DE19636249C2 - Anordnung zum Schutz von optischen Komponenten - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Eine
solche Anordnung zum Schutz ist für lichtempfindliche Detektoren bei der
Überwachung von Lichtwellenleitern sowohl aus der DE 40 10 789 A1 als auch aus der
DE 40 32 967 A1 als auch aus DE 195 07 401 A1 bekannt. Eine Anordnung zum
Schutz gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 ist für temperaturempfindliche
Detektoren aus der DB 380 78 73 A1 bekannt. Ein schallempfindlicher Detektor zum
Nachweis elektromagnetischer Strahlung ist aus der DE 41 06 169 C2 bekannt.
Eine Anordnung zum Schutz eines nichtlinearen Kristalls für die Frequenzverdopplung
mit einem temperaturempfindlichen Detektor ist aus der US 418 18 99 bekannt. Dabei
ist der Detektor in einer Temperiervorrichtung angebracht.
Viele optische Komponenten unterliegen einer starken Belastung durch
elektromagnetische Strahlung. Insbesondere durch Laserstrahlung treten
Leistungsdichten auf, die geeignet sind, optische Materialien zu zerstören.
Typischerweise beginnt die Zerstörung an der Komponentenoberfläche und setzt sich
bei anhaltender Bestrahlung in das Volumen fort.
Bei vielen optischen Geräten besteht das Problem, daß optische Komponenten, wie
beispielsweise Linsen, Spiegel, Polarisatoren, Strahlteiler, Lichtleitfasern, Laserstäbe
und nichtlineare Kristalle, durch elektromagnetische Strahlung mit hoher
Leistungsdichte zerstört werden. Diese Probleme treten insbesondere im
Zusammenhang mit der Lasertechnik häufig auf, da gerade in diesem Bereich durch die
Erzeugung von kurzen und ultrakurzen Pulsen extrem hohe Leistungsdichten
Verwendung finden. Üblicherweise beginnen die Zerstörungen an der
Komponentenoberfläche und breiten sich durch fortgesetzte Bestrahlung extrem schnell
in das Material aus. Ursächlich hierfür ist i. a. die mit der ersten Beschädigung
einhergehende Zunahme der Absorption der einfallenden Strahlung innerhalb des
Materials, was oft zu sehr dynamischen Zerstörvorgängen führt.
Üblich ist auch die Materialien weit unterhalb der sogenannten Zerstörschwelle der
optischen Komponenten zu verwenden, um eine hohe Sicherheit gegenüber
Zerstörungen der Bauelemente und daraus möglicherweise resultierenden
Folgeschäden zu besitzen. Tritt trotz aller Vorsicht doch ein Schaden durch z. B.
unvorhergesehene Umweltbedingungen (Beeinträchtigung durch z. B. Staub oder
Feuchtigkeit) auf, so entstehen i. a. Zerstörungen die sehr weitreichend sind.
Insbesondere lassen sich die Komponenten oft nicht mehr reparieren. Die oben zitierten
Anordnungen besitzen im allgemeinen den Nachteil, daß sie meist vergleichsweise
aufwendig und entsprechend teuer sind. Ausgehend von einer Anordnung zum Schutz
von optischen Komponenten gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 ist es die
Aufgabe der Erfindung, diese Anordnung derart weiterzubilden, daß sie eine genauere
Analyse des Zerstörungsprozesses ermöglicht.
Diese Aufgabe wird bei einer Anordnung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1
erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
Durch den Nachweis eines von der zu schützenden Komponente ausgehendem
optischen, akustischen oder thermischen Signals mit Hilfe eines geeigneten Detektors
(z. B. Photodiode, Phototransistor, Photomultiplier, Mikrophon, piezoelektrisches oder
pyroelektrisches Element, Thermoelement, Temperaturmeßwiderstand) kann mit Hilfe
einer geeigneten elektronischen Schaltung ein Steuersignal generiert werden, daß eine
Vorrichtung in Gang setzt, die in effektiver Weise eine weitere Belastung der optischen
Komponente mit elektromagnetischer Strahlung verhindert. Zur Wahl stehen hierfür
beispielsweise die Abschaltung der Stromversorgung, das einfache direkte Schließen
des Strahlenganges mit Hilfe eines geeigneten Shutters, Blocken des Strahles mit Hilfe
von schaltbaren polarisierenden Elementen, Veränderung der Güte eines
Laserresonators usw.
