, da sonst die Durch
bruchszeit schneller als der Spannungsanstieg erfolgt, mit dem Ergebnis, daß die
Entladung wieder inhomogen wird.
Ein solcher Betrieb der Barrierenentladung erfordert allerdings, daß der Leistungsfluß
vom Generator zum Elektrodensystem im Vergleich zum Stand der Technik
erheblich vergrößert wird, da die gesamte umgesetzte Energie in weniger als einer
Mikrosekunde zur Verfügung gestellt werden muß. Aus den o.g. Gründen kann
dies nicht mehr mit sinusförmiger Anregung erfolgen sondern durch gepulsten Be
trieb, bei dem Anstiegszeit und Wiederholfrequenz nicht voneinander abhängig
sind.
Im Sinne der technischen Anwendbarkeit von Barrierenentladungen, wird durch die
Erzeugung der elektrischen Leistungspulse vorteilhafterweise mittels spezieller
Halbleiter-Schaltgeneratoren oder deren Kombination mit einem geeignet aufge
bauten Elektrodensystem eine erhebliche Verbesserung erreicht. Solche Anwen
dungen sind z. B. die Erzeugung von UV-Licht in Excimer-UV-Strahlern und die Sti
mulation von plasmachemischen Vorgängen bei der Ozonsynthese oder der Reini
gung von motorischen Abgasen.
Eine beispielhafte Vorrichtung zur Erzeugung der erforderlichen steilen Spannungs
pulse ist die im folgenden erläuterte Generatorstufe, die derart optimiert ist, daß
die maximale Schaltleistung kommerziell erhältlicher Halbleiterbauelemente voll
ausgeschöpft wird. Vorteilhafterweise kann dabei ausgenutzt werden, daß diese
maximale Schaltleistung umso höher ist, je niedriger die Pulswiederholfrequenz ist.
Im Vergleich zu sinusförmiger Anregung ist also im Pulsbetrieb bei gleicher Fre
quenz und damit ähnlicher mittlerer Leistung ein wesentlich steilerer Spannungsan
stieg mit den gleichen Bauteilen zu erzielen.
Das Schaltungsprinzip ist schematisch in der Abb. 5 dargestellt. Ein
Pufferkondensator 4 wird mittels eines Thyristorstellers 2 und eines Gleichrichters 3
auf eine vorgewählte Gleichspannung aufgeladen. Eine Induktivität 5 verbindet den
Pufferkondensator mit einem wesentlich kleineren kapazitiven Zwischenspeicher 6,
der niederinduktiv mit der Schaltstufe 7 verbunden ist. In der Schaltstufe 7 können
je nach gewünschtem Maximalstrom mehrere Transistoren parallel ein- und aus
geschaltet werden und so einen Strom in die niederinduktive Primärwicklung 8
eines Transformators einspeisen. Die gewünschte Hochspannung wird über eine
entsprechende Anzahl von Sekundärwicklungen 9 erzielt. Der Hochspannungspuls
wird niederinduktiv zu der Barrierenentladung 10 geführt. Während des Strom
flusses in der Schaltstufe 7 wird der Zwischenspeicher 6 entladen, da die Induktivität
5 so dimensioniert ist, daß sie nur einen erheblich geringeren Leistungsfluß
als die Schaltstufe 7 zuläßt. Dadurch ist es möglich, daß nicht verbrauchte Ener
gie zu einem großen Teil von der Sekundärseite 9 des Transformators wieder über
die Schaltstufe 7 zurückgespeist werden kann. Dadurch wird ein hoher Wirkungs
grad von mehr als 70% erzielt. In der Abb. 6 ist das elektrische Ersatzschalt
bild des obigen Schaltungsprinzips dargestellt. Die daraus berechneten zeitlichen
Verläufe des Stromes durch die Schaltstufe und der Spannung an der Barrierenent
ladung sind in Abb. 7 links und ein Meßsignal der Spannung rechts gezeigt.
Mit einem Generator, der eine mittlere Leistung von etwa 500 W bei Wiederholfre
quenzen von 20 kHz abgibt werden beispielsweise 100 kW Pulsleistung erzielt, wo
mit an einer Barrierenentladung Anstiegszeiten der Spannung von weniger als
500 ns möglich sind. Ein solcher Spannungspuls ist in der Abb. 6 gezeigt. Bei
derartig kurzen Anstiegszeiten wurde beobachtet, daß die Barrierenentladung im
ganzen Elektrodensystem innerhalb einer Zeit von etwa 20 ns gleichzeitig zündet,
wobei ein großer Teil der im Elektrodensystem gespeicherten elektrischen Energie
verbraucht wird. Während dieser kurzen Zeit ist es selbst mit einem Generator mit
100 kW Pulsleistung nicht möglich in erheblichem Umfang weitere Leistung in die
sich ausbildende Gasentladung nachzuliefern um so den Wirkungsgrad noch zu er
höhen.
Dieser gewünschte Effekt der sehr schnellen Leistungsnachlieferung kann aber er
findungsgemäß dadurch realisiert werden, daß parallel zum Elektrodensystem, der
Barrierenentladung sehr niederinduktiv ein kleiner kapazitiver Energiespeicher an
geschlossen wird, der durch den Puls auf die Überspannung mit aufgeladen wird
(Abb. 4). Die Größe dieses Speichers ist so zu bemessen, daß dadurch die
Anstiegszeit der Spannung nur unwesentlich verringert wird. Bei erfolgter Zündung
der Barrierenentladung übernimmt der Zusatzspeicher jetzt die Energienachliefe
rung, wodurch Leistungsflüsse von weit mehr als 1 MW erreicht werden können.