Die Anordnung zum Schutz gemäß Anspruch 1 verhindert zwar nicht generell die
Beschädigung, sorgt jedoch dafür, daß weitere Zerstörungen zuverlässig vermieden
werden. Der wirtschaftliche und technologische Nutzen der Erfindung liegt zum einen
in der Möglichkeit, nach dem Einsatz der Erfindung die optische Komponente mit
wenig Aufwand und entsprechend preiswert zu reparieren (z. B. durch Polieren und ggf.
Beschichten) oder zum anderen die Komponente an einer Stelle weiterzuverwenden,
die durch die Nutzung der Erfindung unbeschädigt geblieben ist. Zusätzlich besteht
keine Gefahr für Folgeschäden an anderen Bauteilen des Gerätes, in die die optische
Komponente eingebaut ist, was die notwendigerweise entstehenden Kosten senkt.
Die gewerbliche Anwendbarkeit der Erfindung erscheint besonders im Hinblick auf die
geringen Entstehungskosten günstig. D. h. das Nutzen-Kosten-Verhältnis liegt bei
bestimmten, teuren optischen Komponenten und entsprechend teuren Geräten sehr
hoch. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Im folgenden wird die Erfindung anhand zweier Ausführungsbeispiele näher erläutert.
Verwendung von nichtlinearen Kristallen zur Frequenzverdoppelung gemäß Fig. 1
Einkopplung von Laserstrahlung hoher mittlerer Leistung in Lichtleitfasern für die
Materialbearbeitung gemäß Fig. 2
Ein Hochleistungs-Nd: YAG-Oszillator-Verstärker-System (1), siehe Fig. 1, das im Q-
Switch-Betrieb arbeitet, dient als Strahlquelle zur Erzeugung von intensiver
elektromagnetischer Strahlung mit einer Wellenlänge von 1064 nm. Mit Hilfe eines
Teleskops (2a, 2b) wird die Strahlung so kollimiert, daß bei maximaler
Laserausgangsleistung die Zerstörschwelle des nichtlinearen Kristalls (3) gerade nicht
erreicht wird. Da der Wirkungsgrad der Frequenzverdoppelung (Konversionsgrad)
stark von der eingestrahlten Intensität abhängt, wird somit eine maximale Effizienz
erzielt. Bei Herabsetzung der Zerstörschwelle des nichtlinearen Kristalls (3) durch
äußere Einflüsse (Staub, Feuchtigkeit, etc.) oder durch Alterung, sowie durch
unvorhergesehene Intensitätserhöhungen z. B. durch Änderung des Strahlprofils oder
Variation der Betriebsparameter, setzt der Zerstörmechanismus ein, der insbesondere
bei hohen mittleren Leistungen in Bruchteilen von Sekunden zur vollständigen
Zerstörung des nichtlinearen Kristalls (3) führen kann. Abhilfe schafft die
vorgeschlagene Vorrichtung. Zwei durchbohrte Streuscheiben (4a, 4b) streuen das
durch die beginnende Zerstörung auftretende Streulicht außerhalb des regulären
Strahlenganges in die Photodetektoren (5a, 5b). Das entstehende Signal wird in der
Elektronik (6) ausgewertet. Beim Überschreiten eines bestimmten Streulichtpegels
wird das Lasernetzteil des Oszillators innerhalb von wenigen µs abgeschaltet. Damit
wird sicher vermieden, daß kein weiterer Laserpuls auf den nichtlinearen Kristall (3)
fällt.
Da die Zerstörung auf einen engen Raumbereich begrenzt ist, kann der nichtlineare
Kristall (3) bei hinreichend großer Apertur transversal verschoben werden und direkt
weiterverwendet werden, oder der Kristall wird für wenige hundert Mark poliert und
neu antireflexbeschichtet, um anschließend wieder eingesetzt zu werden. Im Vergleich
zum Neupreis von ca. 2000 DM (LBO-Kristall) kann somit eine erhebliche
Kostenersparnis erzielt werden, die die Aufwendungen für die vorgeschlagene
Vorrichtung weit übersteigt.
Ein Hochleistungs-Nd: YAG-Laser (1), siehe Fig. 2, wird mit Hilfe eines Teleskops,
bestehend aus zwei Linsen (2a, 2b), in eine Lichtleitfaser (3) eingekoppelt. Ein in die
Koppeloptik direkt eingebauter Photodetektor (5) detektiert die bei Zerstörung
auftretende Streustrahlung und die angeschlossene Elektronik (6) sorgt für eine
schnelle Abschaltung des Lasernetzteils (7). Bei Betrieb des Lasers im aktiven Q-
Switch-Betriebs kann alternativ auch der Güteschalter dauerhaft gesperrt werden.
Durch die Verwendung der Vorrichtung wird vermieden, daß die Lichtleitfaser über
größere Strecken zerstört wird. Zusätzlich kann der mit Hilfe der Laserstrahlung
betriebene Bohr-, Schweiß- oder Schneidprozeß abgebrochen werden. Dies dient der
Anlagensicherheit und gestattet eine zuverlässige Prozeßführung.
Claims (18)
1. Anordnung zum Schutz von optischen Komponenten mit mindestens einem Detektor (5a, 5b,
5), der bei beginnender Zerstörung der optischen Komponente (3) durch elektromagnetische
Strahlung (von 1) ein Signal empfängt, welches mit Hilfe einer Auswertelektronik (6) zum
Abschalten der auf die optische Komponente (3) einfallenden elektromagnetischen Strahlung
(von 1) führt, wobei mindestens zwei Detektortypen, nämlich ein licht- und ein
temperaturempfindlicher Detektor, zur Auswahl stehen, dadurch gekennzeichnet, daß noch ein
dritter Detektortyp, nämlich ein schallempfindlicher Detektor, zur Auswahl steht und daß das
zum Abschalten führende Signal bezüglich seiner Intensität und seines zeitlichen Verlauf
gespeichert wird, um eine genauere Analyse des Zerstörungsprozesses zu ermöglichen.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Komponente (3) ein
nichtlinearer Kristall ist, der zur Frequenzkonversion von Laserstrahlung genutzt wird.
3. Anordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein
lichtempfindlicher Detektor (5a, 5b, 5) das an einer Zerstörung entstehende Streulicht der
Grundwelle(n) und/oder der frequenzkonvertierten Strahlung als Signal empfängt.
4. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Komponente (3) eine
Lichtleitfaser ist, die der Führung von Laserstrahlung (z. B. für die Materialbearbeitung) dient.
5. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Komponente (3) ein
Festkörper ist, der der Lichtverstärkung dient.
6. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Komponente (3) ein
Umlenkspiegel ist, der der Führung von elektromagnetischer Strahlung dient.
7. Anordnung nach Anspruch 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Streulicht vor Eintritt in
den lichtempfindlichen Detektor (5a, 5b) mit einer geeigneten Vorrichtung (z. B. Umlenkspiegel,
Streuscheibe (4a, 4b) oder Lichtleitfaser) geführt wird.
8. Anordnung nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest der Detektor (5a,
5b, 5) entweder in die optische Komponente (3) selbst oder in die unmittelbare Halterung der
Komponente integriert ist.
9. Anordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Detektor (5a, 5b, 5) in einer
Vorrichtung (Ofen) angebracht ist, der geeignet ist, nichtlineare Kristalle zu temperieren.
10. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Auswertelektronik (6)
innerhalb einer bestehenden Steuerung integriert ist und bestehende konstruktive Elemente zum
Abschalten der elektromagnetischen Strahlung nutzt.
11. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Abschalten der
elektromagnetischen Strahlung ein zusätzlicher Shutter in den Strahlengang gebracht wird.
12. Anordnung nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die zu ihrer Auslösung
notwendige Intensität des an die Zerstörung gekoppelten Signals eingestellt werden kann.
13. Anordnung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellung elektrisch
erfolgt.
14. Anordnung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellung über eine
direkte Abschwächung des Signals erfolgt, bevor das Signal vom Detektor (5a, 5b, 5)
empfangen wird.
15. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Auswertelektronik (6) nicht
nur das Abschalten der elektromagnetischen Strahlung ermöglicht, sondern zusätzlich dafür
sorgt, daß andere Systembestandteile eines größeren Systems in angebrachter Weise, wie z. B.
Abschaltung aller Folgesysteme, Ausgabe einer Fehlermeldung etc. reagieren können.
16. Anordnung nach Anspruch 1 bis 15 dadurch gekennzeichnet, daß mehr als ein Detektortyp
zum Nachweis der Zerstörung dient und daß insbesondere Anordnungen verwendet werden, die
verschiedene Typen von Detektoren nutzen.