Aufgrund der kurzzeitig stattfindenden Gasentladung im Elektrodensystem findet
eine Aufladung der Oberfläche des Dielektrikums statt, die sich zwischen zwei auf
einanderfolgenden Spannungspulsen nicht wieder vollständig ab baut. Diese Ober
flächenladungen beeinflussen die Zündung der Mikroentladungen, da sie lokal im
Elektrodensystem das elektrische Feld verändern. Insbesondere kann dadurch die
Homogenität der Gasentladung (Zahl der Mikroentladungen pro Elektrodenfläche)
stark gestört werden, in dem der Einfluß der elektrischen Feldstörung durch die
Oberflächenladungen größer wird als die statistischen Fluktuationen des Gasentla
dungsprozesses selbst. Der Entladungsmode kippt in den, von den konventionellen
Barrierenentladungen bekannten, Filamentmode um, wo nur noch wenige, strom
starke Entladungsfilamente in großem Abstand auftreten. Wird als Dielektrikum ein
Material mit geringer elektrischer Leitfähigkeit verwendet, so kann diesbezüglich
eine Verbesserung erreicht werden. Die Leitfähigkeit ist so zu bemessen, daß der
dadurch verursachte Stromfluß während der wenige Nanosekunden dauernden
Phase des Stromflusses in den Filamenten vernachlässigbar ist, zwischen zwei auf
einanderfolgenden Spannungspulsen jedoch die Oberflächenladung abgebaut wird.
Eine weitere Möglichkeit, die Oberflächenladungen auf der Dielektrikumsoberfläche
gezielt abzubauen, ist die Anwendung von Spannungspulsen mit unterschiedlicher
Polarität.
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- 5. J. R. Conrads, J. Appl. Phys. 62, 777 (1987)
- 6. L. Bakowski, "Aufbauphase eines Funkenplasmas in Stickstoff", Dissertation TH-Darmstadt (1982)
Claims (21)
1. Vorrichtung zur Erzeugung einer Gasentladung, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Spannungsanstieg vor der Zündung an das Elektrodensystem ange
legt wird, der schneller ist als die Durchbruchszeit der Gasentladung.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wiederhol
frequenz der Spannungspulse so hoch gewählt wird, daß bis zum nächsten
Puls eine ausreichende Restionisation verbleibt.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-2 dadurch gekennzeichnet, daß
es sich bei der Gasentladung um eine Barrierenentladung handelt, bei der
mindestens eine der Elektroden gegenüber dem Entladungsraum durch ein
Dielektrikum abgeschirmt ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, daß
durch den schnellen Spannungsanstieg eine Überspannung vor der Zündung
erreicht wird.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet, daß
die Entladung als Streamerentladung in vielen Mikroentladungen zündet.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Entladung in sehr vielen, eng benachbarten Mikroentladungen zündet.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet, daß
die Entladung quasi homogen zündet.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-7, dadurch gekennzeichnet, daß
die Mikroentladungen gleichzeitig zünden.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-8, dadurch gekennzeichnet, daß
der Stromfluß in den Mikroentladungen durch deren gegenseitige Beeinflus
sung zeitlich stark verkürzt wird.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-9, dadurch gekennzeichnet, daß
während der Zündung der Mikroentladungen der erhöhte Leistungsbedarf aus
einem niederinduktiven Hilfsspeicher nachgeliefert wird.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-10, dadurch gekennzeichnet, daß
die Pulsfolgefrequenz nur so hoch gewählt wird, daß die Restionisation im
Entladungsspalt zwischen zwei aufeinanderfolgenden Pulsen weitgehend ab
geklungen ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Mikroentladungen in aufeinanderfolgenden Pulsen statistisch in verschie
denen Raumbereichen auftreten.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-12, dadurch gekennzeichnet, daß
das, vor mindestens einer der beiden Elektroden die dielektrische Barriere bil
dende Material so schwach elektrisch leitfähig ist, daß zwischen zwei aufein
ander folgenden Spannungspulsen ein Abtransport von elektrischen Oberflä
chenladungen erfolgt.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-13, dadurch gekennzeichnet, daß
die auf dem Dielektrikum an gesammelten Oberflächenladungen durch An
wendung bipolarer Pulse abgebaut werden.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-14, dadurch gekennzeichnet, daß
die Amplituden der bipolaren Pulse je nach Polarität unterschiedlich gewählt
werden.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-15, dadurch gekennzeichnet, daß
die bipolaren Pulse nicht alternierend aufeinander folgen, sondern daß sich
Pulszüge verschiedener Polarität und Länge abwechseln.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-16, dadurch gekennzeichnet, daß
die Pulsabstände nach einem vorgegebenen Muster variiert werden.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-17, dadurch gekennzeichnet, daß
die Erzeugung der Spannungspulse kurzer Anstiegszeit mit hoher Frequenz
mit verlustarmen Halbleiterschaltelementen erfolgt.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß ein oder
mehrere parallelgeschaltete Schaltelemente die in einem Kondensator ge
speicherte Energie niederinduktiv in die Primärwicklung eines Hochspan
nungstransformators einspeist.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 18-19, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Teil der auf der Hochspannungsseite des Transformators nicht ver
brauchten Energie wieder in den Speicherkondensator zurückfließt.
21. Verwendung der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-20 zur Erzeugung
von Laserstrahlung.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19643925A DE19643925C2 (de) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | Verfahren zum Betreiben einer Gasentladung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| DE19643925A DE19643925C2 (de) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | Verfahren zum Betreiben einer Gasentladung |
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| DE19643925A1 true DE19643925A1 (de) | 1998-05-14 |
| DE19643925C2 DE19643925C2 (de) | 2003-01-30 |
Family
ID=7809677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19643925C2 (de) | 2003-01-30 |
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