17. Anordnung nach Anspruch 1 bis 16 dadurch gekennzeichnet, daß auch Signale detektiert
werden, die irreversiblen Schäden vorausgehen, wie sie insbesondere durch die Bildung von
Farbzentren in nichtlinearen Kristallen und anderen Festkörpermaterialien entstehen können.
18. Anordnung nach Anspruch 1 bis 16 dadurch gekennzeichnet, daß auch Signale detektiert
werden, die durch Veränderungen, bzw. Schäden erzeugt werden, die reversibel sind.
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Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE29816879U1 (de) | 1998-09-21 | 1998-11-26 | Trumpf GmbH + Co., 71254 Ditzingen | Laseranordnung, vorzugsweise Laserbearbeitungsmaschine |
| DE10108955C2 (de) * | 2001-02-23 | 2003-04-17 | Precitec Kg | Verfahren zum Ermitteln des Verschleissgrades einer Linsenanordnung in einem Laserbearbeitungskopf sowie Laserbearbeitungskopf |
| ATE336708T1 (de) * | 2001-11-09 | 2006-09-15 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur erfassung von informationen für die überwachung einer laseranordnung |
| EP1354664B1 (de) * | 2002-04-20 | 2010-11-17 | Haas Laser GmbH & Co. KG | Einrichtung zur Überwachung eines optischen Elements eines Bearbeitungskopfes einer Maschine zur thermischen Bearbeitung eines Werkstücks |
| CN102928385A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-02-13 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种便携式倾斜照明结构杂散光检测装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4181899A (en) * | 1977-12-05 | 1980-01-01 | General Electric Company | High power optical second harmonic generation in non-linear crystals |
| DE3705182A1 (de) * | 1987-02-18 | 1988-09-01 | Siemens Ag | Messeinrichtung fuer materialbearbeitungsprozesse |
| DE3807873A1 (de) * | 1987-03-21 | 1988-09-29 | Volkswagen Ag | Verfahren zum erfassen eines fehlers in einem zur fuehrung eines laserstrahls dienenden bauteil |
| DE4010789A1 (de) * | 1989-04-13 | 1990-10-18 | Gen Electric | Lichtwellenleitersicherheitssystem |
| DE4032967A1 (de) * | 1989-10-17 | 1991-04-18 | Haas Laser Systems Ag | Verfahren und vorrichtung zur ueberwachung von faserlichtleitern |
| DE4106169C1 (en) * | 1991-02-27 | 1992-08-06 | Siemens Ag, 8000 Muenchen, De | Monitoring machining operations - by partic. lasers, where sensor comprises plate-type target to which acoustic or electric converter is connected |
| DE19507401A1 (de) * | 1994-03-08 | 1995-10-05 | Thyssen Laser Technik Gmbh | Überwachungsvorrichtung für Laserstrahlung |
-
1996
- 1996-08-28 DE DE19636249A patent/DE19636249C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4181899A (en) * | 1977-12-05 | 1980-01-01 | General Electric Company | High power optical second harmonic generation in non-linear crystals |
| DE3705182A1 (de) * | 1987-02-18 | 1988-09-01 | Siemens Ag | Messeinrichtung fuer materialbearbeitungsprozesse |
| DE3807873A1 (de) * | 1987-03-21 | 1988-09-29 | Volkswagen Ag | Verfahren zum erfassen eines fehlers in einem zur fuehrung eines laserstrahls dienenden bauteil |
| DE4010789A1 (de) * | 1989-04-13 | 1990-10-18 | Gen Electric | Lichtwellenleitersicherheitssystem |
| DE4032967A1 (de) * | 1989-10-17 | 1991-04-18 | Haas Laser Systems Ag | Verfahren und vorrichtung zur ueberwachung von faserlichtleitern |
| DE4106169C1 (en) * | 1991-02-27 | 1992-08-06 | Siemens Ag, 8000 Muenchen, De | Monitoring machining operations - by partic. lasers, where sensor comprises plate-type target to which acoustic or electric converter is connected |
| DE19507401A1 (de) * | 1994-03-08 | 1995-10-05 | Thyssen Laser Technik Gmbh | Überwachungsvorrichtung für Laserstrahlung |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| DE-Buch: Lexikon der Physik, H. Franke, Hrsg., 3. Aufl., Stuttgart: Franckh 1969, S. 463-464 * |
| W. Brunner et al., Lasertechnik, 4. Aufl., Heidelberg: Hüthig, 1989, S. 165-166 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19636249A1 (de) | 1998-03-05 |
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